JPH10113118A - バナナ追熟加工装置及びバナナ追熟加工方法 - Google Patents
バナナ追熟加工装置及びバナナ追熟加工方法Info
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- JPH10113118A JPH10113118A JP28753396A JP28753396A JPH10113118A JP H10113118 A JPH10113118 A JP H10113118A JP 28753396 A JP28753396 A JP 28753396A JP 28753396 A JP28753396 A JP 28753396A JP H10113118 A JPH10113118 A JP H10113118A
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- banana
- banana ripening
- temperature
- ripening
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 新たな知見に基づくバナナの成熟の度合いに
バラツキが生じない新たなバナナの追熟を行う。 【構成】 バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追熟
室のＣＯ2 ガスの累積量が予め設定された値を越えた場
合に換気した後、室温ＴR が予め設定された温度Ｔ2 に
達するまで加温し、果肉温度ＴB が予め設定された温度
Ｔ1 に達するとエチレンガスを一定時間バナナ追熟室に
注入するとともに加温を停止し、ついで所定時間経過後
にバナナ追熟室を換気した後、一定時間毎、又はバナナ
追熟室のＣＯ2 ガスの濃度が予め設定された値を越えた
場合に換気を行うようにする。
バラツキが生じない新たなバナナの追熟を行う。 【構成】 バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追熟
室のＣＯ2 ガスの累積量が予め設定された値を越えた場
合に換気した後、室温ＴR が予め設定された温度Ｔ2 に
達するまで加温し、果肉温度ＴB が予め設定された温度
Ｔ1 に達するとエチレンガスを一定時間バナナ追熟室に
注入するとともに加温を停止し、ついで所定時間経過後
にバナナ追熟室を換気した後、一定時間毎、又はバナナ
追熟室のＣＯ2 ガスの濃度が予め設定された値を越えた
場合に換気を行うようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、バナナの追熟加工
装置及び方法に関する。
装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本願出願人は、バナナ追熟加工方法に関
する特許第２００００８４号を有している。かかる方法
は『バナナ追熟室を一定時間毎に換気又はＣＯ2 ガスの
換気を行った後室温Ｔ2 に達するまで加温し、果肉温度
が予め設定した温度Ｔ1 に達するとエチレンガスを一定
時間室内に注入し、さらに前記果肉温度が上昇してバナ
ナの醗酵開始温度Ｔ3 に達すると、一定時間室温Ｔ2 を
維持した後に加温を停止し室温を低下させるとともに、
室内の空気を換気し、ついで一定時間毎に複数繰り返し
て換気するか、又は室内に配設されたＣＯ2 ガスセンサ
の出力に基づいて、予め設定したＣＯ2 ガス濃度に達す
ると一定時間の換気を複数回行うようにしたことを特徴
とする』ものである。
する特許第２００００８４号を有している。かかる方法
は『バナナ追熟室を一定時間毎に換気又はＣＯ2 ガスの
換気を行った後室温Ｔ2 に達するまで加温し、果肉温度
が予め設定した温度Ｔ1 に達するとエチレンガスを一定
時間室内に注入し、さらに前記果肉温度が上昇してバナ
ナの醗酵開始温度Ｔ3 に達すると、一定時間室温Ｔ2 を
維持した後に加温を停止し室温を低下させるとともに、
室内の空気を換気し、ついで一定時間毎に複数繰り返し
て換気するか、又は室内に配設されたＣＯ2 ガスセンサ
の出力に基づいて、予め設定したＣＯ2 ガス濃度に達す
ると一定時間の換気を複数回行うようにしたことを特徴
とする』ものである。
【０００３】すなわち、この特許方法によると、エチレ
ンガスをバナナ追熟室に注入した後も、バナナ追熟室の
室温を一定時間維持することが必要となっている。
ンガスをバナナ追熟室に注入した後も、バナナ追熟室の
室温を一定時間維持することが必要となっている。
【０００４】しかしながら、本願出願人の長年の経験及
び実験により、エチレンガスの注入後のバナナ追熟室の
室温の一定時間の保持を行わなくともバナナの熟成の品
質には変わりがないことが判明した。すなわち、エチレ
ンガスをバナナ追熟室に注入してから一定時間だけバナ
ナ追熟室の室温の制御を行わず、そのままの状態を維持
して室温がバナナの醗酵に伴う熱により上昇してもバナ
ナの熟成の品質には変わりがないのである。
び実験により、エチレンガスの注入後のバナナ追熟室の
室温の一定時間の保持を行わなくともバナナの熟成の品
質には変わりがないことが判明した。すなわち、エチレ
ンガスをバナナ追熟室に注入してから一定時間だけバナ
ナ追熟室の室温の制御を行わず、そのままの状態を維持
して室温がバナナの醗酵に伴う熱により上昇してもバナ
ナの熟成の品質には変わりがないのである。
【０００５】本発明は上述した新たな知見に基づいて創
作されたものであり、バナナの成熟の度合いにバラツキ
が生じない新たなバナナ追熟加工装置及びバナナ追熟加
工方法を提供することを目的としている。
作されたものであり、バナナの成熟の度合いにバラツキ
が生じない新たなバナナ追熟加工装置及びバナナ追熟加
工方法を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係るバナナ追熟
加工装置は、バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追
熟室のＣＯ2 ガスの累積量が予め設定された値を越えた
場合に換気した後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に達
するまで加温し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1 に
達するとエチレンガスを一定時間バナナ追熟室に注入す
るとともに加温を停止し、ついで所定時間経過後にバナ
ナ追熟室を換気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟室
のＣＯ2 ガスの濃度が予め設定された値を越えた場合に
換気を行う制御装置を有している。
加工装置は、バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追
熟室のＣＯ2 ガスの累積量が予め設定された値を越えた
場合に換気した後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に達
するまで加温し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1 に
達するとエチレンガスを一定時間バナナ追熟室に注入す
るとともに加温を停止し、ついで所定時間経過後にバナ
ナ追熟室を換気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟室
のＣＯ2 ガスの濃度が予め設定された値を越えた場合に
換気を行う制御装置を有している。
【０００７】また、本発明に係るバナナ追熟加工方法
は、バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣ
Ｏ2 ガスの累積量が予め設定された値を越えた場合に換
気した後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に達するまで
加温し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1 に達すると
エチレンガスを一定時間バナナ追熟室に注入するととも
に加温を停止し、ついで所定時間経過後にバナナ追熟室
を換気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣＯ2
ガスの濃度が予め設定された値を越えた場合に換気を行
うようになっている。
は、バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣ
Ｏ2 ガスの累積量が予め設定された値を越えた場合に換
気した後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に達するまで
加温し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1 に達すると
エチレンガスを一定時間バナナ追熟室に注入するととも
に加温を停止し、ついで所定時間経過後にバナナ追熟室
を換気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣＯ2
ガスの濃度が予め設定された値を越えた場合に換気を行
うようになっている。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態に係る
バナナ追熟加工装置の概略的構成図、図２は本発明の実
施の形態に係るバナナ追熟加工装置及び方法によるバナ
ナの追熟加工を示すグラフ、図３及び図４は本発明の実
施の形態に係るバナナ追熟加工装置及び方法によるバナ
ナの追熟加工のフローチャートである。
バナナ追熟加工装置の概略的構成図、図２は本発明の実
施の形態に係るバナナ追熟加工装置及び方法によるバナ
ナの追熟加工を示すグラフ、図３及び図４は本発明の実
施の形態に係るバナナ追熟加工装置及び方法によるバナ
ナの追熟加工のフローチャートである。
【０００９】本発明の形態に係るバナナ追熟加工装置
は、バナナ追熟室１０を加温する加温手段（後述するヒ
ータ６１及び冷却器６２が相当する）と、バナナ追熟室
１０の室温ＴR を検出する室温センサ２１と、バナナの
果肉温度ＴB を検出する果肉温度センサ２２と、バナナ
追熟室１０のＣＯ2 ガスの濃度を測定するＣＯ2 ガスセ
ンサ２０と、バナナ追熟室１０にエチレンガスを注入す
る注入手段（後述するガス電磁弁６４が相当する）と、
バナナ追熟室１０の換気を行う換気手段（後述する排気
ファン６３が相当する）と、バナナの追熟加工を行うた
めのプログラムに従って前記各手段等を制御する制御装
置４０とを有している。
は、バナナ追熟室１０を加温する加温手段（後述するヒ
ータ６１及び冷却器６２が相当する）と、バナナ追熟室
１０の室温ＴR を検出する室温センサ２１と、バナナの
果肉温度ＴB を検出する果肉温度センサ２２と、バナナ
追熟室１０のＣＯ2 ガスの濃度を測定するＣＯ2 ガスセ
ンサ２０と、バナナ追熟室１０にエチレンガスを注入す
る注入手段（後述するガス電磁弁６４が相当する）と、
バナナ追熟室１０の換気を行う換気手段（後述する排気
ファン６３が相当する）と、バナナの追熟加工を行うた
めのプログラムに従って前記各手段等を制御する制御装
置４０とを有している。
【００１０】バナナ追熟室１０は複数個あり、そのそれ
ぞれでバナナが追熟加工される。かかるバナナ追熟室１
０に室温センサ２１と、果肉温度センサ２２と、注入手
段と、換気手段とが配設されている。すなわち、各バナ
ナ追熟室１０はそれぞれが独立しているのである。
ぞれでバナナが追熟加工される。かかるバナナ追熟室１
０に室温センサ２１と、果肉温度センサ２２と、注入手
段と、換気手段とが配設されている。すなわち、各バナ
ナ追熟室１０はそれぞれが独立しているのである。
【００１１】室温センサ２１は、室温ＴR を測定するも
のであり、バナナ追熟室１０の内部に配設されている。
のであり、バナナ追熟室１０の内部に配設されている。
【００１２】また、果肉温度センサ２２は、バナナの果
肉温度ＴB を測定するものであり、バナナの果肉部に挿
入して果肉自体の温度を測定する例えば測温度抵抗体等
が用いられる。
肉温度ＴB を測定するものであり、バナナの果肉部に挿
入して果肉自体の温度を測定する例えば測温度抵抗体等
が用いられる。
【００１３】このバナナ追熟加工装置は、図１に示すよ
うに構成されている。すなわち、前記加温手段と、前記
室温センサ２１と、前記果肉温度センサ２２と、前記Ｃ
Ｏ2ガスセンサと、前記注入手段と、前記換気手段と
は、制御装置４０との間で信号の授受を行っているので
ある。
うに構成されている。すなわち、前記加温手段と、前記
室温センサ２１と、前記果肉温度センサ２２と、前記Ｃ
Ｏ2ガスセンサと、前記注入手段と、前記換気手段と
は、制御装置４０との間で信号の授受を行っているので
ある。
【００１４】この制御装置４０は、ＣＰＵ本体４２と、
記憶手段としてのハードディスク４６とを内蔵し、イン
ターフェース４１、４３、４４、４５、４７、４８を介
して制御盤３１、ＣＲＴ５０、プリンタ５１、ハードデ
ィスク４６、外部記憶手段としてのフロッピーディスク
５２及びキーボード５３と接続されている。
記憶手段としてのハードディスク４６とを内蔵し、イン
ターフェース４１、４３、４４、４５、４７、４８を介
して制御盤３１、ＣＲＴ５０、プリンタ５１、ハードデ
ィスク４６、外部記憶手段としてのフロッピーディスク
５２及びキーボード５３と接続されている。
【００１５】ＣＰＵ本体４２には、バナナ追熟室１０の
室温ＴR の目標値である温度Ｔ2 と、果肉温度ＴB の目
標値である温度Ｔ1 と、バナナ追熟室１０にエチレンガ
スを注入してからの所定時間とがキーボード５３を介し
て入力されている。そして、温度Ｔ2 等の目標値は、Ｃ
ＲＴ５０に表示されるとともに、プリンタ５１によって
プリントアウトされるようになっている。
室温ＴR の目標値である温度Ｔ2 と、果肉温度ＴB の目
標値である温度Ｔ1 と、バナナ追熟室１０にエチレンガ
スを注入してからの所定時間とがキーボード５３を介し
て入力されている。そして、温度Ｔ2 等の目標値は、Ｃ
ＲＴ５０に表示されるとともに、プリンタ５１によって
プリントアウトされるようになっている。
【００１６】一方、前記ハードディスク４６及びフロッ
ピーディスク５２には、バナナの追熟加工に必要な各種
プログラム及びデータが蓄えられており、前記インター
フェース４５、４７を介して出入力される。
ピーディスク５２には、バナナの追熟加工に必要な各種
プログラム及びデータが蓄えられており、前記インター
フェース４５、４７を介して出入力される。
【００１７】さらに、バナナの入荷日、前保管期間、出
荷日等のデータがキーボード５３を介してＣＰＵ本体４
２に入力されている。
荷日等のデータがキーボード５３を介してＣＰＵ本体４
２に入力されている。
【００１８】動力盤６０は、制御盤３１を介して制御装
置４０から出力された制御信号に基づいてバナナ追熟室
１０の室温ＴR を上下させる加温手段を構成するヒータ
６１及び冷却器６２と、バナナ追熟室１０の内部を換気
する換気手段としての排気ファン６３と、バナナ追熟室
１０にエチレンガスを注入するための注入手段としての
ガス電磁弁６４と、バナナ追熟室１０の湿度を増減する
加湿器６５を制御する。
置４０から出力された制御信号に基づいてバナナ追熟室
１０の室温ＴR を上下させる加温手段を構成するヒータ
６１及び冷却器６２と、バナナ追熟室１０の内部を換気
する換気手段としての排気ファン６３と、バナナ追熟室
１０にエチレンガスを注入するための注入手段としての
ガス電磁弁６４と、バナナ追熟室１０の湿度を増減する
加湿器６５を制御する。
【００１９】なお、図１におけるＣＶＣＦ５４は、制御
装置４０の電源安定のためのインバータである。
装置４０の電源安定のためのインバータである。
【００２０】次に、このように構成されたバナナ追熟加
工装置によるバナナの追熟加工について説明する。時刻
ｔ0 においてバナナ追熟室１０にバナナを入庫する。そ
して、入庫時刻である時刻ｔ0 から追熟加工開始時刻で
ある時刻ｔ1 までの間（前保管期間）に、バナナ追熟室
１０の換気を行う。
工装置によるバナナの追熟加工について説明する。時刻
ｔ0 においてバナナ追熟室１０にバナナを入庫する。そ
して、入庫時刻である時刻ｔ0 から追熟加工開始時刻で
ある時刻ｔ1 までの間（前保管期間）に、バナナ追熟室
１０の換気を行う。
【００２１】この前保管期間における換気には２種類が
ある。すなわち、予め設定された時間の経過に基づいて
換気を行うタイプ（図３において破線で示している）
と、バナナ追熟室１０のＣＯ2 ガスの濃度に基づいて換
気を行うタイプとである（図３のＳ1 参照、実線で示し
ている）。
ある。すなわち、予め設定された時間の経過に基づいて
換気を行うタイプ（図３において破線で示している）
と、バナナ追熟室１０のＣＯ2 ガスの濃度に基づいて換
気を行うタイプとである（図３のＳ1 参照、実線で示し
ている）。
【００２２】次に、加温手段であるヒータ６１によって
室温ＴR を予め設定された温度Ｔ2（例えば、２０度）
に達するまで加温する。室温ＴR の上昇に伴ってバナナ
の果肉温度ＴB も上昇する。ここで、バナナが予め設定
された温度Ｔ1 （例えば、１９度）に達すると、加温を
停止する。なお、この加温を停止する時刻をｔ2 とす
る。ここのステップは、図３においてＳ2 で示されてい
る。なお、室温ＴR の加温を停止するバナナの果肉温度
ＴB である温度Ｔ1 には、エチレンガスがバナナの醗酵
のために最も効果的に作用する温度が選択されている。
室温ＴR を予め設定された温度Ｔ2（例えば、２０度）
に達するまで加温する。室温ＴR の上昇に伴ってバナナ
の果肉温度ＴB も上昇する。ここで、バナナが予め設定
された温度Ｔ1 （例えば、１９度）に達すると、加温を
停止する。なお、この加温を停止する時刻をｔ2 とす
る。ここのステップは、図３においてＳ2 で示されてい
る。なお、室温ＴR の加温を停止するバナナの果肉温度
ＴB である温度Ｔ1 には、エチレンガスがバナナの醗酵
のために最も効果的に作用する温度が選択されている。
【００２３】バナナの果肉温度ＴB が温度Ｔ1 になり、
室温ＴR の加温が停止されると同時に、バナナ追熟室１
０には注入手段であるガス電磁弁６４によりエチレンガ
スが注入される（図３のＳ3 参照）。すなわち、時刻ｔ
2 においてエチレンガスの注入が行われるのである。一
定量のエチレンガスがバナナ追熟室１０に注入されたな
らば、エチレンガスのそれ以後の注入は停止する。この
エチレンガスにより、バナナの醗酵が効率的に行われる
ようになる。このバナナの醗酵により、果肉に含まれる
でんぷん質がぶどう糖に変化する。
室温ＴR の加温が停止されると同時に、バナナ追熟室１
０には注入手段であるガス電磁弁６４によりエチレンガ
スが注入される（図３のＳ3 参照）。すなわち、時刻ｔ
2 においてエチレンガスの注入が行われるのである。一
定量のエチレンガスがバナナ追熟室１０に注入されたな
らば、エチレンガスのそれ以後の注入は停止する。この
エチレンガスにより、バナナの醗酵が効率的に行われる
ようになる。このバナナの醗酵により、果肉に含まれる
でんぷん質がぶどう糖に変化する。
【００２４】バナナの果肉温度ＴB は、醗酵を開始する
と室温ＴR の加温を停止しても上昇する。そして、室温
ＴR も加温は停止されているが、バナナから発生する熱
により上昇し、時刻ｔ3 において前記温度Ｔ2 を越える
と室温ＴR の加温を停止しても上昇する。そして、室温
ＴR も加温は停止されているが、バナナから発生する熱
により上昇し、時刻ｔ3 において前記温度Ｔ2 を越える
【００２５】室温ＴR の加温の停止及びエチレンガスの
注入を行った時刻ｔ2 より予め設定された所定の時間が
経過したならば（図３のＳ4 参照、時刻ｔ4 ）、バナナ
追熟室１０を換気し、バナナ追熟室１０のエチレンガス
を外部に排出する（図３のＳ4 参照）。バナナ追熟室１
０の換気が開始されると、すなわちバナナ追熟室１０の
エチレンガス濃度が低下すると、バナナの醗酵が停止
し、バナナの果肉温度ＴB が低下し始める。これに伴っ
て室温ＴR も低下し始める。
注入を行った時刻ｔ2 より予め設定された所定の時間が
経過したならば（図３のＳ4 参照、時刻ｔ4 ）、バナナ
追熟室１０を換気し、バナナ追熟室１０のエチレンガス
を外部に排出する（図３のＳ4 参照）。バナナ追熟室１
０の換気が開始されると、すなわちバナナ追熟室１０の
エチレンガス濃度が低下すると、バナナの醗酵が停止
し、バナナの果肉温度ＴB が低下し始める。これに伴っ
て室温ＴR も低下し始める。
【００２６】エチレンガスをバナナ熟成室１０に注入し
てから排出するまでの所定の時間（時刻ｔ2 から時刻ｔ
4 ）は、バナナの産地や生産時期等の諸条件によって相
違するが、バナナの熟成に最も適した時間が適宜選択さ
れることは勿論である。この時間は、従来からの手動
式、すなわち職人がバナナの追熟の度合いをチェックし
ながら追熟させていた場合に得られた各種の経験則から
最適なものが選択されるのである。
てから排出するまでの所定の時間（時刻ｔ2 から時刻ｔ
4 ）は、バナナの産地や生産時期等の諸条件によって相
違するが、バナナの熟成に最も適した時間が適宜選択さ
れることは勿論である。この時間は、従来からの手動
式、すなわち職人がバナナの追熟の度合いをチェックし
ながら追熟させていた場合に得られた各種の経験則から
最適なものが選択されるのである。
【００２７】エチレンガスの排出が完了したならば、バ
ナナ追熟室１０の換気を時刻ｔ5 、ｔ6 、ｔ7 において
複数回にわたって行う（図３のＳ5 、図４のＳ6 参
照）。この換気にも２種類がある。すなわち、予め設定
された一定時間毎に換気を行なうタイプと、バナナ追熟
室１０のＣＯ2 ガスの濃度が予め設定された値を越えた
場合に換気を行うタイプとである。
ナナ追熟室１０の換気を時刻ｔ5 、ｔ6 、ｔ7 において
複数回にわたって行う（図３のＳ5 、図４のＳ6 参
照）。この換気にも２種類がある。すなわち、予め設定
された一定時間毎に換気を行なうタイプと、バナナ追熟
室１０のＣＯ2 ガスの濃度が予め設定された値を越えた
場合に換気を行うタイプとである。
【００２８】この換気により、バナナ追熟室１０の室温
ＴR 及びバナナの果肉温度ＴB が低下し始める。例え
ば、１回目の換気では室温ＴR を１９度に、２回目の換
気で１８度に、３回目の換気で１７度にするというよう
に、室温ＴR を段階的に低下させる。
ＴR 及びバナナの果肉温度ＴB が低下し始める。例え
ば、１回目の換気では室温ＴR を１９度に、２回目の換
気で１８度に、３回目の換気で１７度にするというよう
に、室温ＴR を段階的に低下させる。
【００２９】
【発明の効果】本発明に係るバナナ追熟加工装置は、バ
ナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣＯ2 ガ
スの累積量が予め設定された値を越えた場合に換気した
後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に達するまで加温
し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1 に達するとエチ
レンガスを一定時間バナナ追熟室に注入するとともに加
温を停止し、ついで所定時間経過後にバナナ追熟室を換
気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣＯ2 ガス
の濃度が予め設定された値を越えた場合に換気を行う制
御装置を備えているため、エチレンガスをバナナ追熟室
に注入した後も、バナナ追熟室の室温を一定時間維に維
持する必要がない。換言すれば、エチレンガスをバナナ
追熟室に注入した後は、室温の制御をすることなくバナ
ナの完全な追熟が可能となるので、室温の制御の必要が
ある従来のものよりプログラムが簡単になる。
ナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣＯ2 ガ
スの累積量が予め設定された値を越えた場合に換気した
後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に達するまで加温
し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1 に達するとエチ
レンガスを一定時間バナナ追熟室に注入するとともに加
温を停止し、ついで所定時間経過後にバナナ追熟室を換
気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣＯ2 ガス
の濃度が予め設定された値を越えた場合に換気を行う制
御装置を備えているため、エチレンガスをバナナ追熟室
に注入した後も、バナナ追熟室の室温を一定時間維に維
持する必要がない。換言すれば、エチレンガスをバナナ
追熟室に注入した後は、室温の制御をすることなくバナ
ナの完全な追熟が可能となるので、室温の制御の必要が
ある従来のものよりプログラムが簡単になる。
【００３０】また、本発明に係るバナナ追熟加工方法
は、バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣ
Ｏ2 ガスの累積量が予め設定された値を越えた場合に換
気した後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に達するまで
加温し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1 に達すると
エチレンガスを一定時間バナナ追熟室に注入するととも
に加温を停止し、ついで所定時間経過後にバナナ追熟室
を換気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣＯ2
ガスの濃度が予め設定された値を越えた場合に換気を行
うようにしているので、従来のようなバナナ追熟室のエ
チレンガス注入後の室温の制御をすることなしに、バナ
ナの完全な追熟が可能になる。
は、バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣ
Ｏ2 ガスの累積量が予め設定された値を越えた場合に換
気した後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に達するまで
加温し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1 に達すると
エチレンガスを一定時間バナナ追熟室に注入するととも
に加温を停止し、ついで所定時間経過後にバナナ追熟室
を換気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟室のＣＯ2
ガスの濃度が予め設定された値を越えた場合に換気を行
うようにしているので、従来のようなバナナ追熟室のエ
チレンガス注入後の室温の制御をすることなしに、バナ
ナの完全な追熟が可能になる。
【図１】本発明の実施の形態に係るバナナ追熟加工装置
の概略的構成図である。
の概略的構成図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るバナナ追熟加工装置
及び方法によるバナナの追熟加工を示すグラフである。
及び方法によるバナナの追熟加工を示すグラフである。
【図３】本発明の実施の形態に係るバナナ追熟加工装置
及び方法によるバナナの追熟加工のフローチャートであ
る。
及び方法によるバナナの追熟加工のフローチャートであ
る。
【図４】本発明の実施の形態に係るバナナ追熟加工装置
及び方法によるバナナの追熟加工のフローチャートであ
る。
及び方法によるバナナの追熟加工のフローチャートであ
る。
１０ バナナ追熟室 ２１ 室温センサ ２２ 果肉温度センサ ４０ 制御装置
フロントページの続き (72)発明者 堀部 一三 愛知県西春日井郡豊山町大字豊場字八反 107番地名果株式会社内 (72)発明者 芋川 雄次 愛知県西春日井郡豊山町大字豊場字八反 107番地名果株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ
追熟室のＣＯ2 ガスの累積量が予め設定された値を越え
た場合に換気した後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に
達するまで加温し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1
に達するとエチレンガスを一定時間バナナ追熟室に注入
するとともに加温を停止し、ついで所定時間経過後にバ
ナナ追熟室を換気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟
室のＣＯ2 ガスの濃度が予め設定された値を越えた場合
に換気を行う制御装置を具備することを特徴とするバナ
ナ追熟加工装置。 - 【請求項２】 バナナ追熟室を一定時間毎、又はバナナ
追熟室のＣＯ2 ガスの累積量が予め設定された値を越え
た場合に換気した後、室温が予め設定された温度Ｔ2 に
達するまで加温し、果肉温度が予め設定された温度Ｔ1
に達するとエチレンガスを一定時間バナナ追熟室に注入
するとともに加温を停止し、ついで所定時間経過後にバ
ナナ追熟室を換気した後、一定時間毎、又はバナナ追熟
室のＣＯ2 ガスの濃度が予め設定された値を越えた場合
に換気を行うことを特徴とするバナナ追熟加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28753396A JPH10113118A (ja) | 1996-10-08 | 1996-10-08 | バナナ追熟加工装置及びバナナ追熟加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28753396A JPH10113118A (ja) | 1996-10-08 | 1996-10-08 | バナナ追熟加工装置及びバナナ追熟加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10113118A true JPH10113118A (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=17718580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28753396A Pending JPH10113118A (ja) | 1996-10-08 | 1996-10-08 | バナナ追熟加工装置及びバナナ追熟加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10113118A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010166840A (ja) * | 2009-01-21 | 2010-08-05 | Shinji Nagai | 青果物追熟加工管理システム |
| JP5303070B1 (ja) * | 2013-02-22 | 2013-10-02 | Ｉｐｍ西本株式会社 | アボカドの追熟方法 |
| JP2021192626A (ja) * | 2017-03-16 | 2021-12-23 | アイネンケル / バース ジービーアールEinenkel / Wirth Gbr | 熟成チャンバー及び果実熟成のための方法 |
-
1996
- 1996-10-08 JP JP28753396A patent/JPH10113118A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010166840A (ja) * | 2009-01-21 | 2010-08-05 | Shinji Nagai | 青果物追熟加工管理システム |
| JP5303070B1 (ja) * | 2013-02-22 | 2013-10-02 | Ｉｐｍ西本株式会社 | アボカドの追熟方法 |
| JP2014161246A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Ipm Nishimoto Co Ltd | アボカドの追熟方法 |
| JP2021192626A (ja) * | 2017-03-16 | 2021-12-23 | アイネンケル / バース ジービーアールEinenkel / Wirth Gbr | 熟成チャンバー及び果実熟成のための方法 |
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