JPH1010519A - カラー表示装置用電極板の製造方法 - Google Patents

カラー表示装置用電極板の製造方法

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JPH1010519A
JPH1010519A JP16571896A JP16571896A JPH1010519A JP H1010519 A JPH1010519 A JP H1010519A JP 16571896 A JP16571896 A JP 16571896A JP 16571896 A JP16571896 A JP 16571896A JP H1010519 A JPH1010519 A JP H1010519A
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color display
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Takayuki Toyoshima
隆之 豊島
Hidemi Nakai
日出海 中井
Tomonori Yamaoka
智則 山岡
Daisuke Inoue
大輔 井上
Kiyoshi Ogata
潔 緒方
Takashi Mikami
隆司 三上
Haruo Maekawa
晴夫 前川
Nobuyuki Nakamura
信之 仲村
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
Nissin Electric Co Ltd
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NIPPON ITA GLASS TECHNO RES KK
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Nissin Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 カラーフィルターあるいは有機保護膜無機導
電薄膜の間に従来一般的に用いられている二酸化珪素薄
膜を用いないカラー表示用電極板の製造技術を確立する
こと。 【解決手段】 有機樹脂層であるカラーフィルター(C
F)またはオーバーコート(OC)に酸素イオンまたは
アルゴンイオンを照射すると、エッチング効果により表
面の汚れが除去され、少なくとも部分的にCFまたはO
Cに炭化層が形成され、CFまたはOCの層表面の耐薬
品性が向上し、その上に形成される透明電極との密着性
も良好となる。CF(またはOC)の材質が有機樹脂、
とりわけアクリル系樹脂で在ることが望ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー表示装置用
電極板を製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般的にカラー表示装置用電極板を作製
する場合、ガラス基板に有機樹脂層であるカラーフィル
ター(CF)を塗布し、場合によっては次に、カラーフ
ィルター保護用のオーバーコート(OC)を塗布し、カ
ラーフィルター(CF)またはオーバーコート(OC)
上に透明酸化膜層を成膜(一般には、二酸化珪素:成膜
方法は高周波マグンネトロンスパッタ法)し、さらに透
明電極(ITO)(一般的には酸化インジウム−酸化ス
ズ:成膜方法はDCマグネトロンスパッタ法)を形成し
た後に、ウェットエッチングを用いた配線の作製を行っ
ている。
【0003】しかし、カラーフィルター上に直接透明電
極を形成すると、カラーフィルターの耐薬品性とカラー
フィルターと透明電極での密着性に乏しいために、ウェ
ットエッチング工程で界面からの剥離が生じて問題とな
る。
【0004】このため、従来はカラーフィルター上に透
明電極を形成する場合、カラーフィルターと透明電極の
間に他の薄膜(例えば二酸化珪素薄膜等の透明酸化薄
膜)を挟むことによりある程度の耐薬品性・密着性を持
たせている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、二酸化珪素薄
膜を設ける方法では成膜工程が一段階増加することやR
Fスパッタリング法によって形成される二酸化珪素薄膜
の作製方法は成膜速度が遅いことが工業上不利な点とな
っている。また、二酸化珪素薄膜の成膜前のRF−プラ
ズマによりカラーフィルターあるいは有機保護膜が物理
的・化学的に損傷を受けることから、後工程で電極板を
生産する場合の不安定さの主原因となっている。カラー
フィルターへのダメージなど問題点も多い。
【0006】また従来からプラズマなどを用いた有機樹
脂表面の処理による耐薬品性・密着性の向上を目的とし
た発明も行われているが、プラズマの条件などの制御が
非常に難しく、適切な処理条件に合わせることが非常に
困難であった。
【0007】本発明の課題は、カラーフィルターあるい
は有機保護膜の物理的・化学的な損傷を防ぐカラー表示
装置用電極板の製造技術を確立することである。
【0008】また、本発明の課題はカラー表示装置用電
極板の製造時のウェットエッチングによる透明導電膜形
成時にカラーフィルターあるいは有機保護膜を保護する
ことである。
【0009】また、本発明の課題はカラーフィルターあ
るいは有機保護膜と無機導電薄膜との間に従来一般的に
用いられている二酸化珪素薄膜を用いないカラー表示装
置用電極板の製造技術を確立することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は次の
構成によって達成される。すなわち、有機樹脂を材料と
するカラーフィルターと該カラーフィルター上に透明電
極を形成するカラー表示装置用電極板の製造方法におい
て、カラーフィルターに0.01〜500W・sec/
cm2の条件で酸素イオンまたはアルゴンイオンを照射
することによって、カラーフィルターに少なくとも部分
的に炭化層を形成して、その後、該カラーフィルター上
に透明電極を形成するカラー表示装置用電極板の製造方
法、または、有機樹脂を材料とするカラーフィルターと
該カラーフィルター上に有機保護膜を形成し、該有機保
護膜上に透明電極を形成するカラー表示装置用電極板の
製造方法において、有機保護膜に0.01〜500W・
sec/cm2の条件で酸素イオンまたはアルゴンイオ
ンを照射することによって、有機保護膜に少なくとも部
分的に炭化層を形成して、その後、該有機保護膜上に透
明電極を形成するカラー表示装置用電極板の製造方法で
ある。
【0011】前記部分的炭化層では、炭化されている層
におけるX線光電子分光法によるカルボキシル基に基因
する信号(ICOO)に対するC−C結合に基因する信号
(IC-C)の比率(IC-C/ICOO)が、炭化されていな
い内部のそれよりも大きい。
【0012】本発明で言う部分的に炭化した層というの
は、必ずしも一様なものである必要はなく、要求される
水準以上の耐薬品性を持てば、炭化層は不均一な厚みの
ものでも良い。また、炭化層の厚みはある水準以上の耐
薬品性を満たせば良いが、極端に厚い場合は透過率が著
しく減少するために好ましくない。
【0013】このような少なくとも部分的に炭化した層
を形成する方法には様々な手段がある。例えば透明電極
を成膜する直前にカラーフィルター材料である有機樹脂
層、または該有機樹脂層上に形成される有機樹脂からな
る透明な有機保護層をDC−プラズマあるいはRF−プ
ラズマに短時間曝す方法や、透明電極を成膜する直前に
前記カラーフィルター層または透明な有機保護層にイオ
ンを照射する方法がある。本発明においては、炭化層を
形成する条件の制御が容易に行えるイオン照射を用い
る。イオン照射をするときのガス種としては具体的に
は、酸素、酸素とアルゴンの混合ガス、アルゴンがあ
り、酸素が最も好ましい。加速電圧100〜2000
V、照射時間は30〜200秒、とりわけ400〜10
00V、30〜60秒の照射条件が好ましい。
【0014】本発明に求められる炭化層の炭化の程度に
は所定の範囲があり、あまりにも炭化が進んだ場合には
カラーフィルターの生産工程での種々の処理に耐え得る
だけの隣接層との密着性が乏しくなる。
【0015】本発明に用いることができるカラーフィル
ター(CF)は、一般的には顔料分散法や印刷法によっ
て形成されたゼラチン、カゼイン、グリューのいずれか
からなる天然高分子またはアクリル系の合成樹脂であ
り、有機保護膜(OC)がアクリル系、エポキシ系、ポ
リイミド系の少なくともいずれかの熱硬化樹脂または光
硬化樹脂が望ましい。この中でカラーフィルター(C
F)またはオーバーコート(OC)として、とりわけア
クリル系樹脂が望ましい。
【0016】CFまたはOCの成膜方法や着色方法に依
らず透明樹脂であればいかなる樹脂でもよい。さらに、
本発明において用いることができる透明導電膜として
は、ITOやスズ、アルミニウムをドーブした酸化亜
鉛、また電気抵抗の低い金、銀、銅などの貴金属をIT
Oまたは酸化インジウムなどの透明導電酸化膜で挟んだ
膜を用いことも可能である。
【0017】本発明の製造方法で得られるカラー表示装
置用電極板は図1〜図2に示す断面を有する。また、本
発明の製造方法によって得られるカラー表示装置用電極
板においては、CFと透明電極もしくはOCと透明電極
の間に少なくとも部分的に炭化された層が下地を保護す
るように働く。
【0018】酸素イオンまたはアルゴンイオンをカラー
フィルター(CF)そのものまたはカラーフィルター
(CF)上の有機保護層(OC)表面に照射することに
より、エッチング効果により表面の汚れが除去される。
さらに酸素イオンまたはアルゴンイオンの照射効果によ
ってCFそのものまたはOC表面が少なくとも部分的に
炭化され、耐薬品性が向上し、その上に形成される透明
電極との密着性も良好となる。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例を説明する。 実施例1 ガラス基板上にゼラチンからなるカラーフィルターを形
成し、カラーフィルター付きガラス基板を形成した。ア
クリル系の有機樹脂であるポリグリジシルメタクリレー
トに硬化剤として無水トリメティック酸を添加し、20
0℃で1時間焼成した。上記の方法により作製した有機
保護膜の表面をX線光電子分光法により測定したとこ
ろ、検出された極表面の炭素量と酸素量の比(C/Oと
する)は1.47であった。検出されるCls軌道の信
号を解析した結果、C−C結合に規定される信号(I
C-C)とCOO結合に規定される信号(ICOO)の比(I
C-C/ICOO)は4.93であった。この有機保護膜付ガ
ラス基板の透過率を測定すると78%であった。
【0020】上記の方法により有機保護膜を形成したガ
ラス基板を真空槽に導入し、その後有機保護膜に対して
酸素イオンエネルギー密度20.80W・sec/cm
2,イオンエネルギー1000eV、イオン電流3.4
mAで30秒間照射した。その後基板を取り出し、X線
光電子分光法により有機保護膜表面を測定したところ、
C/Oは2.21となり、酸素イオン照射前(1.4
7)と比較して大きくなった。検出されるCls軌道の
信号を解析した結果、IC-C/ICOOは19.7となり、
酸素イオン照射前(4.93)と比較して大きくなっ
た。この有機保護膜付ガラス基板の透過率を測定すると
74%であった。
【0021】前記事実を確認した後、同一の方法でカラ
ーフィルター上に有機保護膜を形成したガラス基板を真
空槽に導入した。その後有機保護膜に対して酸素イオン
エネルギー密度20.80W・sec/cm2,酸素イ
オンエネルギー1000eV、イオン電流3.4mAで
30秒間照射した。その後直ちにDCプラズマを用いた
スパッタ法により酸化インジウム酸化スズ透明導電膜
(以下ITO)を形成した。この試料を真空槽から取り
出した後、40℃の10重量%水酸化カリウム水溶液中
に浸漬させたところ、60分以上浸漬させてもITOの
剥離は全く発生しなかった。ITOが剥離しないこと
は、この膜が耐薬品性と密着性が共に優れていることに
よるものである。
【0022】上記方法により形成した電極板に対して、
70μmライン/20μmスペースのフォトマスクを使
用してフォトレジスト(富士ハント社製WAYCOA
T)を塗布し、1wt%KOH液で現像した、そのとき
塩酸および塩化鉄水溶液を用いての10分間のウェット
エッチングおよびフォトレジスト剥離による70μmラ
イン/20μmスペースピッチの電極形成を施したとこ
ろ、所定の形状を持つ電極パターンを得ることができ
た。
【0023】耐薬品性テスト(耐アルカリテスト):4
0℃−10wt%KOH水溶液に60分間以上浸漬して
目視により、剥離の有無を確認することで評価する。
【0024】密着性テスト(パターニングテスト):H
Cl−FCl3溶液による10分間のエッチングによる
70μmライン/20μmスペースのパターン形成を行
い、所定のパターンが正確に形成されているかどうか確
認することで評価する。
【0025】実施例2 酸素イオンに代えてアルゴンイオンを用いる他は、実施
例1と同一の実験を行った。実施例1と同様に強アルカ
リ水溶液に60分間以上浸漬しても、目視で剥離は認め
られず、耐薬品性に優れていることが確認できた。ま
た、HCl−FeCl3水溶液で10分間処理し、70
μmライン/20μmスペースのパターン形成したとこ
ろ、所定のピッチの電極パターンが形成されていて、密
着性も優れていることが確認できた。
【0026】比較例1 酸素イオンによる照射を行わない他は、実施例1と同一
の方法で有機保護膜上にITO膜を形成した。この比較
例のサンプルでは40℃で10wt%KOH水溶液に1
0分間浸漬したところで目視で明らかに剥離が認めら
れ、耐薬品性に劣ることが分かった。同様にHCl−F
eCl3溶液により実施例1、2と同一のパターニング
テストを実施したところ、多くの箇所てパターンのはが
れが生じており、密着性にも劣ることが分かった。
【0027】実施例3 イオンを酸素イオンに限定して、イオン照射量を変え
て、実験を行った。この実験はイオンエネルギ、イオン
電流、照射時間を変え、イオン照射量を制御した。その
結果を表1に示す。
【0028】ここで耐薬品性に関する実施例1、2及び
比較例1と同じアルカリ浸漬テストにより60分間以上
浸漬しても剥離が生じない場合を合格(○)とした。ま
た、密着性については実施例1、2及び比較例1と同じ
パターニングテストにより、70μmライン/20μm
スペースの電極パターンが正確に形成されている場合を
合格(○)とした。
【0029】
【表1】
【0030】実施例4 ガラス基板上にゼラチンからなるカラーフィルターを形
成し、カラーフィルター付ガラス基板を作製した。上記
の方法により作製したカラーフィルターの表面をX線光
電子分光法により測定したところ、検出された極表面の
炭素量と酸素量の比(C/Oとする)は1.02であっ
た。検出されるCls軌道の信号を解析した結果C−C
結合に規定される信号(IC-C)とCOO結合に規定さ
れる信号(ICOO)の比(IC-C/ICOOとする)は4.
22であった。このカラーフィルター付ガラス基板の透
過率を測定すると78%であった。
【0031】上記の方法によりゼラチン層を形成したガ
ラス基板を真空槽に導入し、その後ゼラチン層に対して
イオンエネルギー密度20W・sec/cm2、加速電
圧1000Vの条件で酸素イオンを100秒間照射し
た。その後基板を取り出しX線光電子分光法によりゼラ
チン層表面を測定したところ、C/Oは2.30とな
り、イオン照射前と比較して大きくなった。検出される
Cls軌道の信号を解析した結果、IC-C/ICOOは6.
31となり、イオン照射前と比較して大きくなった。こ
のカラーフィルター付ガラス基板の透過率を測定すると
74%であった。
【0032】前記事実を確認した後、同一の方法でカラ
ーフィルターを形成したガラス基板を真空槽に導入し
た。その後カラーフィルターに対して加速電圧1000
Vの条件で酸素イオンを100秒間照射した。その後直
ちにDCプラズマを用いたスパッタ法によりITOを形
成。この試料を真空槽から取り出した後、40℃の10
重量%水酸化カリウム水溶液中に浸漬させたところ、6
0分以上浸漬させてもITOの剥離は全く発生しなかっ
た。
【0033】上記方法により形成した電極板に対して、
塩酸および塩化鉄水溶液を用いた10分間のウェットエ
ッチングによる70μmライン20μmスペースピッチ
の電極形成を施したところ、所定の形状を持つ電極が得
ることができた。
【0034】実施例5 前記実施例と同一の方法により、イオン照射の条件また
はカラーフィルターおよび有機保護膜を変えてイオン照
射ならびにITO成膜、耐アルカリ性、パターニング性
の評価を表2に示したものである。
【0035】
【表2】
【0036】※耐アルカリ性評価は、40℃の10重量
%水酸化カリウム水溶液中に30分間浸漬させ、剥離が
起こるかどうかで判断した。目視で全く剥離が認められ
ないものを(◎)、微小の膜浮き(ふくらみ)が認めら
れるものを合格(○)、膜が明らかに剥離しているもの
を不合格(△または×)と判定する。 ※パターニング性は塩酸および塩化鉄水溶液を用いた1
0分間のウエットエッチングによる70μmライン/2
0μmスペースピッチの電極形成を施した時のライン形
状から判断した。正確な電極パターンが形成されたもの
を(◎)、電極パターンの端部に微小なダレが認められ
る程度のものを合格(○)として、電極パターンがえぐ
られていたり、部分的に欠落しているものを不合格(△
または×)と判定する。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば、炭化層の形成により有
機樹脂層の耐薬品性・密着性が向上したことによって、
従来必要とされた有機樹脂層と透明電極間の透明酸化薄
膜を用いることなく、カラー表示装置用電極板に必要な
ウェットエッチングによるパターン配線作製が可能とな
った。この照射による効果は酸素イオン又はアルゴンイ
オンの照射条件を変えることにより変化し、最適な照射
条件を選ぶことにより、正確な電極パターンを形成する
ことができる。そのために従来行われているプラズマ等
による表面処理に比べて格段に制御性に優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明によって得られるカラー表示装置用電
極板の一実施形態を示す断面図である。
【図2】 本発明によって得られるカラー表示装置用電
極板の一実施形態を示す断面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中井 日出海 兵庫県伊丹市鴻池字街道下1番 日本板硝 子テクノリサーチ株式会社内 (72)発明者 山岡 智則 神奈川県相模原市西橋本五丁目8番1号 日本板硝子フアイン株式会社内 (72)発明者 井上 大輔 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内 (72)発明者 緒方 潔 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内 (72)発明者 三上 隆司 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内 (72)発明者 前川 晴夫 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内 (72)発明者 仲村 信之 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有機樹脂を材料とするカラーフィルター
    と該カラーフィルター上に透明電極を形成するカラー表
    示装置用電極板の製造方法において、 カラーフィルターに0.01〜500W・sec/cm
    2の条件で酸素イオンまたはアルゴンイオンを照射する
    ことによって、カラーフィルターに少なくとも部分的に
    炭化層を形成して、その後、該カラーフィルター上に透
    明電極を形成することを特徴とするカラー表示装置用電
    極板の製造方法。
  2. 【請求項2】 炭化されている層におけるX線光電子分
    光法によるカルボキシル基に基因する信号(ICOO)に
    対するC−C結合に基因する信号(IC-C)の比率(I
    C-C/ICOO)が、炭化されていない内部のそれよりも大
    きくしたことを特徴とする請求項1記載のカラー表示装
    置用電極板の製造方法。
  3. 【請求項3】 カラーフィルターが、ゼラチン、カゼイ
    ン、グリューのいずれかからなる天然高分子またはアク
    リル系の合成樹脂であり、有機保護膜がアクリル系、エ
    ポキシ系、ポリイミド系の少なくともいずれかの熱硬化
    樹脂または光硬化樹脂であることを特徴とする請求項1
    または2記載のカラー表示装置用電極板の製造方法。
  4. 【請求項4】 有機樹脂を材料とするカラーフィルター
    と該カラーフィルター上に有機保護膜を形成し、有機保
    護膜に少なくとも部分的に炭化層を形成して、該有機保
    護膜上に透明電極を形成するカラー表示装置用電極板の
    製造方法において、 有機保護膜に0.01〜500W・sec/cm2の条
    件で酸素イオンまたはアルゴンイオンを照射し、その
    後、該有機保護膜上に透明電極を形成することを特徴と
    するカラー表示装置用電極板の製造方法。
  5. 【請求項5】 炭化されている層におけるX線光電子分
    光法によるカルボキシル基に基因する信号(ICOO)に
    対するC−C結合に基因する信号(IC-C)の比率(I
    C-C/ICOO)が、炭化されていない内部のそれよりも大
    きくしたことを特徴とする請求項4記載のカラー表示装
    置用電極板の製造方法。
  6. 【請求項6】 カラーフィルターが、ゼラチン、カゼイ
    ン、グリューのいずれかからなる天然高分子またはアク
    リル系の合成樹脂であり、有機保護膜がアクリル系、エ
    ポキシ系、ポリイミド系の少なくともいずれかの熱硬化
    樹脂または光硬化樹脂であることを特徴とする請求項4
    または5記載のカラー表示装置用電極板の製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002056282A1 (fr) * 2001-01-12 2002-07-18 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Electrode en plaque pour dispositif d'affichage couleur et son procede de production
JP2003307607A (ja) * 2002-04-17 2003-10-31 Nitto Denko Corp 異方性相分離構造体、当該異方性相分離構造体を用いたフィルム及び異方性相分離構造物、並びに前記フィルムを貼着した表示装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002056282A1 (fr) * 2001-01-12 2002-07-18 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Electrode en plaque pour dispositif d'affichage couleur et son procede de production
US6809850B2 (en) 2001-01-12 2004-10-26 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Electrode plate for color display unit and production method therefor
KR100802862B1 (ko) 2001-01-12 2008-02-12 닛본 이따 가라스 가부시끼가이샤 칼라 표시장치용 전극판과 그 제조방법
JP2003307607A (ja) * 2002-04-17 2003-10-31 Nitto Denko Corp 異方性相分離構造体、当該異方性相分離構造体を用いたフィルム及び異方性相分離構造物、並びに前記フィルムを貼着した表示装置

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