JPH0995660A - 乾式シール材、その製造方法、クリーンルーム、および局所設備 - Google Patents

乾式シール材、その製造方法、クリーンルーム、および局所設備

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JPH0995660A
JPH0995660A JP8174643A JP17464396A JPH0995660A JP H0995660 A JPH0995660 A JP H0995660A JP 8174643 A JP8174643 A JP 8174643A JP 17464396 A JP17464396 A JP 17464396A JP H0995660 A JPH0995660 A JP H0995660A
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正幸 今福
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恵英 若山
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Abstract

(57)【要約】 【課題】クリーンルーム内や半導体製造装置内等にガス
状有機物を存在させないようにする。 【解決手段】エアフィルターを天井等の開口部に取り付
ける際に介装されるガスケットなどの乾式シール材とし
て、使用時にガス状有機物を発生しないものを用いる。
具体的には、原料ゴムに配合する滑剤として、炭素数1
9以下の脂肪族炭化水素を含まないもの(例えばマイク
ロクリスタリンワックス)を使用する。可塑剤として分
子量400以上のカルボン酸エステル等を、酸化防止剤
として分子量300以上のフェノール系化合物を使用す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体、食品、医
薬品、バイオテクノロジー関連の工場や研究所等で使用
されているクリーンルームに使用される乾式シール材、
その製造方法、これを用いたクリーンルームおよび局所
設備に関するものである。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】従来より、半導体、食
品、医薬品、バイオテクノロジー関連の工場や研究所等
で使用されているクリーンルームにおいては、空気中の
浮遊粒状物質を捕集する乾式エアフィルターを空気導入
経路に設置し、これを通過した空気を室内に導入してい
るが、最近では、半導体の高集積度化に伴い、クリーン
ルーム内の空気には塵埃だけでなくガス状有機物の拡散
が問題とされるようになってきた。
【0003】すなわち、クリーンルーム内で半導体基板
(シリコンウエハ)の表面に有機物が吸着し、素子特性
が劣化することが指摘されるようになった(例えば、藤
井;「ガス状汚染物とその除去対策の現状」空気清浄、
Vol.32,No.3,P.43(1994)、
(社)日本空気清浄協会発行)。
【0004】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、エアフィルターを天井の開口
部等に取り付ける際に使用されるガスケット等の乾式シ
ール材において、クリーンルーム内にガス状有機物を存
在させないようにすることができるもの、およびその製
造方法、これを用いたクリーンルームおよび局所設備を
提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成するために鋭意検討を重ねた結果、クリーンルー
ム内にガス状有機物が存在する原因の一つに、エアフィ
ルターを天井等の開口部に取り付けるために介装される
ガスケットや、壁材や間仕切り用のパーティションを連
結するために使用されるパッキンなどの乾式シール材が
挙げられることを見出して、本発明を完成させた。
【0006】すなわち、本発明者らの研究により、前記
従来の乾式シール材からは、カルボン酸エステル類、リ
ン酸エステル類、フェノール類などのガス状有機物が発
生することが判明した。
【0007】具体的に、従来の乾式シール材には、滑剤
として流動パラフィン(炭素数12〜18の脂肪族炭化
水素)が含まれており、可塑剤や酸化防止剤としては比
較的低分子量のものが含有されていることが分かった。
【0008】このような知見から、請求項1に係る発明
は、原料ゴムと配合剤とを混合して所定形状に成形され
た乾式シール材において、前記原料ゴムおよび配合剤の
うちの少なくともいずれかがガス状有機物を発生しない
ものであることを特徴とする乾式シール材を提供する。
【0009】請求項2に係る発明は、請求項1記載の乾
式シール材において、前記原料ゴムが、ウレタンゴム、
ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピ
レンターポリマーゴム、イソプレンゴム、アクリルゴ
ム、塩化ビニルゴム、クロロプレンゴム、およびフッ素
ゴムのいずれかであることを特徴とするものである。こ
れらの原料ゴムはガス状有機物を発生しないものであ
る。ただし、ウレタンゴムとしては有機リン酸化合物を
含有しないものを使用する。また、エチレンプロピレン
ターポリマーゴムとは、エチレンとプロピレンと第三成
分との三次元共重合体からなるゴムのことである。
【0010】請求項3に係る発明は、請求項1および2
記載の乾式シール材において、前記配合剤のうちの滑剤
の主成分が、炭素数20以上の脂肪族炭化水素および炭
素数18以上の高級アルコールのうちの少なくともいず
れか一つであることを特徴とするものである。
【0011】また、請求項4に係る発明は、請求項3記
載の乾式シール材において、前記滑剤の主成分が、マイ
クロクリスタリンワックス、天然パラフィン、合成パラ
フィン、ポリオレフィンワックス、炭素数18,20,
24の分岐アルコール、およびオレイルアルコールのう
ちの少なくともいずれか一つであることを特徴とするも
のである。
【0012】ここで、滑剤の主成分が炭素数19以下の
脂肪族炭化水素および炭素数17以下の高級アルコール
であると、温度23℃湿度30〜40%に管理され、エ
アフィルターを通過する空気の流速が0.3〜0.4m
/s程度である通常のクリーンルームでは、これらのガ
ス状物がクリーンルーム内の空気中に存在するようにな
るが、20以上の脂肪族炭化水素および炭素数18以上
の高級アルコールの例えば請求項4で挙げられているも
のを使用すると、これらのガス状物はクリーンルーム内
の空気中に存在しない。
【0013】請求項5に係る発明は、請求項1〜4に記
載の乾式シール材において、前記配合剤のうちの可塑剤
の主成分が、分子量400以上のカルボン酸エステル、
ポリエステル、エポキシ系化合物のうちの少なくともい
ずれか一つであることを特徴とするものである。
【0014】また、請求項6に係る発明は、請求項5記
載の乾式シール材において、前記可塑剤の主成分は、フ
タル酸イソノニル(分子量418)、フタル酸オクチル
デシル(分子量419)、フタル酸ジイソデシル(分子
量447)、フタル酸ラウリル(分子量501)、フタ
ル酸ミリスチリル(分子量530)、アゼライン酸ジ−
2−エチルヘキシル(分子量413)、セバチン酸ジ−
2−エチルヘキシル(分子量427)、トリメリット酸
トリス−2−エチルヘキシル(分子量547)、トリメ
リット酸トリオクチル(分子量547)、トリメリット
酸トリノニル(分子量570)、トリメリット酸トリデ
シル(分子量612)、アジピン酸またはアゼライン酸
またはセバチン酸またはフタル酸とグリコールまたはグ
リセリンとの重縮合により得られるポリエステル(分子
量2000〜8000)、エポキシ脂肪酸エステル(分
子量400〜500)、およびエポキシ化油(分子量約
1000)のうちの少なくともいずれか一つであること
を特徴とする。
【0015】また、請求項7に係る発明は、請求項1〜
6に記載の乾式シール材において、前記原料ゴムは化学
構造に塩素原子を含むものであり、且つ前記配合剤のう
ちの可塑剤の主成分は分子量400以上の塩素化パラフ
ィンであることを特徴とするものである。
【0016】ここで、前記可塑剤の主成分が分子量40
0未満の、フタル酸ジブチル(分子量278)やフタル
酸ジオクチル(分子量391)やアジピン酸ジ−2−エ
チルヘキシル(分子量371)であると、前記通常のク
リーンルームでは、これらのガス状物がクリーンルーム
内の空気中に存在するが、分子量400以上の例えば請
求項6および7で挙げられているものを使用すると、こ
れらのガス状物はクリーンルーム内の空気中に存在しな
い。
【0017】請求項8に係る発明は、請求項1〜7に記
載の乾式シール材において、前記配合剤のうちの酸化防
止剤の主成分が分子量300以上のフェノール系化合物
であることを特徴とするものである。
【0018】また、請求項9に係る発明は、請求項8記
載の乾式シール材において、前記酸化防止剤の主成分
は、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート(分子量520.
9)、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)(分子量340.5)、2,
2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチル
フェノール)(分子量368.54)、4,4’−チオ
ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)(分
子量358.5)、4,4’−ブチリデン−ビス−(3
−メチル−6−t−ブチルフェノール)(分子量38
2.6)、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒ
ドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン(分子量5
44.8)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−ト
リス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)ベンゼン(分子量775.2)、テトラキス〔メ
チレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン(分子量1
177.7)、ビス−〔3,3’−ビス−(4’−ヒド
ロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシ
ド〕グリコールエステル(分子量1177.7)、およ
びトコフェノール(分子量794.4)のうちの少なく
ともいずれか一つであることを特徴とするものである。
【0019】ここで、前記酸化防止剤の主成分が分子量
300未満の2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール
(分子量220.4)であると、前述の通常のクリーン
ルームでは、これらのガス状物がクリーンルーム内の空
気中に存在するようになるが、分子量300以上の例え
ば請求項9で挙げられているものを使用すると、これら
のガス状物はクリーンルーム内の空気中に存在しない。
【0020】なお、本発明者等は、有機物は分子量が大
きくなるほど揮発性は低下し吸着性が大きくなるが、分
子量が所定以上となるとシリコンウエハへの吸着量は小
さくなって収束すること、および前記所定値は分子構造
によって異なることを見出し、前記可塑剤の400以上
および酸化防止剤の300以上の限定は、それぞれ対象
となる多数の物質について実験を行った結果に基づいて
設定した。
【0021】また、具体的には、原料ゴムの主成分がブ
チルゴムであり、滑剤の主成分がマイクロクリスタリン
ワックスであり、可塑剤の主成分がセバチン酸ジ−エチ
ルヘキシルであり、酸化防止剤の主成分が2,2’−メ
チレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノー
ル)であるものが好ましい。
【0022】請求項10の発明は、原料ゴムと配合剤と
を混合して所定形状に成形される乾式シール材の製造方
法において、前記配合剤のうちの可塑剤の主成分とし
て、分子量400以上のカルボン酸エステル、ポリエス
テル、エポキシ系化合物のうちの少なくともいずれか一
つを選んで使用することを特徴とする乾式シール材の製
造方法を提供する。
【0023】請求項11の発明は、原料ゴムと配合剤と
を混合して所定形状に成形される乾式シール材の製造方
法において、前記配合剤のうちの酸化防止剤の主成分と
して、分子量300以上のフェノール系化合物を選んで
使用することを特徴とする乾式シール材の製造方法を提
供する。
【0024】請求項12の発明は、乾式シールが必要な
箇所に請求項1〜9のいずれか一つに記載の乾式シール
材を使用したことを特徴とするクリーンルームを提供す
る。請求項13の発明は、乾式シールが必要な箇所に請
求項1〜9のいずれか一つに記載の乾式シール材を使用
したことを特徴とする局所設備を提供する。
【0025】前記局所設備とは、例えば局所的にクリー
ン度を高くしたい場所に設置されるクリーンブースや、
所定のクリーン度を要求される生産設備、例えば半導体
製造装置等のことを意味する。
【0026】
【発明の実施の形態】本発明の乾式シール材は、従来の
乾式シール材と同様に、原料ゴムがウレタンゴム系のも
のは、主成分の主剤および硬化剤と、可塑剤、酸化防止
剤、および滑剤とを混合して注型成形することにより得
られる。また、原料ゴムが塩化ビニルゴム系、ブチルゴ
ム系、フッ素ゴム系、クロロプレンゴム系、エチレンプ
ロピレンゴム、エチレンプロピレンターポリマーゴム、
およびイソプレンゴムのものは、主成分であるゴム材
と、通常使用される公知の加硫剤および加硫促進剤と、
本発明で規定する可塑剤、酸化防止剤、および滑剤とを
加熱混練し、押し出し成形機にかけて押し出し成形する
ことにより得られる。
【0027】なお、本発明の実施形態の詳細については
以下の実施例の項で説明する。
【0028】
【実施例】
〔成形品の作製〕下記の表1および2に示す原料ゴムお
よび配合剤(滑剤、可塑剤、酸化防止剤)を使用して、
エアフィルター取付け用のガスケットおよびパーティシ
ョン連結用のパッキンをそれぞれ成形した。なお、表1
のNo. 2で可塑剤として使用した塩素化パラフィンは、
パラフィンの炭素数が20〜32で塩素化率が40〜6
0%であり、分子量は400以上のものである。
【0029】
【表1】
【0030】
【表2】
【0031】なお、各表中の略記号は以下の物質を示
す。 K1:セバチン酸ジ−2−エチルヘキシル S1:ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート S2:2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−
t−ブチルフェノール) S3:1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロ
キシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン K4:アジピン酸−1,3−ブチレングリコール S4:2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール K5:フタル酸ジオクチル S5:2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール また、使用した原料ゴムは、以下のものである。
【0032】<ウレタンゴム>日本ポリウレタン工業
(株)製 2液型ポリウレタン 主剤:ピュアMDI(商品名)、硬化剤:ポリオール <塩化ビニルゴム系>日本ゼオン(株)製 塩化ビニル
ゴム <ブチルゴム>アサヒ産業(株)製 ブチルゴム <クロロプレンゴム>東ソー(株)製 ネオプレンゴム <フッ素ゴム>旭硝子(株)製 フッ素ゴム 〔成形品の分析〕各成形品については、硬化後3日経っ
た後に一部(40mg)を切り取ったものを用いて、各
成形品から発生するガス状有機物の量と種類を下記のP
&T−GC/MS法で分析した。
【0033】また、同様に成形品の一部(No. 1〜5は
40g、No. 6,7は20g)を切り取ったものを、シ
リコンウエハー(直径6インチ)とともに両者を数cm
離した状態でデシケーターに入れて数時間放置し、下記
のSWA法でこのウエハーに吸着したガス状有機物の量
と種類を分析した。
【0034】これらの結果を前記各表に併せて示す。 <P&T(パージ&トラップ)−GC/MS法>所定量
の試料を試験管に充填し、内部にヘリウムガスを流しな
がら当該試験管を150℃で30分間加熱し、揮発成分
を−80℃に冷却されたトラップ管で捕集し、当該トラ
ップ管内の成分をヘリウム気流下で300℃まで急速加
熱してガス状としたものを、GC/MS装置に導入す
る。
【0035】GC装置はヒューレットパッカード社製の
HP−5890Aであり、MS装置は同社のHP−59
70Bである。GC装置のカラムは同社のHP−ウルト
ラ2(OV−5系)であり、内径0.2mm、長さ25
mm、膜厚0.33μmである。GC装置の測定時の温
度条件は以下の通りである。
【0036】初期温度40℃→速度10℃/分で昇温→
最終温度280℃(15分間放置)また、GC装置のキ
ャリアーガスはヘリウムであり、注入方式はスプリット
法、スプリット比は1/200とする。MS装置のイオ
ン化法は電子衝撃法であり、検出範囲はm/zで25〜
1000とする。
【0037】定量分析は、各成分のピーク毎に同定され
た有機物の検量線を作製して行うか、多数のピークが出
る場合には、n−デカンを標準物質としてその検量線を
基準に全成分をn−デカン換算の濃度して表示する。こ
れにより、試料中の揮発性有機物の含有量と種類とが測
定される。
【0038】<SWA装置による分析>SWA装置と
は、ジーエルサイエンス(株)製のシリコンウエハーア
ナライザー(商品名)であり、下記のトラップ装置、T
CT(Thermal Desorption Col
d Trap Injector)装置、GC/MS装
置で構成されている。トラップ装置は、ウエハーの表面
に吸着している物質を脱着し、脱着された成分を捕集す
るものであり、TCT装置は、このトラップ装置で捕集
された成分をヘリウム気流中で300℃に加熱した後
に、液体窒素で−130℃に冷却されたキャピラリー管
に導入して冷却捕集するものであり、このTCT装置で
捕集された成分をヘリウム気流中で300℃に急速加熱
したものがGC/MS装置に導入されるようになってい
る。
【0039】ここで使用したGC/MS装置および分析
条件は、前記P&T−GC/MS法と同様であり、これ
により、ウエハー表面に吸着している有機物の含有量と
種類とが測定される。なお、この方法によるとウエハー
一枚当たり数ng(10-9g)のオーダーまで分析が可
能である。 〔クリーンルーム〕また、下記のエアフィルターを前記
No. 1〜3および6,7のガスケットを介装してファン
フィルターユニットのフレームに取り付けることにより
ファンフィルターユニットを作製した。このファンフィ
ルターユニットを用い、焼付け塗装されたパーテイショ
ンを前記No. 1〜3および6,7のパッキンにより乾式
シールして壁材とし、床材としてはフリーアクセスフロ
アの表面材をステンレスシートとしたクリーンルームを
構築した。すなわち、使用した乾式シールの種類が異な
る以外は全て同じクリーンルームを各No. 毎に用意し
た。
【0040】なお、前記壁材および床材は、前述のP&
T−GC/MS法による分析で有機物発生量が共に0.
1μg/g以下であった。また、使用したエアフィルタ
ーは、前述のP&T−GC/MS法による分析で濾材か
らの有機物発生量が1.0μg/g以下であった。
【0041】<エアフィルター> 濾材の繊維:市販のULPAフィルター用のガラス繊維
(紡糸時にシリコーンオイルが塗布されているもの)を
清浄な空気気流下で120℃で6時間加熱することによ
ってケイ素数10以下のシロキサンを除去したものを用
いた。
【0042】濾材の形成:前記ガラス繊維を所定の大き
さのシート状のウエブに広げて重ね、下記の組成の処理
剤をアセトンとトルエンとの1:1混合溶剤に溶かし、
さらに所定量のアクリル樹脂系バインダーを加えた溶液
を、前記ウエブにしみ込ませた後に乾燥させることによ
り、布状の濾材を形成した。
【0043】 処理剤の組成: 撥水剤 合成パラフィン(C20〜C28) 100 重量部 可塑剤 エポキシ化大豆油(Mw=1000) 7 重量部 酸化防止剤 S1(Mw=520.9) 2 重量部 濾材とフィルターフレームとを密封するシール材の組成: 主成分 ポリウレタン樹脂 100 重量部 主剤 メチレンジフェニルジイソシアネート 硬化剤 ポリオール系 可塑剤 K1(Mw=427 ) 5 重量部 酸化防止剤 S2(Mw=368.54) 3 重量部 滑剤 合成パラフィン(C20〜C28) 6 重量部 ※このシール材からの有機物発生量 4.5μg/g (前記乾式シール材と同じ分析方法) フィルターフレーム: アルミフレーム(600mm×600mm×100m
m) このような各クリーンルームを稼働させ、3日後にその
内部に直径が6インチのシリコンウエハーを置いて6時
間放置し、このウエハーに吸着した有機物の量と種類を
下記のSWA装置を用いて分析した。その結果も各表に
併せて示す。
【0044】これらの結果から分かるように、本発明の
各実施形態に相当するNo. 1〜5については、クリーン
ルーム内に存在するガス状有機物を少なくすることがで
き、当該クリーンルーム内に置かれたシリコンウエハー
に吸着する有機物の量を、従来の低分子量の可塑剤およ
び酸化防止剤等を使用した乾式シール材(No. 6,7)
の場合の1/5以下にすることができた。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1〜9の乾
式シール材によれば、クリーンルームや局所設備内にお
けるガス状有機物の発生量を低減できる。
【0046】また、請求項10〜11の方法によれば、
ガス状有機物の発生量の少ない乾式シール材を製造する
ことができる。また、請求項12のクリーンルームおよ
び請求項13の局所設備は、従来の乾式シール材を使用
した場合よりガス状有機物の発生量が少ないため、半導
体製造産業などでこのようなクリーンルームや局所設備
(半導体製造装置)を使用すれば、シリコンウエハーへ
の有機物吸着量が低減されて歩留りが向上する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 9/06 LSJ C08L 9/06 LSJ 11/00 11/00 15/02 15/02 21/00 LBU 21/00 LBU E04B 1/684 F24F 7/06 C F24F 7/06 E04H 5/02 B // E04H 5/02 E04B 1/68 D B29K 219:00

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原料ゴムと配合剤とを混合して所定形状
    に成形された乾式シール材において、 前記原料ゴムおよび配合剤のうちの少なくともいずれか
    がガス状有機物を発生しないものであることを特徴とす
    る乾式シール材。
  2. 【請求項2】 前記原料ゴムは、ウレタンゴム、ブチル
    ゴム、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレンタ
    ーポリマーゴム、イソプレンゴム、アクリルゴム、塩化
    ビニルゴム、クロロプレンゴム、およびフッ素ゴムのい
    ずれかであることを特徴とする請求項1記載の乾式シー
    ル材。
  3. 【請求項3】 前記配合剤のうちの滑剤の主成分が、炭
    素数20以上の脂肪族炭化水素および炭素数18以上の
    高級アルコールのうちの少なくともいずれか一つである
    ことを特徴とする請求項1または2記載の乾式シール
    材。
  4. 【請求項4】 前記滑剤の主成分は、マイクロクリスタ
    リンワックス、天然パラフィン、合成パラフィン、ポリ
    オレフィンワックス、炭素数18,20,24の分岐ア
    ルコール、およびオレイルアルコールのうちの少なくと
    もいずれか一つであることを特徴とする請求項3記載の
    乾式シール材。
  5. 【請求項5】 前記配合剤のうちの可塑剤の主成分が、
    分子量400以上のカルボン酸エステル、ポリエステ
    ル、エポキシ系化合物のうちの少なくともいずれか一つ
    であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに
    記載の乾式シール材。
  6. 【請求項6】 前記可塑剤の主成分は、フタル酸イソノ
    ニル、フタル酸オクチルデシル、フタル酸ジイソデシ
    ル、フタル酸ラウリル、フタル酸ミリスチリル、アゼラ
    イン酸ジ−2−エチルヘキシル、セバチン酸ジ−2−エ
    チルヘキシル、トリメリット酸トリス−2−エチルヘキ
    シル、トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸ト
    リノニル、トリメリット酸トリデシル、アジピン酸また
    はアゼライン酸またはセバチン酸またはフタル酸とグリ
    コールまたはグリセリンとの重縮合により得られるポリ
    エステル、エポキシ脂肪酸エステル、およびエポキシ化
    油のうちの少なくともいずれか一つであることを特徴と
    する請求項5記載の乾式シール材。
  7. 【請求項7】 前記原料ゴムは化学構造に塩素原子を含
    むものであり、且つ前記配合剤のうちの可塑剤の主成分
    は分子量400以上の塩素化パラフィンであることを特
    徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の乾式シー
    ル材。
  8. 【請求項8】 前記配合剤のうちの酸化防止剤の主成分
    が分子量300以上のフェノール系化合物であることを
    特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の乾式シ
    ール材。
  9. 【請求項9】 前記酸化防止剤の主成分は、ステアリル
    −β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
    ニル)プロピオネート、2,2’−メチレン−ビス−
    (4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’
    −メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェ
    ノール)、4,4’−チオビス−(3−メチル−6−t
    −ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス−
    (3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,
    3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−
    ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−
    2,4,6−トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
    ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス〔メチレン
    −3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキ
    シフェニル)プロピオネート〕メタン、ビス−〔3,
    3’−ビス−(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフ
    ェニル)ブチリックアシド〕グリコールエステル、およ
    びトコフェノールのうちの少なくともいずれか一つであ
    ることを特徴とする請求項8記載の乾式シール材。
  10. 【請求項10】 原料ゴムと配合剤とを混合して所定形
    状に成形される乾式シール材の製造方法において、前記
    配合剤のうちの可塑剤の主成分として、分子量400以
    上のカルボン酸エステル、ポリエステル、エポキシ系化
    合物のうちの少なくともいずれか一つを選んで使用する
    ことを特徴とする乾式シール材の製造方法。
  11. 【請求項11】 原料ゴムと配合剤とを混合して所定形
    状に成形される乾式シール材の製造方法において、前記
    配合剤のうちの酸化防止剤の主成分として、分子量30
    0以上のフェノール系化合物を選んで使用することを特
    徴とする乾式シール材の製造方法。
  12. 【請求項12】 乾式シールが必要な箇所に請求項1〜
    9のいずれか一つに記載の乾式シール材を使用したこと
    を特徴とするクリーンルーム。
  13. 【請求項13】 乾式シールが必要な箇所に請求項1〜
    9のいずれか一つに記載の乾式シール材を使用したこと
    を特徴とする局所設備。
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