JP3476046B2 - 乾式シール材、その製造方法、クリーンルーム、および局所設備 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体、食品、医
薬品、バイオテクノロジー関連の工場や研究所等で使用
されているクリーンルームに使用される乾式シール材、
その製造方法、これを用いたクリーンルームおよび局所
設備に関するものである。

【０００２】

【発明が解決しようとする課題】従来より、半導体、食
品、医薬品、バイオテクノロジー関連の工場や研究所等
で使用されているクリーンルームにおいては、空気中の
浮遊粒状物質を捕集する乾式エアフィルターを空気導入
経路に設置し、これを通過した空気を室内に導入してい
るが、最近では、半導体の高集積度化に伴い、クリーン
ルーム内の空気には塵埃だけでなくガス状有機物の拡散
が問題とされるようになってきた。

【０００３】すなわち、クリーンルーム内で半導体基板
（シリコンウエハ）の表面に有機物が吸着し、素子特性
が劣化することが指摘されるようになった（例えば、藤
井；「ガス状汚染物とその除去対策の現状」空気清浄、
Ｖｏｌ．３２，Ｎｏ．３，Ｐ．４３（１９９４）、
（社）日本空気清浄協会発行）。

【０００４】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、エアフィルターを天井の開口
部等に取り付ける際に使用されるガスケット等の乾式シ
ール材において、クリーンルーム内にガス状有機物を存
在させないようにすることができるもの、およびその製
造方法、これを用いたクリーンルームおよび局所設備を
提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成するために鋭意検討を重ねた結果、クリーンルー
ム内にガス状有機物が存在する原因の一つに、エアフィ
ルターを天井等の開口部に取り付けるために介装される
ガスケットや、壁材や間仕切り用のパーティションを連
結するために使用されるパッキンなどの乾式シール材が
挙げられることを見出して、本発明を完成させた。

【０００６】すなわち、本発明者らの研究により、前記
従来の乾式シール材からは、カルボン酸エステル類、リ
ン酸エステル類、フェノール類などのガス状有機物が発
生することが判明した。

【０００７】具体的に、従来の乾式シール材には、滑剤
として流動パラフィン（炭素数１２〜１８の脂肪族炭化
水素）が含まれており、可塑剤や酸化防止剤としては比
較的低分子量のものが含有されていることが分かった。

【０００８】このような知見から、請求項１に係る発明
は、原料ゴムと配合剤とを混合して所定形状に成形され
た、クリーンルームまたは局所設備で使用される乾式シ
ール材において、前記原料ゴムは、ウレタンゴム、ブチ
ルゴム、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレン
ターポリマーゴム、イソプレンゴム、アクリルゴム、塩
化ビニルゴム、クロロプレンゴム、およびフッ素ゴムの
いずれかであり、前記配合剤は、滑剤及び酸化防止剤か
らなり、前記滑剤が、炭素数２０以上の脂肪族炭化水素
および炭素数１８以上の高級アルコールのうちの少なく
ともいずれか一つであり、前記酸化防止剤が、分子量３
００以上のフェノール系化合物であることを特徴とする
乾式シール材を提供する。

【０００９】請求項２に係る発明は、原料ゴムと配合剤
とを混合して所定形状に成形された、クリーンルームま
たは局所設備で使用される乾式シール材において、前記
原料ゴムは、ウレタンゴム、ブチルゴム、エチレンプロ
ピレンゴム、エチレンプロピレンターポリマーゴム、イ
ソプレンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、およ
びフッ素ゴムのいずれかであり、前記配合剤は、酸化防
止剤及び可塑剤からなり、前記酸化防止剤が、分子量３
００以上のフェノール系化合物であり、前記可塑剤が、
分子量４００以上のカルボン酸エステル、ポリエステ
ル、エポキシ系化合物のうちの少なくともいずれか一つ
であることを特徴とする乾式シール材を提供する。 請求
項３に係る発明は、原料ゴムと配合剤とを混合して所定
形状に成形された、クリーンルームまたは局所設備で使
用される乾式シール材において、前記原料ゴムは、ウレ
タンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、エチ
レンプロピレンターポリマーゴム、イソプレンゴム、ア
クリルゴム、クロロプレンゴム、およびフッ素ゴムのい
ずれかであり、前記配合剤は、滑剤、酸化防止剤及び可
塑剤からなり、前記滑剤が、炭素数２０以上の脂肪族炭
化水素および炭素数１８以上の高級アルコールのうちの
少なくともいずれか一つであり、前記酸化防止剤が、分
子量３００以上のフェノール系化合物であり、前記可塑
剤が、分子量４００以上のカルボン酸エステル、ポリエ
ステル、エポキシ系化合物のうちの少なくともいずれか
一つであることを特徴とする乾式シール材を提供する。
請求項４に係る発明は、原料ゴムと配合剤とを混合して
所定形状に成形された、クリーンルームまたは局所設備
で使用される乾式シール材において、前記原料ゴムは、
塩化ビニルゴムまたはクロロプレンゴムであり、前記配
合剤は、酸化防止剤及び可塑剤からなり、前記酸化防止
剤が、分子量３００以上のフェノール系化合物であり、
前記配合剤のうちの可塑剤は分子量４００以上の塩素化
パラフィンであることを特徴とする乾式シール材を提供
する。 これら請求項１〜４に係る発明における原料ゴム
はガス状有機物を発生しないものである。ただし、ウレ
タンゴムとしては有機リン酸化合物を含有しないものを
使用する。また、エチレンプロピレンターポリマーゴム
とは、エチレンとプロピレンと第三成分との三次元共重
合体からなるゴムのことである。

【００１０】

【００１１】また、請求項５に係る発明は、請求項１又
は３記載の乾式シール材において、前記滑剤が、マイク
ロクリスタリンワックス、天然パラフィン、合成パラフ
ィン、ポリオレフィンワックス、炭素数１８，２０，２
４の分岐アルコール、およびオレイルアルコールのうち
の少なくともいずれか一つであることを特徴とするもの
である。

【００１２】ここで、滑剤が炭素数１９以下の脂肪族炭
化水素および炭素数１７以下の高級アルコールである
と、温度２３℃湿度３０〜４０％に管理され、エアフィ
ルターを通過する空気の流速が０．３〜０．４ｍ／ｓ程
度である通常のクリーンルームでは、これらのガス状物
がクリーンルーム内の空気中に存在するようになるが、
２０以上の脂肪族炭化水素および炭素数１８以上の高級
アルコールの例えば請求項２で挙げられているものを使
用すると、これらのガス状物はクリーンルーム内の空気
中に存在しない。

【００１３】

【００１４】また、請求項６に係る発明は、請求項２又
は３記載の乾式シール材において、前記可塑剤は、フタ
ル酸ジイソノニル（分子量４１８）、フタル酸オクチル
デシル（分子量４１９）、フタル酸ジイソデシル（分子
量４４７）、フタル酸ジラウリル（分子量５０１）、フ
タル酸ジミリスチリル（分子量５３０）、アゼライン酸
ジ−２−エチルヘキシル（分子量４１３）、セバチン酸
ジ−２−エチルヘキシル（分子量４２７）、トリメリッ
ト酸トリス−２−エチルヘキシル（分子量５４７）、ト
リメリット酸トリオクチル（分子量５４７）、トリメリ
ット酸トリノニル（分子量５７０）、トリメリット酸ト
リデシル（分子量６１２）、アジピン酸またはアゼライ
ン酸またはセバチン酸またはフタル酸とグリコールまた
はグリセリンとの重縮合により得られるポリエステル
（分子量２０００〜８０００）、エポキシ脂肪酸エステ
ル（分子量４００〜５００）、およびエポキシ化大豆油
（分子量約１０００）のうちの少なくともいずれか一つ
であることを特徴とする。

【００１５】

【００１６】ここで、前記可塑剤が分子量４００未満
の、フタル酸ジブチル（分子量２７８）やフタル酸ジオ
クチル（分子量３９１）やアジピン酸ジ−２−エチルヘ
キシル（分子量３７１）であると、前記通常のクリーン
ルームでは、これらのガス状物がクリーンルーム内の空
気中に存在するが、分子量４００以上の例えば請求項４
および６で挙げられているものを使用すると、これらの
ガス状物はクリーンルーム内の空気中に存在しない。

【００１７】

【００１８】また、請求項７に係る発明は、請求項１〜
４記載の乾式シール材において、前記酸化防止剤は、ス
テアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート（分子量５２０．９）、
２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）（分子量３４０．５）、２，２’−メ
チレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）（分子量３６８．５４）、４，４’−チオビス−
（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）（分子量３
５８．５）、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）（分子量３８２．
６）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロ
キシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン（分子量５４
４．８）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリ
ス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン（分子量７７５．２）、テトラキス〔メチ
レン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕メタン（分子量１１
７７．７）、ビス−〔３，３’−ビス−（４’−ヒドロ
キシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシド〕
グリコールエステル（分子量１１７７．７）、およびト
コフェノール（分子量７９４．４）のうちの少なくとも
いずれか一つであることを特徴とするものである。

【００１９】ここで、前記酸化防止剤が分子量３００未
満の２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（分子量
２２０．４）であると、前述の通常のクリーンルームで
は、これらのガス状物がクリーンルーム内の空気中に存
在するようになるが、分子量３００以上の例えば請求項
７で挙げられているものを使用すると、これらのガス状
物はクリーンルーム内の空気中に存在しない。

【００２０】なお、本発明者等は、有機物は分子量が大
きくなるほど揮発性は低下し吸着性が大きくなるが、分
子量が所定以上となるとシリコンウエハへの吸着量は小
さくなって収束すること、および前記所定値は分子構造
によって異なることを見出し、前記可塑剤の４００以上
および酸化防止剤の３００以上の限定は、それぞれ対象
となる多数の物質について実験を行った結果に基づいて
設定した。

【００２１】また、具体的には、原料ゴムの主成分がブ
チルゴムであり、滑剤の主成分がマイクロクリスタリン
ワックスであり、可塑剤の主成分がセバチン酸ジ−エチ
ルヘキシルであり、酸化防止剤の主成分が２，２’−メ
チレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）であるものが好ましい。

【００２２】 請求項８の発明は、ウレタンゴム、ブチ
ルゴム、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレン
ターポリマーゴム、イソプレンゴム、アクリルゴム、ク
ロロプレンゴム、およびフッ素ゴムのいずれかからなる
原料ゴムと、酸化防止剤および可塑剤からなる配合剤
と、を混合して所定形状に成形され、クリーンルームま
たは局所設備で使用される乾式シール材の製造方法にお
いて、前記酸化防止剤として、分子量３００以上のフェ
ノール系化合物を使用し、前記可塑剤として、分子量４
００以上のカルボン酸エステル、ポリエステル、エポキ
シ系化合物のうちの少なくともいずれか一つを選んで使
用することを特徴とする乾式シール材の製造方法を提供
する。

【００２３】 請求項９の発明は、ウレタンゴム、ブチ
ルゴム、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレン
ターポリマーゴム、イソプレンゴム、アクリルゴム、塩
化ビニルゴム、クロロプレンゴム、およびフッ素ゴムの
いずれかからなる原料ゴムと、滑剤、酸化防止剤、およ
び可塑剤からなる配合剤と、を混合して所定形状に成形
され、クリーンルームまたは局所設備で使用される乾式
シール材の製造方法において、前記滑剤として、炭素数
２０以上の脂肪族炭化水素および炭素数１８以上の高級
アルコールのうちの少なくともいずれか一つを使用し、
前記酸化防止剤として、分子量３００以上のフェノール
系化合物を選んで使用し、前記可塑剤として、分子量４
００以上のカルボン酸エステル、ポリエステル、エポキ
シ系化合物のうちの少なくともいずれか一つを選んで使
用することを特徴とする乾式シール材の製造方法を提供
する。

【００２４】請求項１０の発明は、乾式シールが必要な
箇所に請求項１〜７のいずれか一つに記載の乾式シール
材を使用したことを特徴とするクリーンルームを提供す
る。請求項１１の発明は、乾式シールが必要な箇所に請
求項１〜７のいずれか一つに記載の乾式シール材を使用
したことを特徴とするクリーンルームを提供する。

【００２５】前記局所設備とは、例えば局所的にクリー
ン度を高くしたい場所に設置されるクリーンブースや、
所定のクリーン度を要求される生産設備、例えば半導体
製造装置等のことを意味する。

【００２６】

【発明の実施の形態】本発明の乾式シール材は、従来の
乾式シール材と同様に、原料ゴムがウレタンゴム系のも
のは、主成分の主剤および硬化剤と、可塑剤、酸化防止
剤、および滑剤とを混合して注型成形することにより得
られる。また、原料ゴムが塩化ビニルゴム系、ブチルゴ
ム系、フッ素ゴム系、クロロプレンゴム系、エチレンプ
ロピレンゴム、エチレンプロピレンターポリマーゴム、
およびイソプレンゴムのものは、主成分であるゴム材
と、通常使用される公知の加硫剤および加硫促進剤と、
本発明で規定する可塑剤、酸化防止剤、および滑剤とを
加熱混練し、押し出し成形機にかけて押し出し成形する
ことにより得られる。

【００２７】なお、本発明の実施形態の詳細については
以下の実施例の項で説明する。

【００２８】

【実施例】

〔成形品の作製〕下記の表１および２に示す原料ゴムお
よび配合剤（滑剤、可塑剤、酸化防止剤）を使用して、
エアフィルター取付け用のガスケットおよびパーティシ
ョン連結用のパッキンをそれぞれ成形した。なお、表１
のNo. ２で可塑剤として使用した塩素化パラフィンは、
パラフィンの炭素数が２０〜３２で塩素化率が４０〜６
０％であり、分子量は４００以上のものである。

【００２９】

【表１】

【００３０】

【表２】

【００３１】なお、各表中の略記号は以下の物質を示
す。 Ｋ１：セバチン酸ジ−２−エチルヘキシル Ｓ１：ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート Ｓ２：２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−
ｔ−ブチルフェノール） Ｓ３：１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロ
キシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン Ｋ４：アジピン酸−１，３−ブチレングリコール Ｓ４：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール Ｋ５：フタル酸ジオクチル Ｓ５：２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール また、使用した原料ゴムは、以下のものである。

【００３２】＜ウレタンゴム＞日本ポリウレタン工業
（株）製 ２液型ポリウレタン 主剤：ピュアＭＤＩ（商品名）、硬化剤：ポリオール ＜塩化ビニルゴム系＞日本ゼオン（株）製 塩化ビニル
ゴム ＜ブチルゴム＞アサヒ産業（株）製 ブチルゴム ＜クロロプレンゴム＞東ソー（株）製 ネオプレンゴム ＜フッ素ゴム＞旭硝子（株）製 フッ素ゴム 〔成形品の分析〕各成形品については、硬化後３日経っ
た後に一部（４０ｍｇ）を切り取ったものを用いて、各
成形品から発生するガス状有機物の量と種類を下記のＰ
＆Ｔ−ＧＣ／ＭＳ法で分析した。

【００３３】また、同様に成形品の一部（No. １〜５は
４０ｇ、No. ６，７は２０ｇ）を切り取ったものを、シ
リコンウエハー（直径６インチ）とともに両者を数ｃｍ
離した状態でデシケーターに入れて数時間放置し、下記
のＳＷＡ法でこのウエハーに吸着したガス状有機物の量
と種類を分析した。

【００３４】これらの結果を前記各表に併せて示す。 ＜Ｐ＆Ｔ（パージ＆トラップ）−ＧＣ／ＭＳ法＞所定量
の試料を試験管に充填し、内部にヘリウムガスを流しな
がら当該試験管を１５０℃で３０分間加熱し、揮発成分
を−８０℃に冷却されたトラップ管で捕集し、当該トラ
ップ管内の成分をヘリウム気流下で３００℃まで急速加
熱してガス状としたものを、ＧＣ／ＭＳ装置に導入す
る。

【００３５】ＧＣ装置はヒューレットパッカード社製の
ＨＰ−５８９０Ａであり、ＭＳ装置は同社のＨＰ−５９
７０Ｂである。ＧＣ装置のカラムは同社のＨＰ−ウルト
ラ２（ＯＶ−５系）であり、内径０．２ｍｍ、長さ２５
ｍｍ、膜厚０．３３μｍである。ＧＣ装置の測定時の温
度条件は以下の通りである。

【００３６】初期温度４０℃→速度１０℃／分で昇温→
最終温度２８０℃（１５分間放置）また、ＧＣ装置のキ
ャリアーガスはヘリウムであり、注入方式はスプリット
法、スプリット比は１／２００とする。ＭＳ装置のイオ
ン化法は電子衝撃法であり、検出範囲はｍ／ｚで２５〜
１０００とする。

【００３７】定量分析は、各成分のピーク毎に同定され
た有機物の検量線を作製して行うか、多数のピークが出
る場合には、ｎ−デカンを標準物質としてその検量線を
基準に全成分をｎ−デカン換算の濃度して表示する。こ
れにより、試料中の揮発性有機物の含有量と種類とが測
定される。

【００３８】＜ＳＷＡ装置による分析＞ＳＷＡ装置と
は、ジーエルサイエンス（株）製のシリコンウエハーア
ナライザー（商品名）であり、下記のトラップ装置、Ｔ
ＣＴ（Ｔｈｅｒｍａｌ Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｃｏｌ
ｄ Ｔｒａｐ Ｉｎｊｅｃｔｏｒ）装置、ＧＣ／ＭＳ装
置で構成されている。トラップ装置は、ウエハーの表面
に吸着している物質を脱着し、脱着された成分を捕集す
るものであり、ＴＣＴ装置は、このトラップ装置で捕集
された成分をヘリウム気流中で３００℃に加熱した後
に、液体窒素で−１３０℃に冷却されたキャピラリー管
に導入して冷却捕集するものであり、このＴＣＴ装置で
捕集された成分をヘリウム気流中で３００℃に急速加熱
したものがＧＣ／ＭＳ装置に導入されるようになってい
る。

【００３９】ここで使用したＧＣ／ＭＳ装置および分析
条件は、前記Ｐ＆Ｔ−ＧＣ／ＭＳ法と同様であり、これ
により、ウエハー表面に吸着している有機物の含有量と
種類とが測定される。なお、この方法によるとウエハー
一枚当たり数ｎｇ（１０^-9ｇ）のオーダーまで分析が可
能である。 〔クリーンルーム〕また、下記のエアフィルターを前記
No. １〜３および６，７のガスケットを介装してファン
フィルターユニットのフレームに取り付けることにより
ファンフィルターユニットを作製した。このファンフィ
ルターユニットを用い、焼付け塗装されたパーテイショ
ンを前記No. １〜３および６，７のパッキンにより乾式
シールして壁材とし、床材としてはフリーアクセスフロ
アの表面材をステンレスシートとしたクリーンルームを
構築した。すなわち、使用した乾式シールの種類が異な
る以外は全て同じクリーンルームを各No. 毎に用意し
た。

【００４０】なお、前記壁材および床材は、前述のＰ＆
Ｔ−ＧＣ／ＭＳ法による分析で有機物発生量が共に０．
１μｇ／ｇ以下であった。また、使用したエアフィルタ
ーは、前述のＰ＆Ｔ−ＧＣ／ＭＳ法による分析で濾材か
らの有機物発生量が１．０μｇ／ｇ以下であった。

【００４１】＜エアフィルター＞ 濾材の繊維：市販のＵＬＰＡフィルター用のガラス繊維
（紡糸時にシリコーンオイルが塗布されているもの）を
清浄な空気気流下で１２０℃で６時間加熱することによ
ってケイ素数１０以下のシロキサンを除去したものを用
いた。

【００４２】濾材の形成：前記ガラス繊維を所定の大き
さのシート状のウエブに広げて重ね、下記の組成の処理
剤をアセトンとトルエンとの１：１混合溶剤に溶かし、
さらに所定量のアクリル樹脂系バインダーを加えた溶液
を、前記ウエブにしみ込ませた後に乾燥させることによ
り、布状の濾材を形成した。

【００４３】 処理剤の組成： 撥水剤 合成パラフィン(Ｃ₂₀〜Ｃ₂₈） 100 重量部 可塑剤 エポキシ化大豆油（Mw＝1000) 7 重量部 酸化防止剤 Ｓ１（Mw＝520.9) 2 重量部 濾材とフィルターフレームとを密封するシール材の組成： 主成分 ポリウレタン樹脂 100 重量部 主剤 メチレンジフェニルジイソシアネート 硬化剤 ポリオール系 可塑剤 Ｋ１（Mw＝427 ） 5 重量部 酸化防止剤 Ｓ２（Mw＝368.54) 3 重量部 滑剤 合成パラフィン(Ｃ₂₀〜Ｃ₂₈） 6 重量部 ※このシール材からの有機物発生量 ４．５μｇ／ｇ （前記乾式シール材と同じ分析方法） フィルターフレーム： アルミフレーム（６００ｍｍ×６００ｍｍ×１００ｍ
ｍ） このような各クリーンルームを稼働させ、３日後にその
内部に直径が６インチのシリコンウエハーを置いて６時
間放置し、このウエハーに吸着した有機物の量と種類を
下記のＳＷＡ装置を用いて分析した。その結果も各表に
併せて示す。

【００４４】これらの結果から分かるように、本発明の
各実施形態に相当するNo. １〜５については、クリーン
ルーム内に存在するガス状有機物を少なくすることがで
き、当該クリーンルーム内に置かれたシリコンウエハー
に吸着する有機物の量を、従来の低分子量の可塑剤およ
び酸化防止剤等を使用した乾式シール材（No. ６，７）
の場合の１／５以下にすることができた。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜７の乾
式シール材によれば、クリーンルームや局所設備内にお
けるガス状有機物の発生量を低減できる。

【００４６】また、請求項８〜９の方法によれば、ガス
状有機物の発生量の少ない乾式シール材を製造すること
ができる。また、請求項１０のクリーンルームおよび請
求項１１の局所設備は、従来の乾式シール材を使用した
場合よりガス状有機物の発生量を少ないため、半導体製
造産業などでこのようなクリーンルームや局所設備（半
導体製造装置）を使用すれば、シリコンウエハーへの有
機物吸着量が低減されて歩留りが向上する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 9/06 Ｃ０８Ｌ 9/06 11/00 11/00 15/02 15/02 21/00 21/00 Ｅ０４Ｂ 1/684 Ｆ２４Ｆ 7/06 Ｃ Ｆ２４Ｆ 7/06 Ｅ０４Ｈ 5/02 Ｂ // Ｅ０４Ｈ 5/02 Ｂ２９Ｋ 219:00 Ｂ２９Ｋ 219:00 Ｅ０４Ｂ 1/68 Ｄ (56)参考文献 特開 昭56−129283（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−265940（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−207838（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−48236（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−121055（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−120347（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−117628（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−115452（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−25460（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−217467（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−120257（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−337699（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C09K 3/10 B29D 31/00 - 31/02 C08K 5/10 - 5/12 C08K 5/13 - 5/138 C08L 9/02 - 9/04 C08L 9/06 - 9/08 C08L 11/00 - 11/02 C08L 15/02 C08L 21/00 - 21/02 E04B 1/684 - 1/686 F24F 7/06 - 7/10 E04H 5/02 - 5/06 B29K 219:00

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 原料ゴムと配合剤とを混合して所定形状
   に成形された、クリーンルームまたは局所設備で使用さ
   れる乾式シール材において、 前記原料ゴムは、ウレタンゴム、ブチルゴム、エチレン
   プロピレンゴム、エチレンプロピレンターポリマーゴ
   ム、イソプレンゴム、アクリルゴム、塩化ビニルゴム、
   クロロプレンゴム、およびフッ素ゴムのいずれかであ
   り、前記配合剤は、滑剤及び酸化防止剤からなり、 前記滑剤が、炭素数２０以上の脂肪族炭化水素および炭
   素数１８以上の高級アルコールのうちの少なくともいず
   れか一つであり、 前記酸化防止剤が、分子量３００以上のフェノール系化
   合物であ ることを特徴とする乾式シール材。
2. 【請求項２】 原料ゴムと配合剤とを混合して所定形状
   に成形された、クリーンルームまたは局所設備で使用さ
   れる乾式シール材において、 前記原料ゴムは、ウレタンゴム、ブチルゴム、エチレン
   プロピレンゴム、エチレンプロピレンターポリマーゴ
   ム、イソプレンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴ
   ム、およびフッ素ゴムのいずれかであり、 前記配合剤は、酸化防止剤及び可塑剤からなり、 前記酸化防止剤が、分子量３００以上のフェノール系化
   合物であり、 前記可塑剤が、分子量４００以上のカルボン酸エステ
   ル、ポリエステル、エポキシ系化合物のうちの少なくと
   もいずれか一つである ことを特徴とする乾式シール材。
3. 【請求項３】 原料ゴムと配合剤とを混合して所定形状
   に成形された、クリーンルームまたは局所設備で使用さ
   れる乾式シール材において、 前記原料ゴムは、ウレタンゴム、ブチルゴム、エチレン
   プロピレンゴム、エチレンプロピレンターポリマーゴ
   ム、イソプレンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴ
   ム、およびフッ素ゴムのいずれかであり、前記配合剤は、滑剤、酸化防止剤及び可塑剤からなり、 前記滑剤が、炭素数２０以上の脂肪族炭化水素および炭
   素数１８以上の高級アルコールのうちの少なくともいず
   れか一つであり、 前記酸化防止剤が、分子量３００以上のフェノール系化
   合物であ り、 前記可塑剤が、分子量４００以上のカルボン酸エステ
   ル、ポリエステル、エポキシ系化合物のうちの少なくと
   もいずれか一つであることを特徴とする乾式シール材。
4. 【請求項４】 原料ゴムと配合剤とを混合して所定形状
   に成形された、クリーンルームまたは局所設備で使用さ
   れる乾式シール材において、 前記原料ゴムは、塩化ビニルゴムまたはクロロプレンゴ
   ムであり、 前記配合剤は、酸化防止剤及び可塑剤からなり、 前記酸化防止剤が、分子量３００以上のフェノール系化
   合物であり、 前記配合剤のうちの可塑剤は分子量４００以上の塩素化
   パラフィンである ことを特徴とする乾式シール材。
5. 【請求項５】 前記滑剤は、マイクロクリスタリンワッ
   クス、天然パラフィン、合成パラフィン、ポリオレフィ
   ンワックス、炭素数１８，２０，２４の分岐アルコー
   ル、およびオレイルアルコールのうちの少なくともいず
   れか一つであることを特徴とする請求項１又は３記載の
   乾式シール材。
6. 【請求項６】 前記可塑剤は、フタル酸ジイソノニル、
   フタル酸オクチルデシル、フタル酸ジイソデシル、フタ
   ル酸ジラウリル、フタル酸ジミリスチリル、アゼライン
   酸ジ−２−エチルヘキシル、セバチン酸ジ−２−エチル
   ヘキシル、トリメリット酸トリス−２−エチルヘキシ
   ル、トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ
   ノニル、トリメリット酸トリデシル、アジピン酸または
   アゼライン酸またはセバチン酸またはフタル酸とグリコ
   ールまたはグリセリンとの重縮合により得られるポリエ
   ステル、エポキシ脂肪酸エステル、およびエポキシ化大
   豆油のうちの少なくともいずれか一つであることを特徴
   とする請求項２又は請求項３記載の乾式シール材。
7. 【請求項７】 前記酸化防止剤は、ステアリル−β−
   （３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
   プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メ
   チル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレ
   ン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノー
   ル）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
   チルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス−（３
   −メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−
   トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチ
   ルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，
   ４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
   ロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス〔メチレン−３
   −（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフ
   ェニル）プロピオネート〕メタン、ビス−〔３，３’−
   ビス−（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニ
   ル）ブチリックアシド〕グリコールエステル、およびト
   コフェノールのうちの少なくともいずれか一つであるこ
   とを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の乾
   式シール材。
8. 【請求項８】 ウレタンゴム、ブチルゴム、エチレンプ
   ロピレンゴム、エチレンプロピレンターポリマーゴム、
   イソプレンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、お
   よびフッ素ゴムのいずれかからなる原料ゴムと、酸化防
   止剤および可塑剤からなる配合剤と、を混合して所定形
   状に成形され、クリーンルームまたは局所設備で使用さ
   れる乾式シール材の製造方法において、 前記酸化防止剤として、分子量３００以上のフェノール
   系化合物を使用し、 前記可塑剤として、分子量４００以上のカルボン酸エス
   テル、ポリエステル、エポキシ系化合物のうちの少なく
   ともいずれか一つを選んで使用することを特徴とする乾
   式シール材の製造方法。
9. 【請求項９】 ウレタンゴム、ブチルゴム、エチレンプ
   ロピレンゴム、エチレンプロピレンターポリマーゴム、
   イソプレンゴム、アクリルゴム、塩化ビニルゴム、クロ
   ロプレンゴム、およびフッ素ゴムのいずれかからなる原
   料ゴムと、滑剤、酸化防止剤、および可塑剤からなる配
   合剤と、を混合して所定形状に成形され、クリーンルー
   ムまたは局所設備で使用される乾式シール材の製造方法
   において、前記滑剤として、炭素数２０以上の脂肪族炭化水素およ
   び炭素数１８以上の高級アルコールのうちの少なくとも
   いずれか一つを使用し、 前記酸化防止剤として、分子量３００以上のフェノール
   系化合物を選んで使用し、 前記可塑剤として、分子量４００以上のカルボン酸エス
   テル、ポリエステル、エポキシ系化合物のうちの少なく
   ともいずれか一つを選んで使用 することを特徴とする乾
   式シール材の製造方法。
10. 【請求項１０】 乾式シールが必要な箇所に請求項１〜
    ７のいずれか一つに記載の乾式シール材を使用したこと
    を特徴とするクリーンルーム。
11. 【請求項１１】 乾式シールが必要な箇所に請求項１〜
    ７のいずれか一つに記載の乾式シール材を使用したこと
    を特徴とする局所設備。