JPH09865A - 排ガスの処理方法及び装置 - Google Patents
排ガスの処理方法及び装置Info
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- JPH09865A JPH09865A JP7176695A JP17669595A JPH09865A JP H09865 A JPH09865 A JP H09865A JP 7176695 A JP7176695 A JP 7176695A JP 17669595 A JP17669595 A JP 17669595A JP H09865 A JPH09865 A JP H09865A
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- exhaust gas
- chamber
- liquid
- partition plate
- cleaning liquid
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスの処理方法及
び装置において、湿式電気集塵装置の使用を必要としな
い方法を提供する。 【構成】 排ガスを冷却除塵塔３１に導入し、噴霧状液
滴粒子と接触させた後、冷却除塵塔から抜出し、第１隔
板２と第２隔板３とによって第１室５と第２室６と第３
室７とに区画された密閉槽の第２室に供給し、排ガス分
散管９を通して第１室の吸収液中に吹込み、第１室の上
部空間に存在する排ガスを排ガス上昇筒１０内を上昇さ
せ、第３室に上昇してきた排ガスを、その先端から洗浄
液が液幕状に流下している排ガス衝突板２６に衝突さ
せ、液幕と接触させ、ついで排ガスを第３室に配設され
排ガス出口１１から排出させ、ミストエリミネータ１２
に導入し、排ガス中の液滴粒子を除去した後、大気中へ
放出させる。
び装置において、湿式電気集塵装置の使用を必要としな
い方法を提供する。 【構成】 排ガスを冷却除塵塔３１に導入し、噴霧状液
滴粒子と接触させた後、冷却除塵塔から抜出し、第１隔
板２と第２隔板３とによって第１室５と第２室６と第３
室７とに区画された密閉槽の第２室に供給し、排ガス分
散管９を通して第１室の吸収液中に吹込み、第１室の上
部空間に存在する排ガスを排ガス上昇筒１０内を上昇さ
せ、第３室に上昇してきた排ガスを、その先端から洗浄
液が液幕状に流下している排ガス衝突板２６に衝突さ
せ、液幕と接触させ、ついで排ガスを第３室に配設され
排ガス出口１１から排出させ、ミストエリミネータ１２
に導入し、排ガス中の液滴粒子を除去した後、大気中へ
放出させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、粉塵と亜硫酸ガスを含
む排ガスの処理方法及び処理装置に関するものである。
む排ガスの処理方法及び処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスを
冷却除塵塔に導入し、ここで排ガスを冷却除塵した後、
脱硫装置に導入して脱硫処理し、次いで脱硫処理された
排ガスをミストエリミネータに導入し、ここで排ガス中
の液滴粒子（ミスト）を除去した後、湿式電気集塵装置
に導入し、ここで排ガス中に残存する粉塵を除去した
後、大気へ放出する排ガスの処理方法は広く行われてい
る。
冷却除塵塔に導入し、ここで排ガスを冷却除塵した後、
脱硫装置に導入して脱硫処理し、次いで脱硫処理された
排ガスをミストエリミネータに導入し、ここで排ガス中
の液滴粒子（ミスト）を除去した後、湿式電気集塵装置
に導入し、ここで排ガス中に残存する粉塵を除去した
後、大気へ放出する排ガスの処理方法は広く行われてい
る。
【０００３】ところで、このような排ガスの処理方法に
おいては、排ガス中に含まれる粉塵を除去するために、
前記したように、湿式電気集塵装置が用いられている
が、このものは、大規模の装置でありその装置コストは
非常に高く、しかもその設置面積も広いことから、排ガ
ス処理コストを上昇させる大きな要因の１つになってい
る。従って、このような湿式電気集塵装置は、可能であ
れば、その配設を省略することが望ましいものである
が、大気へ放出させる排ガス中の粉塵濃度規制は年々厳
しくなってきており、この点から、前記湿式電気集塵装
置の配設は余儀ないものとされていた。
おいては、排ガス中に含まれる粉塵を除去するために、
前記したように、湿式電気集塵装置が用いられている
が、このものは、大規模の装置でありその装置コストは
非常に高く、しかもその設置面積も広いことから、排ガ
ス処理コストを上昇させる大きな要因の１つになってい
る。従って、このような湿式電気集塵装置は、可能であ
れば、その配設を省略することが望ましいものである
が、大気へ放出させる排ガス中の粉塵濃度規制は年々厳
しくなってきており、この点から、前記湿式電気集塵装
置の配設は余儀ないものとされていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、粉塵と亜硫
酸ガスを含む排ガスの処理方法及び装置において、湿式
電気集塵装置の使用を必要としない方法及び装置を提供
することをその課題とする。
酸ガスを含む排ガスの処理方法及び装置において、湿式
電気集塵装置の使用を必要としない方法及び装置を提供
することをその課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、粉塵と亜硫酸ガスを
含む排ガスを処理する方法において、（i）排ガスを冷
却除塵塔に導入し、噴霧状液滴粒子と接触させた後、そ
の冷却除塵塔から抜出すこと、（ii）冷却除塵塔から抜
出された排ガスを、第１隔板とその上方に位置する第２
隔板とによってその内部が第１室と第１室の上方に隣接
する第２室と第２室の上方に隣接する第３室とに区画さ
れた密閉槽におけるその第２室に供給すること、（ii
i）第２室に供給された排ガスを第１隔板に形成された
透孔に垂設された排ガス分散管を通して第１室に収容さ
れている吸収液中に吹込むこと、（iv）第１室の上部空
間に存在する排ガスを第１室と第３室との間を連絡し、
その上端が第２隔板表面より上方に位置する排ガス上昇
筒内を上昇させること、（v）排ガス上昇筒を通して第
３室に上昇してきた排ガスをその排ガス上昇筒の上方に
配設されている液体流下壁を有し、その先端から洗浄液
が液幕状に流下している排ガス衝突板に衝突させるとと
もに、排ガスをその液幕と接触させること、（vi）第３
室内において前記液幕と接触させた後の排ガスを第３室
に配設された排ガス出口から排出させること、（vii）
第３室から排出された後の排ガスをミストエリミネータ
に導入し、排ガス中に含まれる液滴粒子を除去した後、
ミストエリミネータから抜出すこと、（viii）ミストエ
リミネータから抜出した排ガスを湿式電気集塵処理する
ことなく大気中へ放出させること、を特徴とする排ガス
の処理方法が提供される。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、粉塵と亜硫酸ガスを
含む排ガスを処理する方法において、（i）排ガスを冷
却除塵塔に導入し、噴霧状液滴粒子と接触させた後、そ
の冷却除塵塔から抜出すこと、（ii）冷却除塵塔から抜
出された排ガスを、第１隔板とその上方に位置する第２
隔板とによってその内部が第１室と第１室の上方に隣接
する第２室と第２室の上方に隣接する第３室とに区画さ
れた密閉槽におけるその第２室に供給すること、（ii
i）第２室に供給された排ガスを第１隔板に形成された
透孔に垂設された排ガス分散管を通して第１室に収容さ
れている吸収液中に吹込むこと、（iv）第１室の上部空
間に存在する排ガスを第１室と第３室との間を連絡し、
その上端が第２隔板表面より上方に位置する排ガス上昇
筒内を上昇させること、（v）排ガス上昇筒を通して第
３室に上昇してきた排ガスをその排ガス上昇筒の上方に
配設されている液体流下壁を有し、その先端から洗浄液
が液幕状に流下している排ガス衝突板に衝突させるとと
もに、排ガスをその液幕と接触させること、（vi）第３
室内において前記液幕と接触させた後の排ガスを第３室
に配設された排ガス出口から排出させること、（vii）
第３室から排出された後の排ガスをミストエリミネータ
に導入し、排ガス中に含まれる液滴粒子を除去した後、
ミストエリミネータから抜出すこと、（viii）ミストエ
リミネータから抜出した排ガスを湿式電気集塵処理する
ことなく大気中へ放出させること、を特徴とする排ガス
の処理方法が提供される。
【０００６】また、本発明によれば、排ガスを冷却除塵
する排ガス冷却除塵塔と、冷却除塵塔からの排ガスを脱
硫するための脱硫装置と、脱硫装置から排出された排ガ
ス中の液滴粒子を除去するためのミストエリミネータ
と、ミストエリミネータからの排ガスを大気中へ放出さ
せる排ガス排出筒を備えたものであって、前記脱硫装置
は、第１隔板とその上方に位置する第２隔板とによって
その内部が第１室と第１室の上方に隣接する第２室と第
２室の上方に隣接する第３室とに区画された密閉槽と、
第２室の周壁に形成された排ガス入口と、第３室に配設
された脱硫排ガス出口と、第１隔板に形成された透孔
と、その透孔に垂設された排ガス分散管と、第１室と第
３室とを連絡し、その上端が第２隔板表面より上方に位
置する排ガス上昇筒と、第３室において排ガス上昇筒の
上方に配設され、液体流下壁とその液体流下壁に洗浄液
を供給する液分散機構を有する排ガス衝突板を備えたこ
とを特徴とする排ガスの処理装置が提供される。
する排ガス冷却除塵塔と、冷却除塵塔からの排ガスを脱
硫するための脱硫装置と、脱硫装置から排出された排ガ
ス中の液滴粒子を除去するためのミストエリミネータ
と、ミストエリミネータからの排ガスを大気中へ放出さ
せる排ガス排出筒を備えたものであって、前記脱硫装置
は、第１隔板とその上方に位置する第２隔板とによって
その内部が第１室と第１室の上方に隣接する第２室と第
２室の上方に隣接する第３室とに区画された密閉槽と、
第２室の周壁に形成された排ガス入口と、第３室に配設
された脱硫排ガス出口と、第１隔板に形成された透孔
と、その透孔に垂設された排ガス分散管と、第１室と第
３室とを連絡し、その上端が第２隔板表面より上方に位
置する排ガス上昇筒と、第３室において排ガス上昇筒の
上方に配設され、液体流下壁とその液体流下壁に洗浄液
を供給する液分散機構を有する排ガス衝突板を備えたこ
とを特徴とする排ガスの処理装置が提供される。
【０００７】次に、本発明を図面を参照して説明する。
図１は、本発明の排ガスの処理装置の模式図を示す。こ
の図において、１は排ガス処理装置、１’は密閉槽（又
は排ガス脱硫装置）、２は第１隔板、３は第２隔板、４
は天板、５は第１室、６は第２室、７は第３室、８は排
ガス導入ダクト、９は排ガス分散管、１０は排ガス上昇
筒、１１は排ガス導出ダクト、１２はミストエリミネー
タ、１３は排ガス洗浄液抜出し管、１４は排ガス洗浄液
槽、１５はポンプ、１６は排ガス洗浄液供給管、１７は
排ガス洗浄液スプレーノズル、１８は吸収剤供給管、１
９，１９’は洗浄液供給管、２０は排ガス洗浄液補給
管、２１は酸素含有ガス供給管、２２は酸素含有ガス噴
出ノズル、２３は排液管、２４は撹拌機、２５は排ガス
洗浄液導管、２６は排ガス衝突板、３１は冷却除塵塔、
３１’は密閉筒体、３２は排ガス導入ダクト、３３は冷
却液抜出し管、３４はポンプ、３５は冷却液供給管、３
６は冷却液スプレーノズル、３７は加熱器、３８は排ガ
ス排出筒、Ａはフロス層（気液混合層）、Ｌ1は吸収
液、Ｌ2は排ガス洗浄液、Ｌ3は冷却液を各示す。
図１は、本発明の排ガスの処理装置の模式図を示す。こ
の図において、１は排ガス処理装置、１’は密閉槽（又
は排ガス脱硫装置）、２は第１隔板、３は第２隔板、４
は天板、５は第１室、６は第２室、７は第３室、８は排
ガス導入ダクト、９は排ガス分散管、１０は排ガス上昇
筒、１１は排ガス導出ダクト、１２はミストエリミネー
タ、１３は排ガス洗浄液抜出し管、１４は排ガス洗浄液
槽、１５はポンプ、１６は排ガス洗浄液供給管、１７は
排ガス洗浄液スプレーノズル、１８は吸収剤供給管、１
９，１９’は洗浄液供給管、２０は排ガス洗浄液補給
管、２１は酸素含有ガス供給管、２２は酸素含有ガス噴
出ノズル、２３は排液管、２４は撹拌機、２５は排ガス
洗浄液導管、２６は排ガス衝突板、３１は冷却除塵塔、
３１’は密閉筒体、３２は排ガス導入ダクト、３３は冷
却液抜出し管、３４はポンプ、３５は冷却液供給管、３
６は冷却液スプレーノズル、３７は加熱器、３８は排ガ
ス排出筒、Ａはフロス層（気液混合層）、Ｌ1は吸収
液、Ｌ2は排ガス洗浄液、Ｌ3は冷却液を各示す。
【０００８】図１に示す本発明の排ガス脱硫処理装置１
は、大型の密閉槽１’から構成され、その槽の内部は、
第１隔板２及びその上方に位置する第２隔板３によって
第１室５と第１室の上方に隣接する第２室６と第２室の
上方に隣接する第３室７とに区画されている。第３室の
上部空間は天板４によって密閉されている。第１隔板２
は水平又はやや傾斜したものであることができる。第２
隔板３は水平又は傾斜したものであることができ、その
傾斜角は特に制約されない。第１室５の内部には、吸収
液Ｌ1が収容されている。また、第１室には、撹拌機２
４と、吸収液Ｌ1中に酸素を供給する必要がある場合に
用いられる酸素含有ガス噴出ノズル２２が配設されてい
る。第２室６の周壁には排ガス入口が配設され、この入
口には排ガス導入ダクト８が連結されている。第２室の
空間には特別の装置の配設は特に必要とはされないが、
必要に応じ、吸収液をスプレーするためのスプレーノズ
ル（図示されず）を配設することもできる。第３室７の
内には、排ガス上昇筒１０の出口の上方に排ガス衝突板
２６が配設されている。第３室７の上方に配設された天
板４には、排ガス出口が配設され、この出口には脱硫排
ガス導出ダクト１１が連結されている。また、排ガス出
口は周壁に形成することもできる。密閉槽１’の外部に
は、第３室７の床面を構成する第２隔板３上に滞留する
洗浄液Ｌ2を、第３室の排ガス衝突板２６に配設した液
分散機構とスプレーノズル１７に循環させるための循環
ラインが配設されている。この循環ラインは、洗浄液抜
出し管１３、洗浄液槽１４、循環ポンプ１５及び洗浄液
供給管１６、１９、１９’からなる。洗浄液槽１４に
は、洗浄液を補給するための洗浄液補給管２０が連結さ
れている。
は、大型の密閉槽１’から構成され、その槽の内部は、
第１隔板２及びその上方に位置する第２隔板３によって
第１室５と第１室の上方に隣接する第２室６と第２室の
上方に隣接する第３室７とに区画されている。第３室の
上部空間は天板４によって密閉されている。第１隔板２
は水平又はやや傾斜したものであることができる。第２
隔板３は水平又は傾斜したものであることができ、その
傾斜角は特に制約されない。第１室５の内部には、吸収
液Ｌ1が収容されている。また、第１室には、撹拌機２
４と、吸収液Ｌ1中に酸素を供給する必要がある場合に
用いられる酸素含有ガス噴出ノズル２２が配設されてい
る。第２室６の周壁には排ガス入口が配設され、この入
口には排ガス導入ダクト８が連結されている。第２室の
空間には特別の装置の配設は特に必要とはされないが、
必要に応じ、吸収液をスプレーするためのスプレーノズ
ル（図示されず）を配設することもできる。第３室７の
内には、排ガス上昇筒１０の出口の上方に排ガス衝突板
２６が配設されている。第３室７の上方に配設された天
板４には、排ガス出口が配設され、この出口には脱硫排
ガス導出ダクト１１が連結されている。また、排ガス出
口は周壁に形成することもできる。密閉槽１’の外部に
は、第３室７の床面を構成する第２隔板３上に滞留する
洗浄液Ｌ2を、第３室の排ガス衝突板２６に配設した液
分散機構とスプレーノズル１７に循環させるための循環
ラインが配設されている。この循環ラインは、洗浄液抜
出し管１３、洗浄液槽１４、循環ポンプ１５及び洗浄液
供給管１６、１９、１９’からなる。洗浄液槽１４に
は、洗浄液を補給するための洗浄液補給管２０が連結さ
れている。
【０００９】第１隔板２には、第１室５と第２室６との
間を連絡する透孔が多数配設され、各透孔にはその先端
が第１室の吸収液Ｌ1中に延びる排ガス分散管９が垂設
されている。また、第１隔板２及び第２隔板３には、排
ガス上昇筒１０を配設するための開口が配設され、これ
らの開口には、第１室５の上部空間に存在する排ガスを
第３室７に導入させるための排ガス上昇筒１０が連結さ
れている。この場合、排ガス上昇筒１０の上端は第２隔
板の表面より上方に突出し、第２隔板上の洗浄液が第２
隔板上に一定量滞留するようになっている。排ガス上昇
筒の横断面形状は、円形や正方形、長方形等の各種の形
状であることができる。排ガス上昇筒１０の上方には、
排ガス衝突板２６が配設されている。
間を連絡する透孔が多数配設され、各透孔にはその先端
が第１室の吸収液Ｌ1中に延びる排ガス分散管９が垂設
されている。また、第１隔板２及び第２隔板３には、排
ガス上昇筒１０を配設するための開口が配設され、これ
らの開口には、第１室５の上部空間に存在する排ガスを
第３室７に導入させるための排ガス上昇筒１０が連結さ
れている。この場合、排ガス上昇筒１０の上端は第２隔
板の表面より上方に突出し、第２隔板上の洗浄液が第２
隔板上に一定量滞留するようになっている。排ガス上昇
筒の横断面形状は、円形や正方形、長方形等の各種の形
状であることができる。排ガス上昇筒１０の上方には、
排ガス衝突板２６が配設されている。
【００１０】本発明で用いる排ガス衝突板２６は、液体
流下壁とその液体流下壁に洗浄液を供給する液分散機構
を有するものである。この衝突板は、排ガス上昇筒１０
を上昇してきた排ガスをその下面で受け、排ガス中に含
まれる液滴粒子をその下面に液膜として形成させる作用
を有する。また、この衝突板は、液体流下壁とその液体
流下壁に洗浄液を供給する液分散機構を有し、その液体
流下壁の先端から洗浄液を液幕状に流下させる作用を有
する。
流下壁とその液体流下壁に洗浄液を供給する液分散機構
を有するものである。この衝突板は、排ガス上昇筒１０
を上昇してきた排ガスをその下面で受け、排ガス中に含
まれる液滴粒子をその下面に液膜として形成させる作用
を有する。また、この衝突板は、液体流下壁とその液体
流下壁に洗浄液を供給する液分散機構を有し、その液体
流下壁の先端から洗浄液を液幕状に流下させる作用を有
する。
【００１１】排ガス衝突板２６の全体形状は特に制約さ
れないが、一般的には、中央部が排ガス衝突面に形成さ
れ、その周縁に液体流下壁を有する下端開口した中空構
造物からなる排ガス衝突面は平面や曲面、凹凸面等の種
々の面であることができる。液体流下壁面は、液体がそ
の面に沿って流下し、その先端から下方に流下し得る面
であればよく、平面や曲面、凹凸面等であることができ
る。液体流下壁を有する衝突板の形状例を示すと、箱
状、中空半球状の他、周縁部よりも中央部が上方に突出
した形状、例えば陣笠形状等であることができる。
れないが、一般的には、中央部が排ガス衝突面に形成さ
れ、その周縁に液体流下壁を有する下端開口した中空構
造物からなる排ガス衝突面は平面や曲面、凹凸面等の種
々の面であることができる。液体流下壁面は、液体がそ
の面に沿って流下し、その先端から下方に流下し得る面
であればよく、平面や曲面、凹凸面等であることができ
る。液体流下壁を有する衝突板の形状例を示すと、箱
状、中空半球状の他、周縁部よりも中央部が上方に突出
した形状、例えば陣笠形状等であることができる。
【００１２】本発明では、前記排ガス衝突板の下面側に
対して、液分散機構を配設する。図２に液分散機構を下
面に配設した衝突板の１つの例について示す。図２にお
いて、２６は衝突板を示し、このものは排ガス衝突部Ａ
と、その周縁に形成された液体流下壁Ｂから構成され
る。また、衝突板の下面に配設された液分散機構は、衝
突板の液体流下壁に洗浄液を供給するもので、衝突板の
中央部下方に開口する液体導入管４１と、その液体導入
管の開口部を包囲する短筒４２と、その短筒の先端開口
に配設した液分散板４３から構成される。液分散板４３
としては、液体を放射状に噴出又は流出させる構造のも
のであればよい。図３及び図４に液分散板の斜視図を示
す。
対して、液分散機構を配設する。図２に液分散機構を下
面に配設した衝突板の１つの例について示す。図２にお
いて、２６は衝突板を示し、このものは排ガス衝突部Ａ
と、その周縁に形成された液体流下壁Ｂから構成され
る。また、衝突板の下面に配設された液分散機構は、衝
突板の液体流下壁に洗浄液を供給するもので、衝突板の
中央部下方に開口する液体導入管４１と、その液体導入
管の開口部を包囲する短筒４２と、その短筒の先端開口
に配設した液分散板４３から構成される。液分散板４３
としては、液体を放射状に噴出又は流出させる構造のも
のであればよい。図３及び図４に液分散板の斜視図を示
す。
【００１３】図２に示した液分散機構を有する排ガス衝
突板２６に対し、その液体導入管４１を通して排ガス洗
浄液を供給すると、その洗浄液は矢印ａの方向に噴出又
は流出され、衝突板２６の液体流下壁Ｂの内面に受止さ
れ、その内面を下方に流下し、その液体流下壁先端から
矢印ｂ方向に液幕状で流下する。排ガス上昇筒を上昇し
てきた排ガスは、衝突板２６の衝突部Ａの下面に衝突
し、その流路を液体流下壁Ｂに案内されて下方向に変更
し、その液体流下壁先端から下方に向けて形成されてい
る洗浄液の液幕を通過するとともに、その通過に際して
液幕と接触する。そして、排ガス中の粉塵はこの液幕と
の接触により排ガス中から除去される。
突板２６に対し、その液体導入管４１を通して排ガス洗
浄液を供給すると、その洗浄液は矢印ａの方向に噴出又
は流出され、衝突板２６の液体流下壁Ｂの内面に受止さ
れ、その内面を下方に流下し、その液体流下壁先端から
矢印ｂ方向に液幕状で流下する。排ガス上昇筒を上昇し
てきた排ガスは、衝突板２６の衝突部Ａの下面に衝突
し、その流路を液体流下壁Ｂに案内されて下方向に変更
し、その液体流下壁先端から下方に向けて形成されてい
る洗浄液の液幕を通過するとともに、その通過に際して
液幕と接触する。そして、排ガス中の粉塵はこの液幕と
の接触により排ガス中から除去される。
【００１４】排ガス処理装置１に対しては、その上流側
に、冷却除塵塔３１を配設する。この冷却除塵塔３１
は、密閉筒体３１’と、その天板に連結された排ガス導
入ダクト３２と、密閉筒体の下部に形成された排ガス導
出口と、密閉筒体の底部に収容する冷却液Ｌ3を密閉筒
体の上部に冷却液循環ラインと、冷却液Ｌ3をスプレー
させるスプレーノズル３６から構成される。また、冷却
液循環ラインは、冷却液抜出し管３３と循環ポンプ３４
と冷却液供給管３５から構成される。
に、冷却除塵塔３１を配設する。この冷却除塵塔３１
は、密閉筒体３１’と、その天板に連結された排ガス導
入ダクト３２と、密閉筒体の下部に形成された排ガス導
出口と、密閉筒体の底部に収容する冷却液Ｌ3を密閉筒
体の上部に冷却液循環ラインと、冷却液Ｌ3をスプレー
させるスプレーノズル３６から構成される。また、冷却
液循環ラインは、冷却液抜出し管３３と循環ポンプ３４
と冷却液供給管３５から構成される。
【００１５】図１に示した装置系を用いて排ガスを処理
するには、排ガスを排ガス導入ダクト３２を介して冷却
除塵塔３１内に導入する。冷却除塵塔３１では、冷却液
Ｌ3が冷却液抜出し管３３、循環ポンプ３４及び冷却液
供給管３５を通してスプレーノズル３６からスプレーさ
れており、冷却除塵塔３１内に導入された排ガスは、こ
のスプレーされた冷却液粒子と接触し、排ガスの除塵と
ともに、排ガスの冷却増湿が行われる。冷却液として
は、水や、吸収液、アルカリ性水溶液が用いられる。
するには、排ガスを排ガス導入ダクト３２を介して冷却
除塵塔３１内に導入する。冷却除塵塔３１では、冷却液
Ｌ3が冷却液抜出し管３３、循環ポンプ３４及び冷却液
供給管３５を通してスプレーノズル３６からスプレーさ
れており、冷却除塵塔３１内に導入された排ガスは、こ
のスプレーされた冷却液粒子と接触し、排ガスの除塵と
ともに、排ガスの冷却増湿が行われる。冷却液として
は、水や、吸収液、アルカリ性水溶液が用いられる。
【００１６】冷却除塵塔３１で処理された排ガスは、そ
の冷却除塵塔３１の下部に連結された排ガス処理装置の
密閉槽１に連絡する排ガス導入ダクト８を介して、第２
室６内に導入され、ここから排ガス分散管９を介して第
１室５内の吸収液Ｌ1中に吹込まれる。吸収液Ｌ1中に吹
込まれた排ガスは気泡となって上昇し、その分散管のガ
ス噴出孔より上方には気泡と吸収液との混合相からなる
フロス層Ａが形成される。排ガスが吸収液中を気泡とし
て上昇する間に排ガス中に含まれている粉塵や亜硫酸ガ
ス等の汚染物質は吸収液に捕捉され、排ガス中から除去
される。
の冷却除塵塔３１の下部に連結された排ガス処理装置の
密閉槽１に連絡する排ガス導入ダクト８を介して、第２
室６内に導入され、ここから排ガス分散管９を介して第
１室５内の吸収液Ｌ1中に吹込まれる。吸収液Ｌ1中に吹
込まれた排ガスは気泡となって上昇し、その分散管のガ
ス噴出孔より上方には気泡と吸収液との混合相からなる
フロス層Ａが形成される。排ガスが吸収液中を気泡とし
て上昇する間に排ガス中に含まれている粉塵や亜硫酸ガ
ス等の汚染物質は吸収液に捕捉され、排ガス中から除去
される。
【００１７】このようにして浄化された排ガスは、フロ
ス層Ａから上部空間に放散され、ここから排ガス上昇筒
１０を通って第３室７に導入される。この第３室内に
は、その床面を形成する第２隔板３の上面に滞留する洗
浄液Ｌ2を抜出すための洗浄液抜出し管１３、洗浄液槽
１４、ポンプ１５、洗浄液供給管１６及び１９、１９’
を通って循環される洗浄液が、衝突板２６に配設されて
いる液分散機構に供給され、その衝突板２６の液体流下
壁の先端から洗浄液が液幕状に流下されている。衝突板
２６の下面に衝突した排ガスは、この洗浄液の流下液幕
を通過するが、その際、洗浄液の流下液幕と接触し、排
ガス中に残存している粉塵がこの液幕に捕捉され、排ガ
ス中から除去される。
ス層Ａから上部空間に放散され、ここから排ガス上昇筒
１０を通って第３室７に導入される。この第３室内に
は、その床面を形成する第２隔板３の上面に滞留する洗
浄液Ｌ2を抜出すための洗浄液抜出し管１３、洗浄液槽
１４、ポンプ１５、洗浄液供給管１６及び１９、１９’
を通って循環される洗浄液が、衝突板２６に配設されて
いる液分散機構に供給され、その衝突板２６の液体流下
壁の先端から洗浄液が液幕状に流下されている。衝突板
２６の下面に衝突した排ガスは、この洗浄液の流下液幕
を通過するが、その際、洗浄液の流下液幕と接触し、排
ガス中に残存している粉塵がこの液幕に捕捉され、排ガ
ス中から除去される。
【００１８】第３室内の排ガスは第３室の上方に配設さ
れた天板４の開口部に連結された排ガス導出ダクト１１
を通って槽外へ抜出され、ミストエリミネータ１２に導
入され、ここでそのガス中に含まれていた吸収液粒子等
が除去された後、加熱器３７に入り、ここでガス中に残
存するミストが気化された後、排ガス筒３８を通って大
気へ放出される。
れた天板４の開口部に連結された排ガス導出ダクト１１
を通って槽外へ抜出され、ミストエリミネータ１２に導
入され、ここでそのガス中に含まれていた吸収液粒子等
が除去された後、加熱器３７に入り、ここでガス中に残
存するミストが気化された後、排ガス筒３８を通って大
気へ放出される。
【００１９】衝突板２６の液体流下壁先端から液幕状で
流下した洗浄液は、第２隔板３の上面に落下滞留し、こ
こから洗浄液抜出し管１３を通って洗浄液槽１４へ返送
される。
流下した洗浄液は、第２隔板３の上面に落下滞留し、こ
こから洗浄液抜出し管１３を通って洗浄液槽１４へ返送
される。
【００２０】排ガス分散管９としては、下端部の周壁面
にガス噴出孔を有するものや、下端がノズル構造に形成
されたもの等の各種のものを用いることができる。図５
に下端部の周壁面にガス噴出孔を有する排ガス分散管の
斜視図を示す。図５において、９は排ガス分散管を示
し、４５はその下端部周壁面に形成されたガス噴出孔を
示す。
にガス噴出孔を有するものや、下端がノズル構造に形成
されたもの等の各種のものを用いることができる。図５
に下端部の周壁面にガス噴出孔を有する排ガス分散管の
斜視図を示す。図５において、９は排ガス分散管を示
し、４５はその下端部周壁面に形成されたガス噴出孔を
示す。
【００２１】洗浄液槽１４は、第３室の床面を形成する
第２隔板３の上面に滞留する洗浄液Ｌ2を一時的に貯留
させる貯槽としての作用とともに、補給用の洗浄液の受
槽としての作用を示す。補給用の洗浄液は、洗浄液槽１
４に対し、洗浄液補給管２０を通して供給される。ま
た、図１に示した洗浄液槽１４の設置は必ずしも必要と
はされず、洗浄液抜出し管１３は、これを循環ポンプ１
５に直接連結させることもできる。この場合には、補給
用の洗浄液は、その洗浄液抜出し管１３又は洗浄液供給
管１６に供給することができる。
第２隔板３の上面に滞留する洗浄液Ｌ2を一時的に貯留
させる貯槽としての作用とともに、補給用の洗浄液の受
槽としての作用を示す。補給用の洗浄液は、洗浄液槽１
４に対し、洗浄液補給管２０を通して供給される。ま
た、図１に示した洗浄液槽１４の設置は必ずしも必要と
はされず、洗浄液抜出し管１３は、これを循環ポンプ１
５に直接連結させることもできる。この場合には、補給
用の洗浄液は、その洗浄液抜出し管１３又は洗浄液供給
管１６に供給することができる。
【００２２】衝突板２６に付設された液分散機構やスプ
レーノズル１７に循環される洗浄液の一部は、これを循
環ライン、例えば、洗浄液抜出し管１３や、図１に示す
ように洗浄液供給管１６から抜出し、系外へ排出させる
ことができるが、好ましくは図１に示すように、導管２
５を通って吸収液Ｌ1中に導入させる。このような操作
により、衝突板の液分散機構やスプレーノズル１７に循
環される洗浄液の成分組成を常に所定の範囲に保持し、
洗浄液の排ガス中固形分の除去能力を高く保持させるこ
とができる。
レーノズル１７に循環される洗浄液の一部は、これを循
環ライン、例えば、洗浄液抜出し管１３や、図１に示す
ように洗浄液供給管１６から抜出し、系外へ排出させる
ことができるが、好ましくは図１に示すように、導管２
５を通って吸収液Ｌ1中に導入させる。このような操作
により、衝突板の液分散機構やスプレーノズル１７に循
環される洗浄液の成分組成を常に所定の範囲に保持し、
洗浄液の排ガス中固形分の除去能力を高く保持させるこ
とができる。
【００２３】衝突板２６の液体流下壁から液幕状に流下
させる洗浄液の量は、排ガス上昇筒１０から上昇する標
準状態に換算された排ガス１ｍ3／ｈｒ当り、通常、
０．１〜１０ｋｇ／ｈｒ好ましくは０．２〜２ｋｇ／ｈ
ｒである。このような洗浄液量を衝突板２６の液体流下
壁から液幕状に流下させることにより、排ガス上昇筒１
０を上昇する排ガス中に含まれている粉塵を効果的に除
去することができる。
させる洗浄液の量は、排ガス上昇筒１０から上昇する標
準状態に換算された排ガス１ｍ3／ｈｒ当り、通常、
０．１〜１０ｋｇ／ｈｒ好ましくは０．２〜２ｋｇ／ｈ
ｒである。このような洗浄液量を衝突板２６の液体流下
壁から液幕状に流下させることにより、排ガス上昇筒１
０を上昇する排ガス中に含まれている粉塵を効果的に除
去することができる。
【００２４】第１室で用いる吸収液は、亜硫酸ガスに反
応性を示す各種のものが用いられる。このようなものと
しては、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金
属化合物等のアルカリ性物質を含む溶液やスラリーが用
いられ、特に水酸化カルシウムスラリーや、炭酸カルシ
ウムスラリーが用いられる。また、吸収液として炭酸カ
ルシウムスラリーや水酸化カルシウムスラリーを用いる
場合、これらのカルシウム化合物は亜硫酸ガスと反応し
て亜硫酸カルシウムを形成するが、この場合、吸収液中
に空気や酸素を導入することにより、硫酸カルシウム
（石コウ）を得ることができる。
応性を示す各種のものが用いられる。このようなものと
しては、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金
属化合物等のアルカリ性物質を含む溶液やスラリーが用
いられ、特に水酸化カルシウムスラリーや、炭酸カルシ
ウムスラリーが用いられる。また、吸収液として炭酸カ
ルシウムスラリーや水酸化カルシウムスラリーを用いる
場合、これらのカルシウム化合物は亜硫酸ガスと反応し
て亜硫酸カルシウムを形成するが、この場合、吸収液中
に空気や酸素を導入することにより、硫酸カルシウム
（石コウ）を得ることができる。
【００２５】排ガス洗浄液としては、液体であればどの
ようなものでも用いることができる。このような洗浄液
は、水、海水等の入手容易な任意の液体を用いることも
できる。特に水の使用は、その液滴粒子が処理した排ガ
ス中に残存しても粉塵とならないので好ましい。
ようなものでも用いることができる。このような洗浄液
は、水、海水等の入手容易な任意の液体を用いることも
できる。特に水の使用は、その液滴粒子が処理した排ガ
ス中に残存しても粉塵とならないので好ましい。
【００２６】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。 実施例１ 図１に示した構造の排ガス処理装置（但し、スプレーノ
ズル１７を省略）を用いて、粉塵：１５０ｍｇ／Ｎ
ｍ3、ＳＯ2：８００ｖｏｌｐｐｍ、Ｏ2：５ｖｏｌ％を
含む排煙を除去除塵塔３１で処理した後、脱硫装置１で
処理した。この場合の脱硫装置条件を示すと次の通りで
ある。 （１）密閉槽１の直径：３．２ｍ （２）第１室５の高さ：４ｍ （３）第２室６の高さ：２ｍ （４）第３室７の高さ：２．５ｍ （５）ガス分散管９の直径：４インチ及び本数：１１０
本 （６）排ガス上昇管１０の直径：４１０ｍｍ及び本数：
６本 （７）排ガス衝突板の構造：図２に示した構造のもの （８）第１室５における吸収液の静止液面の高さ：３ｍ ガス分散管９としては、図６に示す構造のものを用い、
その下端部周壁面に設けたガス噴出孔４５の位置は、吸
収液面下１８０ｍｍの位置に設定した。また、図１に示
す構造の密閉槽１の第１室５内に、あらかじめ、吸収液
として、石こう濃度：２０重量％の水スラリー液を高さ
３ｍになるように収容させた。
する。 実施例１ 図１に示した構造の排ガス処理装置（但し、スプレーノ
ズル１７を省略）を用いて、粉塵：１５０ｍｇ／Ｎ
ｍ3、ＳＯ2：８００ｖｏｌｐｐｍ、Ｏ2：５ｖｏｌ％を
含む排煙を除去除塵塔３１で処理した後、脱硫装置１で
処理した。この場合の脱硫装置条件を示すと次の通りで
ある。 （１）密閉槽１の直径：３．２ｍ （２）第１室５の高さ：４ｍ （３）第２室６の高さ：２ｍ （４）第３室７の高さ：２．５ｍ （５）ガス分散管９の直径：４インチ及び本数：１１０
本 （６）排ガス上昇管１０の直径：４１０ｍｍ及び本数：
６本 （７）排ガス衝突板の構造：図２に示した構造のもの （８）第１室５における吸収液の静止液面の高さ：３ｍ ガス分散管９としては、図６に示す構造のものを用い、
その下端部周壁面に設けたガス噴出孔４５の位置は、吸
収液面下１８０ｍｍの位置に設定した。また、図１に示
す構造の密閉槽１の第１室５内に、あらかじめ、吸収液
として、石こう濃度：２０重量％の水スラリー液を高さ
３ｍになるように収容させた。
【００２７】次に、あらかじめ冷却除塵塔３１で処理し
た排ガス（ＳＯ2：８００ｐｐｍ、粉塵：１５０ｍｇ／
Ｎｍ3）を排ガス導入ダクト８から、４０，０００Ｎｍ3
／ｈの供給量で脱硫装置１における第２室６内に供給し
て脱硫処理した。この場合、吸収液の静止液面下２５０
０ｍｍの位置に配設した酸素含有ガス噴出ノズル２２か
ら空気を２００Ｎｍ3／ｈで噴出させるとともに、撹拌
機２４を回転させて吸収液の撹拌を行った。また、第１
室５内の第１吸収液Ｌ1に対しては、排液管２３を通し
て石こう濃度の高い吸収液を抜出し、石こうを分離した
液に炭酸カルシウムを添加混合して、ｐＨが４．５を維
持するように吸収液供給管１８より供給した。さらに、
密閉槽１の外部に設置した洗浄液槽１４から洗浄液を第
３室７内に配設した衝突板２６の液分散機構に８．０ｍ
3／ｈで供給し、液体流下壁先端から液幕状で流下させ
た。第２隔板上の洗浄液は、第３室の床面近傍に開口す
る洗浄液抜出し管１３を介して洗浄液槽１４に返送し
た。前記のようにして排煙を処理した結果、ミストエリ
ミネータを通過した排ガス中の粉塵は２．０ｍｇ／Ｎｍ
3であり、高除塵率を得ることができた。次に、比較の
ために、排ガス衝突板の配設を省略して排ガス処理を行
なったところ、ミストエリミネータを通過した排ガス中
の粉塵は４．０ｍｇ／Ｎｍ3であった。
た排ガス（ＳＯ2：８００ｐｐｍ、粉塵：１５０ｍｇ／
Ｎｍ3）を排ガス導入ダクト８から、４０，０００Ｎｍ3
／ｈの供給量で脱硫装置１における第２室６内に供給し
て脱硫処理した。この場合、吸収液の静止液面下２５０
０ｍｍの位置に配設した酸素含有ガス噴出ノズル２２か
ら空気を２００Ｎｍ3／ｈで噴出させるとともに、撹拌
機２４を回転させて吸収液の撹拌を行った。また、第１
室５内の第１吸収液Ｌ1に対しては、排液管２３を通し
て石こう濃度の高い吸収液を抜出し、石こうを分離した
液に炭酸カルシウムを添加混合して、ｐＨが４．５を維
持するように吸収液供給管１８より供給した。さらに、
密閉槽１の外部に設置した洗浄液槽１４から洗浄液を第
３室７内に配設した衝突板２６の液分散機構に８．０ｍ
3／ｈで供給し、液体流下壁先端から液幕状で流下させ
た。第２隔板上の洗浄液は、第３室の床面近傍に開口す
る洗浄液抜出し管１３を介して洗浄液槽１４に返送し
た。前記のようにして排煙を処理した結果、ミストエリ
ミネータを通過した排ガス中の粉塵は２．０ｍｇ／Ｎｍ
3であり、高除塵率を得ることができた。次に、比較の
ために、排ガス衝突板の配設を省略して排ガス処理を行
なったところ、ミストエリミネータを通過した排ガス中
の粉塵は４．０ｍｇ／Ｎｍ3であった。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、従来法では達成困難な
高除塵率を格別の処理コストの増加を必要とせずに、低
消費動力で容易に得ることができ、その産業的意義は多
大である。
高除塵率を格別の処理コストの増加を必要とせずに、低
消費動力で容易に得ることができ、その産業的意義は多
大である。
【図１】本発明の排ガス処理装置系の１例についての模
式図を示す。
式図を示す。
【図２】液分散機構を配設した排ガス衝突板の１つの例
についての説明図を示す。
についての説明図を示す。
【図３】液分散板の１つの例についての斜視図を示す。
【図４】液分散板の他の例についての斜視図を示す。
【図５】排ガス分散管の一例についての斜視図を示す。
１ 密閉槽 ２ 第１隔板 ３ 第２隔板 ４ 天板 ５ 第１室 ６ 第２室 ７ 第３室 ８ 排ガス導入ダクト ９ 排ガス分散管 １０ 排ガス上昇筒 １１ 排ガス導出ダクト １２ ミストエリミネータ １３ 洗浄液抜出し管 １４ 洗浄液槽 １５ ポンプ １６ 洗浄液供給管 １７ 洗浄液スプレーノズル １８ 吸収剤供給管 １９ 洗浄液供給管 ２０ 洗浄液補給管 ２６ 排ガス衝突板 ４３ 液分散板 ４５ ガス噴出孔 Ｌ1 吸収液 Ｌ2 洗浄液 Ｌ3 冷却液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 50/00 ５０１ Ｂ０１Ｄ 50/00 ５０１Ｇ ５０２Ａ ５０２ 53/18 Ａ 53/18 53/34 ＺＡＢ 53/34 ＺＡＢ
Claims (2)
- 【請求項１】 粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスを処理す
る方法において、 （i）排ガスを冷却除塵塔に導入し、噴霧状液滴粒子と
接触させた後、その冷却除塵塔から抜出すこと、 （ii）冷却除塵塔から抜出された排ガスを、第１隔板と
その上方に位置する第２隔板とによってその内部が第１
室と第１室の上方に隣接する第２室と第２室の上方に隣
接する第３室とに区画された密閉槽におけるその第２室
に供給すること、 （iii）第２室に供給された排ガスを第１隔板に形成さ
れた透孔に垂設された排ガス分散管を通して第１室に収
容されている吸収液中に吹込むこと、 （iv）第１室の上部空間に存在する排ガスを第１室と第
３室との間を連絡し、その上端が第２隔板表面より上方
に位置する排ガス上昇筒内を上昇させること、 （v）排ガス上昇筒を通して第３室に上昇してきた排ガ
スをその排ガス上昇筒の上方に配設されている液体流下
壁を有し、その先端から洗浄液が液幕状に流下している
排ガス衝突板に衝突させるとともに、排ガスをその液幕
と接触させること、 （vi）第３室内において前記液幕と接触させた後の排ガ
スを第３室に配設された排ガス出口から排出させるこ
と、 （vii）第３室から排出された後の排ガスをミストエリ
ミネータに導入し、排ガス中に含まれる液滴粒子を除去
した後、ミストエリミネータから抜出すこと、 （viii）ミストエリミネータから抜出した排ガスを湿式
電気集塵処理することなく大気中へ放出させること、を
特徴とする排ガスの処理方法。 - 【請求項２】 排ガスを冷却除塵する排ガス冷却除塵塔
と、冷却除塵塔からの排ガスを脱硫するための脱硫装置
と、脱硫装置から排出された排ガス中の液滴粒子を除去
するためのミストエリミネータと、ミストエリミネータ
からの排ガスを大気中へ放出させる排ガス排出筒を備え
たものであって、前記脱硫装置は、第１隔板とその上方
に位置する第２隔板とによってその内部が第１室と第１
室の上方に隣接する第２室と第２室の上方に隣接する第
３室とに区画された密閉槽と、第２室の周壁に形成され
た排ガス入口と、第３室に配設された脱硫排ガス出口
と、第１隔板に形成された透孔と、その透孔に垂設され
たガス分散管と、第１室と第３室とを連絡し、その上端
が第２隔板表面より上方に位置する排ガス上昇筒と、第
３室において排ガス上昇筒の上方に配設され、液体流下
壁とその液体流下壁に洗浄液を供給する液分散機構を有
する排ガス衝突板を備えたことを特徴とする排ガスの処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17669595A JP3621159B2 (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 排ガスの処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17669595A JP3621159B2 (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 排ガスの処理方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09865A true JPH09865A (ja) | 1997-01-07 |
| JP3621159B2 JP3621159B2 (ja) | 2005-02-16 |
Family
ID=16018131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17669595A Expired - Lifetime JP3621159B2 (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 排ガスの処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3621159B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7264231B2 (en) | 2003-10-29 | 2007-09-04 | Anemos Company Ltd. | Diffused gas aeration apparatus |
| KR100779656B1 (ko) * | 2001-11-22 | 2007-11-27 | 주식회사 포스코 | 전기집진기 증기 유출방지용 냉각포집장치 |
| CN103285705A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-09-11 | 周进友 | 液体式空气净化器 |
| CN103768926A (zh) * | 2014-01-18 | 2014-05-07 | 浙江诸暨泓泰环境科技有限公司 | 一种高效脱硫喷淋塔 |
| CN104235866A (zh) * | 2014-09-17 | 2014-12-24 | 国电新能源技术研究院 | 一种液膜节能-除尘系统及利用该系统实现液膜节能-除尘的方法 |
| CN104338398A (zh) * | 2014-09-17 | 2015-02-11 | 国电新能源技术研究院 | 一种液膜除尘系统及利用该系统实现液膜除尘的方法 |
| CN104785042A (zh) * | 2015-05-05 | 2015-07-22 | 顾和根 | 一种多功能消烟除尘脱硫器 |
| WO2017098698A1 (ja) * | 2015-12-07 | 2017-06-15 | 千代田化工建設株式会社 | 液幕除塵装置および排煙脱硫装置 |
| CN112325671A (zh) * | 2020-11-03 | 2021-02-05 | 湖南元亨科技股份有限公司 | 一种节水消雾浊水塔 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6623053B2 (ja) * | 2015-12-07 | 2019-12-18 | 千代田化工建設株式会社 | 排煙脱硫装置 |
-
1995
- 1995-06-20 JP JP17669595A patent/JP3621159B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100779656B1 (ko) * | 2001-11-22 | 2007-11-27 | 주식회사 포스코 | 전기집진기 증기 유출방지용 냉각포집장치 |
| US7264231B2 (en) | 2003-10-29 | 2007-09-04 | Anemos Company Ltd. | Diffused gas aeration apparatus |
| EP2095869A2 (en) | 2003-10-29 | 2009-09-02 | Anemos Company Ltd. | Air diffusing device |
| CN103285705A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-09-11 | 周进友 | 液体式空气净化器 |
| CN103768926A (zh) * | 2014-01-18 | 2014-05-07 | 浙江诸暨泓泰环境科技有限公司 | 一种高效脱硫喷淋塔 |
| CN103768926B (zh) * | 2014-01-18 | 2015-05-06 | 浙江诸暨泓泰环境科技有限公司 | 一种高效脱硫喷淋塔 |
| CN104338398A (zh) * | 2014-09-17 | 2015-02-11 | 国电新能源技术研究院 | 一种液膜除尘系统及利用该系统实现液膜除尘的方法 |
| CN104235866A (zh) * | 2014-09-17 | 2014-12-24 | 国电新能源技术研究院 | 一种液膜节能-除尘系统及利用该系统实现液膜节能-除尘的方法 |
| CN104785042A (zh) * | 2015-05-05 | 2015-07-22 | 顾和根 | 一种多功能消烟除尘脱硫器 |
| WO2017098698A1 (ja) * | 2015-12-07 | 2017-06-15 | 千代田化工建設株式会社 | 液幕除塵装置および排煙脱硫装置 |
| CN108367227A (zh) * | 2015-12-07 | 2018-08-03 | 千代田化工建设株式会社 | 液幕除尘装置及排烟脱硫装置 |
| EP3388134A4 (en) * | 2015-12-07 | 2019-07-31 | Chiyoda Corporation | LIQUID CURTAIN DUST COLLECTION DEVICE AND DEVICE FOR DESULFURIZING CARBON GAS |
| US10780386B2 (en) | 2015-12-07 | 2020-09-22 | Chiyoda Corporation | Liquid film dust arrester and flue gas desulfurization system |
| CN112325671A (zh) * | 2020-11-03 | 2021-02-05 | 湖南元亨科技股份有限公司 | 一种节水消雾浊水塔 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3621159B2 (ja) | 2005-02-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040318 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040413 |
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| A521 | Request for written amendment filed |
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| RD01 | Notification of change of attorney |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041117 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071126 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081126 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091126 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101126 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111126 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131126 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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