JPH0983112A - Circuit device with large-output element - Google Patents

Circuit device with large-output element

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JPH0983112A
JPH0983112A JP7263498A JP26349895A JPH0983112A JP H0983112 A JPH0983112 A JP H0983112A JP 7263498 A JP7263498 A JP 7263498A JP 26349895 A JP26349895 A JP 26349895A JP H0983112 A JPH0983112 A JP H0983112A
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JP
Japan
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line
output
substrate
signal line
circuit device
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JP7263498A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Haga
敬 芳賀
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0983112A publication Critical patent/JPH0983112A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit device with a large-output element which can narrow a width dimension and can be miniaturized without increasing the electrical resistance of a line by providing a conductive layer on the surface of the line formed on a board. SOLUTION: In a circuit device 21, an input signal line 24, an output signal line 25, an input bias line 26, and an output bias line 27 are formed as each line on a substrate 22 while they are connected to a power transistor 23. An insulation layer 28 is formed on the substrate 22 while upper side surfaces 24A, 25A, 26A, and 27A of each line are exposed. A solder layer 29 is sealed on the upper side surfaces 24A, 25A, 26A, and 27A of each line, thus making thick the thickness dimension of each line by the solder layer 29 and hence making narrow the width dimension of each line without increasing electrical resistance and forming each line on the substrate 22 with a high density.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばパワートラ
ンジスタ等の高出力素子を搭載した高出力素子を有する
回路装置に関し、特に高出力素子に接続される線路が基
板上に配線パターンとして形成された高出力素子を有す
る回路装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit device having a high output element, such as a power transistor, on which a high output element is mounted, and in particular, a line connected to the high output element is formed as a wiring pattern on a substrate. The present invention relates to a circuit device having a high output element.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、高出力素子を有する回路装置と
しては、例えば自動車電話等に用いられ、入力される高
周波信号を増幅し高出力の増幅信号として出力する高出
力増幅器等が挙げられる。そして、この種の高出力増幅
器では、例えばパワートランジスタ等の高出力素子が基
板上に設けられると共に、基板上にはこのパワートラン
ジスタに接続した入出力用の線路等の配線パターンが形
成されている。
2. Description of the Related Art Generally, as a circuit device having a high output element, for example, a high output amplifier which is used in an automobile telephone or the like and which amplifies a high frequency signal inputted and outputs it as a high output amplified signal can be cited. In this type of high output amplifier, for example, a high output element such as a power transistor is provided on a substrate, and a wiring pattern such as an input / output line connected to the power transistor is formed on the substrate. .

【0003】この種の従来技術による高出力素子を有す
る回路装置を、例えばパワートランジスタを搭載した回
路装置を例に挙げて図8ないし図11に基づいて説明す
る。
A circuit device having a high-power element according to this type of conventional technology will be described with reference to FIGS. 8 to 11, taking a circuit device having a power transistor as an example.

【0004】図において、1は高出力素子としてパワー
トランジスタを搭載した従来技術による回路装置を示
し、該回路装置1では、基板2の表面が保護用のカバー
3によって覆われ、後述の入力側端子9,10および出
力側端子11,12のみが基板2の端部から露出した状
態で形成されている。
In the figure, reference numeral 1 denotes a circuit device according to the prior art in which a power transistor is mounted as a high output element. In the circuit device 1, the surface of a substrate 2 is covered with a protective cover 3, and an input side terminal described later is provided. Only the terminals 9 and 10 and the output side terminals 11 and 12 are formed so as to be exposed from the end portion of the substrate 2.

【0005】そして、回路装置1は図9に示すようにカ
バー3を外した状態で、基板2上に設けられた後述のパ
ワートランジスタ4と、該パワートランジスタ4に接続
して基板2上に形成された後述の入力信号線路5,出力
信号線路6,入力バイアス線路7および出力バイアス線
路8と、基板2の端部に形成された入力側端子9,10
および出力側端子11,12とから大略構成されてい
る。
As shown in FIG. 9, the circuit device 1 is formed on the substrate 2 with the cover 3 removed, and the power transistor 4 described later provided on the substrate 2 and the power transistor 4 connected to the power transistor 4. Input signal line 5, output signal line 6, input bias line 7 and output bias line 8 described later, and input side terminals 9 and 10 formed at the end of the substrate 2.
And the output side terminals 11 and 12 in general.

【0006】4は高出力素子としてのパワートランジス
タを示し、該パワートランジスタ4は図10に示すよう
に、基板2上に設けられている。また、パワートランジ
スタ4には入力端子4A,出力端子4Bがそれぞれ突出
形成され、入力端子4Aには入力信号線路5が接続され
ると共に、出力端子4Bには出力信号線路6が接続され
ている。そして、パワートランジスタ4は、入力信号線
路5から入力される入力信号を増幅し、高出力の出力信
号として出力信号線路6に出力するものである。
Reference numeral 4 denotes a power transistor as a high output element, and the power transistor 4 is provided on the substrate 2 as shown in FIG. An input terminal 4A and an output terminal 4B are formed on the power transistor 4 so as to project therefrom. An input signal line 5 is connected to the input terminal 4A and an output signal line 6 is connected to the output terminal 4B. The power transistor 4 amplifies the input signal input from the input signal line 5 and outputs it to the output signal line 6 as a high-output output signal.

【0007】5はパワートランジスタ4の入力側に接続
された線路としての入力信号線路を示し、該入力信号線
路5は基板2上に形成され、基端側をパワートランジス
タ4の入力端子4Aに接続され、先端側を基板2の端部
に位置して入力側端子9に接続されている。そして、入
力側端子9から入力する入力信号は入力信号線路5を介
してパワートランジスタ4の入力端子4Aに入力される
ようになっている。
Reference numeral 5 denotes an input signal line as a line connected to the input side of the power transistor 4. The input signal line 5 is formed on the substrate 2, and the base end side is connected to the input terminal 4A of the power transistor 4. The tip side is located at the end of the substrate 2 and is connected to the input side terminal 9. The input signal input from the input side terminal 9 is input to the input terminal 4A of the power transistor 4 via the input signal line 5.

【0008】6はパワートランジスタ4の出力側に接続
された線路としての出力信号線路を示し、該出力信号線
路6はパワートランジスタ4を挟んで基板2上に形成さ
れ、基端側をパワートランジスタ4の出力端子4Bに接
続され、先端側を基板2の端部に位置して出力側端子1
2に接続されている。そして、パワートランジスタ4か
ら出力された高出力の増幅信号は、出力信号線路6を介
して出力側端子12から外部に出力される。
Reference numeral 6 denotes an output signal line serving as a line connected to the output side of the power transistor 4. The output signal line 6 is formed on the substrate 2 with the power transistor 4 sandwiched between the power transistor 4 and the power transistor 4 at the base end side. Connected to the output terminal 4B of the output terminal 1
Connected to 2. The high-power amplified signal output from the power transistor 4 is output to the outside from the output-side terminal 12 via the output signal line 6.

【0009】7,8はパワートランジスタ4に駆動電流
を供給する線路としての入力バイアス線路,出力バイア
ス線路をそれぞれ示し、該入力バイアス線路7,出力バ
イアス線路8は基板2上にそれぞれ形成されると共に、
基端側を入力信号線路5,出力信号線路6にそれぞれ接
続され、先端側を基板2の端部に位置して入力側端子1
0,出力側端子11にそれぞれ接続されている。なお、
9,10は基板2の端部に位置してそれぞれ突出形成さ
れた入力側端子を示し、11,12は同様に形成された
出力側端子を示す。
Reference numerals 7 and 8 denote an input bias line and an output bias line as lines for supplying a driving current to the power transistor 4, respectively. The input bias line 7 and the output bias line 8 are formed on the substrate 2 respectively. ,
The base end side is connected to the input signal line 5 and the output signal line 6, respectively, and the tip end side is located at the end of the substrate 2 and the input side terminal 1
0 and the output side terminal 11 respectively. In addition,
Reference numerals 9 and 10 denote input-side terminals formed at the ends of the substrate 2 so as to project therefrom, and reference numerals 11 and 12 denote similarly-formed output-side terminals.

【0010】従来技術による回路装置1は上述の如く構
成されており、例えば高周波信号として入力側端子9か
ら入力された入力信号は、入力信号線路5を介してパワ
ートランジスタ4に入力される。そして、パワートラン
ジスタ4は、この入力信号を増幅し、出力信号として出
力信号線路6から出力するようになっている。
The circuit device 1 according to the prior art is configured as described above. For example, an input signal input from the input side terminal 9 as a high frequency signal is input to the power transistor 4 via the input signal line 5. The power transistor 4 amplifies this input signal and outputs it as an output signal from the output signal line 6.

【0011】ここで、他の従来技術としては、上述した
回路装置1に対して図11に示すようにソルダーレジス
トと呼ばれる絶縁層13を基板2上に設け、該絶縁層1
3によって入力信号線路5,出力信号線路6,入力バイ
アス線路7および出力バイアス線路8を覆うことによ
り、これらを保護するようにしたものがある。
As another conventional technique, as shown in FIG. 11, an insulating layer 13 called a solder resist is provided on the substrate 2 for the above-described circuit device 1, and the insulating layer 1 is provided.
There is one in which the input signal line 5, the output signal line 6, the input bias line 7 and the output bias line 8 are covered with 3 to protect them.

【0012】そして、この他の従来技術による回路装置
1の製造工程では、まず線路パターン形成工程により、
例えばエッチング処理等の手段を用いて基板2上に入力
信号線路5,出力信号線路6,入力バイアス線路7およ
び出力バイアス線路8を形成する。次に、絶縁層形成工
程により、パワートランジスタ4を配設する位置を除い
て絶縁層13を基板2上に形成する。続いて、半田ペー
スト塗布工程により、入力信号線路5,出力信号線路6
に対して、パワートランジスタ4の入力端子4A,出力
端子4Bをそれぞれ接続する位置にメッキ処理が施さ
れ、パワートランジスタ4を実装するための半田ペース
トが塗布される。
In the manufacturing process of the circuit device 1 according to another conventional technique, first, the line pattern forming process is performed.
For example, the input signal line 5, the output signal line 6, the input bias line 7, and the output bias line 8 are formed on the substrate 2 by using a method such as etching. Next, in the insulating layer forming step, the insulating layer 13 is formed on the substrate 2 except for the position where the power transistor 4 is arranged. Then, the input signal line 5 and the output signal line 6 are applied by a solder paste application process.
On the other hand, a plating process is applied to the positions where the input terminal 4A and the output terminal 4B of the power transistor 4 are connected, and a solder paste for mounting the power transistor 4 is applied.

【0013】次に、高出力素子実装工程により、パワー
トランジスタ4が基板2上の所定の位置に配設され、塗
布された半田ペーストによって入力端子4A,出力端子
4Bが入力信号線路5,出力信号線路6にそれぞれ接続
固定される。さらに、リフロー処理工程によって基板2
が加熱され、これにより塗布された半田ペーストが焼成
し、パワートランジスタ4の入力端子4A,出力端子4
Bと入力信号線路5,出力信号線路6とをそれぞれの接
続位置で確実に固定し、電気的に安定した導通状態に保
持するようになっている。そして、最後にケーシングと
してのカバー3によって基板2が覆われ、回路装置1が
完成する。
Next, in the high output element mounting process, the power transistor 4 is arranged at a predetermined position on the substrate 2, and the input terminal 4A and the output terminal 4B are connected to the input signal line 5 and the output signal by the applied solder paste. The lines 6 are connected and fixed respectively. Further, the substrate 2 is processed by the reflow process.
Is heated, the applied solder paste is baked, and the input terminal 4A and the output terminal 4 of the power transistor 4 are heated.
B and the input signal line 5 and the output signal line 6 are securely fixed at their respective connection positions to maintain an electrically stable conductive state. Then, finally, the substrate 2 is covered with the cover 3 as a casing, and the circuit device 1 is completed.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来技術においては、出力信号線路6にはパワートランジ
スタ4で増幅されて振幅が増大した高周波電流が流れ、
また出力バイアス線路8には、パワートランジスタ4を
駆動するために大きな直流電流が流れている。しかし、
出力信号線路6や出力バイアス線路8は、例えばエッチ
ング処理等によって基板2上に形成した金属薄膜であ
り、通常その厚さ寸法は数μm〜30μm程度であるか
ら、振幅の大きな高周波電流や大きな直流電流が流れる
と抵抗損によって発熱や電圧降下等を生じ、回路装置1
の信号増幅率や出力信号の電力が低下してしまう。
By the way, in the above-mentioned prior art, a high-frequency current amplified in the power transistor 4 and having an increased amplitude flows in the output signal line 6,
A large direct current flows through the output bias line 8 to drive the power transistor 4. But,
The output signal line 6 and the output bias line 8 are, for example, metal thin films formed on the substrate 2 by etching or the like, and usually have a thickness of several μm to 30 μm. When a current flows, resistance loss causes heat generation, voltage drop, etc., and the circuit device 1
The signal amplification factor and the power of the output signal will decrease.

【0015】そこで、従来技術の回路装置1では、出力
信号線路6や出力バイアス線路8の幅寸法を十分に広く
形成することにより、厚さ寸法の薄い出力信号線路6や
出力バイアス線路8に対して十分な断面積を与え、電気
抵抗を小さくするようにしている。
Therefore, in the circuit device 1 of the prior art, the width dimensions of the output signal line 6 and the output bias line 8 are made sufficiently wide, so that the output signal line 6 and the output bias line 8 having a small thickness dimension are compared with the output signal line 6 and the output bias line 8. To provide a sufficient cross-sectional area to reduce the electric resistance.

【0016】ところが、従来技術の回路装置1では、上
述した理由により出力信号線路6や出力バイアス線路8
の幅寸法を十分に広く形成せざるを得ないために、基板
2の面積を縮小することができず、回路装置1を小型化
することができないという問題がある。
However, in the circuit device 1 of the prior art, the output signal line 6 and the output bias line 8 are provided for the reason described above.
Since there is no choice but to form a sufficiently wide width dimension, there is a problem that the area of the substrate 2 cannot be reduced and the circuit device 1 cannot be miniaturized.

【0017】これに対し、出力信号線路6や出力バイア
ス線路8を基板2上に形成する線路パターン形成工程に
おいて、これらの幅寸法を狭くする代わりに厚さ寸法を
厚く形成し、これにより十分な断面積を確保する方法が
考えられる。しかし、この場合には、エッチング処理等
によって出力信号線路6や出力バイアス線路8の厚さ寸
法を厚く形成しようとすると、微細な線路パターンの形
成が困難になってしまう。
On the other hand, in the line pattern forming step of forming the output signal line 6 and the output bias line 8 on the substrate 2, the thickness of the output signal line 6 and the output bias line 8 is made thicker instead of being made narrower. A method of securing the cross-sectional area can be considered. However, in this case, if it is attempted to increase the thickness of the output signal line 6 and the output bias line 8 by etching or the like, it becomes difficult to form a fine line pattern.

【0018】本発明は上述した従来技術の問題に鑑みな
されたもので、基板上に形成された線路の表面に導電層
を設けることにより、線路の電気抵抗を増大させること
なく幅寸法を狭くでき、小型化が可能な高出力素子を有
する回路装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art. By providing a conductive layer on the surface of the line formed on the substrate, the width dimension can be reduced without increasing the electric resistance of the line. An object of the present invention is to provide a circuit device having a high output element that can be miniaturized.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために本発明は、基板と、該基板上に高出力用の電子素
子として設けられた高出力素子と、該高出力素子に接続
して前記基板上に形成された線路とからなる高出力素子
を有する回路装置に適用される。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a substrate, a high-power element provided on the substrate as a high-power electronic element, and a connection to the high-power element. The present invention is applied to a circuit device having a high output element including a line formed on the substrate.

【0020】そして、請求項1に記載の発明が採用する
構成の特徴は、前記線路の表面に導電性材料からなる導
電層を設けたことにある。
A feature of the configuration adopted by the invention of claim 1 is that a conductive layer made of a conductive material is provided on the surface of the line.

【0021】また、請求項2に記載の発明では、前記導
電層を、線路の表面に施された半田層としたことにあ
る。
According to the second aspect of the invention, the conductive layer is a solder layer formed on the surface of the line.

【0022】さらに、請求項3に記載の発明では、導電
層を、線路の表面に導電性接着剤または半田を用いて一
体的に固着した金属箔としたことにある。
Further, in the third aspect of the invention, the conductive layer is a metal foil integrally fixed to the surface of the line by using a conductive adhesive or solder.

【0023】[0023]

【作用】上記構成により、請求項1に記載の発明によれ
ば、線路の表面に導電性材料からなる導電層を設けたか
ら、該導電層によって線路の厚さ寸法を厚くすることが
でき、これにより線路の断面積を減少させることなく幅
寸法を狭く形成することができる。
With the above structure, according to the invention of claim 1, since the conductive layer made of a conductive material is provided on the surface of the line, the thickness of the line can be increased by the conductive layer. Thus, the width dimension can be formed narrow without reducing the cross-sectional area of the line.

【0024】請求項2に記載の発明によれば、線路の表
面に半田層を施すことにより導電層を設けたから、従来
技術の高出力素子を有する回路装置の製造工程において
高出力素子実装用の半田ペーストを基板に塗布する工程
で、導電層を一緒に形成することができる。
According to the second aspect of the invention, since the conductive layer is provided by applying the solder layer to the surface of the line, it is possible to mount the high output element in the manufacturing process of the circuit device having the high output element of the prior art. The conductive layer can be formed together in the process of applying the solder paste to the substrate.

【0025】請求項3に記載の発明によれば、線路の表
面に金属箔を導電性接着剤または半田を用いて一体的に
固着することにより導電層を設けたから、別部材として
予め形成された導電層を線路の表面に固着することによ
り、導電層を形成することができる。
According to the third aspect of the invention, since the conductive layer is provided by integrally fixing the metal foil to the surface of the line using the conductive adhesive or solder, it is formed as a separate member in advance. The conductive layer can be formed by fixing the conductive layer to the surface of the line.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例による高出
力素子を有する回路装置を図1ないし図7に基づいて説
明する。なお、実施例においては、従来技術と同一の構
成要素に同一の符号を付し、その説明を省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A circuit device having a high output element according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. In the embodiments, the same reference numerals are given to the same components as those in the related art, and description thereof will be omitted.

【0027】まず、第1の実施例を図1ないし図5に基
づいて説明する。
First, a first embodiment will be described with reference to FIGS.

【0028】図において、21は本実施例による高出力
素子を有する回路装置を示し、該回路装置21は従来技
術による回路装置1と同様に、基板22上に設けられた
後述のパワートランジスタ23と、入力信号線路24,
出力信号線路25,入力バイアス線路26および出力バ
イアス線路27と、絶縁層28とから大略構成され、基
板22の端部には入力側端子,出力側端子(いずれも図
示せず)が形成されている。
In the figure, reference numeral 21 denotes a circuit device having a high output element according to the present embodiment. The circuit device 21 includes a power transistor 23, which will be described later, provided on a substrate 22 like the circuit device 1 according to the prior art. , The input signal line 24,
The output signal line 25, the input bias line 26, the output bias line 27, and the insulating layer 28 are roughly configured, and an input side terminal and an output side terminal (neither of which are shown) are formed at the end of the substrate 22. There is.

【0029】23は従来技術におけるパワートランジス
タ4と同様に構成された高出力素子としてのパワートラ
ンジスタを示し、該パワートランジスタ23には、入力
端子23A,出力端子23Bがそれぞれ突出形成され、
該入力端子23A,出力端子23Bには、入力信号線路
24,出力信号線路25の基端側がそれぞれ接続されて
いる。
Reference numeral 23 denotes a power transistor as a high output element having the same structure as the power transistor 4 in the prior art. The power transistor 23 has an input terminal 23A and an output terminal 23B formed in a protruding manner.
The input terminal 23A and the output terminal 23B are connected to the proximal ends of the input signal line 24 and the output signal line 25, respectively.

【0030】24,25は線路としての入力信号線路,
出力信号線をそれぞれ示し、該入力信号線路24,出力
信号線路25は、パワートランジスタ23の入力端子2
3A,出力端子23Bにそれぞれ基端側を接続して基板
22上に設けられている。また、入力信号線路24,出
力信号線路25の上側面24A,25Aには、後述の半
田層29が形成されている。
24 and 25 are input signal lines as lines,
Output signal lines are respectively shown, and the input signal line 24 and the output signal line 25 are the input terminal 2 of the power transistor 23.
3A and the output terminal 23B are respectively connected to the base end side and provided on the substrate 22. A solder layer 29 described later is formed on the upper side surfaces 24A and 25A of the input signal line 24 and the output signal line 25.

【0031】26,27は線路としての入力バイアス線
路,出力バイアス線路をそれぞれ示し、該入力バイアス
線路26,出力バイアス線路27は、基端側を入力信号
線路24,出力信号線路25にそれぞれ接続して基板2
2上に設けられている。また、入力バイアス線路26,
出力バイアス線路27の上側面26A,27Aには、半
田層29が形成されている。
Reference numerals 26 and 27 respectively denote an input bias line and an output bias line as lines, and the input bias line 26 and the output bias line 27 are connected at their proximal ends to the input signal line 24 and the output signal line 25, respectively. Board 2
It is provided on 2. Also, the input bias line 26,
A solder layer 29 is formed on the upper side surfaces 26A and 27A of the output bias line 27.

【0032】28は基板22上に形成されたソルダーレ
ジストと呼ばれる絶縁層を示し、該絶縁層28は従来技
術による絶縁層13とほぼ同様に基板22上に形成され
ているものの、本実施例では、入力信号線路24,出力
信号線路25,入力バイアス線路26,出力バイアス線
路27の上側面24A,25A,26A,27Aを覆わ
ずに、これらを露出するように形成されている。
Reference numeral 28 designates an insulating layer called a solder resist formed on the substrate 22. The insulating layer 28 is formed on the substrate 22 in substantially the same manner as the insulating layer 13 according to the prior art, but in the present embodiment. The input signal line 24, the output signal line 25, the input bias line 26, and the output bias line 27 are formed so as to expose the upper side surfaces 24A, 25A, 26A, and 27A without covering them.

【0033】29は本実施例による導電層としての半田
層を示し、該半田層29は入力信号線路24,出力信号
線路25,入力バイアス線路26,出力バイアス線路2
7の上側面24A,25A,26A,27Aに対し、例
えば半田ペースト等を十分な厚さ寸法をもって塗布する
ことにより形成されている。これにより、入力信号線路
24,出力信号線路25,入力バイアス線路26および
出力バイアス線路27の厚さ寸法を十分に厚くして断面
積を増大させると共に、これらの線路と一体的に固着さ
れて電気的な導通状態を保持している。
Reference numeral 29 denotes a solder layer as a conductive layer according to this embodiment, and the solder layer 29 is an input signal line 24, an output signal line 25, an input bias line 26, and an output bias line 2.
The upper side surfaces 24A, 25A, 26A, 27A of 7 are formed, for example, by applying solder paste or the like with a sufficient thickness. As a result, the thickness dimensions of the input signal line 24, the output signal line 25, the input bias line 26, and the output bias line 27 are made sufficiently thick to increase the cross-sectional area, and the input signal line 24, the output signal line 25, and the output bias line 27 are integrally fixed to these lines and electrically connected. Maintains a continuous electrical connection.

【0034】本実施例による回路装置21は上述の如き
構成を有するもので、その基本的動作については従来技
術によるものと格別差異はない。
The circuit device 21 according to the present embodiment has the above-mentioned configuration, and its basic operation is not particularly different from that of the prior art.

【0035】次に、本実施例による回路装置21の製造
工程を図2ないし図5を参照して説明する。
Next, the manufacturing process of the circuit device 21 according to this embodiment will be described with reference to FIGS.

【0036】まず、図2において、従来技術と同様の線
路パターン形成工程により、入力信号線路24,出力信
号線路25,入力バイアス線路26および出力バイアス
線路27(以下、各線路という)がそれぞれ形成された
基板22を示す。
First, in FIG. 2, an input signal line 24, an output signal line 25, an input bias line 26, and an output bias line 27 (hereinafter referred to as lines) are formed by the same line pattern forming process as in the prior art. The substrate 22 is shown.

【0037】次に、図3に示す絶縁層形成工程において
は、例えばエッチング処理等によりマスク30を用いて
矢示A方向から基板22上に絶縁層28を形成すること
により、各線路の上側面24A,25A,26A,27
Aを露出した状態にする。
Next, in the insulating layer forming step shown in FIG. 3, the insulating layer 28 is formed on the substrate 22 from the direction of the arrow A using the mask 30 by, for example, an etching process so that the upper surface of each line is formed. 24A, 25A, 26A, 27
Keep A exposed.

【0038】そして、図4に示す半田層形成工程におい
ては、各線路の上側面24A,25A,26A,27A
に対して、マスク31を用いて矢示B方向から半田ペー
ストを十分な厚さ寸法に塗布することにより、半田層2
9を上側面24A,25A,26A,27Aにそれぞれ
形成する。
Then, in the solder layer forming step shown in FIG. 4, the upper side surfaces 24A, 25A, 26A, 27A of each line are formed.
On the other hand, by applying the solder paste in a sufficient thickness dimension from the direction of arrow B using the mask 31, the solder layer 2
9 are formed on the upper side surfaces 24A, 25A, 26A, 27A, respectively.

【0039】このとき、従来技術と同様の半田ペースト
塗布工程が同時に行われ、入力信号線路24,出力信号
線路25に対して、パワートランジスタ23の入力端子
23A,出力端子23Bをそれぞれ接続する位置に、該
パワートランジスタ23を実装用するための半田ペース
トが塗布される。
At this time, the same solder paste application step as in the prior art is performed at the same time, and the input signal line 24 and the output signal line 25 are connected to the input terminal 23A and the output terminal 23B of the power transistor 23, respectively. A solder paste for mounting the power transistor 23 is applied.

【0040】次に、図5に示すリフロー処理工程におい
ては、従来技術と同様の高出力素子実装工程によってパ
ワートランジスタ23が基板22上の所定位置に配設さ
れた後に、矢示C方向から基板22が加熱され、これに
より半田ペーストとして塗布された状態で固化していた
半田層29が焼成し、図1に示すように各線路の上側面
24A,25A,26A,27Aに一体的に固着し、電
気的に安定した導通状態を保持する。なお、リフロー処
理においては、基板22の下側からだけではなく、上側
または全周から基板22を加熱してもよい。
Next, in the reflow process shown in FIG. 5, after the power transistor 23 is arranged at a predetermined position on the substrate 22 by the high power element mounting process similar to the prior art, the substrate is moved in the direction of arrow C. 22 is heated, whereby the solidified solder layer 29 applied as the solder paste is fired and integrally fixed to the upper side surfaces 24A, 25A, 26A, 27A of each line as shown in FIG. , Maintain an electrically stable conductive state. In the reflow process, the substrate 22 may be heated not only from the lower side of the substrate 22 but also from the upper side or the entire circumference.

【0041】このように、入力信号線路24,出力信号
線路25,入力バイアス線路26,出力バイアス線路2
7の上側面24A,25A,26A,27Aに、半田層
29を電気的に導通した状態で一体的に形成したから、
該半田層29により導体としての各線路の厚さ寸法を厚
くすることができ、従って各線路の幅寸法を広げること
なく断面積を大きく形成することができる。
As described above, the input signal line 24, the output signal line 25, the input bias line 26, and the output bias line 2
Since the solder layer 29 is integrally formed on the upper side surfaces 24A, 25A, 26A, 27A of 7 in an electrically conductive state,
The thickness of each line as a conductor can be increased by the solder layer 29, and thus the cross-sectional area can be increased without increasing the width of each line.

【0042】かくして、各線路の幅寸法を広げることな
く断面積を大きくして電気抵抗を従来技術に比べて減少
できるから、例えば振幅の大なる交流電流が流れる出力
信号線路25,大きな直流電流が流れる出力バイアス線
路27等の幅寸法を狭く形成した場合でも、電流導通時
に抵抗損が増大して発熱や電圧降下等を生ずることはな
く、各線路を基板22上に高密度に配設することができ
る。
Thus, since the cross-sectional area can be increased and the electric resistance can be reduced as compared with the prior art without widening the width of each line, for example, the output signal line 25 through which an AC current with a large amplitude flows and a large DC current flow. Even when the width dimension of the output bias line 27 and the like that flow is made narrow, the resistance loss does not increase and the heat generation and the voltage drop and the like do not occur when the current is conducted, and each line is arranged at a high density on the substrate 22. You can

【0043】従って、基板22上に各線路を高密度に配
設することにより、基板22の面積の縮小化が図れ、回
路装置21を小型化することができる。例えば、自動車
電話等の装置本体内部に、本実施例の回路装置21を容
易に配設することができ、自動車電話等の装置本体を小
型化することも可能である。
Therefore, by arranging the respective lines on the substrate 22 at a high density, the area of the substrate 22 can be reduced and the circuit device 21 can be miniaturized. For example, the circuit device 21 of the present embodiment can be easily arranged inside a device body such as a car phone, and the device body such as a car phone can be downsized.

【0044】また、半田層形成工程により各線路に半田
ペーストを塗布することによって半田層29を形成して
いるから、該半田層形成工程を従来技術の半田ペースト
塗布工程と一緒に行うことができ、従来技術の回路装置
1の製造工程とほぼ同様の製造工程により、半田層29
を容易に形成することができる。
Further, since the solder layer 29 is formed by applying the solder paste to each line in the solder layer forming step, the solder layer forming step can be performed together with the conventional solder paste applying step. The solder layer 29 is manufactured by a manufacturing process substantially similar to the manufacturing process of the circuit device 1 according to the conventional technique.
Can be easily formed.

【0045】次に、図6および図7に本発明の第2の実
施例による高出力素子を有する回路装置を示し、本実施
例の特徴は、線路の表面に金属箔を導電性接着剤あるい
は半田を用いて接着することにより、導電層を形成した
ことにある。なお、本実施例においては、前記第1の実
施例と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を
省略する。
Next, FIGS. 6 and 7 show a circuit device having a high output element according to a second embodiment of the present invention. The feature of this embodiment is that a metal foil is formed on the surface of the line by a conductive adhesive or This is because the conductive layer was formed by bonding with solder. In this embodiment, the same components as those of the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0046】図において、41は本実施例による高出力
素子を有する回路装置を示し、該回路装置41は、第1
の実施例による回路装置21と同様に、基板42上に設
けられた高出力素子としてのパワートランジスタ43
と、線路としての入力信号線路44,出力信号線路4
5,入力バイアス線路46および出力バイアス線路47
と、絶縁層48とから大略構成され、基板42の端部に
は入力側端子,出力側端子(いずれも図示せず)が形成
されている。
In the figure, reference numeral 41 indicates a circuit device having a high-power element according to this embodiment.
Similar to the circuit device 21 according to the embodiment of the present invention, the power transistor 43 as a high output element provided on the substrate 42.
And an input signal line 44 and an output signal line 4 as lines
5, input bias line 46 and output bias line 47
And an insulating layer 48, and an input side terminal and an output side terminal (both not shown) are formed at the end of the substrate 42.

【0047】49は本実施例による導電層としての金属
箔を示し、該金属箔49は所定の厚さ寸法をもって均一
に形成された例えば銅等の金属薄膜から構成され、入力
信号線路44,出力信号線路45,入力バイアス線路4
6,出力バイアス線路47(以下、各線路という)の上
側面44A,45A,46A,47Aに導電性接着層5
0を介して固着され、これにより各線路は、十分な厚さ
寸法を有する電流通路として構成されている。
Reference numeral 49 denotes a metal foil as a conductive layer according to the present embodiment, which is composed of a metal thin film of, for example, copper or the like uniformly formed with a predetermined thickness dimension, and has an input signal line 44 and an output. Signal line 45, input bias line 4
6, the conductive adhesive layer 5 on the upper side surface 44A, 45A, 46A, 47A of the output bias line 47 (hereinafter referred to as each line)
0, so that each line is configured as a current path with a sufficient thickness dimension.

【0048】50は例えば導電性接着剤または半田等か
らなる導電性接着層を示し、該導電性接着層50は、各
線路の上側面44A,45A,46A,47Aと金属箔
49との間に塗布され、両者を接着(半田づけ)して固
定しつつ電気的に導通している。
Reference numeral 50 denotes a conductive adhesive layer made of, for example, a conductive adhesive or solder. The conductive adhesive layer 50 is provided between the upper side surfaces 44A, 45A, 46A, 47A of each line and the metal foil 49. They are applied, and they are electrically connected while fixing (soldering) together.

【0049】かくして、このように構成される本実施例
でも、前記第1の実施例と同様の作用効果を得ることが
できるが、特に本実施例では、各線路の上側面44A,
45A,46A,47Aに導電性接着層50を介して、
十分な厚さ寸法をもって均一に形成された金属箔49を
固着したから、金属箔49を別部材として接着すること
により導電層が容易に形成できる上、各線路を必要な厚
さ寸法に高精度に形成することができ、各線路の幅寸法
を狭くして基板42を高密度化する場合であっても、回
路装置41の信頼性を向上させることができる。
Thus, in this embodiment having the above-described structure, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. In particular, however, in this embodiment, the upper side surfaces 44A of the respective lines,
45A, 46A, 47A via the conductive adhesive layer 50,
Since the metal foil 49 uniformly formed with a sufficient thickness dimension is fixed, the conductive layer can be easily formed by adhering the metal foil 49 as a separate member, and each line is highly accurate to the required thickness dimension. Can be formed, and the reliability of the circuit device 41 can be improved even when the width dimension of each line is narrowed to increase the density of the substrate 42.

【0050】なお、前記各実施例では、入力信号線路2
4,出力信号線路25,入力バイアス線路26および出
力バイアス線路27(入力信号線路44,出力信号線路
45,入力バイアス線路46および出力バイアス線路4
7)の全てに対して半田層29(金属箔49)を設けた
が、本発明はこれに限らず、必要な線路部分のみに導電
層を設けてもよく、例えば比較的小さい電流が導通する
入力信号線路24,入力バイアス線路26(入力信号線
路44,入力バイアス線路46)等に対しては、半田層
29(金属箔49)を省略する構成としてもよい。
In each of the above embodiments, the input signal line 2
4, output signal line 25, input bias line 26 and output bias line 27 (input signal line 44, output signal line 45, input bias line 46 and output bias line 4
Although the solder layer 29 (metal foil 49) is provided for all of 7), the present invention is not limited to this, and a conductive layer may be provided only for a necessary line portion, for example, a relatively small current conducts. The solder layer 29 (metal foil 49) may be omitted for the input signal line 24, the input bias line 26 (the input signal line 44, the input bias line 46) and the like.

【0051】また、前記第1の実施例では、半田ペース
トを塗布することにより半田層29を形成したが、本発
明はこれに限らず、例えば糸状の半田を半田コテを用い
て溶融させることにより半田層29を形成してもよく、
また例えば半田噴霧器等で半田ペーストを噴霧すること
により半田層29を形成してもよい。
Further, in the first embodiment, the solder layer 29 is formed by applying the solder paste, but the present invention is not limited to this. For example, by melting a thread-like solder with a soldering iron, The solder layer 29 may be formed,
Alternatively, the solder layer 29 may be formed by spraying a solder paste with a solder sprayer or the like.

【0052】さらに、前記各実施例では、高出力素子と
してパワートランジスタ23,43が配設された回路装
置21,41を例に挙げて説明したが、本発明はこれに
限らず、例えばサイリスタ,レギュレータ等の高出力素
子を有する回路装置に適用してもよい。
Further, in each of the above-described embodiments, the circuit devices 21 and 41 in which the power transistors 23 and 43 are arranged as the high-power elements are described as an example, but the present invention is not limited to this, and, for example, a thyristor, It may be applied to a circuit device having a high output element such as a regulator.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上詳述した通り、請求項1に記載の発
明によれば、線路の表面に導電性材料からなる導電層を
設け、該導電層により線路の厚さ寸法を厚くしたから、
線路の断面積を減少させることなく幅寸法を狭くするこ
とができる。これにより、線路の電気抵抗を増大させる
ことなく幅寸法を狭く形成することができるから、線路
を基板上に高密度に配設することができ、基板の面積を
縮小することができ、高出力素子を有する回路装置を容
易に小型化することができる。
As described in detail above, according to the invention of claim 1, a conductive layer made of a conductive material is provided on the surface of the line, and the thickness of the line is increased by the conductive layer.
The width dimension can be reduced without reducing the cross-sectional area of the line. As a result, the width can be formed narrow without increasing the electric resistance of the line, so that the line can be arranged on the substrate at a high density, the area of the substrate can be reduced, and high output can be achieved. The circuit device having the element can be easily miniaturized.

【0054】請求項2に記載の発明によれば、線路の表
面に半田層を施すことにより導電層を設けたから、従来
技術による高出力素子実装用の半田ペーストを線路上に
塗布する工程において、導電層を半田ペーストとして一
緒に塗布することができ、従って従来技術の高出力素子
を有する回路装置の製造工程とほぼ同様の工程により、
導電層を容易に形成することができる。
According to the second aspect of the present invention, since the conductive layer is provided by applying the solder layer on the surface of the line, in the step of applying the solder paste for mounting a high-power element according to the prior art onto the line, The conductive layer can be applied together as a solder paste, and thus, by a process substantially similar to the manufacturing process of the circuit device having the high output element of the prior art,
The conductive layer can be easily formed.

【0055】請求項3に記載の発明によれば、線路の表
面に金属箔を導電性接着剤または半田を用いて一体的に
固着することにより導電層を設けたから、予め必要な厚
さ寸法をもって均一に形成された導電層を線路の表面に
固着することにより、必要な厚さ寸法を有する均一な導
電層を容易に形成することができ、高出力素子を有する
回路装置の信頼性を確実に向上させることができる。
According to the third aspect of the invention, since the conductive layer is provided by integrally fixing the metal foil on the surface of the line with the conductive adhesive or solder, the thickness of the conductive layer is required in advance. By fixing the uniformly formed conductive layer on the surface of the line, it is possible to easily form a uniform conductive layer having a required thickness dimension, and ensure the reliability of the circuit device having the high output element. Can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例による回路装置を示す縦
断面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional view showing a circuit device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】線路パターン形成工程により、基板上に入力信
号線路,出力信号線路,入力バイアス線路および出力バ
イアス線路を形成した状態を示す縦断面図である。
FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing a state in which an input signal line, an output signal line, an input bias line and an output bias line are formed on a substrate by a line pattern forming step.

【図3】図2による線路パターン形成工程に続く絶縁層
形成工程により、基板上に絶縁層を形成した状態を示す
縦断面図である。
3 is a vertical cross-sectional view showing a state in which an insulating layer is formed on a substrate by an insulating layer forming step following the line pattern forming step shown in FIG.

【図4】図3による絶縁層形成工程に続く半田層形成工
程により、基板上に入力信号線路,出力信号線路,入力
バイアス線路および出力バイアス線路の上側面に半田層
を形成した状態を示す縦断面図である。
FIG. 4 is a vertical cross-sectional view showing a state in which a solder layer is formed on an upper surface of an input signal line, an output signal line, an input bias line and an output bias line on a substrate by a solder layer forming process following the insulating layer forming process of FIG. It is a side view.

【図5】図4による半田層形成工程に続くリフロー処理
工程により、基板上にパワートランジスタを配設した後
に半田層を加熱する状態を示す縦断面図である。
5 is a vertical cross-sectional view showing a state in which a solder layer is heated after disposing power transistors on a substrate by a reflow processing step following the solder layer forming step in FIG.

【図6】本発明の第2の実施例による回路装置を示す縦
断面図である。
FIG. 6 is a vertical sectional view showing a circuit device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】図6中の入力信号線路等の要部を拡大して示す
拡大縦断面図である。
FIG. 7 is an enlarged vertical cross-sectional view showing enlarged main parts such as an input signal line in FIG. 6;

【図8】従来技術による回路装置を示す外観斜視図であ
る。
FIG. 8 is an external perspective view showing a circuit device according to a conventional technique.

【図9】図8中の回路装置をカバーを外した状態で示す
斜視図である。
9 is a perspective view showing the circuit device in FIG. 8 with a cover removed.

【図10】図9中の矢示X−X方向の縦断面図である。FIG. 10 is a vertical cross-sectional view taken along the arrow XX in FIG.

【図11】他の従来技術による回路装置を示す図10と
同様の縦断面図である。
FIG. 11 is a vertical sectional view similar to FIG. 10, showing another conventional circuit device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21,41 回路装置 22,42 基板 23,43 パワートランジスタ 24,44 入力信号線路 25,45 出力信号線路 26,46 入力バイアス線路 27,47 出力バイアス線路 29 半田層 49 金属箔 50 導電性接着層 21, 41 Circuit device 22, 42 Substrate 23, 43 Power transistor 24, 44 Input signal line 25, 45 Output signal line 26, 46 Input bias line 27, 47 Output bias line 29 Solder layer 49 Metal foil 50 Conductive adhesive layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、該基板上に高出力用の電子素子
として設けられた高出力素子と、該高出力素子に接続し
て前記基板上に形成された線路とからなる高出力素子を
有する回路装置において、前記線路の表面に導電性材料
からなる導電層を設けたことを特徴とする高出力素子を
有する回路装置。
1. A high output element comprising a substrate, a high output element provided as an electronic element for high output on the substrate, and a line connected to the high output element and formed on the substrate. A circuit device having a high output element, characterized in that a conductive layer made of a conductive material is provided on a surface of the line.
【請求項2】 前記導電層は、前記線路の表面に施され
た半田層である請求項1に記載の高出力素子を有する回
路装置。
2. The circuit device having a high output element according to claim 1, wherein the conductive layer is a solder layer formed on a surface of the line.
【請求項3】 前記導電層は、前記線路の表面に導電性
接着剤または半田を用いて一体的に固着した金属箔であ
る請求項1に記載の高出力素子を有する回路装置。
3. The circuit device having a high output element according to claim 1, wherein the conductive layer is a metal foil integrally fixed to the surface of the line by using a conductive adhesive or solder.
JP7263498A 1995-09-18 1995-09-18 Circuit device with large-output element Pending JPH0983112A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016058920A (en) * 2014-09-10 2016-04-21 住友電気工業株式会社 Travelling wave amplifier

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