JPH0964308A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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Publication number
JPH0964308A
JPH0964308A JP7220032A JP22003295A JPH0964308A JP H0964308 A JPH0964308 A JP H0964308A JP 7220032 A JP7220032 A JP 7220032A JP 22003295 A JP22003295 A JP 22003295A JP H0964308 A JPH0964308 A JP H0964308A
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JP
Japan
Prior art keywords
sense amplifier
circuit
memory device
control circuit
semiconductor memory
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP7220032A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Arai
公司 荒井
Noriaki Kubota
記章 久保田
Katsuo Komatsuzaki
勝雄 小松崎
Hirotoshi Bun
裕俊 文
Shinji Mitani
真司 三谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Texas Instruments Japan Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Texas Instruments Japan Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Texas Instruments Japan Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH0964308A publication Critical patent/JPH0964308A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 メモリアレイ構成にDWD方式を用い、YS
線活性化の遠近端差を低減して高速化を図ることができ
る半導体記憶装置を提供する。 【構成】 メモリアレイ構成にDWD方式を用い、複数
のメモリアレイMMATと、このメモリアレイMMAT
の行方向を選択するサブワードドライバSWDおよびメ
インワードドライバMWDと、列方向を選択するカラム
デコーダYDECと、周辺回路などから構成されるDR
AMであって、このメモリアレイMMAT0〜MMAT
7の行方向に分散配置されるサブワードドライバSWD
と、列方向に分散配置されるセンスアンプSAとのそれ
ぞれの交点領域に、センスアンプSAを駆動するための
センスアンプ駆動MOSFETなどからなるセンスアン
プ駆動回路SADと、センスアンプSAからのデータを
出力するためのI/OスイッチなどからなるI/O制御
回路IOCとが配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置に関
し、特にメモリアレイ構成にワード線階層化構造(DW
D:Divided Word Driver)を用いたダイナミック型RA
M(DRAM)に好適な半導体記憶装置に適用して有効
な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、発明者が検討したところによ
れば、DRAMのメモリアレイ構成として、SWS(Si
ngle Word Shunt)方式があり、このSWS方式によるメ
モリアレイではその構成上、センスアンプ駆動MOSF
ET、I/Oスイッチはメモリアレイの下部か上部(行
方向)、あるいは両方の2箇所に配置されることとな
る。
【0003】なお、このようなDRAMに関する技術と
しては、たとえば昭和59年11月30日、株式会社オ
ーム社発行、社団法人電子通信学会編の「LSIハンド
ブック」P485〜P533などの文献に記載されてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記のよう
なSWS方式のDRAMにおいては、センスアンプ駆動
MOSFETをメモリアレイの上部か下部(行方向)に
配置することとなるため、センスアンプ動作時にYS線
が活性化する際、センスアンプ駆動MOSFETの近端
側ではセンスアンプの負荷が見えないために速くなって
しまうこととなり、遠端側ではメモリアレイ内のセンス
アンプの負荷が見えるために遅くなってしまうこととな
る。
【0005】従って、このようなSWS方式のDRAM
では、メモリアレイ全体としてのYS線(Y選択線)の
活性化タイミングを、誤動作を防ぐために遅い側に合わ
せることになり、よってこのSWS方式によるセンスア
ンプ駆動MOSFETの配置では高速化を行う際に問題
となり、その改善が望まれている。
【0006】そこで、本発明の目的は、メモリアレイ構
成にDWD方式を用い、YS線活性化の遠近端差を低減
して高速化を図ることができるDRAMなどの半導体記
憶装置を提供することにある。
【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0009】すなわち、本発明の半導体記憶装置は、メ
モリアレイ構成にメインワード線およびサブワード線か
らなるDWD方式を用いた半導体記憶装置に適用される
ものであり、このメモリアレイの構成において、メモリ
アレイのワード線方向に分散配置されるサブワードドラ
イバと、メモリアレイのデータ線方向に分散配置される
センスアンプとの複数の交点領域(IS:Inter Sectio
n Area)に、センスアンプを駆動するためのセンスアン
プ駆動回路と、センスアンプからのデータを出力するた
めのI/O制御回路とを配置するものである。
【0010】これらの複数のIS領域への配置において
は、センスアンプ駆動回路をNチャネル型MOSFET
およびPチャネル型MOSFETによる回路と、Nチャ
ネル型MOSFETのみによる回路とに分け、前者はI
S領域のうちのセンスアンプを挟んで交互に区別される
第1のIS領域に配置し、後者とI/O制御回路は第2
のIS領域に配置するようにしたものである。
【0011】特に、DRAMに適用して、センスアンプ
駆動回路にはセンスアンプ駆動MOSFETを含み、か
つI/O制御回路にはI/Oスイッチを含むようにした
ものである。
【0012】
【作用】前記した半導体記憶装置によれば、メモリアレ
イの構成にDWD方式を採用し、サブワードドライバと
センスアンプとのIS領域を用いて、センスアンプ駆動
回路を構成するセンスアンプ駆動MOSFETなどの分
散配置や、I/O制御回路を構成するI/Oスイッチな
どを配置することにより、YS線活性化の遠近端差を低
減して高速化を可能とすることができる。
【0013】たとえば、記憶容量が2kビットのセンス
アンプをメモリアレイの上部か下部(行方向)に配置さ
れたセンスアンプ駆動MOSFETで動作させるより、
サブワードドライバ領域で分割されたメモリアレイ(た
とえば2kビットのセンスアンプを8分割すれば512
ビットのセンスアンプとなる)をIS領域に分散配置し
たセンスアンプ駆動MOSFETを用いて動作させる方
が、YS線とセンスアンプ駆動MOSFETとの距離を
短くしてYS線活性化の遠近端差を低減することがで
き、これにより距離に比例して大きくなる信号線の配線
抵抗を小さくして動作を高速化させることができる。
【0014】さらに、センスアンプ駆動回路のうちのN
チャネル型MOSFETのみによる回路を、I/O制御
回路とともに回路素子数の多い第2の交点領域に配置す
ることで、この交点領域へのWELL分離の不要なNチ
ャネル型MOSFETの配置によって領域を有効的に活
用することができる。
【0015】また、メモリアレイの構成において、セン
スアンプ駆動MOSFETの他に、I/Oスイッチなど
のI/O制御回路もIS領域に配置することで、チップ
サイズの縮小も可能とすることができる。
【0016】これにより、特にDWD方式を用いたDR
AMにおいて、IS領域にセンスアンプ駆動回路とI/
O制御回路とを配置することで、YS線活性化の遠近端
差を低減して高速化が可能となり、さらにIS領域内へ
のセンスアンプ駆動回路とI/O制御回路との配置によ
ってチップサイズの縮小も可能となる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
【0018】図1は本発明の一実施例である半導体記憶
装置を示すチップ構成図、図2は本実施例の半導体記憶
装置におけるアレイ構成図、図3は本実施例に対応する
比較例である半導体記憶装置におけるアレイ構成図、図
4はセンスアンプ駆動回路とI/O制御回路を示す回路
図である。
【0019】まず、図1により本実施例の半導体記憶装
置の構成を説明する。
【0020】本実施例の半導体記憶装置は、たとえばメ
モリアレイ構成にDWD方式を用いたDRAMとされ、
複数のメモリセルによる複数のメモリアレイMMAT
と、このメモリアレイMMATの行方向を選択するため
のサブワードドライバSWDおよびメインワードドライ
バMWDと、列方向を選択するためのカラムデコーダY
DECと、周辺回路としてのセンスアンプSA、センス
アンプ制御回路ACTRL、ロウプリデコーダXPD、
ロウアドレスバッファRAB、カラムプリデコーダYP
D、カラムアドレスバッファCAB、アドレスマルチプ
レクサAMX、リフレッシュアドレスカウンタRFC、
タイミング発生回路TG、データ入出力回路I/Oなど
から構成され、これらが周知の半導体製造技術によって
1個の半導体チップ上に形成されている。
【0021】このDRAMにおいては、たとえば図2に
示すように半導体チップの上部、下部にメモリアレイM
MATが8分割されて配置され、さらにそれぞれが8分
割されてメモリアレイMMAT0〜MMAT7が配置さ
れている。また、それぞれのメモリアレイMMAT0〜
MMAT7の間および両端にはセンスアンプSA0〜S
A8が配置され、またメモリアレイMMAT0〜MMA
T7の行方向にはサブワードドライバSWDが分散され
て配置されている。
【0022】さらに、このメモリアレイMMAT0〜M
MAT7の構成においては、本実施例の特徴として、メ
モリアレイMMAT0〜MMAT7の行方向に分散配置
されるサブワードドライバSWDと、メモリアレイMM
AT0〜MMAT7の列方向に分散配置されるセンスア
ンプSAとのそれぞれの交点領域に、センスアンプSA
を駆動するためのセンスアンプ駆動MOSFETなどか
らなるセンスアンプ駆動回路SADと、センスアンプS
Aからのデータを出力するためのI/Oスイッチなどか
らなるI/O制御回路IOCとが配置されている。
【0023】また、半導体チップの中央部には、センス
アンプ制御回路ACTRL、ロウプリデコーダXPD、
ロウアドレスバッファRAB、カラムプリデコーダYP
D、カラムアドレスバッファCAB、アドレスマルチプ
レクサAMX、リフレッシュアドレスカウンタRFC、
タイミング発生回路TG、データ入出力回路I/Oなど
が配置され、さらにこの中央部には外部接続用のボンデ
ィングパッドなども設けられている。
【0024】次に、本実施例の作用について、始めにこ
のDRAMにおけるそれぞれの構成要素の詳細、および
動作概要などを含めて図1により詳細に説明する。
【0025】メモリアレイMMAT0〜MMAT7に
は、図1の垂直方向(行方向)に平行して配置される複
数のメインワード線とサブワード線、同図の水平方向
(列方向)に平行して配置される複数の相補データ線、
およびこれらのワード線と相補データ線の交点に格子状
に配置される複数のダイナミック型メモリセルとが含ま
れている。
【0026】このメモリアレイMMATを構成するワー
ド線は、サブワードドライバSWDからメインワードワ
ード線を介してメインワードドライバMWDに結合さ
れ、択一的に選択される。
【0027】メインワードドライバMWDには、特に制
限されないが、たとえばロウアドレスバッファRABか
らi+1ビットの相補内部アドレス信号AX0*〜AX
i*(非反転内部アドレス信号AX0と反転内部アドレ
ス信号AX0Bを合わせて相補内部アドレス信号YTA
X0*のように表し、またAX0BのBは反転信号を表
す)が供給される。
【0028】サブワードドライバSWDは、タイミング
信号φXがハイレベルとされることで動作状態とされ
る。この動作状態において、メインワードドライバMW
Dは、アドレスマルチプレクサAMXから伝送されるロ
ウアドレス信号を、タイミング発生回路TGから供給さ
れるロウタイミング信号φXLに従って取り込み、保持
する。また、これらのロウアドレス信号AX0*〜AX
i*を形成し、メインワードドライバMWDに供給す
る。
【0029】アドレスマルチプレクサAMXは、特に制
限されないが、たとえばDRAMが通常の動作モードと
され、タイミング発生回路TGからロウレベルのタイミ
ング信号φREFが供給されるときに、外部端子AX0
〜AXiを介して時分割的に供給されるXアドレス信号
AX0〜AXiを選択し、前記ロウアドレス信号として
ロウアドレスバッファRABに伝達する。
【0030】また、DRAMがCBRリフレッシュサイ
クルとされ、前記タイミング信号φREFがハイレベル
とされるとき、リフレッシュアドレスカウンタRFCか
ら供給されるリフレッシュアドレス信号を選択し、前記
ロウアドレス信号としてロウアドレスバッファRABに
伝達する。
【0031】リフレッシュアドレスカウンタRFCは、
特に制限されないが、たとえばDRAMがCBRリフレ
ッシュモードとされるとき、タイミング発生回路TGか
ら供給されるタイミング信号φRCに従って進歩動作を
行う。
【0032】一方、メモリアレイMMATを構成する相
補データ線は、その一方において、センスアンプSAに
対応する単位増幅回路に結合される。センスアンプSA
のブロックは、メモリアレイMMATの各相補データ線
に対応して設けられる複数の単位増幅回路を含む。ま
た、センスアンプSAのブロックには、前記単位増幅回
路の他に、DRAMが待機時に相補データ線対をイコラ
イズするNチャネル型MOSFET、左右のメモリアレ
イMMATを1個のセンスアンプSAのブロックが共有
するシェアード用のNチャネル型MOSFET、および
相補データ線をI/O線に接続するNチャネル型MOS
FETが含まれている。
【0033】カラムデコーダYDECは、特に制限され
ないが、たとえばカラムアドレスバッファCABから相
補内部アドレス信号が供給され、タイミング発生回路T
Gからタイミング信号φYが供給される。
【0034】カラムデコーダYDECは、前記タイミン
グ信号φYがハイレベルとされることで、選択的に動作
状態とされる。この動作状態において、カラムデコーダ
YDECは、前記内部相補アドレス信号をデコードし、
対応するデータ線選択信号を択一的にハイレベルとす
る。
【0035】カラムアドレスバッファCABは、外部端
子A0〜Aiを介して時分割的に供給されるYアドレス
信号をタイミング発生回路TGから供給されるタイミン
グ信号φYLに従って取り込み、保持する。また、これ
らのYアドレス信号をもとに、相補内部アドレス信号A
Y0*〜AYi*を形成する。
【0036】相補共通データ線CD0*〜CDi*は、
特に制限されないが、たとえばデータ入出力回路I/O
に結合される。データ入出力回路I/Oには、タイミン
グ発生回路TGからタイミング信号φWおよびφRが供
給される。
【0037】センスアンプ制御回路ACTRLは、タイ
ミング発生回路TGからマット選択信号MSおよびタイ
ミング信号φSAにより、前記センスアンプSAのブロ
ック内の各回路を制御する。
【0038】タイミング発生回路TGには、外部装置か
ら起動制御信号として、ロウアドレスストローブ信号/
RAS、カラムアドレスストローブ信号/CAS、ライ
トイネーブル信号/WEおよび出力イネーブル信号/O
Eが供給され、前記外部起動制御信号をもとに、DRA
Mの動作モードを判定するとともに、前記各種のタイミ
ング信号を形成し、DRAMの各部に供給する。
【0039】以上のようにして、DRAMのそれぞれの
構成要素が動作し、メインワードドライバMWDおよび
サブワードドライバSWDなどによりワード線を選択
し、カラムデコーダYDECにより相補データ線を選択
し、このワード線および相補データ線の交点に配置され
るメモリアレイMMATのメモリセルに対して、書き込
み、消去および読み出しによるデータの入出力を行うこ
とができる。
【0040】次に、本実施例の特徴となるセンスアンプ
駆動回路SADとI/O制御回路IOCの配置について
図2〜図4により説明する。
【0041】すなわち、本実施例においては、メモリア
レイMMATの構成に図2のようなDWD方式を採用し
ているために、サブワードドライバSWDとセンスアン
プSAとの交点にIS領域が形成され、このIS領域を
用いて、センスアンプ駆動回路SADを構成するセンス
アンプ駆動MOSFETなどの分散配置や、I/O制御
回路IOCを構成するI/Oスイッチなどを配置するこ
とができる。
【0042】たとえば、本実施例に対応する比較例を示
す図3のように、メモリアレイ構成にSWS方式を用い
た場合には、センスアンプ駆動MOSFETをメモリア
レイMMATの上部か下部(行方向)にしか配置できな
いため、この行方向に長く配置されるセンスアンプSA
において、両端側のセンスアンプ駆動MOSFETに近
い部分と、中央部の遠い部分との距離に大きな差があ
り、この近端側と遠端側との間に動作速度に影響する配
線抵抗の大きな違いが生じることになる。
【0043】これに対して、本実施例においては、図2
に示すようにメモリアレイMMATの行方向に分散配置
されるサブワードドライバSWDと、メモリアレイMM
ATの列方向に分散配置されるセンスアンプSAとの交
点領域に、センスアンプ駆動回路SAD、I/O制御回
路IOCを配置することができるので、この行方向に長
く分散配置されるセンスアンプSAにおいて、両端側の
センスアンプ駆動MOSFETに近い部分と、中央部の
遠い部分との距離の差が図3に比べて極めて小さくな
り、この近端側と遠端側との間に生じる配線抵抗の違い
を小さくして動作速度に対する影響を抑えることができ
る。
【0044】さらに、センスアンプ駆動MOSFETの
配置においては、Nチャネル型MOSFETおよびPチ
ャネル型MOSFETによる回路と、Nチャネル型MO
SFETのみによる回路とに分け、またサブワードドラ
イバSWDとセンスアンプSAとの複数の交点領域につ
いても、センスアンプSAを挟んで第1のIS領域と第
2のIS領域とに交互に区別し、第1のIS領域または
第2のIS領域に適したそれぞれの回路を配置すること
で領域を有効的に活用している。
【0045】すなわち、センスアンプ駆動回路SAD
は、図4に示すように、3つのNチャネル型MOSFE
TQN1〜QN3と1つのPチャネル型MOSFETQ
P1とから構成され、センスアンプSAのSDN側に接
続されるNチャネル型MOSFETQN1のみによる回
路と、SDN側に接続されるNチャネル型MOSFET
QN2、SDP側に接続されるNチャネル型MOSFE
TQN3およびPチャネル型MOSFETQP1による
回路とを分けて、前者のNチャネル型MOSFETQN
1のみによる回路を第2のIS領域に配置し、また後者
のNチャネル型MOSFETQN2,QN3およびPチ
ャネル型MOSFETQP1による回路は第1のIS領
域に配置している。
【0046】さらに、第2のIS領域には、図4に示す
ように5つのNチャネル型MOSFETQN4〜QN8
と3つのPチャネル型MOSFETQP2〜QP4と2
つのインバータIV1,IV2から構成されるI/O制
御回路IOCも配置している。この第2のIS領域のよ
うに回路素子数の多い領域には、I/O制御回路IOC
のI/Oスイッチの他に、センスアンプ駆動回路SAD
のうちのWELL分離の不要なNチャネル型MOSFE
TQN1のみによる回路を配置することで領域を有効的
に活用することができる。
【0047】これらのセンスアンプ駆動回路SADのセ
ンスアンプ駆動MOSFETは、センスアンプSAを駆
動するための電源を供給するものであり、Nチャネル型
MOSFETQN1,QN2はドレインが信号線SD
N、ソースが電源VSSSAに接続され、ゲートに供給
される信号線SANの信号によって制御し、Nチャネル
型MOSFETQN3はドレインが信号線SDP、ソー
スが電源VDLに接続され、ゲートに供給される信号線
SAP2の信号によって制御し、さらにPチャネル型M
OSFETQP1はドレインが信号線SDP、ソースが
電源VDDSAに接続され、ゲートに供給される信号線
SAP1Bの信号によって制御し、センスアンプSAに
対して増幅のための電源を供給することができる。
【0048】また、I/O制御回路IOCのI/Oスイ
ッチは、センスアンプSAのデータを出力するためにロ
ーカル入出力線をメイン入出力線に接続するものであ
り、Nチャネル型MOSFETQN4が接続される信号
線LIO、Nチャネル型MOSFETQN5が接続され
る信号線LIOBと、Nチャネル型MOSFETQN7
とPチャネル型MOSFETQP2が接続される信号線
MIO、Nチャネル型MOSFETQN8とPチャネル
型MOSFETQP3が接続される信号線MIOBとの
間を、インバータIV1,IV2、Pチャネル型MOS
FETQP4に供給される信号線EQIOBの信号によ
って制御し、信号線LIO,LIOBと信号線MIO,
MIOBとを接続することができる。
【0049】なお、この図4における信号線について
は、LIO,LIOBがローカル入出力線、MIO,M
IOBがメイン入出力線、VSSSA,VDDSAがセ
ンスアンプ専用電源線、VDLがメモリアレイ電源線、
EQIOBが入出力線イコライズ線、VBLRが1/2
VDD電源線、SAN,SAP2,SAP1Bがセンス
アンプ駆動信号線、SDNがコモンソースNチャネル
線、SDPがコモンソースPチャネル線をそれぞれ示し
ている。
【0050】このように、複数存在するIS領域の中
で、第1のIS領域にはNチャネル型MOSFETQN
2,QN3とPチャネル型MOSFETQP1によるセ
ンスアンプ駆動MOSFETを、第2のIS領域にはI
/OスイッチとNチャネル型MOSFETQN1のみに
よるセンスアンプ駆動MOSFETを交互に配置するこ
とにより、メモリアレイMMAT内のYS線活性化の速
度に影響するセンスアンプSAの近端側と遠端側との遠
近端差を小さくすることができる。
【0051】また、以上のようなメモリアレイMMAT
の構成において、センスアンプ駆動回路SADを構成す
るセンスアンプ駆動MOSFETの他に、I/Oスイッ
チなどのI/O制御回路IOCもIS領域のうちの第2
のIS領域に配置することで、このIS領域を有効に活
用してチップサイズを縮小することができる。
【0052】従って、本実施例のDRAMによれば、メ
モリアレイMMATの構成にDWD方式を用い、分散配
置されるサブワードドライバSWDとセンスアンプSA
との複数のIS領域に、センスアンプ駆動MOSFET
によるセンスアンプ駆動回路SADと、I/Oスイッチ
によるI/O制御回路IOCを配置することにより、セ
ンスアンプ駆動回路SADから電源が供給されるセンス
アンプSAにおいて、センスアンプ駆動MOSFETか
らの距離の差を小さくしてYS線活性化の遠近端差を低
減することができるので、信号線の配線抵抗を小さくし
て動作を高速化させることができる。
【0053】さらに、センスアンプ駆動MOSFETの
うちのNチャネル型MOSFETQN1のみによる回路
を、I/O制御回路IOCとともに回路素子数の多い第
2のIS領域に配置することで、この第2のIS領域へ
のWELL分離の不要なNチャネル型MOSFETQN
1の配置によって領域を有効的に活用することができ
る。
【0054】また、メモリアレイMMATの構成におい
て、センスアンプ駆動MOSFETの他に、I/Oスイ
ッチなどのI/O制御回路IOCもIS領域に配置する
ことで、チップサイズを縮小することも可能となる。
【0055】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0056】たとえば、前記実施例のDRAMについて
は、メモリアレイが半導体チップの上部、下部に8分割
され、さらにそれぞれが8分割されて配置される場合に
ついて説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、このような分割方式については記憶容量、
ワード線階層数、周辺回路やボンディングパッドの位置
などに応じて種々の変形構成についても広く適用可能で
ある。
【0057】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0058】(1).DWD方式を用いたメモリアレイ構成
において、サブワードドライバとセンスアンプとの交点
のIS領域に、センスアンプ駆動MOSFETによるセ
ンスアンプ駆動回路とI/OスイッチによるI/O制御
回路とを配置することにより、YS線活性化の遠近端差
を低減することができるので、動作速度の高速化が可能
となる。
【0059】(2).センスアンプ駆動回路のうちのNチャ
ネル型MOSFETのみによる回路を、I/O制御回路
とともに回路素子数の多い第2のIS領域に配置するこ
とができるので、このIS領域へのWELL分離の不要
なNチャネル型MOSFETの配置によって領域の有効
的な活用が可能となる。
【0060】(3).IS領域内に、センスアンプ駆動MO
SFETによるセンスアンプ駆動回路の他に、I/Oス
イッチによるI/O制御回路を配置することができるの
で、チップサイズの縮小が可能となる。
【0061】(4).前記(1) 〜(3) により、特にDWD方
式を用いたDRAMにおいて、IS領域へのセンスアン
プ駆動回路とI/O制御回路との配置によって、YS線
活性化の遠近端差を低減した高速化と、チップサイズの
縮小化が実現できる半導体記憶装置のレイアウト設計が
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である半導体記憶装置を示す
チップ構成図である。
【図2】本実施例の半導体記憶装置におけるアレイ構成
図である。
【図3】本実施例に対応する比較例である半導体記憶装
置におけるアレイ構成図である。
【図4】本実施例におけるセンスアンプ駆動回路とI/
O制御回路を示す回路図である。
【符号の説明】
MMAT メモリアレイ SWD サブワードドライバ MWD メインワードドライバ YDEC カラムデコーダ SA センスアンプ ACTRL センスアンプ制御回路 XPD ロウプリデコーダ RAB ロウアドレスバッファ YPD カラムプリデコーダ CAB カラムアドレスバッファ AMX アドレスマルチプレクサ RFC リフレッシュアドレスカウンタ TG タイミング発生回路 I/O データ入出力回路 SAD センスアンプ駆動回路 IOC I/O制御回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保田 記章 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 小松崎 勝雄 茨城県稲敷郡美浦村木原2350 日本テキサ ス・インスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 文 裕俊 茨城県稲敷郡美浦村木原2350 日本テキサ ス・インスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 三谷 真司 茨城県稲敷郡美浦村木原2350 日本テキサ ス・インスツルメンツ株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のメインワード線、サブワード線、
    複数の相補データ線、および前記サブワード線と前記複
    数の相補データ線との交点に配置される複数のメモリセ
    ルを含むメモリアレイを有し、前記サブワード線はサブ
    ワードドライバから前記メインワード線を介してメイン
    ワードドライバに結合され、また前記相補データ線はセ
    ンスアンプに結合されて構成されるワード線階層化構造
    を用いた半導体記憶装置であって、前記メモリアレイの
    構成において、このメモリアレイのワード線方向に分散
    配置される前記サブワードドライバと、前記メモリアレ
    イのデータ線方向に分散配置される前記センスアンプと
    の複数の交点領域に、前記センスアンプを駆動するため
    のセンスアンプ駆動回路と、前記センスアンプからのデ
    ータを出力するためのI/O制御回路とを配置すること
    を特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置であっ
    て、前記センスアンプ駆動回路を、Nチャネル型MOS
    FETおよびPチャネル型MOSFETによる回路と、
    Nチャネル型MOSFETのみによる回路とに分け、こ
    のNチャネル型MOSFETのみによる回路と前記I/
    O制御回路とを、前記複数の交点領域のうちの同じ交点
    領域に配置することを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の半導体記憶装置であっ
    て、前記複数の交点領域を、前記センスアンプを挟んで
    第1の交点領域と第2の交点領域とに交互に区別し、前
    記第1の交点領域には前記センスアンプ駆動回路のNチ
    ャネル型MOSFETおよびPチャネル型MOSFET
    による回路を配置し、かつ前記第2の交点領域には前記
    センスアンプ駆動回路のNチャネル型MOSFETのみ
    による回路と前記I/O制御回路とを配置することを特
    徴とする半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 請求項1、2または3記載の半導体記憶
    装置であって、前記半導体記憶装置をダイナミック型R
    AMとして、前記センスアンプ駆動回路にはセンスアン
    プ駆動MOSFETを含み、かつ前記I/O制御回路に
    はI/Oスイッチを含むことを特徴とする半導体記憶装
    置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6078542A (en) * 1998-06-19 2000-06-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device implementing multi-bank configuration with reduced number of signal lines
JP2002251878A (ja) * 1996-03-11 2002-09-06 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US6879539B2 (en) 2003-01-16 2005-04-12 Renesas Technology Corp. Semiconductor memory device with sense amplifier

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