JPH0955088A - 半導体メモリ - Google Patents
半導体メモリInfo
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- JPH0955088A JPH0955088A JP7205830A JP20583095A JPH0955088A JP H0955088 A JPH0955088 A JP H0955088A JP 7205830 A JP7205830 A JP 7205830A JP 20583095 A JP20583095 A JP 20583095A JP H0955088 A JPH0955088 A JP H0955088A
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- bit line
- bit
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- semiconductor memory
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/06—Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
- G11C7/067—Single-ended amplifiers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ビット線の電位の立ち下がり時間を短縮し
て、動作速度の向上、消費電力の低減、及びノイズの影
響の排除を図ることができる半導体メモリを提供する。 【解決手段】 複数のメモリセルMC1乃至MCnに接
続されたビット線BITと、プレチャージクロックPR
Eに応答して電源電圧VDDでプレチャージするための
PchトランジスタP01と、ビット線の電位に応じた
出力信号を出力端子OUTへ供給するセンスアンプSA
とを有する半導体メモリに、ビット線と接地電位VSS
との間に接続されるNchトランジスタN01と、入力
がプレチャージクロックと出力端子とに接続され、出力
がNchトランジスタのゲートに接続されたAND回路
とを設け、センスアンプからの出力がハイレベルに転じ
たらNchトランジスタをオン状態にしてビット線の電
荷を急激に引き抜く。
て、動作速度の向上、消費電力の低減、及びノイズの影
響の排除を図ることができる半導体メモリを提供する。 【解決手段】 複数のメモリセルMC1乃至MCnに接
続されたビット線BITと、プレチャージクロックPR
Eに応答して電源電圧VDDでプレチャージするための
PchトランジスタP01と、ビット線の電位に応じた
出力信号を出力端子OUTへ供給するセンスアンプSA
とを有する半導体メモリに、ビット線と接地電位VSS
との間に接続されるNchトランジスタN01と、入力
がプレチャージクロックと出力端子とに接続され、出力
がNchトランジスタのゲートに接続されたAND回路
とを設け、センスアンプからの出力がハイレベルに転じ
たらNchトランジスタをオン状態にしてビット線の電
荷を急激に引き抜く。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、RAMやROM等
の半導体メモリに関し、特に、1本のビット線と、そこ
を流れるビット線信号を増幅するセンスアンプとを有す
る半導体メモリに関する。
の半導体メモリに関し、特に、1本のビット線と、そこ
を流れるビット線信号を増幅するセンスアンプとを有す
る半導体メモリに関する。
【0002】
【従来の技術】DRAMやSRAM等に使用されるセン
スアンプは、高感度及び高速性が要求されるため、メモ
リセルからの出力を相補信号として取り出し、この相補
信号を入力とする差動型センスアンプが一般的に用いら
れる。ところが、この方式は、ビット線やトランジスタ
の数が多くなるため、集積密度が制限されるという欠点
がある。
スアンプは、高感度及び高速性が要求されるため、メモ
リセルからの出力を相補信号として取り出し、この相補
信号を入力とする差動型センスアンプが一般的に用いら
れる。ところが、この方式は、ビット線やトランジスタ
の数が多くなるため、集積密度が制限されるという欠点
がある。
【0003】これに対して、速度よりも集積密度を重視
する様なROMや、マルチポート(他ポート)RAM等
では、上記欠点の無い、一本のビット線でメモリセルか
らの出力を取り出す方式が採用される。この方式では、
一本のビット線からの出力を増幅するシングルエンド型
センスアンプが用いられる。
する様なROMや、マルチポート(他ポート)RAM等
では、上記欠点の無い、一本のビット線でメモリセルか
らの出力を取り出す方式が採用される。この方式では、
一本のビット線からの出力を増幅するシングルエンド型
センスアンプが用いられる。
【0004】従来のシングルエンド型センスアンプを有
する半導体メモリを図4に示す。図4の半導体メモリ
は、n個のメモリセルMC1、MC2、・・・、MCn
(1≦n;nは整数)を有し、これらメモリセルが、1
本のビット線BITに接続されている。そして、このビ
ット線BITには、電源電圧VDDとプリチャージクロ
ックPREとに接続されたプリチャージ用Pchトラン
ジスタP01と、出力端子OUTに接続されたインバー
タ型センスアンプSAとが接続されている。
する半導体メモリを図4に示す。図4の半導体メモリ
は、n個のメモリセルMC1、MC2、・・・、MCn
(1≦n;nは整数)を有し、これらメモリセルが、1
本のビット線BITに接続されている。そして、このビ
ット線BITには、電源電圧VDDとプリチャージクロ
ックPREとに接続されたプリチャージ用Pchトラン
ジスタP01と、出力端子OUTに接続されたインバー
タ型センスアンプSAとが接続されている。
【0005】次に、図5をも参照して、図4の半導体メ
モリの動作を説明する。まず、プリチャージクロックP
REが、ハイレベル(VDD)からローレベル(VS
S:接地電位)へと変化すると、PchトランジスタP
01がオフ状態からオン状態へと変化する。これによ
り、ビット線BITに電源電圧VDDが与えられ、ビッ
ト線はプリチャージされる。即ち、ビット線BITの電
位が、電源電圧VDDにまで持ち上がる(ハイレベルと
なる)。
モリの動作を説明する。まず、プリチャージクロックP
REが、ハイレベル(VDD)からローレベル(VS
S:接地電位)へと変化すると、PchトランジスタP
01がオフ状態からオン状態へと変化する。これによ
り、ビット線BITに電源電圧VDDが与えられ、ビッ
ト線はプリチャージされる。即ち、ビット線BITの電
位が、電源電圧VDDにまで持ち上がる(ハイレベルと
なる)。
【0006】ビット線PITのプリチャージが終了し、
プリチャージクロックPREが、ローレベルからハイレ
ベルへと変化すると、図示しない選択回路により、メモ
リセルの中からデータを読み出そうとするメモリセルM
Cm(1≦m≦n;mは整数)が選択される。選択され
たメモリセルMCmが保持するデータがローの場合、ビ
ット線BITにチャージされた電荷は、メモリセルMC
m内のNchトランジスタ等(図示せず)によって引き
抜かれる。そして、図5に示すように、ビット線BIT
の電位はハイレベルからローレベルへと変化する。一
方、選択されたメモリセルMCmが保持するデータがハ
イの場合は、ビット線BITの電位は変化しない。
プリチャージクロックPREが、ローレベルからハイレ
ベルへと変化すると、図示しない選択回路により、メモ
リセルの中からデータを読み出そうとするメモリセルM
Cm(1≦m≦n;mは整数)が選択される。選択され
たメモリセルMCmが保持するデータがローの場合、ビ
ット線BITにチャージされた電荷は、メモリセルMC
m内のNchトランジスタ等(図示せず)によって引き
抜かれる。そして、図5に示すように、ビット線BIT
の電位はハイレベルからローレベルへと変化する。一
方、選択されたメモリセルMCmが保持するデータがハ
イの場合は、ビット線BITの電位は変化しない。
【0007】センスアンプSAは、ビット線BITの電
位に応じて、ハイレベル或いはローレベルの出力信号を
出力端子OUTへ出力する。
位に応じて、ハイレベル或いはローレベルの出力信号を
出力端子OUTへ出力する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体メモリで
は、ビット線の放電をメモリセル内のトランジスタを用
いて行う。ところがメモリセル内のトランジスタは一般
に非常に小さい。このため、図5に示すように、ビット
線の電荷の引き抜きに時間がかかる。即ち、ビット線B
ITの電位の立ち下がりが図5に示すように、なまった
ものとなる。このような半導体メモリでは、ビット線の
電位が十分に下がりきるまでは次のサイクルに入れない
ので、動作の高速化を図ることができないという問題点
がある。
は、ビット線の放電をメモリセル内のトランジスタを用
いて行う。ところがメモリセル内のトランジスタは一般
に非常に小さい。このため、図5に示すように、ビット
線の電荷の引き抜きに時間がかかる。即ち、ビット線B
ITの電位の立ち下がりが図5に示すように、なまった
ものとなる。このような半導体メモリでは、ビット線の
電位が十分に下がりきるまでは次のサイクルに入れない
ので、動作の高速化を図ることができないという問題点
がある。
【0009】また、センスアンプSAには、図5に示す
立ち下がりのなまった信号が入力されるので、消費電力
が大きくなるという問題点もある。
立ち下がりのなまった信号が入力されるので、消費電力
が大きくなるという問題点もある。
【0010】さらに、ビット線にノイズが乗った場合、
ビット線の電位の立ち下がりがなまっていると、センス
アンプが誤動作する可能性が高いという問題点もある。
ビット線の電位の立ち下がりがなまっていると、センス
アンプが誤動作する可能性が高いという問題点もある。
【0011】なお、特開平5−54652号公報には、
消費電力を低減した半導体装置が記載されている。この
半導体装置は、図6に示すようにセンスアンプINV1
及びINV2の前段及び後段にそれぞれトランスファー
ゲートTG1及びTG2を設け、かつセンスアンプIN
V1及びINV2に並列にトランスファーゲートTG3
を設けることにより、ビット線BITをプリチャージし
ている間や、セルデータを読出してビット線の電位が確
定するまでの間、即ち、ビット線の電位波形がなまって
いる時には、トランスファーゲートTG1及びTG2を
非導通、トランスファーゲートTG3を導通とし、初段
のインバータ回路に電流を流さない様にして消費電力を
削減している。しかしながら、この半導体装置では、依
然としてビット線の電位の立ち下がりが遅いという問題
点がある。
消費電力を低減した半導体装置が記載されている。この
半導体装置は、図6に示すようにセンスアンプINV1
及びINV2の前段及び後段にそれぞれトランスファー
ゲートTG1及びTG2を設け、かつセンスアンプIN
V1及びINV2に並列にトランスファーゲートTG3
を設けることにより、ビット線BITをプリチャージし
ている間や、セルデータを読出してビット線の電位が確
定するまでの間、即ち、ビット線の電位波形がなまって
いる時には、トランスファーゲートTG1及びTG2を
非導通、トランスファーゲートTG3を導通とし、初段
のインバータ回路に電流を流さない様にして消費電力を
削減している。しかしながら、この半導体装置では、依
然としてビット線の電位の立ち下がりが遅いという問題
点がある。
【0012】また、特開平4−47599号公報には、
ビット線の電位状況に応じてセンスアンプのロジックレ
ベルを変化させ、プリチャージ時間を短縮して、メモリ
セルのアクセスタイムを高速化するプリチャージ回路が
開示されている。しかしながら、このプリチャージ回路
においても、ビット線の電位の立ち下がり時間について
は考慮されておらず、消費電力が多い、ノイズによる誤
動作がある、立ち下がり時間が長く動作速度が遅いとい
う問題は解決されていない。
ビット線の電位状況に応じてセンスアンプのロジックレ
ベルを変化させ、プリチャージ時間を短縮して、メモリ
セルのアクセスタイムを高速化するプリチャージ回路が
開示されている。しかしながら、このプリチャージ回路
においても、ビット線の電位の立ち下がり時間について
は考慮されておらず、消費電力が多い、ノイズによる誤
動作がある、立ち下がり時間が長く動作速度が遅いとい
う問題は解決されていない。
【0013】本発明は、ビット線の電位の立ち下がり時
間を短縮することができ、動作速度の向上、消費電力の
低減、及びノイズの影響の排除を図ることができる半導
体メモリを提供することを目的とする。
間を短縮することができ、動作速度の向上、消費電力の
低減、及びノイズの影響の排除を図ることができる半導
体メモリを提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、複数の
メモリセルと、該複数のメモリセルに接続された1本の
ビット線と、電源電圧、プリチャージクロック、及び前
記ビット線に接続され、前記プリチャージクロックに応
答して前記ビット線を前記電源電圧で規定される電位に
プリチャージするプリチャージ用トランジスタと、前記
ビット線に接続され該ビット線の電位に応じた出力信号
を出力するセンスアンプとを有する半導体メモリにおい
て、前記ビット線の電位の立ち下がりを検出して該ビッ
ト線の電位を急激に低下させる制御手段を設けたことを
特徴とする半導体メモリが得られる。
メモリセルと、該複数のメモリセルに接続された1本の
ビット線と、電源電圧、プリチャージクロック、及び前
記ビット線に接続され、前記プリチャージクロックに応
答して前記ビット線を前記電源電圧で規定される電位に
プリチャージするプリチャージ用トランジスタと、前記
ビット線に接続され該ビット線の電位に応じた出力信号
を出力するセンスアンプとを有する半導体メモリにおい
て、前記ビット線の電位の立ち下がりを検出して該ビッ
ト線の電位を急激に低下させる制御手段を設けたことを
特徴とする半導体メモリが得られる。
【0015】なお、前記制御手段は、前記ビット線の電
位の立ち下がりを前記プリアンプの出力に基づいて検出
する。
位の立ち下がりを前記プリアンプの出力に基づいて検出
する。
【0016】また、本発明によれば、前記制御手段が、
前記ビット線と接地との間に接続されたトランジスタを
有し、該トランジスタをオンすることにより、前記ビッ
ト線の電位を急激に低下させるようにしたことを特徴と
する半導体メモリが得られる。
前記ビット線と接地との間に接続されたトランジスタを
有し、該トランジスタをオンすることにより、前記ビッ
ト線の電位を急激に低下させるようにしたことを特徴と
する半導体メモリが得られる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1に本発明の第1の実施
形態の半導体メモリを示す。ここで、従来と同一のもの
には同一の記号を付し、その説明を省略する。
施の形態について説明する。図1に本発明の第1の実施
形態の半導体メモリを示す。ここで、従来と同一のもの
には同一の記号を付し、その説明を省略する。
【0018】この半導体メモリは、ビット線BITと接
地電圧VSSとの間に接続されたNchトランジスタN
01と、プリチャージクロックPRE及び出力端子OU
Tへ出力される出力信号とを入力とするAND回路とを
有し、AND回路の出力はNchトランジスタN01の
ゲートに接続されている。なお、AND回路は、NAN
D回路とインバータ回路とで構成されている。また、N
chトランジスタN01は、メモリセルMC1乃至MC
nにの出力部のNchトランジスタ(図示せず)に比べ
て大きく、プリチャージ用PchトランジスタP01と
同程度の電流駆動能力があることが望ましい。
地電圧VSSとの間に接続されたNchトランジスタN
01と、プリチャージクロックPRE及び出力端子OU
Tへ出力される出力信号とを入力とするAND回路とを
有し、AND回路の出力はNchトランジスタN01の
ゲートに接続されている。なお、AND回路は、NAN
D回路とインバータ回路とで構成されている。また、N
chトランジスタN01は、メモリセルMC1乃至MC
nにの出力部のNchトランジスタ(図示せず)に比べ
て大きく、プリチャージ用PchトランジスタP01と
同程度の電流駆動能力があることが望ましい。
【0019】図2に、図1の半導体メモリの各節点にお
ける電位変化(電圧波形)を示す。図2において、横軸
は経過時間、縦軸は電圧を示し、VDDは電源電圧、V
SSは接地電位を示し。また、各電圧波形は、上から、
プリチャージクロックPRE、ビット線BIT、出力端
子OUT、及びAND回路の出力点P06のものを示
す。
ける電位変化(電圧波形)を示す。図2において、横軸
は経過時間、縦軸は電圧を示し、VDDは電源電圧、V
SSは接地電位を示し。また、各電圧波形は、上から、
プリチャージクロックPRE、ビット線BIT、出力端
子OUT、及びAND回路の出力点P06のものを示
す。
【0020】図2を参照しながら、図1の半導体メモリ
の動作を説明する。まず、プリチャージクロックPRE
がハイレベルからローレベルになると、Pchトランジ
スタP01がオンする。また、プリチャージクロックP
REがローレベルの間は、AND回路の出力は必ずロー
レベルなので、その間、NchトランジスタN01はオ
フ状態である。したがって、プリチャージクロックPR
Eのハイレベルからローレベルへの変化に伴って、ビッ
ト線BITの電位はハイレベルへとつり上げられる。そ
して、ビット線BITの電位が所定値を越えると出力端
子OUTの電位は、ハイレベルからローレベルへと変化
する。
の動作を説明する。まず、プリチャージクロックPRE
がハイレベルからローレベルになると、Pchトランジ
スタP01がオンする。また、プリチャージクロックP
REがローレベルの間は、AND回路の出力は必ずロー
レベルなので、その間、NchトランジスタN01はオ
フ状態である。したがって、プリチャージクロックPR
Eのハイレベルからローレベルへの変化に伴って、ビッ
ト線BITの電位はハイレベルへとつり上げられる。そ
して、ビット線BITの電位が所定値を越えると出力端
子OUTの電位は、ハイレベルからローレベルへと変化
する。
【0021】この後、ビット線BITの電位が十分につ
り上がったところで、プリチャージ信号PREは、ロー
レベルからハイレベルへと変化し、Pchトランジスタ
P01はオフして非導通となる。なお、Nchトランジ
スタN01は、出力端子OUTの電位がローレベルなの
で、以前オフ状態である。
り上がったところで、プリチャージ信号PREは、ロー
レベルからハイレベルへと変化し、Pchトランジスタ
P01はオフして非導通となる。なお、Nchトランジ
スタN01は、出力端子OUTの電位がローレベルなの
で、以前オフ状態である。
【0022】その後、メモリセルMCm(1≦m≦n)
が選択され、その選択されたメモリセルMCmが保持す
るデータがローレベルであるならば、そのメモリセルに
含まれるトランジスタを介して、ビット線から電荷が引
き抜かれる。つまり、ビット線BITの電位は、ハイレ
ベルからローレベルへと向かう。ビット線BITの電位
が、センスアンプSAのスレッショルドレベルVthに
まで低下すると、センスアンプSAの出力信号は、ハイ
レベルへと変化する。このとき、ビット線BITの電位
はまだ下がり切っていない。
が選択され、その選択されたメモリセルMCmが保持す
るデータがローレベルであるならば、そのメモリセルに
含まれるトランジスタを介して、ビット線から電荷が引
き抜かれる。つまり、ビット線BITの電位は、ハイレ
ベルからローレベルへと向かう。ビット線BITの電位
が、センスアンプSAのスレッショルドレベルVthに
まで低下すると、センスアンプSAの出力信号は、ハイ
レベルへと変化する。このとき、ビット線BITの電位
はまだ下がり切っていない。
【0023】センスアンプSAの出力信号が(出力端子
OUTの電位が)ハイレベルに変化すると、AND回路
に入力される2つの信号が共にハイレベルになったこと
になる。したがって、AND回路の出力点P06の電位
はハイレベルとなり、NchトランジスタN01がオン
状態になる。そして、このNchトランジスタN01が
ビット線BITの電荷を一気に引き抜いて、ビット線B
ITの電位をローレベルに確定させる。セルのデータ読
出しが終了したならば(次のプリチャージが開始される
と)、NchトランジスタN01はオフする。
OUTの電位が)ハイレベルに変化すると、AND回路
に入力される2つの信号が共にハイレベルになったこと
になる。したがって、AND回路の出力点P06の電位
はハイレベルとなり、NchトランジスタN01がオン
状態になる。そして、このNchトランジスタN01が
ビット線BITの電荷を一気に引き抜いて、ビット線B
ITの電位をローレベルに確定させる。セルのデータ読
出しが終了したならば(次のプリチャージが開始される
と)、NchトランジスタN01はオフする。
【0024】一方、選択したメモリセルMCmが保持す
るデータがハイレベルであった場合には、ビット線BI
Tは、プリチャージされた状態、即ち、ハイレベルを維
持したままとなる。このとき、出力端子OUTの電位
は、ローレベルのままなので、NchトランジスタN0
1はオフしたままであり、ビット線BITのNchトラ
ンジスタN01による電荷の引き抜きは起こらない。
るデータがハイレベルであった場合には、ビット線BI
Tは、プリチャージされた状態、即ち、ハイレベルを維
持したままとなる。このとき、出力端子OUTの電位
は、ローレベルのままなので、NchトランジスタN0
1はオフしたままであり、ビット線BITのNchトラ
ンジスタN01による電荷の引き抜きは起こらない。
【0025】このように、図1の半導体メモリでは、ビ
ット線BITの電位が中間電位にある時間を大幅に短縮
することができ、インバータセンスアンプSAを流れる
貫通電流を大幅に削減することができる。また、センス
アンプの出力が確定するまでの時間(アクセスタイム)
は変わらないが、ビット線BITの電位がローレベルに
確定するのが早いので、次のプリチャージまでの時間
(サイクルタイム)を早くすることができる。さらに、
ビット線BITの電位が中間電位にある時間が大幅に短
縮されるため、ノイズの影響を受け難い。
ット線BITの電位が中間電位にある時間を大幅に短縮
することができ、インバータセンスアンプSAを流れる
貫通電流を大幅に削減することができる。また、センス
アンプの出力が確定するまでの時間(アクセスタイム)
は変わらないが、ビット線BITの電位がローレベルに
確定するのが早いので、次のプリチャージまでの時間
(サイクルタイム)を早くすることができる。さらに、
ビット線BITの電位が中間電位にある時間が大幅に短
縮されるため、ノイズの影響を受け難い。
【0026】次に図3を参照して、本発明の第2の実施
形態の半導体メモリについて説明する。ここで、第1の
実施形態と同一のもの、或いは相当するものには同一記
号を付してある。
形態の半導体メモリについて説明する。ここで、第1の
実施形態と同一のもの、或いは相当するものには同一記
号を付してある。
【0027】この半導体メモリ装置は、ビット線BIT
と接地との間に接続された第1のNchトランジスタN
01と、この第1のNchトランジスタN01のゲート
とプレチャージクロックPREとの間に接続されると共
に、そのゲートが出力端子OUTに接続された第2のN
chトランジスタN02と、第1のNchトランジスタ
N01のゲートと接地との間に接続された第3のNch
トランジスタN03と、入力が出力端子OUTに接続さ
れ、出力が第3のNchトランジスタN03のゲートに
接続されたインバータINT1とを有している。
と接地との間に接続された第1のNchトランジスタN
01と、この第1のNchトランジスタN01のゲート
とプレチャージクロックPREとの間に接続されると共
に、そのゲートが出力端子OUTに接続された第2のN
chトランジスタN02と、第1のNchトランジスタ
N01のゲートと接地との間に接続された第3のNch
トランジスタN03と、入力が出力端子OUTに接続さ
れ、出力が第3のNchトランジスタN03のゲートに
接続されたインバータINT1とを有している。
【0028】図3の半導体メモリの各節点の電位変化も
図2に示すようになる。詳述すると、プリチャージクロ
ックがハイレベルからローレベルに変化したとき、Pc
hトランジスタP01はオンする。このとき、節点P0
6は、第2のNchトランジスタN02の状態によらず
ローレベルとなるため、第1のNchトランジスタN0
2はオフ状態である。したがって、ビット線BITは、
電源電圧VDDによりプレチャージされ始める。
図2に示すようになる。詳述すると、プリチャージクロ
ックがハイレベルからローレベルに変化したとき、Pc
hトランジスタP01はオンする。このとき、節点P0
6は、第2のNchトランジスタN02の状態によらず
ローレベルとなるため、第1のNchトランジスタN0
2はオフ状態である。したがって、ビット線BITは、
電源電圧VDDによりプレチャージされ始める。
【0029】ビット線BITの電位上昇により、出力端
子OUTの電位はハイレベルからローレベルへと変化す
る。これにより、第2のNchトランジスタN02はオ
フ状態、第3のNchトランジスタN03はオン状態と
なるが、依然、PchトランジスタP01はオン状態で
あり、第2のNchトランジスタN02はオフ状態であ
る。プレチャージクロックがローレベルからハイレベル
へと変化して、プレチャージが終了したときも、第2の
NchトランジスタN02と第3のNchトランジスタ
N03とは同じ状態を保つ。
子OUTの電位はハイレベルからローレベルへと変化す
る。これにより、第2のNchトランジスタN02はオ
フ状態、第3のNchトランジスタN03はオン状態と
なるが、依然、PchトランジスタP01はオン状態で
あり、第2のNchトランジスタN02はオフ状態であ
る。プレチャージクロックがローレベルからハイレベル
へと変化して、プレチャージが終了したときも、第2の
NchトランジスタN02と第3のNchトランジスタ
N03とは同じ状態を保つ。
【0030】このあと、メモリセルMCmが選択され、
保持データがローであれば、ビット線BITの電位が下
がり、センスアンプSAの出力信号がローレベルからハ
イレベルへと変化して、第2のNchトランジスタN0
2がオンする。同時に第3のNchトランジスタN03
はオフする。このとき、プレチャージクロックはハイレ
ベルなので、第1のNchトランジスタN01はオン
し、ビット線の電位を立ち下げる。
保持データがローであれば、ビット線BITの電位が下
がり、センスアンプSAの出力信号がローレベルからハ
イレベルへと変化して、第2のNchトランジスタN0
2がオンする。同時に第3のNchトランジスタN03
はオフする。このとき、プレチャージクロックはハイレ
ベルなので、第1のNchトランジスタN01はオン
し、ビット線の電位を立ち下げる。
【0031】また、メモリセルMCmの保持データがハ
イであれば、センスアンプの出力信号は、ローレベルの
ままであり、第2のNchトランジスタN02もオフの
ままとなる。このとき、第3のNchトランジスタN0
3はオン状態で、節点PO6を接地電位VSSに保ち、
第1のNchトランジスタN01をオフ状態にすると共
に、節点PO6がハイインピーダンス状態となるのを防
いでいる。
イであれば、センスアンプの出力信号は、ローレベルの
ままであり、第2のNchトランジスタN02もオフの
ままとなる。このとき、第3のNchトランジスタN0
3はオン状態で、節点PO6を接地電位VSSに保ち、
第1のNchトランジスタN01をオフ状態にすると共
に、節点PO6がハイインピーダンス状態となるのを防
いでいる。
【0032】このように、本実施形態の半導体メモリで
も、ビット線BITの電位が中間電位にある時間を大幅
に短縮することができ、インバータセンスアンプSAを
流れる貫通電流を大幅に削減することができる。また、
ビット線BITの電位がローレベルに確定するのが早い
ので、次のプリチャージまでの時間を早くすることがで
きる。さらに、ビット線BITの電位が中間電位にある
時間が大幅に短縮されるためノイズの影響を受け難い。
も、ビット線BITの電位が中間電位にある時間を大幅
に短縮することができ、インバータセンスアンプSAを
流れる貫通電流を大幅に削減することができる。また、
ビット線BITの電位がローレベルに確定するのが早い
ので、次のプリチャージまでの時間を早くすることがで
きる。さらに、ビット線BITの電位が中間電位にある
時間が大幅に短縮されるためノイズの影響を受け難い。
【0033】
【発明の効果】本発明によれば、半導体メモリのビット
線の電位の立ち下がりを検出して該ビット線の電位を急
激に低下させる制御手段を設けたことで、インバータセ
ンスアンプでの消費電力を低減することができるととも
に、サイクルタイムを短縮することができる。また、ノ
イズの影響を受け難いという効果も得られる。
線の電位の立ち下がりを検出して該ビット線の電位を急
激に低下させる制御手段を設けたことで、インバータセ
ンスアンプでの消費電力を低減することができるととも
に、サイクルタイムを短縮することができる。また、ノ
イズの影響を受け難いという効果も得られる。
【図1】本発明の第1の実施形態を表わす回路図であ
る。
る。
【図2】図1の回路の各節点における電位の時間変化を
示す電圧波形図である。
示す電圧波形図である。
【図3】本発明の第2の実施形態を表わす回路図であ
る。
る。
【図4】従来の半導体メモリを表わす回路図である。
【図5】図4の回路の各節点における電位の時間変化を
示す電圧波形図である。
示す電圧波形図である。
【図6】従来の他の半導体メモリを表わす回路図であ
る。
る。
BIT ビット線 VSS 接地電圧 N01 Nchトランジスタ PRE プリチャージクロック OUT 出力端子 AND AND回路 MC1乃至MCn メモリセル N02 第2のNchトランジスタ N03 第3のNchトランジスタ INT1 インバータ VDD 電源電圧 P01 プリチャージ用Pchトランジスタ SA インバータ型センスアンプ
Claims (5)
- 【請求項1】 複数のメモリセルと、該複数のメモリセ
ルに接続された1本のビット線と、電源電圧、プリチャ
ージクロック、及び前記ビット線に接続され、前記プリ
チャージクロックに応答して前記ビット線を前記電源電
圧で規定される電位にプリチャージするプリチャージ用
トランジスタと、前記ビット線に接続され該ビット線の
電位に応じた出力信号を出力するセンスアンプとを有す
る半導体メモリにおいて、前記ビット線の電位の立ち下
がりを検出して該ビット線の電位を急激に低下させる制
御手段を設けたことを特徴とする半導体メモリ。 - 【請求項2】 前記制御手段が、前記ビット線の電位の
立ち下がりを前記プリアンプの出力に基づいて検出する
ことを特徴とする請求項1の半導体メモリ。 - 【請求項3】 前記制御手段が、前記ビット線と接地と
の間に接続されたトランジスタを有し、該トランジスタ
をオンすることにより、前記ビット線の電位を急激に低
下させるようにしたことを特徴とする請求項1または2
の半導体メモリ。 - 【請求項4】 前記制御手段が、前記プリチャージクロ
ック及び前記出力信号を入力とするアンド回路を有し、
該アンド回路の出力によって、前記トランジスタのオン
/オフを制御する様にしたことを特徴とする請求項3の
半導体メモリ。 - 【請求項5】 前記アンド回路に代えて、2つのトラン
ジスタとインバータとを用いたことを特徴とする請求項
4の半導体メモリ。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7205830A JPH0955088A (ja) | 1995-08-11 | 1995-08-11 | 半導体メモリ |
US08/691,394 US5835432A (en) | 1995-08-11 | 1996-08-02 | Semiconductor memory having a single end type sense amplifier |
KR1019960033321A KR100231121B1 (ko) | 1995-08-11 | 1996-08-10 | 단일 종단형 감지 증폭기를 갖는 반도체 메모리 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7205830A JPH0955088A (ja) | 1995-08-11 | 1995-08-11 | 半導体メモリ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0955088A true JPH0955088A (ja) | 1997-02-25 |
Family
ID=16513422
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7205830A Pending JPH0955088A (ja) | 1995-08-11 | 1995-08-11 | 半導体メモリ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5835432A (ja) |
JP (1) | JPH0955088A (ja) |
KR (1) | KR100231121B1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013218783A (ja) * | 2006-07-26 | 2013-10-24 | Agere Systems Inc | メモリ回路のための高速化されたシングルエンド・センシング |
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JP3840845B2 (ja) * | 1999-08-02 | 2006-11-01 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体集積装置 |
US6282137B1 (en) * | 1999-09-14 | 2001-08-28 | Agere Systems Guardian Corp. | SRAM method and apparatus |
US6584026B2 (en) * | 2000-06-28 | 2003-06-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit capable of adjusting input offset voltage |
US6654301B2 (en) | 2001-09-27 | 2003-11-25 | Sun Microsystems, Inc. | Multiple discharge capable bit line |
TWI281159B (en) * | 2003-03-21 | 2007-05-11 | Mediatek Inc | Sense out circuit for single-bitline semiconductor memory device |
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US8837192B2 (en) | 2012-10-19 | 2014-09-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited | N-bit rom cell |
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JPS62232796A (ja) * | 1986-04-01 | 1987-10-13 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
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JPH0554652A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-03-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
-
1995
- 1995-08-11 JP JP7205830A patent/JPH0955088A/ja active Pending
-
1996
- 1996-08-02 US US08/691,394 patent/US5835432A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-10 KR KR1019960033321A patent/KR100231121B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100231121B1 (ko) | 1999-11-15 |
KR970012753A (ko) | 1997-03-29 |
US5835432A (en) | 1998-11-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980422 |