JPH09501358A - 加工物表面内へのパターンの彫刻生成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 加工物の表面内へのパターンの彫刻のため、それの表面に向けられていて、パターンにおける個所ポイントに依存して制御されるレーザビームに依存しての当該のパターン彫刻に当たり、先ず第一に、原画パターンの表面領域を光学的又は機械的に走査する。そして、そのように得られた表面情報を電気的制御信号に変換する。上記制御信号によってはレーザビームはパターン原画の表面領域に相応する表面領域にて制御される。パターン原画の交換により、迅速且つ簡単に種々のパターンを彫刻できる。パターン原画の走査は高い光学的又は機械的分解能で行われ得るので、彫刻を、相応に精巧に、そして高い分解能で実施し得る。パターン原画のパターンが任意に不規則であり得、その結果相応に複雑で、かつ不規則のパターンが彫刻され得る。

Description

【発明の詳細な説明】 加工物表面内へのパターンの彫刻生成方法 本発明は請求の範囲１の上位概念にて規定された形式の加工物の表面内へのパ ｋターンの彫刻方法に関する。 ＵＳ ４ １５６ １２４によってはレーザを 用いての無接触彫刻方法が公知である。レーザビームはマスク装置を介して加工 物の表面へ向けられる。マスクは透過性又は反射性であり得る。レーザビームは 光学系を用いて伝送され、マスクの像（イメージ）が、加工物の表面へ投射され る。マスク及び加工物は固定的間隔位置（ポジション）にて相互にパラレル（並 行）な位置関係に保持される。レーザビーム源はマスク及び加工物表面に対して 相対的に動かされ、その結果レーザビームはマスク上を、従って加工物の表面上 を移動する。マスクによってはレーザビームの強度は個所ポイントに依存して変 化され、従って、表面へのレーザビームの作用が変化される。ここで、当該の表 面へはマスクにより設定されたパターンが彫刻される。そのような方法及び配置 構成によっては唯、簡単、且つ粗いパターンしか彫刻され得ない。さらにマスク の作製は複雑であり、コストを要する。マスクは有限であり、その結果有限のパ ターンしか彫刻され得ない。 ＵＳ４７３４５５８によっては或１つの表面内への 文字パターンの各種の彫刻の装置が公知である。レーザから到来するビームはパ ラレル（並行）ビームに拡大され、該パラレルビームは絞りとして作用する位置 依存的に可制御のマスクを通過する。上記マスクは彫刻さるべき記録パターンに 相応する。マスクの像（イメージ）は彫刻さるべき表面上に投射される。マスク は液晶の形の光弁であり、該光弁の透過性は当該の像により制御される。ここで 、ＣＴＲのスクリーンにより液晶上へ投影されるものである。ＣＲＴ上の画像（ これは彫刻さるべきパターン記号に相応する）はマイクロコンピュータ（μｃ） により供給される。該μｃ中では彫刻さるべき複数の記憶内容（パターン）が記 憶され、該パターンは手動により作動さるべきスイッチにより選択可能である。 要するに当該の装置では金属マスクはマスク発生器により制御される光学的マ スクにより置換される。彫刻さるべきパターン記号は簡単な性質のものであって 、あらかじめ、マスク発生器内に、特別なプログラムにより記憶入力されなけれ ばならない。 ＤＥ４ ２１３ １０６Ａ１からは請求の範囲１の上位概念にて特定された、 実質的に先に述べた形式（ここでは。マスクが同様に可変である）に類似の方法 が公知である。当該の可変調整操作は異なるデジタル制御により行われる。彫刻 は層（レイヤ）毎に順次行われる。マスクの数値制御によっては単純なマスクの 像（イメージ）、もって、彫刻パターンしか可能でない。数値制御は例えば複数 の回転する孔付板により行われ、上記孔付板の孔（画）像は所定のコンフィギュ レーション（構成配列体）と照合（一致）せしめられる。要するにパターは常に 規則的である。比較的小さな画素は、比較的大きな画線領域に合成され、上記の 比較的大きな画像領域（フィールド）では当該画素はそれの規則性に基づき継ぎ 目なしで相互に作用し合う。不規則性のパターンの場合、可視の衝合わせライン の発生なしに比較的大きな画線領域になるような画素の合成は不可能である。 本発明の目的ないし課題とするところは、簡単に実施され得、亦複雑な殊に、 不規則なパターンにも適する請求の範囲１の上位概念に特定した形式の方法を提 供することにある。 本発明の技術思想の基本コンセプトとするところは、パターンを固定的な、又 は数値制御されるマスクを人工的に設定するのではなく、パターン原画の表面か ら導出し、ここにおいて、当該パターン原画を光学的又は機械的に走査するので ある。そのようにして得られた表面情報は電気制御信号に変換され、該制御信号 により、レーザビームはパターン原画の表面領域に相応する表面領域に制御され る。パターン原画の交換により、迅速且つ簡単に種々異なるパターンを彫刻し得 る。電気信号の形の表面情報は亦一時記憶され得、そして、 任意の時に彫刻過程に対するレーザの制御のため呼出され得る。記憶中公知形式 で、情報の加工又は処理が行われ得る。例えば、画像部分を、除去、減衰、変化 、シフトし得、または、他の画像部分を付加し得る。 パターン原画の走査は高い光学的又は機械的分解能で行われ得るので、例えば 、フォーカス位置測定システム、走査トンネル顕微鏡等を用いて行われ得るので 、彫刻も、相応に精巧に、そして高い分解能で実施され得る。光学的走査はビデ オカメラでも行われ得る。亦、加工物表面を先ず写真カメラで写真撮影し、その ようにして得られた表面画像を光電的に走査し、そして、電気的信号を生成する ことも可能である。本発明の方法の特別な利点とするところはパターン原画のパ ターンが任意に不規則であり得、その結果相応に複雑で、かつ不規則のパターン が彫刻され得る。 本発明の方法の発展形態によれば、パターン原画により得られた表面情報を記 憶し、当該の記憶された表面情報を少なくとも２度呼出し、そして、１つの衝合 せ線に隣接する加工物表面領域上の少なくとも２つの表面領域を彫刻するのであ る。従って、パターン原画により走査された表面領域が加工物上で倍加又は任意 に複製され得る。そのつど被走査表面領域に相応する複数パターンが１つの方向 においてのみならず、２つの方向においても相互につなぎ合わされ得、その結果 彫刻された面全体が増大される。加工物の表面領域内 にて走査されたパターンが簡単な場合及び／又は表面領域の境界、限界が有利に 選ばれた場合、２つの相互に隣接し合う表面領域間の衝き合わせラインが、加工 物上に現れない。パターンが２つの相互に隣接する表面領域間で１つの衝き合わ せラインにて移行（部）なしで、そして、非可視的につなぎ合わされない場合、 記憶された表面情報を第２の呼出の際逆方向に呼出し、そして、場合により、更 なる呼出の際、交互に順方向及び逆方向に読み出し、ここで、彫刻の際パターン の鏡映的生成を衝合せないし衝合せラインにて行うようにすると有利である。 或１つのパターン原画の表面情報に相応する情報領域が少なくとも２度呼び出 されるすべての場合において、表面情報を準備生成し、上記所定情報領域は加工 物上の表面領域間の衝合せラインに隣接するものであり、ここにおいて、衝合せ ラインの領域にて肉眼にとってできるだけ不可視の連続的な移行部が生ぜしめら れるようにすると有利である。上記準備処理は基本的に任意の手法で行われ得、 例えば操作者により目視コントロール下で制御され得、このことは熟練的操作過 程であり得る。当該の準備処理の特に有利な実施形態によれば、加工物上のパタ ーン原画の被走査表面領域に相応する表面領域は衝合せラインにて記憶された表 面情報の、例えば時間的に重なり合う相応の呼出により重なり合わされ、そして 、制御信号は当該の重なり 合い領域にて相互に、ないし、交互に連続的に低下、ないし上昇せしめられ、こ こにおいて、実質的に連続的な非可視のパターンの移行部が衝合せラインに亘っ て形成されるのである。つまり、換言すれば衝き合わせラインの領域にてパター ンのオーバーラップが行われ得る。 先に述べた実施形態と類似して、加工物上で隣接する彫刻された表面領域間の 非可視の移行の達成のため本発明の他の実施形態によれば、レーザビームに対す る制御信号は当該の衝合せラインに向かって両側で衝合せラインに隣接する移行 領域にて連続的に減衰ないし再び上昇せしめられ、そして、当該の制御信号には 移行領域にて移行制御信号が付加され、該移行制御信号はパターン原画の表面情 報から導出され、そして、移行領域にて当該の制御信号と逆に、連続的に上昇増 大せしめられ、そして、再び低下せしめられ、個々において、実質的に連続的な 非可視のパターンの移行が衝合せラインに亘って形成されるようにしたのである 。 パターン原画としては有利に自然のパターン、例えば自然の革パターン原画の 粒粒（粒起状態）部、ないし、つぶく（痕）状態（部）が使用され得る。加工物 は熱可塑性のシートの帯状体の連続的刻成のため刻印ロールであり得る。ここに おいて、特に有利には１つの衝き合わせラインにおけるパターンの衝合せ部のな い移行を生じさせ得る方法プロセス形態が使用され得 る。刻成ロールの周囲に亘って連続的な刻成パターンが形成され得る。刻成を自 然のパターン原画、例えば自然の革のパターン原画の粒粒（粒起状態）部（痕） に依存して得行おうとする場合には刻成表面は自然のパターン原画のネガティブ （陰画）で行わなければならない。このことを達成するためには本発明の発展形 態によればレーザビームに対する制御信号を反転する。 自然のパターン原画に相応して、できるだけ忠実な刻成のためには刻成ロール の表面をシリコンゴムから形成する異が一般的に公知である。そのような刻成ロ ールの作製のため本発明の実施形態によれば、工具として、ロールを使用し、さ らに、パターンの刻成後、シリコンゴムの層をロール上に塗布ないし注湯し、該 層は硫化され、ロールから引き出され、そして、そのように形成された刻成表面 をもって外方に向かって刻成ロールの周囲へ接着されるようにしたのである。 次に図を用いて本発明の方法を説明する。 図１はパターン原画の略示図である。 図２は図１のパターン原画の走査の説明図である。 図３は多重に呼び出された表面情報を以ての表面の彫刻の様子を示す図である 。 図４は刻成ロールの表面の彫刻の様子を示す略示図である。 図５は刻成されたロールの様子を示す略示図である。 図１は自然の革から成るパターン原画１が示してあ り、それの表面は略示する自然の粒粒（粒起状態）部２を有する。焦点（フォー カス）位置測定システム３はレーザを有し、それのビームは光学系５を介してパ ターン原画１の表面上の１点６にフォーカシングされる。 パターン原画１は矢印７の方向に動かされ、焦点（フォーカス）位置測定シス テム３は矢印８の方向に動かされ、ここで、点６はライン状にパターン原画１の 表面上を移動し、粒粒（粒起状態）部、ないし、ぶつぶつ（痕）２を走査する。 焦点（フォーカス）位置測定システム３は連続的な電気的な制御信号を送出し、 該制御信号は直接的にレーザビームの強さの制御のため使用され得る。レーザビ ームの制御波任意の公知手法で行われ得、例えば冒頭に述べた従来技術の手法に より行われる。 図３は加工物９の表面上の彫刻線を示す。 レーザ２に由来する表面情報は複数回加工物９の表面間に刻成される。ここで、 レーザ２により形成されたパターンは破線で示す衝合せライン１４，１５にて鏡 映的になっている。 図３には示し得ないことであって従ってここで説明することは兆候の際にしよ うされた制御信号（それらは幾つかにも呼び出されている）が準備生成されてお り、ここで、衝合せライン１４，１５の領域にて肉眼にとってできるだけ非可視 の連続的な移行が生ぜしめ られるようにするのである。この目的のために制御信号は重ね合わされ、ここで は相互に連続的に低下ないし上昇せしめられる。それにより、ぶつぶつは例えば 衝合せライン１４の一方の側から同じ彫刻深度で連続的に衝合せライン１４の他 方の側の粒粒（粒起状態）部へ連続的に移行する。 図４に示すろーる１６の表面にはレーザ１７によりパターンが図３に示すよう に彫刻される。彫刻の際絶えず矢印１８の方向に回転され、一方、レーザ１７は そのフォーカス１９を以て緩慢に軸方向及び矢印１０の方向に進む。 当該のエンドレスの彫刻の場合図３に示す像２１，２２間の更なる衝合せライ ンが生じる。当該の衝合せラインでは制御信号は勿論、衝合せライン１４におけ ると同じ要領で相互に連続的に低下ないし上昇せしめられ得、その結果肉眼にと ってできるだけ非可視の連続的な粒粒（粒起状態）部ないしぶつぶつパターンの 移行が衝合せラインに亘って生ぜしめられる。 図５は彫刻の終了したロールを略示する。

【手続補正書】特許法第１８４条の８ 【提出日】１９９５年４月２５日 【補正内容】 請求の範囲 １．加工物の表面内へのパターンの彫刻方法であって、それの表面に向けられて いて、パターンにおける個所ポイントに依存して制御されるレーザビームに依存 して当該のパターン彫刻生成を行う方法であって、原画パターンの表面領域を光 学的又は機械的に走査し、そして、そのように得られた表面情報を電気的制御信 号に変換し、上記制御信号によってはレーザビームはパターン原画画の表面領域 に相応する表面領域にて制御されるようにした当該の加工物の表面内へのパター ンの彫刻方法において、 パターン原画により得られた表面情報を記憶し、当該の記憶された表面情報を 少なくとも２度呼出し、そして、１つの衝合せ線に隣接する、表面領域上の少な くとも２つの表面領域を彫刻することを特徴とする加工物の表面内へのパターン の彫刻方法。 ２．記憶された表面情報を第２の呼出の際逆方向に呼出し、そして、場合により 、更なる呼出の際、交互に順方向及び逆方向に読み出し、ここで、彫刻の際パタ ーンの鏡映的生成を衝合せないし衝合せラインにて行う請求の範囲１記載の方法 。 ３．所定情報領域における少なくとも２度呼出された表面情報を準備生成し、上 記所定情報領域は加工物上の表面領域間の衝合せラインに隣接するものであ り、ここにおいて、衝合せラインの領域にて肉眼にとってできるだけ不可視の連 続的な移行部が生ぜしめられる請求の範囲１又は２記載の方法。 ４．加工物上のパターン原画の被走査表面領域に相応する表面領域は衝合せライ ンにて記憶された表面情報の、例えば時間的に重なる相応の呼出により重なり合 され、そして、制御信号は当該の重なり領域にて相互に連続的に低下、ないし上 昇せしめられ、ここにおいて、実質的に連続的な非可視のパターンの移行部が衝 合せラインに亘って形成される請求の範囲３記載の方法。 ５．レーザビームに対する制御信号は当該の衝合せラインに向かって両側で衝合 せラインに隣接する移行領域にて連続的に減衰ないし再び上昇せしめられ、そし て、当該の制御信号には移行領域にて移行制御信号が付加され、該移行制御信号 はパターン原画の表面情報から導出され、そして、移行領域にて当該の制御信号 と逆に、連続的に上昇増大せしめられ、そして、再び低下せしめられ、個々にお いて、実質的に連続的な非可視のパターンの移行が衝合せラインに亘って形成さ れるようにした請求の範囲３記載の方法。 ６．パターン原画として自然のパターン、例えば自然の革パターン原画の粒粒（ 粒起状態）部が使用される請求の範囲１記載の方法。 ７．工具は例えば熱可塑性シートの帯状体の連続的刻印のため刻印ロールである ようにした請求の範囲の範囲１記載の方法。 明細書 加工物表面内へのパターンの彫刻生成方法 本発明は請求の範囲１の上位概念にて規定された形式の加工物の表面内へのパ ｋターンの彫刻方法に関する。ＵＳ ４ １５６ １２４によってはレーザを用 いての無接触彫刻方法が公知である。レーザビームはマスク装置を介して加工物 の表面へ向けられる。マスクは透過性又は反射性であり得る。レーザビームは光 学系を用いて伝送され、マスクの像（イメージ）が、加工物の表面へ投射される 。マスク及び加工物は固定的間隔位置（ポジション）にて相互にパラレル（並行 ）な位置関係に保持される。レーザビーム源はマスク及び加工物表面に対して相 対的に動かされ、その結果レーザビームはマスク上を、従って加工物の表面上を 移動する。マスクによってはレーザビームの強度は個所ポイントに依存して変化 され、従って、表面へのレーザビームの作用が変化される。ここで、当該の表面 へはマスクにより設定されたパターンが彫刻される。そのような方法及び配置構 成によっては唯、簡単、且つ粗いパターンしか彫刻され得ない。さらにマスクの 作製は複雑であり、コストを要する。マスクは有限であり、その結果有限のパタ ーンしか彫刻され得ない。 ＵＳ４７３４５５８によっては或１つの表面内への 文字パターンの各種の彫刻の装置が公知である。レーザから到来するビームはパ ラレル（並行）ビームに拡大され、該パラレルビームは絞りとして作用する位置 依存的に可制御のマスクを通過する。上記マスクは彫刻さるべき記録パターンに 相応する。マスクの像（イメージ）は彫刻さるべき表面上に投射される。マスク は液晶の形の光弁であり、該光弁の透過性は当該の像により制御される。ここで 、当該の像は、ＣＴＲのスクリーンから液晶上へ投射、投影されるものである。 ＣＲＴ上の画像（これは彫刻さるべきパターン記号に相応する）はマイクロコン ピュータ（μｃ）により供給される。該μｃ中では彫刻さるべき複数の記憶内容 （パターン）が記憶され、該パターンは手動により作動さるべきスイッチにより 選択可能である。 要するに当該の公知の装置では金属マスクはマスク発生器により制御される光 学的マスクにより置換される。彫刻さるべきパターン記号は簡単な性質のもので あって、あらかじめ、マスク発生器内に、特別なプログラムにより記憶入力され なければならない。 ＤＥ ４ ２１３ １０６Ａ１からは請求の範囲１の上位概念にて特定された 、実質的に先に述べた形式（ここでは。マスクが同様に可変である）に類似の方 法が公知である。当該の可変調整操作は異なるデジタル制御により行われる。彫 刻は層（レイヤ）毎に順次行われる。マスクの数値制御によっては単純なマスク の像（イメージ）、もって、彫刻パターンしか可能でない。数値制御は例えば複 数の回転する孔付板により行われ、上記孔付板の孔画像は所定のコンフィギュレ ーション（構成配列体）と照合（一致）せしめられる。要するにパターンは常に 規則的である。比較的小さな画素は、比較的大きな画線領域に合成され、上記の 比較的大きな画像領域（フィールド）では当該画素はそれの規則性に基づき継ぎ 目なしで相互に作用し合う。不規則性のパターンの場合、可視の衝合わせライン の発生なしに比較的大きな画線領域になるような画素の合成は不可能である。 ＵＳ 4 629 858からは、請求の範囲１の上位概念にて特定された形式の方 法が公知であり、該方法ではパターンが、枚葉紙上でライン状に走査され、そし て、走査された信号により、レーザの強度が制御され、該レーザは、同じように 、ライン状に絨毬の形態で加工物上を導かれ、その結果それの表面にて深度パタ ーンが、紙原画上に色パターンに相応して焼き付けられる。ここで、パターン原 画は、加工物の大きさに相応する大きさを有する。原画パターンの面積より大の 面積を有する加工物の彫刻生成、加工は、不可能である。 ＵＳ 3 739 083から公知の方法は、前述の方法と同じ手法で動作、使用さ れ、そして、印刷版の作製に用いられる。ここでもまた、もちろん、パターン原 画 の面積は、作製さるべき印刷版の面積に相応する。 本発明の目的ないし課題とするところは、簡単に実施され得、亦複雑な殊に、 不規則なパターンにも適し、そして、原画パターンの面積より大の面積を有する 加工物上の面積の原画パターンを彫刻し得る請求の範囲１の上位概念に特定した 形式の方法を提供することにある 本発明の技術思想の基本コンセプトとするところは、パターン原画により得ら れた表面情報を記憶し、当該の記憶された表面情報を少なくとも２度呼出し、そ して、１つの衝合せ線に隣接する、表面領域上の少なくとも２つの表面領域を彫 刻するのである。従って、パターン原画により走査された表面領域が加工物上で 倍加又は任意に複製され得る。そのつど被走査表面領域に相応する複数パターン が１つの方向においてのみならず、２つの方向においても相互につなぎ合わされ 得、その結果彫刻された面全体が増大される。加工物の表面領域内にて走査され たパターンが簡単な場合及び／又は表面領域の境界、限界が有利に選ばれた場合 、２つの相互に隣接し合う表面領域間の衝き合わせラインが、加工物上に現れな い。パターンが２つの相互に隣接する表面領域間で１つの衝き合わせラインにて 移行（部）なしで、そして、非可視的につなぎ合わされない場合、記憶された表 面情報を第２の呼出の際逆方向に呼出し、そして、場合により、更なる呼出の際 、交互に順方向及び逆方向に読み出し、ここで、彫刻の際パターンの鏡映的生成 を衝合せないし衝合せラインにて行うようにすると有利である。 或１つのパターン原画の表面情報に相応する情報領域が少なくとも２度呼び出 されるすべての場合において、表面情報を準備生成し、上記所定情報領域は加工 物上の表面領域間の衝合せラインに隣接するものであり、ここにおいて、衝合せ ラインの領域にて肉眼にとってできるだけ不可視の連続的な移行部が生ぜしめら れるようにすると有利である。上記準備処理は基本的に任意の手法で行われ得、 例えば操作者により目視コントロール下で制御され得、このことは熟練的操作過 程であり得る。当該の準備処理の特に有利な実施形態によれば、加工物上のパタ ーン原画の被走査表面領域に相応する表面領域は衝合せラインにて記憶された表 面情報の、例えば時間的に重なる相応の呼出により重なり合わされ、そして、制 御信号は当該の重なり領域にて相互に連続的に低下、ないし上昇せしめられ、こ こにおいて、実質的に連続的な非可視のパターンの移行部が衝合せラインに亘っ て形成されるのである。つまり、換言すれば衝き合わせラインの領域にてパター ンのオーバーラップが行われ得る。 先に述べた実施形態と類似して、加工物上で隣接する彫刻された表面領域間の 非可視の移行の達成のため本発明の実施形態によれば、加工物上のパターン原画 の被走査表面領域に相応する表面領域は衝合せラインにて記憶された表面情報の 、例えば時間的に重なる相応の呼出により重なり合され、そして、制御信号は当 該の重なり領域にて相互に連続的に低下、ないし上昇せしめられ、ここにおいて 、実質的に連続的な非可視のパターンの移行部が衝き合わせラインに亘って形成 されるようにしたのである。 パターン原画としては有利に自然のパターン、例えば自然の革パターン原画の 粒粒（粒起状態）部、ないし、つぶく（痕）状態部が使用され得る。加工物は熱 可塑性のシートの帯状体の連続的刻成のため刻印ロールであり得る。ここにおい て、特に有利には１つの衝き合わせラインにおけるパターンの衝合せ部のない移 行を生じさせ得る方法プロセス形態が使用され得る。刻成ロールの周囲に亘って 連続的な刻成パターンが形成され得る。刻成を自然のパターン原画、例えば自然 の革のパターン原画の粒粒（粒起状態）部（痕）に依存して行おうとする場合に は刻成表面は自然のパターン原画のネガティブ（陰画）で行わなければならない 。このことを達成するためには本発明の発展形態によればレーザビームに対する 制御信号を反転する。 次に図を用いて本発明の方法を説明する。 図１はパターン原画の略示図である。 図２は図１のパターン原画の走査の説明図である。 図３は多重に呼び出された表面情報を以ての表面の 彫刻の様子を示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ランゲ，ギュンター ドイツ連邦共和国 Ｄ―30419 ハノーバ ー ヨプストヴェーク １アー (72)発明者 モムゼン，イエンス ドイツ連邦共和国 Ｄ―29352 アーデル ハイツドルフ アウエシュトラーセ 39 (72)発明者 オーヴァーマイヤー，ルートガー ドイツ連邦共和国 Ｄ―30926 レター ヴィーゼンヴェーク 11 (72)発明者 オーベルト，マルクス ドイツ連邦共和国 Ｄ―30457 ハノーバ ー ヴィルヘルムシュトラーセ ４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．加工物の表面内へのパターンの彫刻方法であって、それの表面に向けられて いて、パターンにおける個所ポイントに依存して制御されるレーザビームに依存 して当該のパターン彫刻生成を行う方法において、 原画パターンの表面領域を光学的又は機械的に走査し、そして、そのように 得られた表面情報を電気的制御信号に変換し、上記制御信号によってはレーザビ ームはパターン原画の表面領域に相応する表面領域にて制御されるようにしたこ とを特徴とする加工物の表面内へのパターンの彫刻方法。 ２．パターン原画により得られた表面情報を記憶し、当該の記憶された表面情報 を少なくとも２度呼出し、そして、１つの衝合せ線に隣接する、表面領域上の少 なくとも２つの表面領域を彫刻する請求の範囲１記載の方法。 ３．記憶された表面情報を第２の呼出の際逆方向に呼出し、そして、場合により 、更なる呼出の際、交互に順方向及び逆方向に読み出し、ここで、彫刻の際パタ ーンの鏡映的生成を衝合せないし衝合せラインにて行う請求の範囲１記載の方法 。 ４．所定情報領域における少なくとも２度呼出された表面情報を準備生成し、上 記所定情報領域は加工物上の表面領域間の衝合せラインに隣接するものであ り、ここにおいて、衝合せラインの領域にて肉眼にとってできるだけ不可視の連 続的移行部が生ぜしめられる請求の範囲２又は３記載の方法。 ５．加工物上のパターン原画の被走査表面領域に相応する各表面領域は衝合せラ インにて記憶された表面情報の、例えば時間的に重なる相応の呼出により重なり 合され、そして、制御信号は当該の重なり領域にて相互に、ないし、交互に連続 的に低下、ないし上昇せしめられ、ここにおいて、実質的に連続的な非可視のパ ターンの移行部が衝き合わせラインに亘って形成されるようにした請求の範囲１ 記載の方法。 ６．レーザビームに対する制御信号は当該の衝合せラインに向かって両側で衝合 せラインに隣接する移行領域にて連続的に減衰ないし再び上昇せしめられ、そし て、当該の制御信号には移行領域にて移行制御信号が付加され、該移行制御信号 はパターン原画の表面情報から導出され、そして、移行領域にて当該の制御信号 と逆に、連続的に上昇増大せしめられ、そして、再び低下せしめられ、ここにお いて、実質的に連続的な非可視のパターンの移行が衝合せラインに亘って形成さ れるようにした請求の範囲４記載の方法。 ７．パターン原画として自然のパターン、例えば自然のパターン原画の粒粒（粒 起状態）部が使用される請求の範囲１記載の方法。 8. 工具は例えば熱可塑性シートの連続的刻印のため刻印ロールであるようにし た請求の範囲１記載の方法。 9. 制御信号は反転される請求の範囲８記載の方法。 10．工具として、ロールを使用し、さらに、パターンの刻成後、シリコンゴムの 層をロール上に塗布ないし注湯し、該層は硫化され、ロールから引き出され、そ して、そのように形成された刻成表面をもって外方に向かって刻成ロールの周囲 へ接着されるようにした請求の範囲１記載の方法。