JP2889349B2 - エンボス版の製造方法 - Google Patents
エンボス版の製造方法Info
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、木目・布目・石目等を形成するためのエン
ボス版を製造するエンボス版の製造方法の改良に関す
る。
ボス版を製造するエンボス版の製造方法の改良に関す
る。
従来より、化粧版・床材等の建築材料には、先ず、木
目・布目・石目等の印刷を行い、次いで、その印刷に凹
凸をつけてエンボシングを行う場合がある。かかる場合
に、前記木目等の凹凸模様を彫刻したエンボス版が使用
される。
目・布目・石目等の印刷を行い、次いで、その印刷に凹
凸をつけてエンボシングを行う場合がある。かかる場合
に、前記木目等の凹凸模様を彫刻したエンボス版が使用
される。
このエンボス版の作成方法には、大別して次の３種が
ある。
ある。
木・布・石等の原稿の型取り後、シリンダ上にその型
を移し、継ぎ目を修正してエンボス版を作成する。
を移し、継ぎ目を修正してエンボス版を作成する。
画像処理装置を利用する場合、三次元スキャナにより
前記原稿の表面形状を読み込んでエンボス版を作成す
る。
前記原稿の表面形状を読み込んでエンボス版を作成す
る。
前記原稿を一度写真にとり、二次元スキャナにより読
み込んでエンボス版を作成する。
み込んでエンボス版を作成する。
ところが、方法は、作業工程が多く、所要時間が長
く、また、継ぎ目修正に熟練を要する。
く、また、継ぎ目修正に熟練を要する。
方法は、使用する三次元スキャナが高価な上、利用
範囲が限られるため、コストパフォーマンスが悪い。
範囲が限られるため、コストパフォーマンスが悪い。
方法は、表面の凹凸ではなく、表面の色調を凹凸形
状として代用しているため、実物と複製物とがかけ離れ
たものとなる。
状として代用しているため、実物と複製物とがかけ離れ
たものとなる。
そこで本発明は、前記方法〜の欠点を全て解消し
たエンボス版の製造方法を提供することを目的とする。
即ち、継ぎ目修正等の作業が容易であり、工程数およ
び所要時間が少なく、比較的安価で利用価値の高い二
次元スキャナを用いて、正確な複製が可能な製造方法を
提供することを目的とする。
たエンボス版の製造方法を提供することを目的とする。
即ち、継ぎ目修正等の作業が容易であり、工程数およ
び所要時間が少なく、比較的安価で利用価値の高い二
次元スキャナを用いて、正確な複製が可能な製造方法を
提供することを目的とする。
この目的を達成するために本発明は、透明樹脂によっ
て木・布・石等の物体の表面を型取りし、透明樹脂製の
型を作成する第１工程と、前記透明樹脂製の型に平行光
を透過し、前記型に形成された物体表面の凹凸に応じて
変化する透過光強度に応じた画像を感光フィルム上に形
成し、透過光濃度写真を作成する第２工程と、前記透過
光濃度写真に基づいて、版材の表面に物体の表面凹凸と
は逆の凹凸形状を形成してエンボス版を作成する第３工
程とを有する。
て木・布・石等の物体の表面を型取りし、透明樹脂製の
型を作成する第１工程と、前記透明樹脂製の型に平行光
を透過し、前記型に形成された物体表面の凹凸に応じて
変化する透過光強度に応じた画像を感光フィルム上に形
成し、透過光濃度写真を作成する第２工程と、前記透過
光濃度写真に基づいて、版材の表面に物体の表面凹凸と
は逆の凹凸形状を形成してエンボス版を作成する第３工
程とを有する。
本発明は、先ず、原稿の凹凸に応じた透明樹脂製の型
を取る。この型に光を透過させると、透過した位置の当
該型に厚さに応じて透過光濃度が変化する。この透過光
濃度の変化を感光フィルム上に感光し、この感光済みの
フィルムを現像して透過光濃度写真を作成する。この透
過光濃度写真を、例えば画像処理装置のスキャナーで読
み込み、例えば、公知手段によりエンボス版を作成す
る。
を取る。この型に光を透過させると、透過した位置の当
該型に厚さに応じて透過光濃度が変化する。この透過光
濃度の変化を感光フィルム上に感光し、この感光済みの
フィルムを現像して透過光濃度写真を作成する。この透
過光濃度写真を、例えば画像処理装置のスキャナーで読
み込み、例えば、公知手段によりエンボス版を作成す
る。
以下、本発明を具体化した実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
第１実施例 第１図および第３図に第１実施例の製造方法を示し、
第２図（Ａ）〜（Ｇ）および第４図に前記製造方法の製
造過程の説明図を示す。
第２図（Ａ）〜（Ｇ）および第４図に前記製造方法の製
造過程の説明図を示す。
第１図および第２図（Ａ）〜（Ｇ）に示すように、木
・布・石等の原稿１を無色透明な樹脂２により型取りを
行う（ステップS1）。次いで、脱型を行い単位模様の透
明樹脂型2aを作成する（ステップS2）。この透明樹脂型
2aに照度分布が一様の平行入射光を入射し、その透過光
を陰画の感光フィルム３に感光する（ステップS3）。す
ると、（Ｃ）図に示すように、透過光強度に応じて感光
フィルム３が感光される。この場合は、透明樹脂型2aの
断面強度は、（Ｄ）図に示すように、前記透過光強度と
は逆の関係になる。この感光後、現像により単位模様の
透過光強度写真４が完成する（ステップS4）。この透過
光強度写真４を図示しない画像処理装置の２次元スキャ
ナにより読み取る（ステップS5）。次いで、画像処理に
際し、例えば、特公昭62−45977号公報に記載の方法を
用いて継ぎ目処理｛（Ｆ図）参照｝を行い（ステップS
6）、前記単位模様が複数個連なったエンドレスの画像
データ５を作成する（ステップS7）。このデジタル化さ
れた画像データ５をレーザ彫刻機（ZEDCO社RAPIDE−ZRE
−130）に転送し、濃度値を彫刻量に変換（濃度大→彫
刻量大）集光した出力500WのCO2レーザ光を用い、シリ
コンゴムの平板の表面を50μｍピッチで走査しつつ彫刻
を行い、原型の物体の凹凸の逆型となった形状再現良好
なエンボス版を作製する。
・布・石等の原稿１を無色透明な樹脂２により型取りを
行う（ステップS1）。次いで、脱型を行い単位模様の透
明樹脂型2aを作成する（ステップS2）。この透明樹脂型
2aに照度分布が一様の平行入射光を入射し、その透過光
を陰画の感光フィルム３に感光する（ステップS3）。す
ると、（Ｃ）図に示すように、透過光強度に応じて感光
フィルム３が感光される。この場合は、透明樹脂型2aの
断面強度は、（Ｄ）図に示すように、前記透過光強度と
は逆の関係になる。この感光後、現像により単位模様の
透過光強度写真４が完成する（ステップS4）。この透過
光強度写真４を図示しない画像処理装置の２次元スキャ
ナにより読み取る（ステップS5）。次いで、画像処理に
際し、例えば、特公昭62−45977号公報に記載の方法を
用いて継ぎ目処理｛（Ｆ図）参照｝を行い（ステップS
6）、前記単位模様が複数個連なったエンドレスの画像
データ５を作成する（ステップS7）。このデジタル化さ
れた画像データ５をレーザ彫刻機（ZEDCO社RAPIDE−ZRE
−130）に転送し、濃度値を彫刻量に変換（濃度大→彫
刻量大）集光した出力500WのCO2レーザ光を用い、シリ
コンゴムの平板の表面を50μｍピッチで走査しつつ彫刻
を行い、原型の物体の凹凸の逆型となった形状再現良好
なエンボス版を作製する。
変形例 次に、第３図に第１実施例の変形例を示す。本変形例
は、ステップS31〜S36までが第１実施例のステップS1〜
S6までと同一であり、刷版工程のみを変更した場合であ
る。
は、ステップS31〜S36までが第１実施例のステップS1〜
S6までと同一であり、刷版工程のみを変更した場合であ
る。
第３図に示すように、ステップ37において連続調フィ
ルム（（Ｇ）参照）５を作成し、ステップS38におい
て、第４図および第５図に示す刷版処理等を行う。
ルム（（Ｇ）参照）５を作成し、ステップS38におい
て、第４図および第５図に示す刷版処理等を行う。
次に、第４図および第５図（Ａ）〜（Ｃ）に基づいて
刷版処理を説明する。
刷版処理を説明する。
連続調フィルム５をカーボンティシュ６に、コンベン
ショナルグラビア法を用いて露光する（ステップS1
1）。連続調フィルム５は、第５図（Ａ）に示すよう
に、４隅をABA′Ｂ′とし、カーボンティシュ６の４隅
も同様にABA′Ｂ′とする。次いで、（Ｂ）図および
（Ｃ）図に示すように、銅製の円筒７に連続調フィルム
５を転写し（ステップS12）、更に、塩化第２鉄を用い
て円筒７の表面を腐食すると（ステップS13）、エンボ
ス版が完成する。
ショナルグラビア法を用いて露光する（ステップS1
1）。連続調フィルム５は、第５図（Ａ）に示すよう
に、４隅をABA′Ｂ′とし、カーボンティシュ６の４隅
も同様にABA′Ｂ′とする。次いで、（Ｂ）図および
（Ｃ）図に示すように、銅製の円筒７に連続調フィルム
５を転写し（ステップS12）、更に、塩化第２鉄を用い
て円筒７の表面を腐食すると（ステップS13）、エンボ
ス版が完成する。
第２実施例 本実施例は、先ず、シリコーンゴムを用いて予備型を
とり、予備型に基づいて透明樹脂による本型をとる場合
である。
とり、予備型に基づいて透明樹脂による本型をとる場合
である。
第６図および第７図（Ａ）〜（Ｄ）に示すように、原
稿１をシリコーンゴム８により予備型取りし（ステップ
S21）、脱型すると、予備型8aが完成する（ステップS2
2）。この予備型8aに、メタクリル酸メチル（MMA）にア
ゾビスイソブチロニトリルを２％添加した型材９を流し
込み、40℃で24時間重合させる（ステップS23）。メタ
クリル酸メチルが硬化後、シリコンゴムを取り除いて本
型9aを取り、この本型9aに平行光を透過させ感光フィル
ムに感光させ（ステップS24）、透過光濃度写真を完成
する。以下、第１図に示すフローチャートのステップS4
以降の工程を踏襲し、エンボス版を作成する。
稿１をシリコーンゴム８により予備型取りし（ステップ
S21）、脱型すると、予備型8aが完成する（ステップS2
2）。この予備型8aに、メタクリル酸メチル（MMA）にア
ゾビスイソブチロニトリルを２％添加した型材９を流し
込み、40℃で24時間重合させる（ステップS23）。メタ
クリル酸メチルが硬化後、シリコンゴムを取り除いて本
型9aを取り、この本型9aに平行光を透過させ感光フィル
ムに感光させ（ステップS24）、透過光濃度写真を完成
する。以下、第１図に示すフローチャートのステップS4
以降の工程を踏襲し、エンボス版を作成する。
本実施例によれば、予備型に使用するのがシリコーン
なので、硬化後の剥離時に原稿１基材を破損することが
ない。
なので、硬化後の剥離時に原稿１基材を破損することが
ない。
なお、第６図に示すフローチャートのステップ24の次
には、第３図に示すステップS34以降の工程を踏襲して
もよい。
には、第３図に示すステップS34以降の工程を踏襲して
もよい。
また、前記第１および第２実施例においては、無色透
明な樹脂を用いたが、着色透明な樹脂を用いてもよいこ
とは勿論である。
明な樹脂を用いたが、着色透明な樹脂を用いてもよいこ
とは勿論である。
更に、前記実施例における細部については、次記の材
料・方法を用いればよい。
料・方法を用いればよい。
型取り用樹脂 硬化時の光の屈折率は、小さい程よい。光の透過率
は、50〜90％程度のものが良く、小さすぎるとカメラ撮
影が難しくなり、大きすぎると色調のコントラストをと
らえ難い。メタクリル酸メチル、アセチルセルロース、
ニトロセルロース、ビニルブチラール、ポリスチレン、
フェノールホルムアルデヒド等が好ましい。また、必要
に応じて透明性の公知の染料・顔料等を添加して光透過
率を調節してもよい。更に、必要に応じて原稿基材表面
にシリコーン、弗素樹脂等を塗布する等の離型処理を施
せばよい。
は、50〜90％程度のものが良く、小さすぎるとカメラ撮
影が難しくなり、大きすぎると色調のコントラストをと
らえ難い。メタクリル酸メチル、アセチルセルロース、
ニトロセルロース、ビニルブチラール、ポリスチレン、
フェノールホルムアルデヒド等が好ましい。また、必要
に応じて透明性の公知の染料・顔料等を添加して光透過
率を調節してもよい。更に、必要に応じて原稿基材表面
にシリコーン、弗素樹脂等を塗布する等の離型処理を施
せばよい。
型取りに際し、第８図（Ａ）に示すように、原稿11か
ら型取りしたものをそのまま用いると、型は原稿11とは
凹凸が逆の逆型12になる。また、第８図（Ｂ）に示すよ
うに、逆型12Aから更に１回型取りすると、原稿11と同
じ型の正型11Aになる。
ら型取りしたものをそのまま用いると、型は原稿11とは
凹凸が逆の逆型12になる。また、第８図（Ｂ）に示すよ
うに、逆型12Aから更に１回型取りすると、原稿11と同
じ型の正型11Aになる。
透明樹脂型として、正逆いずれかの型を用いるか、ま
た、撮影フィルムとして陰画、陽画のいずれを用いるか
で、原稿凹凸と色濃淡の対応が異なり、下表のようにな
る。
た、撮影フィルムとして陰画、陽画のいずれを用いるか
で、原稿凹凸と色濃淡の対応が異なり、下表のようにな
る。
平行光 白熱電灯・蛍光灯等の光をピンホールを通し、凸レン
ズにより平行光線とする。この平行光線を、すりガラス
等を通して均一な照度分布の光とし、これを透明樹脂か
らなる型に照射する。また、EL（電界発行）面発光素子
を用いても良い。但し、光束断面内の照度分布が均一な
ものを選ぶ必要がある。
ズにより平行光線とする。この平行光線を、すりガラス
等を通して均一な照度分布の光とし、これを透明樹脂か
らなる型に照射する。また、EL（電界発行）面発光素子
を用いても良い。但し、光束断面内の照度分布が均一な
ものを選ぶ必要がある。
エンボス形状の形成 （Ａ）凹凸が２段階のエンボス版を形成する場合は、
コンベンショナルグラビア製版に用いられる光蝕刻法
（但し、スクリーンがけは行わない）、（Ｂ）ヘル社の
ヘリオクリッシュグラフのような写真原稿を走査しつつ
光電変換して読取り、読み取った信号を用いて彫刻刀を
制御駆動する機械彫刻法、（Ｃ）又は、凹凸２段階か又
は凹凸連続階調の場合でも形状の再現精度をあまり要求
されない場合、または、凹凸が微細でない場合は、倣い
旋盤・倣いフライス盤加工法により凹凸形成する。
（Ｄ）特に連続階調的な凹凸を高忠実度に再現する為に
はCO2レーザ、YAGレーザ等のレーザ光を集光し金属、プ
ラスチック等を蒸発・昇華させる方式のレーザ彫刻機が
好ましい。また、（Ｅ）その他樹脂凸版等に使用される
光硬化性樹脂を用い、写真フィルムの画像を露光硬化さ
せて使用してもよい。
コンベンショナルグラビア製版に用いられる光蝕刻法
（但し、スクリーンがけは行わない）、（Ｂ）ヘル社の
ヘリオクリッシュグラフのような写真原稿を走査しつつ
光電変換して読取り、読み取った信号を用いて彫刻刀を
制御駆動する機械彫刻法、（Ｃ）又は、凹凸２段階か又
は凹凸連続階調の場合でも形状の再現精度をあまり要求
されない場合、または、凹凸が微細でない場合は、倣い
旋盤・倣いフライス盤加工法により凹凸形成する。
（Ｄ）特に連続階調的な凹凸を高忠実度に再現する為に
はCO2レーザ、YAGレーザ等のレーザ光を集光し金属、プ
ラスチック等を蒸発・昇華させる方式のレーザ彫刻機が
好ましい。また、（Ｅ）その他樹脂凸版等に使用される
光硬化性樹脂を用い、写真フィルムの画像を露光硬化さ
せて使用してもよい。
版材 凹凸加工を施す版材としては、通常、銅・鉄等の金属
が使用されるが、耐久性を要しない場合は、プラスチッ
クを用いてもよい。形状は、平板または円筒を用いる。
化学腐食の場合、金属又はレーザで加工する場合は、シ
リコンゴム、弗素樹脂、NBR、EPP等のゴムが加工適性に
好ましい。
が使用されるが、耐久性を要しない場合は、プラスチッ
クを用いてもよい。形状は、平板または円筒を用いる。
化学腐食の場合、金属又はレーザで加工する場合は、シ
リコンゴム、弗素樹脂、NBR、EPP等のゴムが加工適性に
好ましい。
画像処理 輪転エンボス版を製版するためには、円周方向に絵柄
が連続し、継ぎ目を目立たなくするいわゆるエンドレス
化を行う。また、第９図に示すように、版の寸法に比べ
小さい原稿21を用い、当該原稿21の形状に版面上に何単
位も縦横方向に接続するいわゆる殖版を行う場合は、各
単位原稿間の継ぎ目を目立たなくする必要がある。その
手法としては、前記エンドレス化に準ずる。
が連続し、継ぎ目を目立たなくするいわゆるエンドレス
化を行う。また、第９図に示すように、版の寸法に比べ
小さい原稿21を用い、当該原稿21の形状に版面上に何単
位も縦横方向に接続するいわゆる殖版を行う場合は、各
単位原稿間の継ぎ目を目立たなくする必要がある。その
手法としては、前記エンドレス化に準ずる。
また、不要物の除去、原稿の凹凸の傾斜、エッジのシ
ャープネスを修正する場合がある。かかる場合は、濃淡
画像に変換後、公知・慣用の濃度階調補正（γ値補正
等）、フィルタリング、マスキング等の画像処理手法が
使用できる。
ャープネスを修正する場合がある。かかる場合は、濃淡
画像に変換後、公知・慣用の濃度階調補正（γ値補正
等）、フィルタリング、マスキング等の画像処理手法が
使用できる。
また、寸法の拡大・縮小・回転・各種幾何学的変更
（アフィン変換等）も、画像処理の慣用手法が使える。
更に、原稿から型取りした形状とコンピュータグラフィ
ックスで合成した形状との合成も可能である。
（アフィン変換等）も、画像処理の慣用手法が使える。
更に、原稿から型取りした形状とコンピュータグラフィ
ックスで合成した形状との合成も可能である。
エンドレス製版 （１）濃淡画像の処理 入力する原稿はエンドレス図柄用である。従って、原
稿の連続すべき前端と後端とは、画像処理による継ぎ目
修正をする必要がある。第10図（Ａ）に示すように、入
力される長方形abcdからなる原稿25を任意の場所ｅ、ｆ
で２枚に切断し、第１原稿25Aと第２原稿25Bにする。第
10図（Ｂ）に示すように、第１原稿25Aと第２原稿24Bの
左右を入れ替えて、辺acと辺bdを画像処理装置の公知の
機能である移植機能、スプレー機能等を用いてエンドレ
ス化する。このようにすると、切断場所ｅ、ｆの模様が
明らかであるので、継ぎ目修正が容易となる。
稿の連続すべき前端と後端とは、画像処理による継ぎ目
修正をする必要がある。第10図（Ａ）に示すように、入
力される長方形abcdからなる原稿25を任意の場所ｅ、ｆ
で２枚に切断し、第１原稿25Aと第２原稿25Bにする。第
10図（Ｂ）に示すように、第１原稿25Aと第２原稿24Bの
左右を入れ替えて、辺acと辺bdを画像処理装置の公知の
機能である移植機能、スプレー機能等を用いてエンドレ
ス化する。このようにすると、切断場所ｅ、ｆの模様が
明らかであるので、継ぎ目修正が容易となる。
また、第11図（Ａ）、（Ｂ）に示すように、辺acまた
は辺bdを波形にカットすると、前記波形の凹凸を突き合
わせれば継ぎ目がなくなるので、継ぎ作業が容易にな
る。
は辺bdを波形にカットすると、前記波形の凹凸を突き合
わせれば継ぎ目がなくなるので、継ぎ作業が容易にな
る。
なお、継ぎ目を目立たなくする手法としては、特公昭
62−45975、特公昭62−45978号公報、特公平２−20438
号公報記載の方法が知られている。
62−45975、特公昭62−45978号公報、特公平２−20438
号公報記載の方法が知られている。
（２）濃淡画像の凹凸変換 スキャナから画像処理装置に転送された濃度差情報
は、一般にシアン、マゼンタ、イエロー、ブラックの４
版（４色）の情報を持つため、刷版の際には、このうち
任意の１版を利用すればよい。但し、画像処理装置内で
４版（４色）を１版（色）に合成する等の処理が可能な
場合は、これを利用することが望ましい。
は、一般にシアン、マゼンタ、イエロー、ブラックの４
版（４色）の情報を持つため、刷版の際には、このうち
任意の１版を利用すればよい。但し、画像処理装置内で
４版（４色）を１版（色）に合成する等の処理が可能な
場合は、これを利用することが望ましい。
以上詳述したことから明らかなように、本発明によれ
ば、原稿の凹凸に応じて透過光濃度が正確に対応する透
明樹脂製の型を用いているので、エンボス版を正確に複
製でき、また、刷版には公知の画像処理方法を用いてい
るので、作業時間を短縮できる。
ば、原稿の凹凸に応じて透過光濃度が正確に対応する透
明樹脂製の型を用いているので、エンボス版を正確に複
製でき、また、刷版には公知の画像処理方法を用いてい
るので、作業時間を短縮できる。
第１図は本発明の第１実施例の工程図、 第２図（Ａ）〜（Ｇ）は上記第１実施例の製造過程にお
ける説明図、 第３図は上記第１実施例の変形例を示す工程図、 第４図は刷版の工程を示す工程図、 第５図（Ａ）〜（Ｃ）は刷版過程における説明図、 第６図は第２実施例の工程図、 第７図（Ａ）〜（Ｄ）は上記第２実施例の製造過程にお
ける説明図、 第８図（Ａ）、（Ｂ）は正形と逆形を説明する図、 第９図は単位原稿を複数継ぐ場合の図、 第10図（Ａ）、（Ｂ）は原稿を２枚に切断して継ぐ場合
の図、 第11図（Ａ）、（Ｂ）は原稿を波形に切断して継ぐ場合
の図である。 １……原稿 ２……透明樹脂 2a……透明樹脂製の型 ３……感光フィルム ４……透過光濃度写真 ５……連続調フィルム ６……カーボンティシュ 8a……予備型 9a……本型
ける説明図、 第３図は上記第１実施例の変形例を示す工程図、 第４図は刷版の工程を示す工程図、 第５図（Ａ）〜（Ｃ）は刷版過程における説明図、 第６図は第２実施例の工程図、 第７図（Ａ）〜（Ｄ）は上記第２実施例の製造過程にお
ける説明図、 第８図（Ａ）、（Ｂ）は正形と逆形を説明する図、 第９図は単位原稿を複数継ぐ場合の図、 第10図（Ａ）、（Ｂ）は原稿を２枚に切断して継ぐ場合
の図、 第11図（Ａ）、（Ｂ）は原稿を波形に切断して継ぐ場合
の図である。 １……原稿 ２……透明樹脂 2a……透明樹脂製の型 ３……感光フィルム ４……透過光濃度写真 ５……連続調フィルム ６……カーボンティシュ 8a……予備型 9a……本型
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 1/00 - 1/16
Claims (2)
- 【請求項１】透明樹脂によって木・布・石等の物体の表
面を型取りし、透明樹脂製の型を作成する第１工程と、 前記透明樹脂製の型に平行光を透過し、前記型に形成さ
れた物体表面の凹凸に応じて変化する透過光強度に応じ
た画像を感光フィルム上に形成し、透過光濃度写真を作
成する第２工程と、 前記透過光濃度写真に基づいて、版材の表面に物体の表
面凹凸とは逆の凹凸形状を形成してエンボス版を作成す
る第３工程と を有することを特徴とするエンボス版の製造方法。 - 【請求項２】請求項１記載のエンボス版の製造方法にお
いて、 前記第１工程の型取りに先立ち、木・布・石等の物体の
表面をシリコーンゴム等の型取り剤によって予備型を取
り、次いで、透明樹脂によって前記予備型の表面を型取
りして本型を取り、この透明樹脂製の本型を用いて前記
第１工程をなすことを特徴とするエンボス版の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26422090A JP2889349B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | エンボス版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26422090A JP2889349B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | エンボス版の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04140750A JPH04140750A (ja) | 1992-05-14 |
| JP2889349B2 true JP2889349B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=17400166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26422090A Expired - Lifetime JP2889349B2 (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | エンボス版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2889349B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5471495B2 (ja) * | 2010-01-21 | 2014-04-16 | 大日本印刷株式会社 | テクスチュアデータ処理装置、テクスチュアデータ処理方法、プログラム、エンボス版製造装置、エンボス版製造方法、及びシート |
| JP2018125318A (ja) * | 2015-06-05 | 2018-08-09 | 綜研化学株式会社 | 構造体及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-10-02 JP JP26422090A patent/JP2889349B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04140750A (ja) | 1992-05-14 |
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