JPH09330128A - マスフローコントローラ - Google Patents
マスフローコントローラInfo
- Publication number
- JPH09330128A JPH09330128A JP15262296A JP15262296A JPH09330128A JP H09330128 A JPH09330128 A JP H09330128A JP 15262296 A JP15262296 A JP 15262296A JP 15262296 A JP15262296 A JP 15262296A JP H09330128 A JPH09330128 A JP H09330128A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- mass
- rate control
- control
- flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Measuring Volume Flow (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Flow Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、マスフローコントローラに関
し、流量制御範囲が広く、精度良くコントロールする。 【解決手段】 製造ガス９が流れるメイン管及びバイ
パスの毛細管とからなるガス配管２と、該毛細管内を流
れる製造ガス９の質量流量に比例した毛細管の温度変化
を捕捉する流量検出部３と、該毛細管の温度変化を電気
信号に変換する電気回路４〜６と、該電気回路４〜６か
らの出力信号により製造ガスの流量を制御する流量制御
部７からなるマスフローコントローラ１において、１個
の該流量検出部３に対して、流量制御量の異なる複数の
該流量制御部７を並列に備える。
し、流量制御範囲が広く、精度良くコントロールする。 【解決手段】 製造ガス９が流れるメイン管及びバイ
パスの毛細管とからなるガス配管２と、該毛細管内を流
れる製造ガス９の質量流量に比例した毛細管の温度変化
を捕捉する流量検出部３と、該毛細管の温度変化を電気
信号に変換する電気回路４〜６と、該電気回路４〜６か
らの出力信号により製造ガスの流量を制御する流量制御
部７からなるマスフローコントローラ１において、１個
の該流量検出部３に対して、流量制御量の異なる複数の
該流量制御部７を並列に備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、気体及び液体にお
ける流量制御のためのマスフローコントローラに関す
る。
ける流量制御のためのマスフローコントローラに関す
る。
【０００２】近年の半導体製造設備には、デバイスの高
集積化に伴い、プロセスのレベル向上が要求されてい
る。また、半導体の量産には、ＣＶＤ、エッチング等の
各製造設備において、高レベルなプロセスを安定させて
デバイスを製造することが必要となり、そのプロセスの
中心部分といえるプロセスガスの流量制御性を精度良く
することが必要である。
集積化に伴い、プロセスのレベル向上が要求されてい
る。また、半導体の量産には、ＣＶＤ、エッチング等の
各製造設備において、高レベルなプロセスを安定させて
デバイスを製造することが必要となり、そのプロセスの
中心部分といえるプロセスガスの流量制御性を精度良く
することが必要である。
【０００３】
【従来の技術】図４は従来のマスフローコントローラの
基本構造、図５は従来の流量制御方法の説明図である。
基本構造、図５は従来の流量制御方法の説明図である。
【０００４】図において、11はマスフローコントロー
ラ、12はメイン管、13は毛細管、14は流量センサ、15は
ブリッジ回路、16は増幅回路、17は補正回路、18は流動
出力信号、19は流量設定信号、20は駆動電源、21は比較
制御回路、22はバルブ駆動回路、23は流量制御バルブ、
24はピエゾアクチュエータ、25はメタルダイヤフラムで
ある。
ラ、12はメイン管、13は毛細管、14は流量センサ、15は
ブリッジ回路、16は増幅回路、17は補正回路、18は流動
出力信号、19は流量設定信号、20は駆動電源、21は比較
制御回路、22はバルブ駆動回路、23は流量制御バルブ、
24はピエゾアクチュエータ、25はメタルダイヤフラムで
ある。
【０００５】従来の気体及び液体の流量制御に使用され
ているマスフローコントローラ11は、図４に具体的な構
造断面図、図５に模式平面図で示すように気体の流量を
熱式質量測定法により計測される。
ているマスフローコントローラ11は、図４に具体的な構
造断面図、図５に模式平面図で示すように気体の流量を
熱式質量測定法により計測される。
【０００６】図５によりマスフローコントローラの動作
を説明すると、流量検出部33の製造ガス38の種類や流量
による温度差で得た電気信号が増幅回路34等を経由し、
流量信号として比較回路部36に入力される。
を説明すると、流量検出部33の製造ガス38の種類や流量
による温度差で得た電気信号が増幅回路34等を経由し、
流量信号として比較回路部36に入力される。
【０００７】比較回路部36では予め設定され、外部から
入力された設定信号35と流量信号との比較を行い、差分
を打ち消すように流量制御部（動作バルブ）37を動作さ
せる信号を出力し、流量制御部37内の流量制御バルブを
コントロールする。
入力された設定信号35と流量信号との比較を行い、差分
を打ち消すように流量制御部（動作バルブ）37を動作さ
せる信号を出力し、流量制御部37内の流量制御バルブを
コントロールする。
【０００８】このようなクローズド制御でコントロール
されている場合、この時の流量制御に使用される流量制
御部の流量制御バルブ23には、開閉動作範囲、動作精度
に限界があるため、流量制御範囲、流量精度の範囲が制
限されてくる。
されている場合、この時の流量制御に使用される流量制
御部の流量制御バルブ23には、開閉動作範囲、動作精度
に限界があるため、流量制御範囲、流量精度の範囲が制
限されてくる。
【０００９】現状のマスフローコントローラでは、流量
制御範囲が１〜１００％フルスケール（ＦＳ）、流量制
御精度が１％フルスケールのものが一般的で、高精度タ
イプで流量制御精度０．８％フルスケールといったとこ
ろである。
制御範囲が１〜１００％フルスケール（ＦＳ）、流量制
御精度が１％フルスケールのものが一般的で、高精度タ
イプで流量制御精度０．８％フルスケールといったとこ
ろである。
【００１０】また、一般的には流量精度が良い領域で使
用するように、使用する流量がマスフローコントローラ
定格の５０〜８０％くらいになるようにマスフローコン
トローラ11のサイズを制定している。
用するように、使用する流量がマスフローコントローラ
定格の５０〜８０％くらいになるようにマスフローコン
トローラ11のサイズを制定している。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従って、前項で説明し
たように、一般的には５０〜８０％設定で使用するよう
にマスフローコントローラのサイズを選定する理由は、
定格に対し小流量域において流量制御精度が悪くなるた
めである。
たように、一般的には５０〜８０％設定で使用するよう
にマスフローコントローラのサイズを選定する理由は、
定格に対し小流量域において流量制御精度が悪くなるた
めである。
【００１２】例えば、定格１ＳＬＭ、流量制御精度１％
フルスケールのマスフローコントローラを使用した場
合、１００％設定では１０００±１０ＳＣＣＭの設定に
対し、１％の精度となる。しかし、１％設定では１０±
１０ＳＣＣＭの設定に対して、１００％の精度と悪くな
ってしまう。これは、流量制御範囲をカバーするため
に、制御用バルブの動作範囲を大きくしたため、細かい
動作が精度良くできなくなっているためである。
フルスケールのマスフローコントローラを使用した場
合、１００％設定では１０００±１０ＳＣＣＭの設定に
対し、１％の精度となる。しかし、１％設定では１０±
１０ＳＣＣＭの設定に対して、１００％の精度と悪くな
ってしまう。これは、流量制御範囲をカバーするため
に、制御用バルブの動作範囲を大きくしたため、細かい
動作が精度良くできなくなっているためである。
【００１３】本発明は、以上の点を鑑み、マスフローコ
ントローラで大流量から小流量まで精度良く制御するこ
とを目的とする。
ントローラで大流量から小流量まで精度良く制御するこ
とを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理説明
図であり、本発明の流量制御方法を主要部の模式平面図
で示す。図２、図３は従来例に対する本発明の効果を説
明する図で、図２は従来と本発明のマスフローコントロ
ーラの定格、仕様の比較、図３は本発明による流量制御
の精度向上の効果を示す図である。
図であり、本発明の流量制御方法を主要部の模式平面図
で示す。図２、図３は従来例に対する本発明の効果を説
明する図で、図２は従来と本発明のマスフローコントロ
ーラの定格、仕様の比較、図３は本発明による流量制御
の精度向上の効果を示す図である。
【００１５】図において、1 はマスフローコントロー
ラ、2 はガス配管、3 は流量検出部（センサー部）、４
は増幅回路、５は設定信号、６は比較回路部、７は大流
量制御部、８は小流量制御部、９は製造ガスである。
ラ、2 はガス配管、3 は流量検出部（センサー部）、４
は増幅回路、５は設定信号、６は比較回路部、７は大流
量制御部、８は小流量制御部、９は製造ガスである。
【００１６】本発明は、大流量を制御するために動作範
囲を広くとった大流量制御部７の流量制御バルブの精度
が悪くなった分を補うように、並列に補助の流量制御バ
ルブを設けることにより、大流量でも、小流量でも精度
良く流量制御ができるマスフローコントローラにするこ
とができる。
囲を広くとった大流量制御部７の流量制御バルブの精度
が悪くなった分を補うように、並列に補助の流量制御バ
ルブを設けることにより、大流量でも、小流量でも精度
良く流量制御ができるマスフローコントローラにするこ
とができる。
【００１７】すなわち、本発明では、１個の流量検出部
３に対して流量制御バルブを複数個設け、図１に示すよ
うに大流量制御用と小流量制御用の２個、場合によって
は中流量制御用を加えた３個とすることにより、広い流
量制御範囲をカバーすることが可能となり、大流量から
小流量まで広い制御範囲内での高い制御精度をコントロ
ールすることができる。
３に対して流量制御バルブを複数個設け、図１に示すよ
うに大流量制御用と小流量制御用の２個、場合によって
は中流量制御用を加えた３個とすることにより、広い流
量制御範囲をカバーすることが可能となり、大流量から
小流量まで広い制御範囲内での高い制御精度をコントロ
ールすることができる。
【００１８】このことにより、複数の流量設定を行い、
大流量でも小流量でも精度良く流量制御を行いたいとい
う要求の際、従来では大流量用のマスフローコントロー
ラと小流量用のマスフローコントローラの２系統のガス
コントロールラインを準備していたが、マスフローコン
トローラ１系統で、大流量も小流量も精度良く制御する
ことが可能となる。
大流量でも小流量でも精度良く流量制御を行いたいとい
う要求の際、従来では大流量用のマスフローコントロー
ラと小流量用のマスフローコントローラの２系統のガス
コントロールラインを準備していたが、マスフローコン
トローラ１系統で、大流量も小流量も精度良く制御する
ことが可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１は本発明の原理説明図兼一実
施例の説明図である。図において、１はマスフローコン
トローラ、２はガス配管、３は流量検出部、４は増幅回
路、５は設定信号、６は比較回路部、７は大流量制御
部、８は小流量制御部、９は製造ガスである。
施例の説明図である。図において、１はマスフローコン
トローラ、２はガス配管、３は流量検出部、４は増幅回
路、５は設定信号、６は比較回路部、７は大流量制御
部、８は小流量制御部、９は製造ガスである。
【００２０】従来のマスフローコントローラと異なる点
としては、本発明では、流量制御部（バルブ駆動回路、
流量制御バルブ）を複数要している点である。図１に示
すように、定格１ＳＬＭの窒素用マスフローコントロー
ラ１を例に説明すると、大流量制御部７には、０〜１０
００ＳＣＣＭの領域を±１０ＳＣＣＭ（±１％フルスケ
ール）で制御出来る流量制御バルブを用い、小流量制御
部には０〜１００ＳＣＣＭの領域を±１ＳＣＣＭ（±１
％ＦＳ）で制御できる流量制御出来るバルブを用いた。
としては、本発明では、流量制御部（バルブ駆動回路、
流量制御バルブ）を複数要している点である。図１に示
すように、定格１ＳＬＭの窒素用マスフローコントロー
ラ１を例に説明すると、大流量制御部７には、０〜１０
００ＳＣＣＭの領域を±１０ＳＣＣＭ（±１％フルスケ
ール）で制御出来る流量制御バルブを用い、小流量制御
部には０〜１００ＳＣＣＭの領域を±１ＳＣＣＭ（±１
％ＦＳ）で制御できる流量制御出来るバルブを用いた。
【００２１】ここで、それぞれの流量制御バルブ23は流
量制御精度±１％ＦＳと、一般的な制御バルブと同等の
スペックのものである。これら２つの流量制御バルブ23
を並列に配置し、同時に制御するように使用することに
より、大流量制御部７では設定に対して±１０ＳＣＣＭ
と比較的精度は悪いにしても広い流量制御範囲をとるこ
とができる。
量制御精度±１％ＦＳと、一般的な制御バルブと同等の
スペックのものである。これら２つの流量制御バルブ23
を並列に配置し、同時に制御するように使用することに
より、大流量制御部７では設定に対して±１０ＳＣＣＭ
と比較的精度は悪いにしても広い流量制御範囲をとるこ
とができる。
【００２２】ここで、小流量制御バルブの働きにより、
大流量制御バルブでの設定に対して±１０ＳＣＣＭと悪
かった精度を±１ＳＣＣＭまで、１０倍も精度良くコン
トロール出来ることになる。
大流量制御バルブでの設定に対して±１０ＳＣＣＭと悪
かった精度を±１ＳＣＣＭまで、１０倍も精度良くコン
トロール出来ることになる。
【００２３】例えば、製造ガス９として窒素（Ｎ2 ）ガ
スを用いた場合、窒素ガスの流量を設定８００ＳＣＣＭ
とした場合、窒素ガスの質量流量に比例して、流量が増
えた場合は毛細管の温度が上がり、流量が減った場合は
毛細管の温度が下がるので、その微細な温度変化を流量
検出部３で検知して電気信号に変換し、その電気信号を
増幅回路４で増幅し、比較回路部６でガス流量８００ｓ
ｃｃｍの設定信号５と比較し、ガス流量の増減に適応し
て、大流量制御バルブ17と小流量制御バルブ18を開閉す
るが、従来のマスフローコントロラ31を用いた場合に８
００±１０ＳＣＣＭの精度が、図３に示すように、本発
明を適用したマスフローコントローラ１では８００±１
ＳＣＣＭの精度を採ることができる。
スを用いた場合、窒素ガスの流量を設定８００ＳＣＣＭ
とした場合、窒素ガスの質量流量に比例して、流量が増
えた場合は毛細管の温度が上がり、流量が減った場合は
毛細管の温度が下がるので、その微細な温度変化を流量
検出部３で検知して電気信号に変換し、その電気信号を
増幅回路４で増幅し、比較回路部６でガス流量８００ｓ
ｃｃｍの設定信号５と比較し、ガス流量の増減に適応し
て、大流量制御バルブ17と小流量制御バルブ18を開閉す
るが、従来のマスフローコントロラ31を用いた場合に８
００±１０ＳＣＣＭの精度が、図３に示すように、本発
明を適用したマスフローコントローラ１では８００±１
ＳＣＣＭの精度を採ることができる。
【００２４】また、流量制御範囲についても大流量制御
バルブのみの場合に比べ、１／１０の小流量量制御バル
ブを用いて、小流量域の制御が可能となる。
バルブのみの場合に比べ、１／１０の小流量量制御バル
ブを用いて、小流量域の制御が可能となる。
【００２５】
【発明の効果】図４に、従来の一般的なマスフローコン
トローラと、本例で説明したマスフローコントローラの
比較表を示す。また、図５に大流量用バルブと小流量用
バルブの働きによる流量の違いについて示す。大流量用
バルブの流量制御は精度範囲内でふらつきがあるとする
と、小流量用バルブはそのふらつきが小さくなるよう、
設定流量に近ずくよう動作を行う。
トローラと、本例で説明したマスフローコントローラの
比較表を示す。また、図５に大流量用バルブと小流量用
バルブの働きによる流量の違いについて示す。大流量用
バルブの流量制御は精度範囲内でふらつきがあるとする
と、小流量用バルブはそのふらつきが小さくなるよう、
設定流量に近ずくよう動作を行う。
【００２６】このように、従来のマスフローコントロー
ラに比べて本発明のマスフローコントローラは大流量用
バルブの制御範囲全ての領域で、小流量用バルブの良い
精度で制御することが可能となり、半導体デバイスの品
質向上に寄与するところが大きい。
ラに比べて本発明のマスフローコントローラは大流量用
バルブの制御範囲全ての領域で、小流量用バルブの良い
精度で制御することが可能となり、半導体デバイスの品
質向上に寄与するところが大きい。
【図１】 本発明のマスフローコントローラ
【図２】 従来と本発明のマスフローコントローラの比
較
較
【図３】 本発明による流量制御の精度向上の効果
【図４】 マスフローコントローラの基本構造
【図５】 従来のマスフローコントローラ
図において １ マスフローコントローラ ２ ガス配管 ３ 流量検出部 ４ 増幅回路 ５ 設定信号 ６ 比較回路部 ７ 大流量制御部 ８ 小流量制御部、９ 製造ガス
Claims (2)
- 【請求項１】 製造ガスが流れるメイン管及びバイパス
の毛細管とからなる配管と、該毛細管内を流れる製造ガ
スの流量に比例した毛細管の温度変化を捕捉する流量検
出部と、該毛細管の温度変化を電気信号に変換する電気
回路と、該電気回路からの出力信号により製造ガスの流
量を制御する流量制御部からなるマスフローコントロー
ラにおいて、 １個の該流量検出部に対して、流量制御量の異なる複数
の該流量制御部を並列に備えてなることを特徴とするマ
スフローコントローラ。 - 【請求項２】 前記流量制御部は各々の流量制御部に適
応した流量のバルブ駆動回路と流量制御バルブとから構
成されていることを特徴とするマスフローコントロー
ラ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15262296A JPH09330128A (ja) | 1996-06-13 | 1996-06-13 | マスフローコントローラ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15262296A JPH09330128A (ja) | 1996-06-13 | 1996-06-13 | マスフローコントローラ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09330128A true JPH09330128A (ja) | 1997-12-22 |
Family
ID=15544410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15262296A Withdrawn JPH09330128A (ja) | 1996-06-13 | 1996-06-13 | マスフローコントローラ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09330128A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006106859A1 (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | 半導体装置の製造方法、基板の製造方法および基板処理装置 |
| WO2007001041A1 (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-04 | Fujikin Incorporated | 流量レンジ可変型流量制御装置 |
| WO2009141947A1 (ja) * | 2008-05-21 | 2009-11-26 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置を用いた流体の非連続式流量切替制御方法 |
| JP2013079434A (ja) * | 2011-10-05 | 2013-05-02 | Jfe Steel Corp | 焼鈍炉の冷却装置 |
| WO2013161187A1 (ja) * | 2012-04-27 | 2013-10-31 | 株式会社フジキン | 半導体製造装置のガス分流供給装置 |
| JP2014032635A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-20 | Horiba Ltd | 流量制御装置 |
| US9133951B2 (en) | 2005-08-26 | 2015-09-15 | Fujikin Incorporated | Gasket type orifice and pressure type flow rate control apparatus for which the orifice is employed |
| JP2015170763A (ja) * | 2014-03-07 | 2015-09-28 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| US9383758B2 (en) | 2005-06-27 | 2016-07-05 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
| US9921089B2 (en) | 2005-06-27 | 2018-03-20 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
| JP2019511119A (ja) * | 2016-03-15 | 2019-04-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ |
| JP2019513299A (ja) * | 2016-03-15 | 2019-05-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ |
| JP2019114225A (ja) * | 2017-12-20 | 2019-07-11 | 東泰高科装備科技有限公司Ｄｏｎｇｔａｉ Ｈｉ−Ｔｅｃｈ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ | マスフローコントローラ |
| WO2019188240A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 日立金属株式会社 | 流量制御装置 |
| KR20200066909A (ko) * | 2018-12-03 | 2020-06-11 | 주식회사 원익아이피에스 | 가스공급장치 ? 가스공급제어방법 |
| KR20200066908A (ko) * | 2018-12-03 | 2020-06-11 | 주식회사 원익아이피에스 | 가스공급장치 및 가스공급제어방법 |
-
1996
- 1996-06-13 JP JP15262296A patent/JPH09330128A/ja not_active Withdrawn
Cited By (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006106859A1 (ja) * | 2005-03-31 | 2008-09-11 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板の製造方法および基板処理装置 |
| WO2006106859A1 (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | 半導体装置の製造方法、基板の製造方法および基板処理装置 |
| US8268731B2 (en) | 2005-03-31 | 2012-09-18 | Hitatchi Kokusai Electric Inc. | Semiconductor device producing method, substrate producing method and substrate processing apparatus |
| US8418714B2 (en) | 2005-06-27 | 2013-04-16 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
| JP2007004644A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Tohoku Univ | 流量レンジ可変型流量制御装置 |
| US9010369B2 (en) | 2005-06-27 | 2015-04-21 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
| WO2007001041A1 (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-04 | Fujikin Incorporated | 流量レンジ可変型流量制御装置 |
| US9921089B2 (en) | 2005-06-27 | 2018-03-20 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
| US9383758B2 (en) | 2005-06-27 | 2016-07-05 | Fujikin Incorporated | Flow rate range variable type flow rate control apparatus |
| US9133951B2 (en) | 2005-08-26 | 2015-09-15 | Fujikin Incorporated | Gasket type orifice and pressure type flow rate control apparatus for which the orifice is employed |
| WO2009141947A1 (ja) * | 2008-05-21 | 2009-11-26 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置を用いた流体の非連続式流量切替制御方法 |
| JP2013229052A (ja) * | 2008-05-21 | 2013-11-07 | Tohoku Univ | 圧力式流量制御装置を用いた流体の非連続式流量切替制御方法 |
| JP5430007B2 (ja) * | 2008-05-21 | 2014-02-26 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置を用いた流体の非連続式流量切替制御方法 |
| JP2013079434A (ja) * | 2011-10-05 | 2013-05-02 | Jfe Steel Corp | 焼鈍炉の冷却装置 |
| US10534376B2 (en) | 2012-04-27 | 2020-01-14 | Fujikin Incorporated | Gas divided flow supplying apparatus for semiconductor manufacturing equipment |
| JP2013232101A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Fujikin Inc | 半導体製造装置のガス分流供給装置 |
| KR20140129225A (ko) * | 2012-04-27 | 2014-11-06 | 가부시키가이샤 후지킨 | 반도체 제조 장치의 가스 분류 공급 장치 |
| WO2013161187A1 (ja) * | 2012-04-27 | 2013-10-31 | 株式会社フジキン | 半導体製造装置のガス分流供給装置 |
| JP2014032635A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-20 | Horiba Ltd | 流量制御装置 |
| US9494946B2 (en) | 2012-08-06 | 2016-11-15 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Flow rate control device |
| JP2015170763A (ja) * | 2014-03-07 | 2015-09-28 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| US10943803B2 (en) | 2016-03-15 | 2021-03-09 | Applied Materials, Inc. | Methods and assemblies for gas flow ratio control |
| JP2019511119A (ja) * | 2016-03-15 | 2019-04-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ |
| JP2019513299A (ja) * | 2016-03-15 | 2019-05-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ |
| US11923221B2 (en) | 2016-03-15 | 2024-03-05 | Applied Materials, Inc. | Methods and assemblies for gas flow ratio control |
| US11462426B2 (en) | 2016-03-15 | 2022-10-04 | Applied Materials, Inc. | Methods and assemblies for gas flow ratio control |
| JP2019114225A (ja) * | 2017-12-20 | 2019-07-11 | 東泰高科装備科技有限公司Ｄｏｎｇｔａｉ Ｈｉ−Ｔｅｃｈ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ | マスフローコントローラ |
| WO2019188240A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 日立金属株式会社 | 流量制御装置 |
| KR20200135367A (ko) * | 2018-03-26 | 2020-12-02 | 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 | 유량 제어 장치 |
| CN111936948A (zh) * | 2018-03-26 | 2020-11-13 | 日立金属株式会社 | 流量控制装置 |
| JPWO2019188240A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2021-03-11 | 日立金属株式会社 | 流量制御装置 |
| US11442476B2 (en) | 2018-03-26 | 2022-09-13 | Hitachi Metals Ltd. | Flow controller |
| KR20200066908A (ko) * | 2018-12-03 | 2020-06-11 | 주식회사 원익아이피에스 | 가스공급장치 및 가스공급제어방법 |
| KR20200066909A (ko) * | 2018-12-03 | 2020-06-11 | 주식회사 원익아이피에스 | 가스공급장치 ? 가스공급제어방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH09330128A (ja) | マスフローコントローラ | |
| TWI386770B (zh) | And a discontinuous flow rate switching control method using a fluid of the pressure type flow control device | |
| JP4856905B2 (ja) | 流量レンジ可変型流量制御装置 | |
| JP4642115B2 (ja) | 流量比率制御装置 | |
| JP3522544B2 (ja) | 流体可変型流量制御装置 | |
| KR100327878B1 (ko) | 유체공급장치 | |
| JP4974000B2 (ja) | 質量流量制御装置及び実ガスの質量流量制御方法 | |
| US20080140260A1 (en) | Controller gain scheduling for mass flow controllers | |
| JP2000323464A (ja) | 半導体製造装置用のガス供給装置及びガス供給方法 | |
| CN100462887C (zh) | 半导体制造装置和半导体制造方法 | |
| US20160274595A1 (en) | Flow rate range variable type flow rate control apparatus | |
| JP2012033188A (ja) | 流量レンジ可変型流量制御装置 | |
| JPH07210253A (ja) | 流量制御弁のアクチュエータを制御するシステム | |
| JP2004213601A (ja) | コントロールパージ用質流量制御機及び動作方法 | |
| EP0973080B1 (en) | Gas flow rate control apparatus | |
| JP3893115B2 (ja) | マスフローコントローラ | |
| JP4752086B2 (ja) | 質量流量制御装置 | |
| JPH064139A (ja) | 流量コントローラー | |
| JP2002082722A (ja) | 質量流量制御装置 | |
| JP2001142541A (ja) | マスフローコントローラ | |
| CN113544620A (zh) | 流量控制装置、流量控制方法、流量控制装置的控制程序 | |
| JP3001699B2 (ja) | 流量制御装置 | |
| JPH076962A (ja) | ガス圧制御方法およびガス圧制御装置 | |
| JP5110006B2 (ja) | 流量センサ、流量測定器及び流量制御器 | |
| TW201732479A (zh) | 流量訊號修正方法及使用其之流量控制裝置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030902 |