JPH0930875A - 施釉設備 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】今回の施釉作業と次回の施釉作業との間の１サ
イクルを短縮して施釉設備の稼働効率の向上を図る。 【構成】被施釉物Ｅの搬入位置Ａａから施釉位置Ｂａを
経て搬出位置Ｃａに搬送する搬送装置２３を備え、搬送
装置２３は、起立した回転軸芯２７ａを有する回転部２
７と、回転部２７から回転軸芯２７ａの周りを等分割す
る中心角毎に放射状に突設すると共にその先端側に被施
釉物用載置部３１を回転自在に設けた３本以上の支持腕
２９と、回転軸芯２７ａを中心としてこれら支持腕２９
を上記中心角と同ピツチで間欠移動させる駆動装置とを
備え、これら各支持腕２９の被施釉物用載置部３１を、
前記搬入位置Ａａと施釉位置Ｂａと搬出位置Ｃａとにこ
の順番で間欠停止させるようにしたこと。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、便器素地又は洗面
器素地等の被施釉物に釉薬を施釉する設備の改良に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、施釉設備には、特開平１−１１９
５８５号公報に記載のものがある。施釉設備は、図８及
び図９に示す如く、大便器素地専用のものであつて、搬
入ステーシヨンＡと搬出ステーシヨンＣとの間に施釉ス
テーシヨンＢを設けてある。搬入ステーシヨンＡには、
搬入コンベア１と、搬入コンベア１で搬入された被施釉
物Ｅを搬入位置Ａａに移載する吊下げ式の移載装置２と
を設けてある。施釉ステーシヨンＢには、鉛直軸芯周り
に回動可能に設置された被施釉物載置用の受台３と、受
台上の被施釉物Ｅに向かつて釉薬を吹付けるノズル４ａ
を有する施釉装置４と、受台３を囲む上下に伸縮自在な
囲繞シート５ａよりなるブース５とを設けてある。搬出
ステーシヨンＣには、搬出コンベア６と、搬出位置Ｃａ
に移載された被施釉物Ｅを搬出コンベア６へ移載する吊
下げ式の移載装置７とを設けてある。

【０００３】前記搬入ステーシヨンＡの搬入位置Ａａに
移載された被施釉物Ｅを施釉ステーシヨンＢの受台３上
の施釉位置Ｂａに搬送する搬送装置８は、進退自在且つ
上下移動自在な片持ち支持状態の平行棒９，９と、各平
行棒９に取着した載置部１０とを備え、載置部１０，１
０を搬入位置Ａａから受台３の両外側位置まで進退させ
ると共に、受台３の両外側位置で載置部１０，１０を上
下移動させるようにしてある。搬入位置Ａａで搬送装置
８の後退している載置部１０，１０に移載された被施釉
物Ｅは、載置部１０，１０の前進に伴い受台３の上方へ
搬送され、載置部１０，１０の降下に伴い受台３の上に
移載される。搬送装置８の平行棒９，９は、その先端
に、受台３を清掃するための、清掃用ワイパ１１，１１
（図９参照）を設けてある。

【０００４】施釉位置Ｂａである受台３の上に載置され
た被施釉物Ｅは、施釉される。この施釉は、ブース５の
囲繞シート５ａを上方に伸ばして受台３の回りを囲み、
施釉装置４のノズル４ａから被施釉物Ｅに向かつて釉薬
を吹付けて行う。施釉が終了すると、ブース５の囲繞シ
ート５ａは、下方に縮んで受台３の回りを開放する。

【０００５】施釉した被施釉物Ｅを搬出ステーシヨンＣ
の搬出位置Ｃａに搬送する搬送装置１２は、進退自在且
つ上下移動自在な片持ち支持状態の平行棒１３，１３
と、各平行棒１３に取着した載置部１４とを備え、受台
３の両外側位置で載置部１０，１０を上下移動させると
共に、載置部１０，１０を施釉位置Ｂａから搬出位置Ｃ
ａまで進退させるようにしてある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記施釉設
備は、施釉位置Ｂａにおける今回の施釉作業と次回の施
釉作業との間の１サイクル中に、施釉位置Ｂａから施釉
後の被施釉物Ｅを搬出位置Ｃａまで搬送装置１２で搬送
するための搬出作業時間と、搬入位置Ａａに移載さした
被施釉物Ｅを受台３上の施釉位置Ｂａに搬送装置８で搬
送するための搬入作業時間と、ブース５の囲繞シート５
ａを昇降させて施釉するための施釉作業時間とが含まれ
る。しかし、搬送装置８，１２で搬送するための搬入・
搬出作業時間は、被施釉物Ｅに衝撃を与えないように慎
重に行うため、長時間を必要とする。また、施釉作業時
間は、ブース５の囲繞シート５ａを昇降させるのに、大
きな囲繞シート５ａに損傷を与えないように昇降を低速
度で行うため、長時間を必要とする。更に、前記施釉設
備は、搬入作業と施釉作業と搬出作業とを同時進行させ
るこができる時間帯が殆どなく、前記１サイクルを短縮
できない。そのため、前記施釉設備は、１サイクルが長
くなり、設備の稼働効率が低いという問題があつた。

【０００７】本発明は、上記問題を解決するために、１
サイクルを短縮して稼働効率の向上を図ることができる
施釉設備の提供を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の本発明の
要旨は、被施釉物の搬入位置から施釉位置を経て搬出位
置に搬送する搬送装置を備えた施釉設備において、前記
搬送装置は、起立した回転軸芯を有する回転部と、回転
部から回転軸芯の周りを等分割する中心角毎に放射状に
突設すると共にその先端側に被施釉物用載置部を回転自
在に設けた３本以上の支持腕と、回転軸芯を中心として
これら支持腕を上記中心角と同ピツチで間欠移動させる
駆動装置とを備え、これら各支持腕の被施釉物用載置部
を、前記搬入位置と施釉位置と搬出位置とにこの順番で
間欠停止させるようにしたことを特徴とする施釉設備で
ある。

【０００９】請求項２記載の本発明の要旨は、前記支持
腕を４本以上突設すると共に、これら各支持腕の被施釉
物用載置部を、前記搬出位置と搬入位置との間に設けた
洗浄位置にも間欠停止させ、洗浄位置の近傍に前記被施
釉物用載置部に向かつて吐水する洗浄水ノズルを備えた
請求項１記載の施釉設備である。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る施釉設備を図
１乃至図７に示す実施例に基づいて説明する。図１は洗
浄ブースを省略して示す設備全体の右側面図、図２は設
備全体を示す平面図、図３は図２のイ−イ線における断
面図、図４は搬送装置及び前後の移載装置を省略して示
す右側面図、図５は移載装置を拡大して示す右側面図、
図６は移載装置を拡大して示す部分断面した正面図、図
７は移載装置の挟持操作装置を示す断面した正面図であ
る。

【００１１】本実施例は、図１及び図２に示す如く、洗
面器素地である被施釉物Ｅを施釉するためのものであ
り、前方の搬入コンベア２１と後方の搬出コンベア２２
との中間に回転式の搬送装置２３を配設すると共に、搬
送装置２３の左右外側に施釉装置２４と洗浄装置２５と
を配設してある。

【００１２】前記搬送装置２３は、起立した回転軸芯２
７ａを中心として回転する回転部２７と、回転部２７を
軸支する固定部２８と、回転部２７から回転軸芯２７ａ
の周りを四等分割するように放射状に突設する四本の支
持腕２９と、回転部２７を９０度づつ間欠回転駆動する
駆動装置（図示省略）とを備えている。各支持腕２９
は、先端側に軸受部３０を立設すると共に、軸受部３０
の上端に被施釉物用載置部３１を回転自在に設けてあ
る。各載置部３１は、図３に示す如く、中間の凹溝部３
１ａを挟むようにして、両側に載置面３１ｂ，３１ｂが
形成されている。載置部３１は、起立した回転軸芯２７
ａを中心として公転する共に、軸受部３０を中心として
自転するようになつている。

【００１３】上記搬送装置２３の載置部３１は、図２に
示す如く、搬入位置Ａａと搬出位置Ｃａに停止している
とき及び公転するときには、長手方向Ｆが公転の接線方
向と一致する状態で自転が停止し、施釉位置Ｂａ及び洗
浄位置Ｄａに停止しているときには、自転できるように
なつている。各載置部３１は、回転部２７の間欠回転駆
動に伴い、搬入位置Ａａと施釉位置Ｂａと搬出位置Ｃａ
と洗浄位置Ｄａとにこの順番で停止する。

【００１４】前記施釉装置２４は、図３に示す如く、前
後側壁面３３，３４と右側壁面３５と天井面３６と床面
３７とで囲まれると共に左側が開口したブース３８と、
左外側に配設した施釉ロボツト３９と、右側壁面３５の
中央に開口した吸引口３５ａに接合した排気ダクト４０
とを備えている。ブース３８の右側壁面３５は、図１及
び図４に示す如く、前記搬送装置２３の公転する支持腕
２９が通過するための横長の開口部３５ｂが形成されて
いると共に、公転する支持腕２９の先端部及び載置部３
１が通過するための開閉扉４１，４２が設けられてい
る。各開閉扉４１，４２は、エアーシリンダ等からなる
開閉操作具４３で開閉操作され、搬送装置２３の公転す
る支持腕２９が通過するときに開き（図２中に破線で示
す状態）、施釉するときに閉じるようになつている。上
記排気ダクト４０は、その終端が集塵装置（図示省略）
に接合され、施釉時に発生する釉薬塵をブース３８の吸
引口３５ａから吸引して集塵回収するようになつてい
る。

【００１５】前記洗浄装置２５は、図３に示す如く、四
周の側壁面と天井面と床面とで囲まれたブース４５と、
洗浄位置Ｄａに停止する前記搬送装置２３の載置部３１
に向かつて吐水する洗浄水ノズル４６の複数個とを備え
ている。ブース４５は、前後側壁面４７，４８と左側壁
面４９に、前記搬送装置２３の公転する支持腕２９及び
載置部３１が通過するための開口部４７ａ，４８ａ，４
９ａを開設してある。

【００１６】前記前方の搬入コンベア２１は、図１及び
図２に示す如く、被施釉物Ｅを搬入するための二本の平
行なエンドレスベルト５１，５１を備え、エンドレスベ
ルト５１，５１の終端側の間に空間５２が形成され、こ
の空間５２に後述する前方の移載装置５６の支持片５７
が進入して被施釉物Ｅを掬上げることができるようにな
つている。エンドレスベルト５１，５１は、終端側の被
施釉物Ｅが移載装置５６で移載されると、終端側に次の
被施釉物Ｅを搬入するように間欠駆動する。

【００１７】前記後方の搬出コンベア２２は、被施釉物
Ｅを搬出するための二本の平行なエンドレスベルト５
３，５３を備え、エンドレスベルト５３，５３の始端側
の間に空間５４が形成され、この空間５４に後述する後
方の移載装置５６の支持片５７が進入して被施釉物Ｅを
エンドレスベルト５３，５３に載置できるようになつて
いる。エンドレスベルト５３，５３は、始端側に移載装
置５６で被施釉物Ｅが移載されると、移載位置が空とな
るように被施釉物Ｅを搬出するように間欠駆動する。

【００１８】前記前後の各移載装置５６は、図５及び図
６に示す如く、前後に延設した案内レール５８，５８に
案内されるトロリ５９と、トロリ５９に上下移動自在に
吊下げた保持具６０とを備えている。トロリ５９は、案
内レール５８，５８に案内されるコロ６１の４個を備え
た車本体６２と、前後移動させる駆動装置６３とを備え
ている。トロリ５９と保持具６０との連結は、両者を摺
動案内具６４，６４で上下移動自在に連結すると共に、
両者に接合したエアーシリンダ等からなる昇降操作具６
５で保持具６０を昇降させるようにしてある。

【００１９】上記保持具６０は、基盤６６の底面側に左
右一対の挟持具６７，６７を左右移動自在に設けると共
に、基盤６６の中央側縁から支持片５７を垂下してあ
る。基盤６６と各挟持具６７との連結は、基盤６６に取
付けた前後一対の案内棒６８，６８に、挟持具６７に取
付けたスライダ６９，６９…を左右移動自在に案内して
ある。図７に示す如く、各挟持具６７を左右方向へ移動
操作する挟持操作装置７４は、基盤６６に回転自在に軸
支したボルト７０に、挟持具６７に取付けたナツト７１
を螺合し、ボルト７０をサーボモータ等からなる駆動具
７２で正逆回転させることにより、挟持具６７を左右方
向へ移動させるようにしてある。各挟持具６７と基盤６
６との間には、図５に示す如く、近接スツチ等からなる
センサ７３が配設され、各挟持具６７を所定の挟持位置
で停止するようにしてある。

【００２０】各挟持具６７は、図７に示す如く、垂直片
部６７ａの内側に、スポンジ等からなるクツシヨン層６
７ｂを接合してある。基盤６６から垂下した支持片５７
は、図５及び図６に示す如く、垂直片部５７ａと、下端
に張出した掬上片部５７ｂと、掬上片部５７ｂの上面に
接合したスポンジ等からなるクツシヨン層５７ｃとを備
えている。

【００２１】次に、本実施例の施釉設備を用いた施釉の
手順を説明する。先ず、図１に示す如く、前方の搬入コ
ンベア２１の上に適宜間隔で被施釉物Ｅを載置する。次
に、搬入コンベア２１を駆動して搬入コンベア２１の終
端に被施釉物Ｅを停止させると共に、移動させた前方の
移載装置５６の支持片５７の掬上片部５７ｂを被施釉物
Ｅの下方に進入させる。

【００２２】続けて、移載装置５６を作動させて、挟持
操作装置７４，７４（図７参照）で操作した左右の挟持
具６７，６７を被施釉物Ｅの左右外側面を挟持すると共
に被施釉物Ｅの底面に支持片５７の掬上片部５７ｂを当
接する。そして、移載装置５６の保持具６０を上昇させ
た状態でトロリ５９を搬入位置Ａａの上方に停止する。
次に、保持具６０を降下させて、搬入位置Ａａに停止し
ている搬送装置２３の載置部３１に被施釉物Ｅの底面を
当接すると共に、挟持具６７，６７を開く方向へ移動さ
せて被施釉物Ｅの挟持を解除する。移載の終了した移載
装置５６は、搬入位置Ａａより後方の待機位置へ後退さ
せて次の移載まで待機させる。

【００２３】更に続けて、搬送装置２３の回転部２７を
反時計方向へ９０度間欠駆動させ、搬入位置Ａａで載置
部３１に移載された被施釉物Ｅを、公転する載置部３１
と共に施釉装置２４の開いた開閉扉４１を通過させ、図
３に示すブース３８内の施釉位置Ｂａに移動させる。そ
して、開閉扉４１，４２を閉じた後に、施釉ロボツト３
９で施釉を行う。この施釉は、載置部３１を自転させな
がら被施釉物Ｅの全体へ均一に釉薬を吹き付けて行う。
施釉の際に発生する施釉塵は、排気ダクト４０に導かれ
て回収される。この施釉を行つている間に、図２に示す
搬入位置Ａａに停止している載置部３１に、次の被施釉
物Ｅを移載装置５６で前記同様に移載しておく。

【００２４】前記施釉と被施釉物Ｅの移載とが終了した
ならば、搬送装置２３の回転部２７を９０度間欠駆動さ
せ、施釉済の被施釉物Ｅを、公転する載置部３１と共に
施釉装置２４の開いた開閉扉４２を通過させて搬出位置
Ｃａに移動させる。この移動の際には、後方の移載装置
５６を搬出位置Ｃａより前方の位置で待機させておく。
搬出位置Ｃａで停止している載置部３１に載置されてい
る施釉済の被施釉物Ｅを、移動させた移載装置５６の支
持片５７の掬上片部５７ｂで掬上げると共に左右の挟持
具６７，６７で挟持し、その支持状態で搬出コンベア２
２の始端側上方へ移動した後に、搬出コンベア２２のコ
ンベア５３，５３上に移載する。移載の終了した移載装
置５６は、搬出位置Ｃａより前方の待機位置まで後退さ
せて待機させる。

【００２５】施釉済の被施釉物Ｅを搬出位置Ｃａから搬
出コンベア２２へ移載する間に、施釉位置Ｂａに移動し
ている被施釉物Ｅに施釉ロボツト３９で施釉すると共
に、搬入位置Ａａに停止している載置部３１に被施釉物
Ｅを前方の移載装置５６で移載しておく。

【００２６】次に、搬送装置２３の回転部２７を９０度
間欠駆動させ、被施釉物Ｅの搬出した載置部３１を洗浄
装置２４の洗浄位置Ｄａに移動させる。そして、図３に
示すように、洗浄位置Ｄａで自転している載置部３１に
洗浄水ノズル４６から洗浄水を噴射して、載置部３１に
付着している釉薬を洗い落とす。この洗浄している間
に、搬出位置Ｃａの施釉済の被施釉物Ｅを移載装置５６
で搬出コンベア２２へ移載し、施釉位置Ｂａに移動して
いる被施釉物Ｅに施釉ロボツト３９で施釉し、更に搬入
位置Ａａの載置部３１に被施釉物Ｅを移載装置５６で移
載しておく。

【００２７】前述のように、本施釉設備は、搬送装置２
３の回転部２７を間欠停止している間に、搬入コンベア
２１から搬入位置Ａａの載置部３１に被施釉物Ｅを移載
装置５６で移載し、施釉位置Ｂａの載置部３１に載置さ
れている被施釉物Ｅに施釉ロボツト３９で施釉し、搬出
位置Ｃａの載置部３１に載置されている施釉済の被施釉
物Ｅを搬出コンベア２２へ移載装置５６で移載する。そ
して、本施釉設備は、搬送装置２３の回転部２７を９０
度間欠回動させることにより、搬入位置Ａａの被施釉物
Ｅを施釉位置Ｂａへ移動させると共に、施釉位置Ｂａの
被施釉物Ｅを搬出位置Ｃａに移動させる。

【００２８】本施釉設備は、各支持腕２９の被施釉物用
載置部３１を、搬入位置Ａａと施釉位置Ｂａと搬出位置
Ｃａとにこの順番で間欠移動させるため、一つの支持腕
２９の被施釉物用載置部３１が施釉位置Ｂａで停止して
いるときに、搬入位置Ａａで停止している他の支持腕２
９の被施釉物用載置部３１に被施釉物Ｅを移載できると
共に、搬出位置Ｃａで停止している他の支持腕２９の被
施釉物用載置部３１から施釉済の被施釉物Ｅを移載する
ことができる。そのため、施釉作業と搬入・搬出のため
の移載作業とを並行して行わせることが可能となり、１
サイクルを短縮することができる。

【００２９】更に、本施釉設備は、一つの支持腕２９の
被施釉物用載置部３１が施釉位置Ｂａで停止していると
きに、洗浄位置Ｄａで停止している他の支持腕２９の被
施釉物用載置部３１を洗浄することができるため、施釉
作業と搬入・搬出のための移載作業と洗浄作業とを並行
して行わせることが可能となり、１サイクルを短縮する
ことができる。

【００３０】本実施例の施釉設備は、洗面器素地の施釉
に限定するものではなく、大便器等の被施釉物にも適用
できる。更に、本発明に係る施釉設備は、前記実施例に
限定するものではなく、実施の態様により変更するこが
可能である。例えば、洗浄装置２５を省略できるときに
は、搬送装置２３の回転部２７から回転軸芯２７ａの周
りを三等分割するように放射伏に三本の支持腕２９を突
設し、各支持腕２９の先端に設けた載置部３１が、搬入
位置Ａａと施釉位置Ｂａと搬出位置Ｃａとをこの順番で
間欠停止するようにすることもある。更に、搬送装置２
３の回転部２７から回転軸芯２７ａの周りをｎ等分割す
るように放射状にｎ本の支持腕２９を突設し、各支持腕
２９の先端に設けた載置部３１が、搬入位置Ａａと施釉
位置Ｂａと搬出位置Ｃａと洗浄位置Ｄａとにこの順番で
間欠停止させるようにすることもある。

【００３１】

【発明の効果】以上詳述の如く、本発明に係る施釉設備
は、次の如き優れた効果を有する。請求項１記載の本発
明に係る施釉設備は、施釉作業と慎重に行う必要がある
搬入・搬出のための移載作業とを並行して行わせ、今回
の施釉作業と次回の施釉作業との間の１サイクルを短縮
することができるため、施釉設備の稼働効率を飛躍的に
向上させることができる。請求項２記載の本発明に係る
施釉設備は、施釉作業と慎重に行う必要がある搬入・搬
出のための移載作業と洗浄作業とを並行して行わせて１
サイクルを短縮することができるため、施釉設備の稼働
効率を飛躍的に向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る施釉設備の実施例を示すものであ
つて、洗浄ブースを省略した設備全体の右側面図であ
る。

【図２】同実施例における設備全体を示す平面図であ
る。

【図３】図２のイ−イ線における断面図である。

【図４】同実施例における搬送装置及び移載装置を省略
して示す右側面図である。

【図５】同実施例における移載装置を拡大して示す右側
面図である。

【図６】同実施例における移載装置を拡大して示す部分
断面した正面図である。

【図７】同実施例における移載装置の挟持操作装置を示
す断面した正面図である。

【図８】従来の施釉装置の全体を示す斜視図であつて、
搬入側及び搬出側の搬送装置を後退させた状態を示すも
のである。

【図９】従来の施釉装置の全体を示す斜視図であつて、
搬入側の搬送装置を前進させている途中の状態及び搬出
側の搬送装置を後退させている途中の状態を示すもので
ある。

【符号の説明】

Ｅ…被施釉物 Ａａ…搬入位置 Ｂａ…施釉位置 Ｃａ…搬出位置 Ｄａ…洗浄位置 ２３…搬送装置 ２７…回転部 ２７ａ…回転軸芯 ２９…支持腕 ３１…被施釉物用載置部 ４６…洗浄水ノズル

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被施釉物の搬入位置から施釉位置を経て
   搬出位置に搬送する搬送装置を備えた施釉設備におい
   て、前記搬送装置は、起立した回転軸芯を有する回転部
   と、回転部から回転軸芯の周りを等分割する中心角毎に
   放射状に突設すると共にその先端側に被施釉物用載置部
   を回転自在に設けた３本以上の支持腕と、回転軸芯を中
   心としてこれら支持腕を上記中心角と同ピツチで間欠移
   動させる駆動装置とを備え、これら各支持腕の被施釉物
   用載置部を、前記搬入位置と施釉位置と搬出位置とにこ
   の順番で間欠停止させるようにしたことを特徴とする施
   釉設備。
2. 【請求項２】 前記支持腕を４本以上突設すると共に、
   これら各支持腕の被施釉物用載置部を、前記搬出位置と
   搬入位置との間に設けた洗浄位置にも間欠停止させ、洗
   浄位置の近傍に前記被施釉物用載置部に向かつて吐水す
   る洗浄水ノズルを備えた請求項１記載の施釉設備。