JPH0930772A - 被施釉物用移載装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】転落事故なく確実且つ迅速に被施釉物を移載で
きる被施釉物用移載装置。 【構成】被施釉物Ｅを移載するときに用いる被施釉物用
移載装置５６において、案内レール５８に案内されるト
ロリ５９と、トロリ５９から上下移動自在に吊下げた保
持具６０とを備え、トロリ５９と保持具６０とを昇降操
作具６５で連結し、保持具６０は、昇降操作具６５を接
合すると共に下方に被施釉物保持用空間Ｆを形成した基
盤６６と、基盤６６から該空間Ｆの左右両外側に垂下す
ると共に該空間Ｆに向かつて離反自在な一対の挟持具６
７，６７と、各挟持具６７を所望位置で停止させる挟持
操作装置７４と、基盤６６から該空間Ｆを回避するよう
に垂下すると共に下端から該空間Ｆの下方の前後方向に
掬上片部５７ｂを張出した支持片５７とを備えたこと。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、便器素地又は洗面
器素地等の被施釉物を移載するときに用いる被施釉物用
移載装置の改良に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、施釉設備には、特開平１−１１９
５８５号公報に記載のものがある。施釉設備は、図８及
び図９に示す如く、大便器素地専用のものであつて、搬
入ステーシヨンＡと搬出ステーシヨンＣとの間に施釉ス
テーシヨンＢを設けてある。搬入ステーシヨンＡには、
搬入コンベア１と、搬入コンベア１で搬入された被施釉
物Ｅを搬入位置Ａａに移載する吊下げ式の移載装置２と
を設けてある。施釉ステーシヨンＢには、鉛直軸芯周り
に回動可能に設置された被施釉物載置用の受台３と、受
台上の被施釉物Ｅに向かつて釉薬を吹付けるノズル４ａ
を有する施釉装置４と、受台３を囲む上下に伸縮自在な
囲繞シート５ａよりなるブース５とを設けてある。搬出
ステーシヨンＣには、搬出コンベア６と、搬出位置Ｃａ
に移載された被施釉物Ｅを搬出コンベア６へ移載する吊
下げ式の移載装置７とを設けてある。

【０００３】前記搬入ステーシヨンＡの搬入位置Ａａに
移載された被施釉物Ｅを施釉ステーシヨンＢの受台３上
の施釉位置Ｂａに移載する移載装置８は、進退自在且つ
上下移動自在な片持ち支持状態の平行棒９，９と、各平
行棒９に取着した載置部１０とを備え、載置部１０，１
０を搬入位置Ａａから受台３の両外側位置まで進退させ
ると共に、受台３の両外側位置で載置部１０，１０を上
下移動させるようにしてある。搬入位置Ａａで移載装置
８の後退している載置部１０，１０に移載された被施釉
物Ｅは、載置部１０，１０の前進に伴い受台３の上方へ
搬送され、載置部１０，１０の降下に伴い受台３の上に
移載される。移載装置８の平行棒９，９は、その先端
に、受台３を清掃するための、清掃用ワイパ１１，１１
（図９参照）を設けてある。

【０００４】施釉位置Ｂａである受台３の上に載置され
た被施釉物Ｅは、施釉される。この施釉は、ブース５の
囲繞シート５ａを上方に伸ばして受台３の回りを囲み、
施釉装置４のノズル４ａから被施釉物Ｅに向かつて釉薬
を吹付けて行う。施釉が終了すると、ブース５の囲繞シ
ート５ａは、下方に縮んで受台３の回りを開放する。

【０００５】施釉した被施釉物Ｅを施釉位置Ｂａから搬
出ステーシヨンＣの搬出位置Ｃａに搬送する移載装置１
２は、進退自在且つ上下移動自在な片持ち支持状態の平
行棒１３，１３と、各平行棒１３に取着した載置部１４
とを備え、受台３の両外側位置で載置部１０，１０を上
下移動させると共に、載置部１０，１０を施釉位置Ｂａ
から搬出位置Ｃａまで進退させるようにしてある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記移載装
置８は、片持ち支持状態で進退する平行棒９，９の先端
に載置部１０，１０を取着してあるため、載置部１０，
１０に重たい被施釉物Ｅを載置して平行棒９，９を張出
すと、平行棒９，９の片持ち支持部に大きな曲げモーメ
ントが作用する。そのため、平行棒９，９の片持ち支持
部は、累積的使用によりガタが生じて、張出した載置部
１０，１０の上下位置が変動し、移載不良を招くことが
ある。前記移載装置１２についても、同様な移載不良を
招くことがある。そのため、移載装置８，１２は、保守
点検する頻度が高く、施釉設備の稼働効率を低下させる
問題があつた。

【０００７】更に、前記移載装置８は、載置部１０，１
０に載置した状態のままで被施釉物Ｅを移動させるた
め、載置部１０，１０に対する座りの悪い被施釉物Ｅ
（例えば洗面器素地）の場合には、移動中のシヨツクに
よりに載置部１０，１０から転落させる事故がある。前
記移載装置１２についても、同様な転落事故を招くこと
がある。そのため、移載装置８，１２は、移動中のシヨ
ツクを与えないように、移動速度を非常に遅する必要が
あり、施釉設備の稼働効率を低下させる問題があつた。

【０００８】本発明は、上記問題を解決するために、転
落事故なく確実且つ迅速に被施釉物を移載できる被施釉
物用移載装置の提供を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、被施釉
物を移載するときに用いる被施釉物用移載装置におい
て、案内レールに案内されるトロリと、トロリから上下
移動自在に吊下げた保持具とを備え、トロリと保持具と
を昇降操作具で連結し、保持具は、昇降操作具を接合す
ると共に下方に被施釉物保持用空間を形成した基盤と、
基盤から該空間の左右両外側に垂下すると共に該空間に
向かつて離反自在な一対の挟持具と、各挟持具を所望位
置で停止させる挟持操作装置と、基盤から該空間を回避
するように垂下すると共に下端から該空間の下方の前後
方向に掬上片部を張出した支持片とを備えたことを特徴
とする被施釉物用移載装置である。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る被施釉物用移
載装置の実施例（以下、「本発明移載装置」）を本発明
移載装置を用いた図１乃至図７に示す施釉設備に基づい
て説明する。図１は洗浄ブースを省略して示す施釉設備
全体の右側面図、図２は施釉設備全体を示す平面図、図
３は図２のイ−イ線における断面図、図４は搬送装置及
び前後の移載装置を省略して示す右側面図、図５は本発
明移載装置の実施例を拡大して示す右側面図、図６は同
実施例の本発明移載装置を拡大して示す部分断面した正
面図、図７は同実施例の本発明移載装置の挟持操作装置
を示す断面した正面図である。

【００１１】本実施例の施釉設備は、図１及び図２に示
す如く、洗面器素地である被施釉物Ｅを施釉するための
ものであり、前方の搬入コンベア２１と後方の搬出コン
ベア２２との中間に回転式の搬送装置２３を配設すると
共に、搬送装置２３の左右外側に施釉装置２４と洗浄装
置２５とを配設してある。

【００１２】前記搬送装置２３は、起立した回転軸芯２
７ａを中心として回転する回転部２７と、回転部２７を
軸支する固定部２８と、回転部２７から回転軸芯２７ａ
の周りを四等分割するように放射状に突設する四本の支
持腕２９と、回転部２７を９０度づつ間欠回転駆動する
駆動装置（図示省略）とを備えている。各支持腕２９
は、先端側に軸受部３０を立設すると共に、軸受部３０
の上端に被施釉物用載置部３１を回転自在に設けてあ
る。各載置部３１は、図３に示す如く、中間の凹溝部３
１ａを挟むようにして、両側に載置面３１ｂ，３１ｂが
形成されている。載置部３１は、起立した回転軸芯２７
ａを中心として公転する共に、軸受部３０を中心として
自転するようになつている。

【００１３】上記搬送装置２３の載置部３１は、図２に
示す如く、搬入位置Ａａと搬出位置Ｃａに停止している
とき及び公転するときには、長手方向Ｆが公転の接線方
向と一致する状態で自転が停止し、施釉位置Ｃａ及び洗
浄位置Ｄａに停止しているときには、自転できるように
なつている。各載置部３１は、回転部２７の間欠回転駆
動に伴い、搬入位置Ａａと施釉位置Ｂａと搬出位置Ｃａ
と洗浄位置Ｄａとにこの順番で停止する。

【００１４】前記施釉装置２４は、図３に示す如く、前
後側壁面３３，３４と右側壁面３５と天井面３６と床面
３７とで囲まれると共に左側が開口したブース３８と、
左外側に配設した施釉ロボツト３９と、右側壁面３５の
中央に開口した吸引口３５ａに接合した排気ダクト４０
とを備えている。ブース３８の右側壁面３５は、図１及
び図４に示す如く、前記搬送装置２３の公転する支持腕
２９が通過するための横長の開口部３５ｂが形成されて
いると共に、公転する支持腕２９の先端部及び載置部３
１が通過するための開閉扉４１，４２が設けられてい
る。各開閉扉４１，４２は、エアーシリンダ等からなる
開閉操作具４３で開閉操作され、搬送装置２３の公転す
る支持腕２９が通過するときに開き（図２中に破線で示
す状態）、施釉するときに閉じるようになつている。上
記排気ダクト４０は、その終端が集塵装置（図示省略）
に接合され、施釉時に発生する釉薬塵をブース３８の吸
引口３５ａから吸引して集塵回収するようになつてい
る。

【００１５】前記洗浄装置２５は、図３に示す如く、四
周の側壁面と天井面と床面とで囲まれたブース４５と、
洗浄位置Ｄａに停止する前記搬送装置２３の載置部３１
に向かつて吐水する洗浄水ノズル４６の複数個とを備え
ている。ブース４５は、前後側壁面４７，４８と左側壁
面４９に、前記搬送装置２３の公転する支持腕２９及び
載置部３１が通過するための開口部４７ａ，４８ａ，４
９ａを開設してある。

【００１６】前記前方の搬入コンベア２１は、図１及び
図２に示す如く、被施釉物Ｅを搬入するための二本の平
行なエンドレスベルト５１，５１を備え、エンドレスベ
ルト５１，５１の終端側の間に空間５２が形成され、こ
の空間５２に後述する前方の本発明移載装置５６の支持
片５７が進入して被施釉物Ｅを掬上げることができるよ
うになつている。エンドレスベルト５１，５１は、終端
側の被施釉物Ｅが本発明移載装置５６で移載されると、
終端側に次の被施釉物Ｅを搬入するように間欠駆動す
る。

【００１７】前記後方の搬出コンベア２２は、被施釉物
Ｅを搬出するための二本の平行なエンドレスベルト５
３，５３を備え、エンドレスベルト５３，５３の始端側
の間に空間５４が形成され、この空間５４に後述する後
方の本発明移載装置５６の支持片５７が進入して被施釉
物Ｅをエンドレスベルト５３，５３に載置できるように
なつている。エンドレスベルト５３，５３は、始端側に
本発明移載装置５６で被施釉物Ｅが移載されると、移載
位置が空となるように被施釉物Ｅを搬出するように間欠
駆動する。

【００１８】前記前後の各本発明移載装置５６は、図５
及び図６に示す如く、前後に延設した案内レール５８，
５８に案内されるトロリ５９と、トロリ５９に上下移動
自在に吊下げた保持具６０とを備えている。トロリ５９
は、案内レール５８，５８に案内されるコロ６１の４個
を備えた車本体６２と、前後移動させる駆動装置６３と
を備えている。トロリ５９と保持具６０との連結は、ト
ロリ５９の車本体６２と保持具６０の基盤６６とを摺動
案内具６４，６４で上下移動自在に連結すると共に、車
本体６２と基盤６６とに接合したエアーシリンダ等から
なる昇降操作具６５で保持具６０を昇降させるようにし
てある。

【００１９】上記保持具６０は、基盤６６の底面側に被
施釉物保持用空間Ｆを形成し、空間Ｆに向かつて離反自
在な一対の挟持具６７，６７を基盤６６から空間Ｆの左
右両外側に垂下し、基盤６６の中央側縁から空間Ｆを回
避するように支持片５７を垂下してある。基盤６６と各
挟持具６７との連結は、基盤６６に取付けた前後一対の
案内棒６８，６８に、挟持具６７に取付けたスライダ６
９，６９…を左右移動自在に案内してある。図７に示す
如く、各挟持具６７を左右方向へ移動して所望位置で停
止させる挟持操作装置７４は、基盤６６に回転自在に軸
支したボルト７０に、挟持具６７に取付けたナツト７１
を螺合し、ボルト７０をサーボモータ等からなる駆動具
７２で正逆回転させることにより、挟持具６７を左右方
向へ移動させるようにしてある。各挟持具６７と基盤６
６との間には、図５に示す如く、近接スツチ等からなる
センサ７３が配設され、被施釉物いの大きさに応じて各
挟持具６７を所定の挟持位置で停止するようにしてあ
る。

【００２０】各挟持具６７は、図７に示す如く、垂直片
部６７ａの内側に、スポンジ等からなるクツシヨン層６
７ｂを接合してある。基盤６６から垂下した支持片５７
は、図５及び図６に示す如く、垂直片部５７ａと、下端
から空間Ｆの下方へ張出した掬上片部５７ｂと、掬上片
部５７ｂの上面に接合したスポンジ等からなるクツシヨ
ン層５７ｃとを備えている。クツシヨン層６７ｂ，６７
ｂ及びクツシヨン層５７ｃの表面形状は、被施釉物Ｅの
形状に対応する曲面形状とすることもある。

【００２１】次に、本実施例の施釉設備を用いた施釉の
手順を説明する。先ず、図１に示す如く、前方の搬入コ
ンベア２１の上に適宜間隔で被施釉物Ｅを載置する。次
に、搬入コンベア２１を駆動して搬入コンベア２１の終
端に被施釉物Ｅを停止させると共に、移動させた前方の
本発明移載装置５６の被施釉物保持用空間Ｆに被施釉物
Ｅを挿入させ、被施釉物Ｅの下方に支持片５７の掬上片
部５７ｂを進入させる。

【００２２】続けて、本発明移載装置５６を動作させ
て、挟持操作装置７４，７４（図７参照）で操作した左
右の挟持具６７，６７を被施釉物Ｅの左右外側面を挟持
すると共に、被施釉物Ｅの底面に支持片５７の掬上片部
５７ｂを当接する。そして、本発明移載装置５６の保持
具６０を上昇させた状態でトロリ５９を搬入位置Ａａの
上方に停止する。本発明移載装置５６は、被施釉物Ｅの
底面を支持片５７の掬上片部５７ｂで掬上げると共に、
被施釉物Ｅの左右両外側面を一対の挟持具６７，６７で
挟持することにより、被施釉物Ｅを転落事故なく確実且
つ迅速に移載することが可能となる。次に、保持具６０
を降下させて、搬入位置Ａａに停止している搬送装置２
３の載置部３１に被施釉物Ｅの底面を当接すると共に、
挟持具６７，６７を開く方向へ移動させて被施釉物Ｅの
挟持を解除する。移載の終了した本発明移載装置５６
は、搬入位置Ａａより後方の待機位置へ後退させて次の
移載まで待機させる。

【００２３】更に続けて、搬送装置２３の回転部２７を
反時計方向へ９０度間欠駆動させ、搬入位置Ａａで載置
部３１に移載された被施釉物Ｅを、公転する載置部３１
と共に施釉装置２４の開いた開閉扉４１を通過させ、図
３に示すブース３８内の施釉位置Ｂａに移動させる。そ
して、開閉扉４１，４２を閉じた後に、施釉ロボツト３
９で施釉を行う。この施釉は、載置部３１を自転させな
がら被施釉物Ｅの全体へ均一に釉薬を吹き付けて行う。
施釉の際に発生する施釉塵は、排気ダクト４０に導かれ
て回収される。この施釉を行つている間に、図２に示す
搬入位置Ａａに停止している載置部３１に、次の被施釉
物Ｅを本発明移載装置５６で前記同様に移載しておく。

【００２４】前記施釉と被施釉物Ｅの移載とが終了した
ならば、搬送装置２３の回転部２７を９０度間欠駆動さ
せ、施釉済の被施釉物Ｅを、公転する載置部３１と共に
施釉装置２４の開いた開閉扉４２を通過させて搬出位置
Ｃａに移動させる。この移動の際には、後方の本発明移
載装置５６を搬出位置Ｃａより前方の位置で待機させて
おく。搬出位置Ｃａで停止している載置部３１に載置さ
れている施釉済の被施釉物Ｅを、移動させた本発明移載
装置５６の支持片５７の掬上片部５７ｂで掬上げると共
に左右の挟持具６７，６７で挟持し、その支持状態で搬
出コンベア２２の始端側上方へ移動した後に、搬出コン
ベア２２のコンベア５３，５３上に移載する。移載の終
了した本発明移載装置５６は、搬出位置Ｃａより前方の
待機位置まで後退させて待機させる。

【００２５】施釉済の被施釉物Ｅを搬出位置Ｃａから搬
出コンベア２２へ移載する間に、施釉位置Ｂａに移動し
ている被施釉物Ｅに施釉ロボツト３９で施釉すると共
に、搬入位置Ａａに停止している載置部３１に被施釉物
Ｅを前方の本発明移載装置５６で移載しておく。

【００２６】次に、搬送装置２３の回転部２７を９０度
間欠駆動させ、被施釉物Ｅの搬出した載置部３１を洗浄
装置２４の洗浄位置Ｄａに移動させる。そして、図３に
示すように、洗浄位置Ｄａで自転している載置部３１に
洗浄水ノズル４６から洗浄水を噴射して、載置部３１に
付着している釉薬を洗い落とす。この洗浄している間
に、搬出位置Ｃａの施釉済の被施釉物Ｅを本発明移載装
置５６で搬出コンベア２２へ移載し、施釉位置Ｂａに移
動している被施釉物Ｅに施釉ロボツト３９で施釉し、更
に搬入位置Ａａの載置部３１に被施釉物Ｅを本発明移載
装置５６で移載しておく。

【００２７】前述のように、本施釉設備は、搬送装置２
３の回転部２７を間欠停止している間に、搬入コンベア
２１から搬入位置Ａａの載置部３１に被施釉物Ｅを本発
明移載装置５６で移載し、施釉位置Ｂａの載置部３１に
載置されている被施釉物Ｅに施釉ロボツト３９で施釉
し、搬出位置Ｃａの載置部３１に載置されている施釉済
の被施釉物Ｅを搬出コンベア２２へ本発明移載装置５６
で移載する。そして、本施釉設備は、搬送装置２３の回
転部２７を９０度間欠回動させることにより、搬入位置
Ａａの被施釉物Ｅを施釉位置Ｂａへ移動させると共に、
施釉位置Ｂａの被施釉物Ｅを搬出位置Ｃａに移動させ
る。

【００２８】前記移載装置５６は、被施釉物保持用空間
Ｆに挿入された被施釉物Ｅの底面を支持片５７の掬上片
部５７ｂで掬上げると共に、被施釉物Ｅの左右両外側面
を一対の挟持具６７，６７で挟持することにより、被施
釉物Ｅを転落させない状態で確実に保持できる。更に、
被施釉物Ｅを保持した保持具６０を昇降操作具６５で昇
降させることができると共に、被施釉物Ｅを保持した保
持具６０をトロリ５９で前後移動させることができるた
め、大きな曲げモーメントの発生する部材を用いる必要
がなくなり、所望の位置へ被施釉物Ｅを正確に移載させ
ることができる。

【００２９】本実施例の施釉設備は、洗面器素地の施釉
に限定するものではなく、大便器等の被施釉物にも適用
できる。

【００３０】

【発明の効果】以上詳述の如く、本発明に係る被施釉物
用移載装置は、大きな曲げモーメントの発生する部材を
用いる必要がなくなるため、所望の位置へ被施釉物を転
落事故なく確実且つ迅速に移載することが可能となり、
施釉設備等の設備の稼働効率を飛躍的に向上させること
ができる優れた効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る施釉物用移載装置を用いた施釉設
備の実施例を示すものであつて、洗浄ブースを省略した
設備全体の右側面図である。

【図２】同実施例における施釉設備全体を示す平面図で
ある。

【図３】図２のイ−イ線における断面図である。

【図４】同実施例における搬送装置及び移載装置を省略
して示す右側面図である。

【図５】本発明に係る施釉物用移載装置の実施例を拡大
して示す右側面図である。

【図６】同実施例における移載装置を拡大して示す部分
断面した正面図である。

【図７】同実施例における移載装置の挟持操作装置を示
す断面した正面図である。

【図８】従来の被施釉用移載装置を用いた施釉装置の全
体を示す斜視図であつて、搬入側及び搬出側の移載装置
を後退させた状態を示すものである。

【図９】従来の被施釉用移載装置を用いた施釉装置の全
体を示す斜視図であつて、搬入側の搬送装置を前進させ
ている途中の状態及び搬出側の移載装置を後退させてい
る途中の状態を示すものである。

【符号の説明】

Ｅ…被施釉物 Ｆ…被施釉物保持用空間 ５６…被施釉物用移載装置 ５７…支持片 ５７ｂ…掬上片部 ５８…案内レール ５９…トロリ ６０…保持具 ６５…昇降操作具 ６６…基盤 ６７…挟持具 ７４…挟持操作装置

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被施釉物を移載するときに用いる被施釉物
   用移載装置において、案内レールに案内されるトロリ
   と、トロリから上下移動自在に吊下げた保持具とを備
   え、トロリと保持具とを昇降操作具で連結し、保持具
   は、昇降操作具を接合すると共に下方に被施釉物保持用
   空間を形成した基盤と、基盤から該空間の左右両外側に
   垂下すると共に該空間に向かつて離反自在な一対の挟持
   具と、各挟持具を所望位置で停止させる挟持操作装置
   と、基盤から該空間を回避するように垂下すると共に下
   端から該空間の下方の前後方向に掬上片部を張出した支
   持片とを備えたことを特徴とする被施釉物用移載装置。