JPH0930877A - 施釉設備 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】ブースの壁面に釉薬の堆積物を生じさせること
がなく、更に施釉具を安全に調整する等できる施釉設
備。 【構成】ブース３８内の施釉空間Ｇから見て施釉具３９
と反対側に位置するブースの壁面３５に集塵用吸引口３
５ａを開設し、施釉空間Ｇと向き合う位置に吸引口３５
ａを開設したこと。吸引口３５ａから見て施釉具３９と
反対側の位置に起立した回転軸芯２７ａを有する回転部
２７と、回転部２７から放射状に突設した支持腕２９
と、支持腕２９の先端側に適宜高さで立設した被施釉物
用載置部３１とを有する搬送装置２３を備え、吸引口３
５ａを開設した壁面３５に、被施釉物用載置部３１が通
過する開閉扉４１，４２及び支持腕２９が通過する開口
部３５ｂが設られている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、便器素地又は洗面
器素地等の被施釉物に釉薬を施釉する設備の改良に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、施釉設備には、特開平６−１４４
９６２号公報に記載のものがある。施釉設備は、図５の
断面図に示す如く、平面Ｕ字状にＵターンする天井コン
ベア１と、天井コンベア１から吊り下げられたハンガー
２と、天井コンベア１がＵターンする箇所の下方に形成
された施釉空間Ｇに向かつて釉薬を噴射する施釉具４
と、施釉空間Ｇを壁面５ａ，５ｂ等で囲むブース５とを
備え、施釉空間Ｇから見て施釉具４の設置側と反対側に
位置するブース５の壁面５ａの下方に、集塵用吸引口６
を開設したものである。吸引口６は、排気ダクト７を介
して集塵装置（図示省略）に接合され、施釉時に発生す
る釉薬の粉塵を吸引して集塵回収するようになつてい
る。

【０００３】この施釉設備は、ハンガー２に載置された
被施釉物Ｅが施釉空間Ｇに搬入されると、施釉具４のノ
ズル４ａから被施釉物Ｅに向かつて釉薬を吹付けて施釉
し、その後に施釉が終了した被施釉物Ｅを天井コンベア
１で搬出する。吹付けられた釉薬のうち、被施釉物Ｅに
付着しなくてブース５内を浮遊する釉薬の粉塵は、吸引
口６に吸引されて回収される。回収された釉薬は、再度
使用される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ブース５
は、施釉空間Ｇと向き合う壁面５ａの位置に、最も釉薬
が付着して堆積する。そのため、従来の施釉設備は、壁
面５ａに釉薬の堆積物Ｈが発生し、施釉時に回転する被
施釉物Ｅが堆積物Ｈと接触し、施釉面に傷つけて歩留り
を低下させる等の問題がある。更に、従来の施釉装置
は、平面Ｕ字状にＵターンする天井コンベア１から吊り
下げられたハンガー２が通過する通路の間に、施釉具４
が配置されている。そのため、施釉具４を調整する等す
るときには、作業者が移動中のハンガー２に接触するこ
とがあり、非常に危険である。

【０００５】本発明は、上記問題を解決するために、ブ
ースの壁面に釉薬の堆積物を生じさせることがなく、更
に施釉具を安全に調整する等できる施釉設備の提供を目
的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の本発明の
要旨は、被施釉物が搬入する施釉空間に向かつて釉薬を
噴射する施釉具と、施釉空間を壁面で囲むブースとを備
え、施釉空間から見て施釉具の設置側と反対側に位置す
るブースの壁面に、集塵用吸引口を開設した施釉設備に
おいて、前記施釉空間と向き合う位置に前記吸引口を開
設したことを特徴とする施釉設備である。

【０００７】請求項２記載の本発明の要旨は、前記吸引
口から見て前記施釉具の設置側と反対側の位置に起立し
た回転軸芯を有する回転部と、回転部から放射状に突設
した支持腕と、支持腕の先端側に適宜高さで立設した被
施釉物用載置部とを有する搬送装置を備え、前記吸引口
を開設した壁面に、前記ブースの内部へ被施釉物用載置
部が出入りする際に、被施釉物用載置部が通過する開閉
扉及び支持腕が通過する開口部が設けられている請求項
１記載の施釉設備である。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る施釉設備を図
１乃至図４に示す実施例に基づいて説明する。図１は洗
浄ブースを省略して示す設備全体の右側面図、図２は設
備全体を示す平面図、図３は図２のイーイ線における断
面図、図４は搬送装置及び前後の移載装置を省略して示
す右側面図である。

【０００９】本実施例は、図１及び図２に示す如く、洗
面器素地である被施釉物Ｅを施釉するためのものであ
り、前方の搬入コンベア２１と後方の搬出コンベア２２
との中間に回転式の搬送装置２３を配設すると共に、搬
送装置２３の左右外側に施釉装置２４と洗浄装置２５と
を配設してある。

【００１０】前記搬送装置２３は、起立した回転軸芯２
７ａを中心として回転する回転部２７と、回転部２７を
軸支する固定部２８と、回転部２７から回転軸芯２７ａ
の周りを四等分割するように放射状に突設する四本の支
持腕２９と、回転部２７を９０度づつ間欠回転駆動する
駆動装置（図示省略）とを備えている。各支持腕２９
は、先端側に軸受部３０を立設すると共に、軸受部３０
の上端に被施釉物用載置部３１を回転自在に設けてあ
る。各載置部３１は、図３に示す如く、中間の凹溝部３
１ａを挟むようにして、両側に載置面３１ｂ，３１ｂが
形成されている。載置部３１は、起立した回転軸芯２７
ａを中心として公転する共に、軸受部３０を中心として
自転するようになつている。

【００１１】上記搬送装置２３の載置部３１は、図２に
示す如く、搬入位置Ａａと搬出位置Ｃａに停止している
とき及び公転するときには、長手方向Ｆが公転の接線方
向と一致する状態で自転が停止し、施釉位置Ｃａ及び洗
浄位置Ｄａに停止しているときには、自転できるように
なつている。各載置部３１は、回転部２７の間欠回転駆
動に伴い、搬入位置Ａａと施釉位置Ｂａと搬出位置Ｃａ
と洗浄位置Ｄａとにこの順番で停止する。

【００１２】前記施釉装置２４は、図３に示す如く、前
後側壁面３３，３４と右側壁面３５と天井面３６と床面
３７とで囲まれると共に左側が開口したブース３８と、
左外側に配設したロボツト式の施釉具３９と、右側壁面
３５の中央に開口した吸引口３５ａに接合した排気ダク
ト４０とを備えている。ブース３８の右側壁面３５は、
図１及び図４に示す如く、前記搬送装置２３の公転する
支持腕２９が通過するための横長の開口部３５ｂが形成
されていると共に、公転する支持腕２９の先端部及び載
置部３１が通過するための開閉扉４１，４２が設けられ
ている。各開閉扉４１，４２は、エアーシリンダ等から
なる開閉操作具４３で開閉操作され、搬送装置２３の公
転する支持腕２９が通過するときに開き（図２中に破線
で示す状態）、施釉するときに閉じるようになつてい
る。

【００１３】上記排気ダクト４０は、その終端が集塵装
置（図示省略）に接合され、施釉時に発生する釉薬の粉
塵（以下、「釉薬塵」という）をブース３８の吸引口３
５ａから吸引して集塵回収するようになつている。吸引
口３５ａは、施釉位置Ｂａ上に形成された施釉空間Ｇ
（施釉中の被施釉物Ｅが位置する空間）と向き合う位置
に開設されている。

【００１４】前記洗浄装置２５は、図３に示す如く、四
周の側壁面と天井面と床面とで囲まれたブース４５と、
洗浄位置Ｄａに停止する前記搬送装置２３の載置部３１
に向かつて吐水する洗浄水ノズル４６の複数個とを備え
ている。ブース４５は、前後側壁面４７，４８と左側壁
面４９に、前記搬送装置２３の公転する支持腕２９及び
載置部３１が通過するための開口部４７ａ，４８ａ，４
９ａを開設してある。

【００１５】前記前方の搬入コンベア２１は、図１及び
図２に示す如く、被施釉物Ｅを搬入するための二本の平
行なエンドレスベルト５１，５１を備え、エンドレスベ
ルト５１，５１の終端側の間に空間５２が形成され、こ
の空間５２に後述する前方の移載装置５６の支持片５７
が進入して被施釉物Ｅを掬上げることができるようにな
つている。エンドレスベルト５１，５１は、終端側の被
施釉物Ｅが移載装置５６で移載されると、終端側に次の
被施釉物Ｅを搬入するように間欠駆動する。

【００１６】前記後方の搬出コンベア２２は、被施釉物
Ｅを搬出するための二本の平行なエンドレスベルト５
３，５３を備え、エンドレスベルト５３，５３の始端側
の間に空間５４が形成され、この空間５４に後述する後
方の移載装置５６の支持片５７が進入して被施釉物Ｅを
エンドレスベルト５３，５３に載置できるようになつて
いる。エンドレスベルト５３，５３は、始端側に移載装
置５６で被施釉物Ｅが移載されると、移載位置が空とな
るように被施釉物Ｅを搬出するように間欠駆動する。

【００１７】前記前後の各移載装置５６は、図１及び図
２に示す如く、前後に延設した案内レール５８，５８に
案内されるトロリ５９と、トロリ５９に上下移動自在に
吊下げた保持具６０とを備えている。保持具６０は、基
盤６６の底面側に左右一対の挟持具６７，６７を左右移
動自在に設けると共に、基盤６６の中央側縁から支持片
５７を垂下してある。各挟持具６７と基盤６６との間に
は、近接スツチ等からなるセンサ（図示は省略）が配設
され、各挟持具６７を所定の挟持位置で停止するように
してある。

【００１８】次に、本実施例の施釉設備を用いた施釉の
手順を説明する。先ず、図１に示す如く、前方の搬入コ
ンベア２１の上に適宜間隔で被施釉物Ｅを載置する。次
に、搬入コンベア２１を駆動して搬入コンベア２１の終
端に被施釉物Ｅを停止させると共に、移動させた前方の
移載装置５６の支持片５７の掬上片部５７ｂを被施釉物
Ｅの下方に進入させる。

【００１９】続けて、移載装置５６の保持具６０を若干
上昇させて、被施釉物Ｅの底面に支持片５７の掬上片部
５７ｂを当接させると共に、左右の挟持具６７，６７を
被施釉物Ｅの左右外側面を挟持する。そして、移載装置
５６の保持具６０を上昇させた状態でトロリ５９を搬入
位置Ａａの上方に停止する。次に、保持具６０を降下さ
せて、搬入位置Ａａに停止している搬送装置２３の載置
部３１に被施釉物Ｅの底面を当接すると共に、挟持具６
７，６７を開く方向へ移動させて被施釉物Ｅの挟持を解
除する。移載の終了した移載装置５６は、搬入コンベア
２１の上方位置まで後退させて次の移載まで待機させ
る。

【００２０】更に続けて、搬送装置２３の回転部２７を
反時計方向へ９０度間欠駆動させ、搬入位置Ａａで載置
部３１に移載された被施釉物Ｅを、公転する載置部３１
と共に施釉装置２４の開いた開閉扉４１を通過させ、図
３に示すブース３８内の施釉位置Ｂａに移動させる。公
転中の支持腕２９は、壁面３５の横長の開口部３５ｂを
通過する。そして、開閉扉４１，４２を閉じた後に、施
釉具３９で施釉を行う。この施釉は、載置部３１を自転
させながら被施釉物Ｅの全体へ均一に釉薬を吹き付けて
行う。

【００２１】施釉の際にブース３８内で発生する施釉塵
は、排気ダクト４０に導かれて回収される。ブース３８
を形成する右側壁面３５は、施釉空間Ｇと向き合つて最
も釉薬が付着して堆積し易い部位に、吸引口３５ａを開
設してあるため、ブース３８内で浮遊している釉薬塵の
堆積がない。従って、施釉装置２４は、被施釉物Ｅの施
釉面を釉薬堆積物で傷つけるこをなくして歩留りの向上
が図れると共に、集塵効率を向上して作業環境を良好に
することができる。なお、この施釉を行つている間に、
図２に示す搬入位置Ａａに停止している載置部３１に、
次の被施釉物Ｅを移載装置５６で前記同様に移載してお
く。

【００２２】前記施釉と被施釉物Ｅの移載とが終了した
ならば、搬送装置２３の回転部２７を９０度間欠駆動さ
せ、施釉済の被施釉物Ｅを、公転する載置部３１と共に
施釉装置２４の開いた開閉扉４２を通過させて搬出位置
Ｃａに移動させる。この移動の際には、後方の移載装置
５６を搬出位置Ｃａより前方の位置で待機させておく。
搬出位置Ｃａで停止している載置部３１に載置されてい
る施釉済の被施釉物Ｅを、移動させた移載装置５６の支
持片５７の掬上片部５７ｂで掬上げると共に左右の挟持
具６７，６７で挟持し、その支持状態で搬出コンベア２
２の始端側上方へ移動した後に、搬出コンベア２２のコ
ンベア５３，５３上に移載する。移載の終了した移載装
置５６は、搬出位置Ｃａより前方の待機位置まで後退さ
せて待機させる。

【００２３】施釉済の被施釉物Ｅを搬出位置Ｃａから搬
出コンベア２２へ移載する間に、施釉位置Ｂａに移動し
ている被施釉物Ｅに施釉具３９で施釉すると共に、搬入
位置Ａａに停止している載置部３１に被施釉物Ｅを前方
の移載装置５６で移載しておく。

【００２４】次に、搬送装置２３の回転部２７を９０度
間欠駆動させ、被施釉物Ｅの搬出した載置部３１を洗浄
装置２４の洗浄位置Ｄａに移動させる。そして、図３に
示すように、洗浄位置Ｄａで自転している載置部３１に
洗浄水ノズル４６から洗浄水を噴射して、載置部３１に
付着している釉薬を洗い落とす。この洗浄している間
に、搬出位置Ｃａの施釉済の被施釉物Ｅを移載装置５６
で搬出コンベア２２へ移載し、施釉位置Ｂａに移動して
いる被施釉物Ｅに施釉具３９で施釉し、更に搬入位置Ａ
ａの載置部３１に被施釉物Ｅを移載装置５６で移載して
おく。

【００２５】前述のように、本施釉設備は、搬送装置２
３の回転部２７を間欠停止している間に、搬入コンベア
２１から搬入位置Ａａの載置部３１に被施釉物Ｅを移載
装置５６で移載し、施釉位置Ｂａの載置部３１に載置さ
れている被施釉物Ｅに施釉具３９で施釉し、搬出位置Ｃ
ａの載置部３１に載置されている施釉済の被施釉物Ｅを
搬出コンベア２２へ移載装置５６で移載する。そして、
本施釉設備は、搬送装置２３の回転部２７を９０度間欠
回動させることにより、搬入位置Ａａの被施釉物Ｅを施
釉位置Ｂａへ移動させると共に、施釉位置Ｂａの被施釉
物Ｅを搬出位置Ｃａに移動させる。

【００２６】本実施例の施釉設備は、施釉空間Ｇと向き
合つて最も釉薬が付着して堆積し易い壁面３５の部位
に、吸引口３５ａを開設してあるため、壁面３５に釉薬
が堆積することはない。更に、本実施例の施釉設備は、
吸引口３５ａから見て施釉具３９の設置側と反対側の位
置に搬送装置２３が備えられるため、施釉具３９の回り
に作業者にとつて危険な搬送装置がない。搬送装置２３
の被施釉物用載置部３１が通過する壁面箇所に開閉扉４
１，４２が設けられているため、施釉時に開閉扉４１，
４２を閉じることにより、ブース内で吸引口３５ａに向
かつて流れる空気流に変動を生じさせることなく、安定
した釉薬の粉塵の回収ができる。

【００２７】本実施例の施釉設備は、洗面器素地の施釉
に限定するものではなく、大便器等の被施釉物にも適用
できる。

【００２８】

【発明の効果】以上詳述の如く、本発明に係る施釉設備
は、次の如き優れた効果を有する。請求項１記載の本発
明に係る施釉設備は、高価な釉薬の回収効率を向上させ
ることができるると共に、被施釉物の施釉面を釉薬堆積
物で傷つけることもなくなり、歩留りを飛躍的に向上で
きる。

【００２９】請求項２記載の本発明に係る施釉設備は、
施釉具の回りに作業者にとつて危険な搬送装置がなく、
安全に施釉具の調整等ができると共に、施釉時に開閉扉
を閉じることにより、ブース内で吸引口に向かつて流れ
る空気流に変動を生じさせることなく、安定した釉薬塵
の回収ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る施釉設備の実施例を示すものであ
つて、洗浄ブースを省略した設備全体の右側面図であ
る。

【図２】同実施例における設備全体を示す平面図であ
る。

【図３】図２のイ−イ線における断面図である。

【図４】同実施例における搬送装置及び移載装置を省略
して示す右側面図である。

【図５】従来の施釉設備を示す断面図である。

【符号の説明】

Ｅ…被施釉物 Ｇ…施釉空間 ２３…搬送装置 ２７…回転部 ２７ａ…回転軸芯 ２９…支持腕 ３１…被施釉物用載置部 ３５…壁面 ３５ａ…吸引口 ３５ｂ…開口部 ３９…施釉具 ４１，４２…開閉扉

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被施釉物が搬入する施釉空間に向かつて釉
   薬を噴射する施釉具と、施釉空間を壁面で囲むブースと
   を備え、施釉空間から見て施釉具の設置側と反対側に位
   置するブースの壁面に、集塵用吸引口を開設した施釉設
   備において、前記施釉空間と向き合う位置に前記吸引口
   を開設したことを特徴とする施釉設備。
2. 【請求項２】前記吸引口から見て前記施釉具の設置側と
   反対側の位置に起立した回転軸芯を有する回転部と、回
   転部から放射状に突設した支持腕と、支持腕の先端側に
   適宜高さで立設した被施釉物用載置部とを有する搬送装
   置を備え、前記吸引口を開設した壁面に、前記ブースの
   内部へ被施釉物用載置部が出入りする際に、被施釉物用
   載置部が通過する開閉扉及び支持腕が通過する開口部が
   設けられている請求項１記載の施釉設備。