JPH10245283A

JPH10245283A - 施釉設備

Info

Publication number: JPH10245283A
Application number: JP9052992A
Authority: JP
Inventors: Yuichiro Aihara; 祐一郎相原
Original assignee: Inax Corp
Current assignee: Inax Corp
Priority date: 1997-03-07
Filing date: 1997-03-07
Publication date: 1998-09-14

Abstract

(57)【要約】【課題】施釉設備の構成を簡単にし、サイクルタイムを
損なうことなく、多品種に対応できるようにする。ま
た、釉薬の回収率を高める。【解決手段】施釉対象物品を載せたパレットを、供給コ
ンベア２で供給位置２ａまで送給し、移載装置４０のリ
フト６０でこの物品を取り上げ、ターンテーブル１１上
に対称に配設したろくろ装置１２上へ移載する。ターン
テーブル１１を回転させ、物品を載せたろくろ装置１２
を施釉ブース３０内へ搬入する。施釉工程の間、空パレ
ットを中間コンベア３の排出位置３ａへ転送すると共
に、次の物品を空のろくろ装置１２へ移載する。施釉完
了後、再びターンテーブル１１を回転させて、ろくろ装
置１２を施釉ブース３０から搬出し、移載装置４０で施
釉した素地を中間コンベア３の排出位置３ａへ移載す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、衛生陶器などの製
造に利用される施釉設備に関し、簡単な構成で施釉工程
のサイクルタイムを損なうことなく多品種の生産に対応
し得るようにすることを目的とする。

【０００２】

【従来の技術】洗面器，便器，タンク等の衛生陶器製品
の製造における施釉工程を、釉薬を塗布又は噴霧する施
釉ロボットを配設した施釉ブース内で行う場合がある。

【０００３】施釉ロボットを配設した施釉ブース内への
物品の出し入れは、従来、施釉対象物品をクランプ機構
で挟んで施釉ブース内へ移動させる手段や、施釉対象物
品を載せたパレットごと施釉ブース内へ搬入するという
手段が採用されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】クランプ機構による移
動手段は、物品の大小や形状変化に対応させるのが難し
いうえに、設備が比較的高価になるという欠点を有して
いる。一方、物品を載せたパレットごと施釉ブース内へ
搬入する手段は、パレットに釉薬が付着するのでパレッ
トを洗浄する必要があり、このため、釉薬の回収効率が
低くなるうえに廃水量が増えるという問題を抱えてい
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、従来の施釉工
程における前記問題点に鑑み、構成が簡単なこと、設置
のための必要面積が少なくて済むこと、サイクルタイム
を損なわないこと、多品種への対応が容易であること、
移動時の素地に対する影響が小さいこと、釉薬の回収効
率が良いこと、等を目的として創案された施釉設備であ
る。

【０００６】かかる目的達成のため、本発明が採用する
施釉設備の特徴とするところは、施釉対象物品を所定の
供給位置へ送給する機能と施釉後の物品を所定の排出位
置から排出する機能とを有する搬送装置、物品載置部と
当該物品載置部の自転機構とから成るろくろ装置が配設
され当該ろくろ装置を物品の移載位置と施釉位置との間
で回転移動させる回転装置、前記施釉位置にある施釉対
象物品に対し施釉処理を行う施釉装置、施釉対象物品を
前記搬送装置の供給位置から前記回転装置上の移載位置
へ移載する機能と施釉後の物品を前記移載位置から前記
搬送装置の排出位置へ移載する機能とを有する移載装置
から構成されることにある。

【０００７】上記施釉設備において、搬送装置における
供給位置及び排出位置と、回転装置における移載位置と
が、ほぼ一直線となるように配列する構成を採用し得
る。

【０００８】さらに前記移載装置について、施釉対象物
品の底面を支持する受載部を平行に列設された複数の支
持部材から成るフォーク形態に構成し、前記搬送装置上
により搬送される物品載置用のパレットの表面、及び、
前記回転装置のろくろ装置における物品載置部に、前記
移載装置のフォーク状受載部を通過させ得る溝を形成す
る構成を採用することができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】図１乃至図７に、本発明に係る施
釉設備Ｓの一実施形態を例示する。この施釉設備Ｓは、
衛生陶器素地（以下、単に「素地」と言う）施釉対象物
品とするものであって、素地を所定の供給位置２ａへ送
給する機能と施釉後の素地を所定の排出位置３ａから排
出する機能とを有する搬送装置１、自転機構を有するろ
くろ装置１２を公転移動させる回転装置１０、施釉ブー
ス３０と施釉ロボット（図示せず）とから成る施釉装
置、及び、素地を前記搬送装置１と回転装置１０との間
で移載する移載装置４０を主たる構成要素としている。

【００１０】図１に示すように、搬送装置１に近接し
て、釉薬回収用の受けパンＵが設置され、該受けパンＵ
内に回転装置１０が設けられている。そして回転装置１
０の後半部を覆うように施釉ブース３０が設置され、ま
た回転装置１０を取り囲むように立設したフレームＦに
移載装置４０が取り付けられている。

【００１１】以下、各構成要素の詳細について説明した
のち、本発明に係る施釉設備による施釉工程を説明する
こととする。

【００１２】〔搬送装置〕搬送装置１は、ローラーコン
ベアやベルトコンベア等からなり、図示する例では、素
地をパレットに載せた状態で所定の供給位置２ａへ送給
する供給コンベア２、供給コンベア２から空のパレット
が施釉した素地の排出位置３ａへ移送され施釉後の素地
を載置したパレットを移動させる中間コンベア３、施釉
後の素地を載置したパレットを中間コンベア３から移載
されたのち所定の箇所へ排出する排出コンベア４の３つ
の部分から成っている。

【００１３】〔回転装置〕回転装置１０は、図２に示す
ように、据付床面Ｇ上にフレームＦで支えられた釉薬回
収用の受けパンＵ内に設けられ、円盤形のターンテーブ
ル１１の円周近くに、素地を載置させる一組のろくろ装
置１２，１２を対称に取り付けて成るものである。なお
図示の状態において、一方のろくろ装置１２の位置が素
地の移載位置、他方のろくろ装置１２の位置が施釉位置
となっている。

【００１４】ターンテーブル１１は、その下面が、中央
の回転軸１７と円周近くに配したキャスター２０，２０
とで回転可能に支持されている。回転軸１７は、前記受
けパンＵの下面に配置したモーター１８の駆動軸と、プ
ーリー，歯付きベルト１９等により、動力伝達可能に接
続されている。

【００１５】ろくろ装置１２は、素地を載置するための
載置板１３と、ターンテーブル１１上でこの載置板１３
の中心部を回転可能に支持する自転軸１５とから成る。
載置板１３上面の載置部１３ａには、複数の凸条１４を
立設して溝を形成する。溝の個数、形成間隔及び寸法
は、パレットに形成される溝と同等とすることが望まし
い。自転軸１５の下端部はターンテーブル１１の下面に
突出し、後述する回転駆動装置とのカップリング部１６
が備えられている。

【００１６】前記受けパンＵの下面側に配置される回転
駆動装置は、ろくろ装置１２の自転軸１５に回転駆動力
を与えるモーター２１と、モーター２１の駆動軸２２を
軸方向に昇降させる機構とを備え、ろくろ装置１２が所
定の施釉位置に有るとき、自転軸１５とモーター１６の
駆動軸２２とが動力伝達可能に接続されるように構成さ
れている。

【００１７】かかる構成により、ターンテーブル１１を
回転させることにより、ろくろ装置１２，１２が公転
し、施釉位置においては、ろくろ装置１２が前記回転駆
動装置により、自転軸１５を中心に自転することができ
る。

【００１８】なお、ターンテーブル１１の回転軸１５や
ろくろ装置１２の自転軸１５を釉薬の付着から保護する
ため、これらは、受けパンＵの底面に立設された円筒形
の隔壁２３とターンテーブル１１の下面に垂設された円
筒形のガード２４とで囲まれた空間内に収納されてい
る。また釉薬回収用の前記受けパンＵは、底面に流れ勾
配が付与され、最下部の適所に排出口ｄが設けられてい
る。

【００１９】〔施釉装置〕図４及び図５は、施釉装置の
施釉ブース３０を示すものであって、前記ターンテーブ
ル１１の上面半分を覆うように立設されている。この施
釉ブース３０は、ターンテーブル１１のほぼ中心上を通
る前面壁３１、前面壁３１の両側端部に連設した側壁３
２，３２、及び、天井３９から成り、後方と底面は開放
している。前面壁３１の下端はターンテーブル１１の上
面にほぼ接するように設定され、側壁３２の下端はター
ンテーブル１１のほぼ下面の位置まで伸びている。

【００２０】側壁３２下半部の前方側約３分の２と前面
壁３１の一部３３ａとは、前後方向に可動の扉３３にな
されている。この扉３３は、施釉前の素地を載せたろく
ろ装置１２を施釉ブース３０内へ搬入する際及び施釉後
に施釉ブース３０から搬出する際に開閉される。本例で
は、側壁３２における扉３３の部分を、レール３７，３
８で上下が支持され且つ互いに係合関係を持つ３つの面
部材３３ｂ，３３ｃ，３３ｄで構成した３段伸縮構造を
有している。最前部の面部材３３ｂは、前面壁３１の一
部３３ａと一体的に連結されており、また連結部材３６
を介して駆動シリンダ３５と接続されている。

【００２１】該駆動シリンダ３５で最前部の面部材３３
ａ，３３ｂを進退移動させることにより、素地を載せた
ろくろ装置１２の搬出入が可能な開口を施釉ブース３０
に形成したり、これを閉止したりすることができる。ろ
くろ装置１２の出入りを可能にする扉３３の寸法及び移
動距離は、回転装置１０のターンテーブル１１を回転さ
せたときのろくろ装置１２の移動軌跡に基づいて決めら
れる。すなわち、ろくろ装置１２は、図４の（Ａ）に二
点鎖線で示す内外の円で囲まれた領域を移動する。従っ
て、この領域を遮らないように扉３３の寸法及び移動距
離を適当に決めればよい。

【００２２】なお、前面壁３１における扉３３部分の下
端部には、スクレーパー３４が設けられている。施釉工
程の終了後、扉３３を後方移動させて開く際に、このス
クレーパー３４がターンテーブル１１の表面上を摺動
し、付着した釉薬を受けパンＵ（図２参照）内へ掻き落
とす。

【００２３】〔移載装置〕移載装置４０は、回転装置１
０のほぼ中央部から前方へ水平に張り出すように設けら
れるものであって、図６及び図７に示すとおり、長方形
に枠組みされた支持フレーム４１と、支持フレーム４１
の長手方向に沿って前後移動すると共に、素地を持ち上
げ又は所定箇所へ載置するピックアップ機構５０とを主
たる構成としている。

【００２４】支持フレーム４１は、中間部適所及び後端
部が、回転装置１０の周囲に設けたフレームＦ（図１参
照）へ固定したブラケット４８により支持されている。
支持フレーム４１における長手方向の枠部４１ａ，４１
ａの上面には凸条４２，４２が突設されている。またス
クリューバー４３が、短方向の枠部４１ｂ，４１ｂの中
央位置に両端を回転可能に支持されている。該スクリュ
ーバー４３は、後端部に取着したプーリー４４と歯付き
ベルト４５などを介して、適所に設置したモーター４６
の駆動軸４７と接続されており、このモーター４６によ
って回転駆動されるように構成されている。

【００２５】ピックアップ機構５０は、支持フレーム４
１の上面に支持される側面視Ｌ形のブラケット５１の下
面に、エアーシリンダ６６や油圧シリンダなどによっ
て、リフト６０を昇降可能に支持して成る。

【００２６】ブラケット５１は、水平部５２の下面両端
部に、支持フレーム４１上面の凸条４２へ摺動可能に嵌
装されるスライダー５３が設けられ、また下面中央部に
は、前述のエアーシリンダ６６等と共に、前記スクリュ
ーバー４３と螺合するナット５７部が設けられている。
水平部５２に連設される垂下部５４の下端部には、エア
ーシリンダ５５等（本例ではツインロッド式のシリンダ
を用いている）を介してスクレーパー５６が昇降可能に
設けられている。

【００２７】リフト６０は、前記ブラケット５１に取り
付けたエアーシリンダ６６のロッド６７等に接続される
上面部６１、前記ブラケット５１の垂下部５４の前面に
配置される立面部６２、複数の支持部材６４を平行に連
設して成るフォーク状形態の受載部６３から成る。立面
部６２の背面と、前記ブラケット垂下部５４の前面との
間にはスライダブロック６５が介設され、昇降動作を円
滑化している。

【００２８】前述の如く構成された移載装置４０は、適
所に設けたモーター４６でスクリューバー４３を回転駆
動することにより、これと螺合するナット部５７を固定
したブラケット５１を、前後に移動させることができ
る。従って、モーター４６の回転量・回転速度を制御す
ることにより、リフト６０を前後方向の所望位置へ所望
速度で移動させ又は停止させることが可能である。また
ブラケット５１に設けたエアーシリンダ６６等を駆動す
ることにより、リフト６０を昇降させることができる。
従って、ロッド６７の突出量を制御することにより、リ
フト６０を所望の高さ位置へ昇降させ又は停止させるこ
とが可能である。

【００２９】なお、ブラケット５１の下端にエアーシリ
ンダ５５等を介して取り付けられるスクレーパー５６
は、これを下降させたときに、ろくろ装置１２と載置板
１３の表面に接するように設定されている。

【００３０】〔パレット〕施釉対象である素地が載置さ
れるパレットの表面には、複数の溝を形成しておく。こ
の溝の個数、形成間隔及び寸法は、移載装置４０におけ
るリフト６０の受載部６３が備えているフォーク形態に
対応するものとする。すなわち、フォークを構成する支
持部材６４を全て、この溝内へ挿入し得るように設定す
る。また先に述べたように、パレットの溝とろくろ装置
１２における載置板１３の溝とは、同等の形態とされ
る。

【００３１】なお、素地を載置するパレットは常に特定
されるようにすると共に、パレットに適当な記憶装置を
付設しておくことで、当該素地に関する情報（品番・色
番・経歴等）を伝達したり蓄積したりすることが容易と
なる。これにより、特に他品種生産時における製造工程
の管理が簡単且つ確実になる。

【００３２】〔レイアウト〕本発明に係る施釉設備は、
各構成要素が説明する如き構造を備えている外に、各構
成要素の配置にも特色を有している。すなわち、図１及
び図８の（Ａ）に示すように、移載装置４０により素地
ＱをパレットＰから取り上げる供給コンベア２上の位置
（供給位置２ａ）と、施釉後の素地を移載装置４０によ
りパレットＰ上へ戻す中間コンベア上の位置（排出位置
３ａ）と、施釉対象の素地Ｑを移載装置４０によりろく
ろ装置１２上へ載置する回転装置１０上の位置（移載位
置）とが、ほぼ一直線に並ぶように設定されている。そ
して移載装置４０のリフト６０が、上記供給位置２ａか
ら移載位置までを直線的に往復移動するように構成され
ている。なお、施釉後の素地を移載装置４０でろくろ装
置１２から取り上げる位置は、上記移載位置と共通であ
る。

【００３３】さらに、パレットＰの上面に形成される溝
と、ろくろ装置１２の載置板１３表面の溝と、移載装置
４０のリフト６０におけるフォークとを同一ピッチで且
つ同一直線上となるように設定することにより、リフト
６０をあまり持ち上げることなく、前後方向に移動させ
ることが可能となる。これは、サイクルタイムの短縮化
に貢献する。

【００３４】〔施釉工程〕以上説明する如く構成された
本発明に係る施釉設備による施釉工程の手順を、図８乃
至図１２を用いて説明する。各図は、施釉設備を平面視
した状態の概略図であり、説明に必要な部材以外は省略
してある。

【００３５】（初期状態：図８（Ａ））施釉対象となる
素地Ｑを載置したパレットＰが、供給コンベア２によっ
て供給位置まで送給される。

【００３６】（工程１：図８（Ｂ））素地Ｑが供給位置
２ａに位置決めされたならば、供給コンベア２を一時停
止させたのち、移載装置４０のリフトを素地Ｑへ向かっ
て前進させ、リフト６０のフォーク形の受載部をパレッ
トＰの溝へ差し込んで素地Ｑを持ち上げる。

【００３７】（工程２：図８（Ｃ））パレットＰから素
地Ｑを持ち上げたならば、リフト６０を回転装置１０に
おける移載位置まで後退させ、素地Ｑをろくろ装置１２
の載置板１３上に移載したのち、リフト６０をさらに後
退させて素地Ｑの下側から引き抜く。この工程と同時ま
たは前後させて、施釉ブース３０の扉３３を後退させ、
搬入口３０ａ及び搬出口３０ｂを開放する。

【００３８】（工程３：図９（Ａ））回転装置１０のタ
ーンテーブル１１を１８０度回転させ、ろくろ装置１２
に載置した素地Ｑを、施釉ブース３０内へ搬入する。ま
た、素地Ｑが移載されて空になったパレットＰを、中間
コンベア３の排出位置３ａへ移動させると共に、次に施
釉対象となる素地Ｑを載置したパレットＰを、供給コン
ベア２の供給位置２ａまで移動させる。

【００３９】（工程４：図９（Ｂ））施釉ブース３０の
扉３３を前進させて搬出入口を閉止したのち、施釉ロボ
ット７０で釉薬を素地Ｑに噴霧して施釉を行う。このと
き、ろくろ装置１２の自転機構により載置板１３を回転
させる。素地Ｑの施釉を行っている間、移載装置４０の
リフト６０を再び前進させ、供給コンベア２の供給位置
２ａに在る次の施釉対象の素地Ｑを取り上げる。

【００４０】（工程５：図９（Ｃ））前記工程２と同様
にして、次の施釉対象の素地Ｑを、ろくろ装置１２の載
置板１３上へ移載する。なお、リフト６０が前進後退す
る途中で、中間コンベア３の排出位置３ａにある空パレ
ットＰを通過するが、パレットＰの溝の位置と、リフト
６０の受載部６３におけるフォーク形態とを一致させて
いるので、リフト６０の進退に支障を生じさせるおそれ
がない。

【００４１】（工程６：図１０（Ａ））先の素地Ｑに対
する施釉が完了したならば、施釉ブース３０の扉３３を
後退させ、搬出入口３０ａ，３０ｂを開放する。このと
き、扉３３の前面壁部分の下端に取り付けたスクレーパ
ー３４がターンテーブル１１の上面を摺動して付着した
釉薬を掻き採り、釉薬回収用の受けパンＵ内へ落下させ
る。

【００４２】（工程７：図１０（Ｂ））ターンテーブル
１１を１８０度回転させ、施釉完了した素地Ｑを移載位
置へ移動させると同時に、次の施釉対象の素地Ｑを施釉
ブース３０内へ搬入する。

【００４３】（工程８：図１０（Ｃ））施釉ブース３０
の扉３３を閉め、次の素地Ｑに対する施釉を開始する。
施釉を完了した素地Ｑは、移載装置４０のリフト６０に
より、ろくろ装置１２上から中間コンベア３の排出位置
３ａに移動させた元のパレットＰ上へ移載される。この
とき、移載装置４０のピックアップ機構５０に取り付け
たスクレーパー５６（図６及び図７参照）が、ろくろ装
置１２の載置板１３の上面を擦過し、付着している釉薬
を受けパンＵ内へ掻き落とす。

【００４４】（工程９：図１１（Ａ））施釉した素地Ｑ
を載置したパレットＰを、中間コンベア３により、排出
位置３ａから、排出コンベア４への移動が可能な位置ま
で移動させる。

【００４５】（工程１０：図１１（Ｂ））施釉した素地
Ｑを載置したパレットＰは、中間コンベア３から排出コ
ンベア４へ移動させ、所定箇所へ排出する。しかるの
ち、施釉中にある素地Ｑが載置されていたパレットＰ
を、供給コンベア２の供給位置２ａから、中間コンベア
３の排出位置３ａへ移動させると同時に、さらに次の施
釉対象となる素地Ｑを載せたパレットＰを、供給コンベ
ア２の供給位置２ａまで移動させる。

【００４６】（工程１１〜１４：図１１（Ｃ）・図１２
（Ａ）〜（Ｃ））後続の工程１１〜１４は、前述の工程
５〜８に準じて行われる。すなわち、さらに次の施釉対
象の素地Ｑを、供給位置２ａからろくろ装置１２の載置
板１３上へ移載し、施釉ブース３０の搬出入口３０ａ，
３０ｂを開放してターンテーブル１１を１８０度回転さ
せ、施釉完了した素地Ｑとさらに次の施釉対象の素地Ｑ
とを入れ替えたのち、施釉の実行中に、施釉完了した素
地Ｑを、ろくろ装置１２から中間コンベア３の排出位置
３ａへ移動させる。

【００４７】以上述べた工程を反復することにより、施
釉工程を連続的に実行することができる。また施釉作業
を終了する場合は、素地の排出のみを行う。

【００４８】なお、施釉工程中にターンテーブル１１表
面及びろくろ装置１２の載置板１３表面に付着した釉薬
は、施釉ブース３０の扉３３と移載装置４０のピックア
ップ機構５０とに付設したスクレーパー３４，５６によ
って、受けパンＵ内へ掻き落とされて集められたのち、
排出口ｄから回収される。

【００４９】〔その他の実施形態〕図１３は、本発明に
係る施釉設備の異なるレイアウトを示すものである。こ
の実施形態は、供給コンベア２及び排出コンベア４を、
それぞれの搬送方向が互いに平行で、且つ、移載装置４
０のリフト６０の進退方向に対し垂直となるように配置
したものである。但し、パレットＰに載置した素地Ｑを
移載装置４０のリフト６０で取り上げる供給コンベア２
上の供給位置２ａと、施釉後の素地ＱをパレットＰに戻
す排出コンベア４上の排出位置３ａと、ろくろ装置１２
への素地Ｑの受け渡しが行われる回転装置１０上の移載
位置とが、ほぼ一直線上に並ぶように構成されている点
は、前記実施形態と同様である。

【００５０】この実施形態は、施釉設備に対する素地の
搬送方向が前記実施形態とは異なる場合に適用される。
なお本実施形態では、中間コンベアが省略される。

【００５１】本発明のさらに異なる実施形態を、図１４
に示す。この実施形態の施釉設備Ｓは、回転装置１０の
ターンテーブル１１に４個のろくろ装置１２，１２，…
を等分に配置し、図面の上方に描いた供給コンベア２
と、下方の排出コンベア４と、一組の対称に配置したろ
くろ装置１２，１２とが、ほぼ一直線上に並ぶように構
成したものである。移載装置４０は、独立して又は連動
して作動する２個のリフト６０（Ａ），６０（Ｂ）を備
えるものとし、各リフト６０（Ａ）（Ｂ）が、供給コン
ベア２・排出コンベア４及びろくろ装置１２，１２が形
成する直線に沿って進退移動するように構成されてい
る。そして、一方のリフト６０（Ａ）が供給コンベア２
からろくろ装置１２への素地Ｑ（施釉前）の搬入専用、
他方のリフト６０（Ｂ）がろくろ装置１２から排出コン
ベア４への素地Ｑ（施釉後）の搬出専用とされている。

【００５２】当該施釉設備Ｓによる施釉工程の概略は、
以下のとおりである。はじめに移載装置４０の搬入専用
リフト６０（Ａ）で、供給コンベア２により送給される
素地ＱをパレットＰから持ち上げて、ろくろ装置１２の
載置板１３上へ移載する。次に、回転装置１０のターン
テーブル１１を本例では９０度回転させ、素地Ｑを施釉
ブース３０内へ搬入し施釉を行う。この間、空になった
パレットＰを、受けパンＵの外側に設けた移送コンベア
５で、排出コンベア４まで転送する。また前記搬入専用
リフト６０（Ａ）で、次の素地Ｑをろくろ装置１２へ移
載しておく。施釉が完了したならば、ターンテーブル１
１をさらに９０度回転させて、施釉ブース３０から施釉
された素地Ｑを搬出する。このとき同時に、次の施釉対
象素地Ｑが、施釉ブース３０内へ搬入される。施釉した
素地Ｑは、移載装置４０の搬出専用リフト６０（Ｂ）に
より、ろくろ装置１２から排出コンベア４の排出位置へ
転送されている元のパレットＰ上へ移載されたのち、所
定箇所へ搬出される。

【００５３】本発明の実施形態は、前述のものに限定さ
れることなく、種々の応用・変更を加えることを妨げな
い。例えば、施釉対象となる素地の寸法や形状の変更が
あまり起こらない製造条件であれば、移載装置として、
フォーク形態のリフトで素地を持ち上げる構造に代え、
素地をクランプで持ち上げる機構を採用することも可能
である。

【００５４】さらに、本発明に係る施釉設備を複数並設
し、それらをコンベアで連絡することにより、多品番・
多色対応の施釉ラインを構築することも容易である。

【００５５】

【発明の効果】本発明に係る施釉設備は、簡単な構造で
あり、一つの移載装置で施釉対象物品の搬入・搬出を行
えるから、狭いスペースでも設置が可能である。

【００５６】施釉対象物品をパレット等からろくろ装置
へ移載してから施釉を行うから、パレット等を洗浄する
必要がなくなる。施釉によって釉薬が付着するのは、回
転装置とろくろ装置とであるから、これらに付着した釉
薬を回収する手段（スクレーパー等）を付設するだけ
で、効率良く釉薬を回収することが可能となる。従って
釉薬の損失量が少なくなり、回収率を高めることができ
る。またパレットの洗浄により生ずる廃水の量も格段に
減少する。

【００５７】ろくろ装置に自転機構を備えたので、施釉
時に素地を自転させることができ、依って、むらの無い
均一な施釉が可能である。

【００５８】施釉対象物品の供給位置と、施釉後の物品
の排出位置と、回転装置における移載位置とを一直線上
に配列することにより、サイクルタイムが短くなり、そ
の結果、能率の良い施釉工程を連続して実行することが
できる。また、施釉対象物品の移動方向がほぼ直線上と
なるから、移動速度を高めても、当該物品に対し悪影響
を及ぼすおそれがない。

【００５９】さらに、施釉対象物品を持ち上げる受載部
の構造をフォーク形態とし、物品載置用パレットの表面
と、ろくろ装置における物品載置部とに、上記フォーク
状受載部を通過させる溝を形成することにより、移載装
置による物品の移動を迅速に行うことができる。依っ
て、サイクルタイムを損なうことなく、多品種に対応す
ることが容易な移載装置の構造を採用することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る施釉設備の一実施形態を示す斜視
図である。

【図２】本発明に係る施釉設備における回転装置の一実
施形態を示すものであって、図（Ａ）は平面図、図
（Ｂ）は側面断面図である。

【図３】本発明に係る施釉設備における回転装置を構成
するろくろ装置の一実施形態を示す要部の正面図であ
る。

【図４】本発明に係る施釉設備における施釉装置の一実
施形態を示すものであって、図（Ａ）は施釉ブースの平
面断面図、図（Ｂ）は施釉ブースの側面図である。

【図５】本発明に係る施釉設備における施釉装置の一実
施形態を示すものであって、施釉ブースの正面図であ
る。

【図６】本発明に係る施釉設備における移載装置の一実
施形態を示すものであって、図（Ａ）は平面図、図
（Ｂ）は側面図である。

【図７】本発明に係る施釉設備における移載装置の一実
施形態を示す正面図である。

【図８】本発明に係る施釉設備による施釉工程の概略を
説明するためのものであって、図（Ａ）は初期状態、図
（Ｂ）は工程１、図（Ｃ）は工程２をそれぞれ示す平面
図である。

【図９】本発明に係る施釉設備による施釉工程の概略を
説明するためのものであって、図（Ａ）は工程３、図
（Ｂ）は工程４、図（Ｃ）は工程５をそれぞれ示す平面
図である。

【図１０】本発明に係る施釉設備による施釉工程の概略
を説明するためのものであって、図（Ａ）は工程６、図
（Ｂ）は工程７、図（Ｃ）は工程８をそれぞれ示す平面
図である。

【図１１】本発明に係る施釉設備による施釉工程の概略
を説明するためのものであって、図（Ａ）は工程９、図
（Ｂ）は工程１０、図（Ｃ）は工程１１をそれぞれ示す
平面図である。

【図１２】本発明に係る施釉設備による施釉工程の概略
を説明するためのものであって、図（Ａ）は工程１２、
図（Ｂ）は工程１３、図（Ｃ）は工程１４をそれぞれ示
す平面図である。

【図１３】本発明に係る施釉設備の異なる実施形態を示
す平面図である。

【図１４】本発明に係る施釉設備のさらに異なる実施形
態を示す平面図である。

【符号の説明】

Ｓ施釉設備ＰパレットＱ素地Ｕ受けパン１搬送装置２供給コンベア２ａ供給位置３中間コンベア３ａ排出位置４排出コンベア１０回転装置１１ターンテーブル１２ろくろ装置１３載置板１５自転軸１７回転軸３０施釉ブース３３扉３４スクレーパー４０移載装置４１支持フレーム５０ピックアップ機構５６スクレーパー６０リフト６３受載部６４支持部材７０施釉ロボット

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】施釉対象物品を所定の供給位置へ送給する
機能と施釉後の物品を所定の排出位置から排出する機能
とを有する搬送装置、物品載置部と当該物品載置部の自
転機構とから成るろくろ装置が配設され当該ろくろ装置
を物品の移載位置と施釉位置との間で回転移動させる回
転装置、前記施釉位置にある施釉対象物品に対し施釉処
理を行う施釉装置、施釉対象物品を前記搬送装置の供給
位置から前記回転装置上の移載位置へ移載する機能と施
釉後の物品を前記移載位置から前記搬送装置の排出位置
へ移載する機能とを有する移載装置から構成されること
を特徴とする施釉設備。
【請求項２】前記搬送装置における供給位置及び排出位
置と、前記回転装置における移載位置とが、ほぼ一直線
となるように配列されている請求項１に記載の施釉設
備。
【請求項３】前記移載装置は、施釉対象物品の底面を支
持する受載部が、平行に列設された複数の支持部材から
成るフォーク形態に構成され、前記搬送装置上により搬
送される物品載置用のパレットの表面、及び、前記回転
装置のろくろ装置における物品載置部に、前記移載装置
のフォーク状受載部を通過させ得る溝が形成されている
請求項２に記載の施釉設備。