JPH0929263A - シリコン加工廃水の処理方法 - Google Patents
シリコン加工廃水の処理方法Info
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- JPH0929263A JPH0929263A JP18909895A JP18909895A JPH0929263A JP H0929263 A JPH0929263 A JP H0929263A JP 18909895 A JP18909895 A JP 18909895A JP 18909895 A JP18909895 A JP 18909895A JP H0929263 A JPH0929263 A JP H0929263A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 シリコン加工廃水の処理により発生する多量
の凝集物、及び該廃水から凝集物を分離した後の上澄み
液中の多量の残存物を低減化することのできるシリコン
加工廃水の処理方法を開発する。 【解決手段】 シリコンウェーハの製造加工工程で発生
するシリコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離す
るシリコン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機
カチオン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加する
ことによりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴
とするシリコン加工廃水の処理方法。
の凝集物、及び該廃水から凝集物を分離した後の上澄み
液中の多量の残存物を低減化することのできるシリコン
加工廃水の処理方法を開発する。 【解決手段】 シリコンウェーハの製造加工工程で発生
するシリコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離す
るシリコン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機
カチオン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加する
ことによりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴
とするシリコン加工廃水の処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は廃水の処理方法に関
するものであり、特に半導体製造工程において発生する
シリコン加工廃水の処理方法に関するものである。
するものであり、特に半導体製造工程において発生する
シリコン加工廃水の処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、各種の基板材料からなる半導体が
製品化されているが、集積回路など大部分の半導体基板
はシリコンの単体から製造されている。その製造に際し
ては、例えばシリコン単結晶のインゴットの切断工程に
おいて、粒径０．１〜１００μｍのシリコンの切削粉を
含む冷却加工廃水が発生する。同様に、シリコン基板の
研磨工程、素子形成後のダイシング工程においてもシリ
コンの微粒粉を含む廃水が発生する。この大量の廃水の
処理には、従来から珪藻土濾過法、または凝集沈澱法が
用いられてきた。珪藻土濾過法は、濾布に珪藻土をプレ
コートしたフィルターに廃水を通し、シリコンを吸着さ
せ、脱水して汚泥として廃棄する方法である。凝集沈澱
法は、ポリ塩化アルミニウムや硫酸アルミニウム等の無
機凝集剤を廃水に添加し必要に応じて中和剤で中和した
後、高分子凝集剤を添加してシリコンを凝集沈澱させ上
澄みを放流する一方、凝集した沈殿は脱水して汚泥とし
て廃棄する方法である。
製品化されているが、集積回路など大部分の半導体基板
はシリコンの単体から製造されている。その製造に際し
ては、例えばシリコン単結晶のインゴットの切断工程に
おいて、粒径０．１〜１００μｍのシリコンの切削粉を
含む冷却加工廃水が発生する。同様に、シリコン基板の
研磨工程、素子形成後のダイシング工程においてもシリ
コンの微粒粉を含む廃水が発生する。この大量の廃水の
処理には、従来から珪藻土濾過法、または凝集沈澱法が
用いられてきた。珪藻土濾過法は、濾布に珪藻土をプレ
コートしたフィルターに廃水を通し、シリコンを吸着さ
せ、脱水して汚泥として廃棄する方法である。凝集沈澱
法は、ポリ塩化アルミニウムや硫酸アルミニウム等の無
機凝集剤を廃水に添加し必要に応じて中和剤で中和した
後、高分子凝集剤を添加してシリコンを凝集沈澱させ上
澄みを放流する一方、凝集した沈殿は脱水して汚泥とし
て廃棄する方法である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記珪藻土濾過
法は、粒径０．５μｍ以下のシリコン粒子は素通りする
ため清澄な濾過水が得られないうえ、濾布が目詰まりし
やすく濾過能力が低いという難点がある。一方、凝集沈
澱法では、充分に凝集を行うためには多量の凝集剤及び
中和剤を廃水に加える必要があり、例えば廃水に対しポ
リ塩化アルミニウム０．１重量％、水酸化ナトリウムは
０．０１重量％、及び高分子凝集剤５ｐｐｍ程度の添加
を要する。
法は、粒径０．５μｍ以下のシリコン粒子は素通りする
ため清澄な濾過水が得られないうえ、濾布が目詰まりし
やすく濾過能力が低いという難点がある。一方、凝集沈
澱法では、充分に凝集を行うためには多量の凝集剤及び
中和剤を廃水に加える必要があり、例えば廃水に対しポ
リ塩化アルミニウム０．１重量％、水酸化ナトリウムは
０．０１重量％、及び高分子凝集剤５ｐｐｍ程度の添加
を要する。
【０００４】さらに、両方法とも濾別または凝集により
生じる汚泥量が著しく多く、この大量の汚泥を廃棄する
には相応の場所や経費を要する。汚泥の大部分は珪藻土
や凝集剤であり、少量含有しているシリコンをこれから
分離して再利用することは極めて困難である。また廃水
から汚泥を分離した後の上ずみ液も珪藻土の微粒子や残
存凝集剤・生成塩類が大量に溶存するため再利用でき
ず、放流している。これら多量の廃棄物は、地球環境保
全上も問題がある。また両方法とも、設備費、動力費が
高額である。
生じる汚泥量が著しく多く、この大量の汚泥を廃棄する
には相応の場所や経費を要する。汚泥の大部分は珪藻土
や凝集剤であり、少量含有しているシリコンをこれから
分離して再利用することは極めて困難である。また廃水
から汚泥を分離した後の上ずみ液も珪藻土の微粒子や残
存凝集剤・生成塩類が大量に溶存するため再利用でき
ず、放流している。これら多量の廃棄物は、地球環境保
全上も問題がある。また両方法とも、設備費、動力費が
高額である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者は以上の
問題に鑑み鋭意検討を重ねた結果、シリコン加工廃水に
有機カチオンを添加して、シリコン粒子のゼータ電位を
低下させることに着目し、本発明に至った。すなわち本
発明は、シリコンウェーハの製造加工工程で発生するシ
リコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離するシリ
コン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機カチオ
ン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加することに
よりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴とする
シリコン加工廃水の処理方法を要旨とするものである。
以下にこれをさらに詳述する。
問題に鑑み鋭意検討を重ねた結果、シリコン加工廃水に
有機カチオンを添加して、シリコン粒子のゼータ電位を
低下させることに着目し、本発明に至った。すなわち本
発明は、シリコンウェーハの製造加工工程で発生するシ
リコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離するシリ
コン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機カチオ
ン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加することに
よりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴とする
シリコン加工廃水の処理方法を要旨とするものである。
以下にこれをさらに詳述する。
【０００６】図１は本発明による処理方法の工程の一例
を示す概略図である。シリコンを含む廃水を調整タンク
１から、攪拌混合槽２へ導入し、これへ有機カチオン凝
集剤４を添加してゼータ電位を低下させる。該廃水を凝
集槽６に導入し、さらに高分子凝集剤８を添加する。凝
集した沈殿を含む廃水をフィルタープレス１０で濾過
し、ケーキと濾過水１１とに分離する。
を示す概略図である。シリコンを含む廃水を調整タンク
１から、攪拌混合槽２へ導入し、これへ有機カチオン凝
集剤４を添加してゼータ電位を低下させる。該廃水を凝
集槽６に導入し、さらに高分子凝集剤８を添加する。凝
集した沈殿を含む廃水をフィルタープレス１０で濾過
し、ケーキと濾過水１１とに分離する。
【０００７】本発明に用いる有機カチオン凝集剤４は、
廃水中で、マイナスに帯電し互いに反発し合っているシ
リコン粒子のゼ−タ電位を低下させ、シリコンの凝集し
た小フロックを形成するものである。具体的な成分とし
てはポリアミン、ジシアンジアミド、ポリアクリルアミ
ド、ポリメタクリル酸エステル、ポリアミンサルホン等
が例示される。添加量は廃水に対し０．１〜１００ｐｐ
ｍが必要である。０．１ｐｐｍより少ない添加量では、
ゼータ電位の低下が不十分となる。また１００ｐｐｍの
添加で前記ゼータ電位の低下は十分であり、１００ｐｐ
ｍより大きな添加量は無駄となる。
廃水中で、マイナスに帯電し互いに反発し合っているシ
リコン粒子のゼ−タ電位を低下させ、シリコンの凝集し
た小フロックを形成するものである。具体的な成分とし
てはポリアミン、ジシアンジアミド、ポリアクリルアミ
ド、ポリメタクリル酸エステル、ポリアミンサルホン等
が例示される。添加量は廃水に対し０．１〜１００ｐｐ
ｍが必要である。０．１ｐｐｍより少ない添加量では、
ゼータ電位の低下が不十分となる。また１００ｐｐｍの
添加で前記ゼータ電位の低下は十分であり、１００ｐｐ
ｍより大きな添加量は無駄となる。
【０００８】高分子凝集剤８は廃水中のシリコンの小フ
ロックを凝集、沈降させるもので、例えば非イオン凝集
剤、または弱アニオン凝集剤が用いられる。添加量は廃
水に対し０．１〜１００ｐｐｍが必要である。０．１ｐ
ｐｍより少ない添加量では、シリコンのフロックの形成
が不十分となる。また前記フロックは１００ｐｐｍで十
分形成され、１００ｐｐｍより大きな添加量は無駄とな
る。
ロックを凝集、沈降させるもので、例えば非イオン凝集
剤、または弱アニオン凝集剤が用いられる。添加量は廃
水に対し０．１〜１００ｐｐｍが必要である。０．１ｐ
ｐｍより少ない添加量では、シリコンのフロックの形成
が不十分となる。また前記フロックは１００ｐｐｍで十
分形成され、１００ｐｐｍより大きな添加量は無駄とな
る。
【０００９】濾別された凝集物は従来方法よりも少量で
あり、シリコンの含有率が高いことから、濾別されたケ
ーキからシリコン粉を分離・回収して再利用することが
容易となる。分離方法としてはフィルタープレス、ベル
トプレス、真空濾過器等が例示される。
あり、シリコンの含有率が高いことから、濾別されたケ
ーキからシリコン粉を分離・回収して再利用することが
容易となる。分離方法としてはフィルタープレス、ベル
トプレス、真空濾過器等が例示される。
【００１０】また濾過水１１中の有機カチオン凝集剤溶
存は平均０．５ppm 、高分子凝集剤溶存は平均０．２pp
m であり、従来の溶存量平均５ppm に比べて極めて少な
いため、そのままで、または小規模な後処理を経て、工
業用水として再利用することができる。再利用先は、シ
リコン切断・研磨工程でも良い。
存は平均０．５ppm 、高分子凝集剤溶存は平均０．２pp
m であり、従来の溶存量平均５ppm に比べて極めて少な
いため、そのままで、または小規模な後処理を経て、工
業用水として再利用することができる。再利用先は、シ
リコン切断・研磨工程でも良い。
【００１１】本発明の処理方法は、図１の工程に限定さ
れないことは言うまでもない。また本発明によれば、廃
水を溜めたタンク中で行うバッチ式処理だけではなく、
ウェーハ製造工程作動中連続的に発生する廃水を、溜め
置きせずにそのまま連続的に処理することも可能であ
る。
れないことは言うまでもない。また本発明によれば、廃
水を溜めたタンク中で行うバッチ式処理だけではなく、
ウェーハ製造工程作動中連続的に発生する廃水を、溜め
置きせずにそのまま連続的に処理することも可能であ
る。
【００１２】上記のように、本発明によれば、シリコン
ウェーハの製造加工工程で発生するシリコン粉を含む廃
水に、有機カチオン凝集剤を添加することにより、廃水
中のシリコン粒子のゼ−タ電位が低下する。この廃水
に、さらに高分子凝集剤を添加することにより、容易に
凝集・沈降が進行する。これを濾過すると、再利用可能
な濾過水、およびシリコン粉の回収可能な少量のケーキ
となる。
ウェーハの製造加工工程で発生するシリコン粉を含む廃
水に、有機カチオン凝集剤を添加することにより、廃水
中のシリコン粒子のゼ−タ電位が低下する。この廃水
に、さらに高分子凝集剤を添加することにより、容易に
凝集・沈降が進行する。これを濾過すると、再利用可能
な濾過水、およびシリコン粉の回収可能な少量のケーキ
となる。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、図１にそって、本発明の実
施の形態を実施例、比較例を挙げて説明する。 実施例１ シリコン単結晶のインゴットの切断工程において発生し
た切断加工水の廃水（シリコン粉は平均500 mg／リット
ル含まれている）を調整タンク１（容量500 リットル）
から攪拌混合槽２（容量３０リットル）へ、１０リット
ル／分の速度でポンプ１２により導入する。この攪拌混
合槽２へは０．１重量％のポリアクリルアミド系有機カ
チオン凝集剤 Qufix- KB（信越半導体社製製品名）４が
添加量５０ミリリットル／分で薬注ポンプ５により添加
され、該槽内は攪拌機３で攪拌される。ゼータ電位の低
下した廃水は凝集槽６（容量９０リットル）に導入され
る。凝集槽６へは０．１重量％の弱アニオン高分子凝集
剤 Qufix-P（信越半導体社製製品名）８が添加量５０ミ
リリットル／分で添加され、攪拌機７で攪拌される。凝
集した沈殿を含む廃水をダイヤフラムポンプ９で、濾布
P-26-1（ポリプロピレン製、通気度80ミリリットル/min
・cm2）を装着したフィルタープレス１０（日本濾過装置
社製、Fs-2c-20）に注入し、ケーキと濾過水１１とに濾
別する。なお、フィルタープレスFs-2c-20は濾過面積２
ｍ2 であり、濾過圧力は４kg/cm2に設定した。以上の装
置を２時間連続運転した後、フィルタープレスの濾過速
度・濾過圧力を測定し、また、図１のＡ〜Ｄ点の廃水を
採取し、粒度分布、ゼータ電位、濁度を測定した。２時
間連続運転ごとの廃水の測定結果を表１に示す。また、
連続運転時間の経過による、濾過速度・濾過圧力の変動
を図２に示す。
施の形態を実施例、比較例を挙げて説明する。 実施例１ シリコン単結晶のインゴットの切断工程において発生し
た切断加工水の廃水（シリコン粉は平均500 mg／リット
ル含まれている）を調整タンク１（容量500 リットル）
から攪拌混合槽２（容量３０リットル）へ、１０リット
ル／分の速度でポンプ１２により導入する。この攪拌混
合槽２へは０．１重量％のポリアクリルアミド系有機カ
チオン凝集剤 Qufix- KB（信越半導体社製製品名）４が
添加量５０ミリリットル／分で薬注ポンプ５により添加
され、該槽内は攪拌機３で攪拌される。ゼータ電位の低
下した廃水は凝集槽６（容量９０リットル）に導入され
る。凝集槽６へは０．１重量％の弱アニオン高分子凝集
剤 Qufix-P（信越半導体社製製品名）８が添加量５０ミ
リリットル／分で添加され、攪拌機７で攪拌される。凝
集した沈殿を含む廃水をダイヤフラムポンプ９で、濾布
P-26-1（ポリプロピレン製、通気度80ミリリットル/min
・cm2）を装着したフィルタープレス１０（日本濾過装置
社製、Fs-2c-20）に注入し、ケーキと濾過水１１とに濾
別する。なお、フィルタープレスFs-2c-20は濾過面積２
ｍ2 であり、濾過圧力は４kg/cm2に設定した。以上の装
置を２時間連続運転した後、フィルタープレスの濾過速
度・濾過圧力を測定し、また、図１のＡ〜Ｄ点の廃水を
採取し、粒度分布、ゼータ電位、濁度を測定した。２時
間連続運転ごとの廃水の測定結果を表１に示す。また、
連続運転時間の経過による、濾過速度・濾過圧力の変動
を図２に示す。
【００１４】
【表１】
【００１５】実施例２ フィルタープレスの濾布をP-866 （通気度280 ミリリッ
トル/min・cm2）とした以外は、実施例１と同じ条件で行
った。２時間連続運転ごとの測定結果を表２に示す。ま
た、連続運転時間の経過による、濾過速度・濾過圧力の
変動を図３に示す。
トル/min・cm2）とした以外は、実施例１と同じ条件で行
った。２時間連続運転ごとの測定結果を表２に示す。ま
た、連続運転時間の経過による、濾過速度・濾過圧力の
変動を図３に示す。
【００１６】
【表２】
【００１７】実施例３ Sbドープシリコンインゴットの切断工程から発生した廃
水をタンクへ50ｍ3 揚水し、０．１重量％のポリアクリ
ルアミド系有機カチオン凝集剤 Qufix-K（信越半導体社
製製品名）を０．８容量％添加し、１分間攪拌した。さ
らに、０．１重量％の弱アニオン高分子凝集剤 Qufix-P
（前出、信越半導体社製製品名）を０．３容量％添加
し、１分間攪拌した後、１２時間静置した。静置後の廃
水をポンプで、濾布P-26-1を装着したフィルタープレス
Fs-2c-20（前出）に注入し、濾過圧力は４kg/cm2に設定
して、ケーキと濾過水とに濾別した。以上を２バッチ行
った結果、濾過速度は８リットル／分、最終濾過圧力は
４kg/cm2、また濾過水の透視度は３０cm以上、ＴＯＣは
６．２ppm であった。濾別して得られたケーキ量は２．
５ｋｇであり、これを乾燥処理することにより、１ｋｇ
のシリコン粉を回収した。
水をタンクへ50ｍ3 揚水し、０．１重量％のポリアクリ
ルアミド系有機カチオン凝集剤 Qufix-K（信越半導体社
製製品名）を０．８容量％添加し、１分間攪拌した。さ
らに、０．１重量％の弱アニオン高分子凝集剤 Qufix-P
（前出、信越半導体社製製品名）を０．３容量％添加
し、１分間攪拌した後、１２時間静置した。静置後の廃
水をポンプで、濾布P-26-1を装着したフィルタープレス
Fs-2c-20（前出）に注入し、濾過圧力は４kg/cm2に設定
して、ケーキと濾過水とに濾別した。以上を２バッチ行
った結果、濾過速度は８リットル／分、最終濾過圧力は
４kg/cm2、また濾過水の透視度は３０cm以上、ＴＯＣは
６．２ppm であった。濾別して得られたケーキ量は２．
５ｋｇであり、これを乾燥処理することにより、１ｋｇ
のシリコン粉を回収した。
【００１８】比較例 凝集沈殿法で、ポリ塩化アルミニウム０．０８重量％、
１０％水酸化ナトリウム０．０１重量％を添加する以外
は実施例３と同様に行った。２バッチ行った結果、濾過
速度は１０リットル／分、最終濾過圧力は４kg/cm2、ま
た濾過水の透視度は３０cm以上、ＴＯＣは２０ppm 、濾
別して得られたケーキ量は２０ｋｇであった。このケー
キからのシリコン粉の回収はシリコン粉の含有率が低い
ため不可能であった。
１０％水酸化ナトリウム０．０１重量％を添加する以外
は実施例３と同様に行った。２バッチ行った結果、濾過
速度は１０リットル／分、最終濾過圧力は４kg/cm2、ま
た濾過水の透視度は３０cm以上、ＴＯＣは２０ppm 、濾
別して得られたケーキ量は２０ｋｇであった。このケー
キからのシリコン粉の回収はシリコン粉の含有率が低い
ため不可能であった。
【００１９】比較例と実施例３との結果より、本発明に
よる処理方法は従来法よりも少ない薬剤の添加で、濾過
水の透視度は従来法と同等またはそれ以上の結果が得ら
れることがわかった。また濾別して得られたケーキ量は
従来法の８分の１に減少した。
よる処理方法は従来法よりも少ない薬剤の添加で、濾過
水の透視度は従来法と同等またはそれ以上の結果が得ら
れることがわかった。また濾別して得られたケーキ量は
従来法の８分の１に減少した。
【００２０】表１、表２より、本発明による処理が進む
につれ、廃水のゼータ電位が低下したこと、沈殿が凝集
して大径化したことがわかり、また濾過水の濁度は処理
前の廃水に比べて大幅に低減したことがわかった。また
これらの特質は、１８時間連続処理を行っても殆ど劣化
しないことがわかった。
につれ、廃水のゼータ電位が低下したこと、沈殿が凝集
して大径化したことがわかり、また濾過水の濁度は処理
前の廃水に比べて大幅に低減したことがわかった。また
これらの特質は、１８時間連続処理を行っても殆ど劣化
しないことがわかった。
【００２１】図２、図３より本発明による処理方法は、
６時間〜２０時間連続運転までは充分にフィルタープレ
スの濾過特性（濾過速度・濾過圧力）を維持できること
がわかった。
６時間〜２０時間連続運転までは充分にフィルタープレ
スの濾過特性（濾過速度・濾過圧力）を維持できること
がわかった。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、濾別されたケーキに含
まれるシリコン粉の回収・再利用が可能であり、濾別さ
れた濾過水も再利用できる。また、処理に要する薬剤費
・設備費、シリコン以外の凝集物を廃棄する経費が低減
され、さらに、大量の廃棄物による環境汚染を防止する
ことができる。
まれるシリコン粉の回収・再利用が可能であり、濾別さ
れた濾過水も再利用できる。また、処理に要する薬剤費
・設備費、シリコン以外の凝集物を廃棄する経費が低減
され、さらに、大量の廃棄物による環境汚染を防止する
ことができる。
【図１】本発明による処理方法の工程の一例を示す概略
図である。
図である。
【図２】本発明による一実施例の、連続運転時間の経過
による、濾過速度・濾過圧力の変動を示すグラフであ
る。
による、濾過速度・濾過圧力の変動を示すグラフであ
る。
【図３】本発明による別の実施例の、連続運転時間の経
過による、濾過速度・濾過圧力の変動を示すグラフであ
る。
過による、濾過速度・濾過圧力の変動を示すグラフであ
る。
１ 調整タンク ２ 攪拌混合槽 ３ 攪拌機 ４ 有機カチオン凝
集剤 ５ 薬注ポンプ ６ 凝集槽 ７ 攪拌機 ８ 高分子凝集剤 ９ ダイヤフラムポンプ １０ フィルタープレ
ス １１ 濾過水 １２ ポンプ
集剤 ５ 薬注ポンプ ６ 凝集槽 ７ 攪拌機 ８ 高分子凝集剤 ９ ダイヤフラムポンプ １０ フィルタープレ
ス １１ 濾過水 １２ ポンプ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年９月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、図１にそって、本発明の実
施の形態を実施例、比較例を挙げて説明する。 実施例１ シリコン単結晶のインゴットの切断工程において発生し
た切断加工水の廃水（シリコン粉は平均５００ｍｇ／リ
ットル含まれている）を調整タンク１（容量５００リッ
トル）から攪拌混合槽２（容量３０リットル）へ、１０
リットル／分の速度でポンプ１２により導入する。この
攪拌混合槽２へは０．１重量％のポリアクリルアミド系
有機カチオン凝集剤４が添加量５０ミリリットル／分で
薬注ポンプ５により添加され、該槽内は攪拌機３で攪拌
される。ゼータ電位の低下した廃水は凝集槽６（容量９
０リットル）に導入される。凝集槽６へは０．１重量％
の弱アニオン高分子凝集剤８が添加量５０ミリリットル
／分で添加され、攪拌機７で攪拌される。凝集した沈殿
を含む廃水をダイヤフラムポンプ９で、濾布Ｐ−２６−
１（ポリプロピレン製、通気度８０ミリリットル／ｍｉ
ｎ・ｃｍ２）を装着したフィルタープレス１０（日本濾
過装置社製、Ｆｓ−２ｃ−２０）に注入し、ケーキと濾
過水１１とに濾別する。なお、フィルタープレスＦｓ−
２ｃ−２０は濾過面積２ｍ２であり、濾過圧力は４ｋｇ
／ｃｍ２に設定した。以上の装置を２時間連続運転した
後、フィルタープレスの濾過速度・濾過圧力を測定し、
また、図１のＡ〜Ｄ点の廃水を採取し、粒度分布、ゼー
タ電位、濁度を測定した。２時間連続運転ごとの廃水の
測定結果を表１に示す。また、連続運転時間の経過によ
る、濾過速度・濾過圧力の変動を図２に示す。
施の形態を実施例、比較例を挙げて説明する。 実施例１ シリコン単結晶のインゴットの切断工程において発生し
た切断加工水の廃水（シリコン粉は平均５００ｍｇ／リ
ットル含まれている）を調整タンク１（容量５００リッ
トル）から攪拌混合槽２（容量３０リットル）へ、１０
リットル／分の速度でポンプ１２により導入する。この
攪拌混合槽２へは０．１重量％のポリアクリルアミド系
有機カチオン凝集剤４が添加量５０ミリリットル／分で
薬注ポンプ５により添加され、該槽内は攪拌機３で攪拌
される。ゼータ電位の低下した廃水は凝集槽６（容量９
０リットル）に導入される。凝集槽６へは０．１重量％
の弱アニオン高分子凝集剤８が添加量５０ミリリットル
／分で添加され、攪拌機７で攪拌される。凝集した沈殿
を含む廃水をダイヤフラムポンプ９で、濾布Ｐ−２６−
１（ポリプロピレン製、通気度８０ミリリットル／ｍｉ
ｎ・ｃｍ２）を装着したフィルタープレス１０（日本濾
過装置社製、Ｆｓ−２ｃ−２０）に注入し、ケーキと濾
過水１１とに濾別する。なお、フィルタープレスＦｓ−
２ｃ−２０は濾過面積２ｍ２であり、濾過圧力は４ｋｇ
／ｃｍ２に設定した。以上の装置を２時間連続運転した
後、フィルタープレスの濾過速度・濾過圧力を測定し、
また、図１のＡ〜Ｄ点の廃水を採取し、粒度分布、ゼー
タ電位、濁度を測定した。２時間連続運転ごとの廃水の
測定結果を表１に示す。また、連続運転時間の経過によ
る、濾過速度・濾過圧力の変動を図２に示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】実施例３ Ｓｂドープシリコンインゴットの切断工程から発生した
廃水をタンクへ５０ｍ３揚水し、０．１％重量のポリア
クリルアミド系有機カチオン凝集剤（前出）を０．８容
量％添加し、１分間攪拌した。さらに、０．１重量％の
弱アニオン高分子凝集剤（前出）を０．３容量％添加
し、１分間攪拌した後、１２時間静置した。静置後の廃
水をポンプで、濾布Ｐ−２６−１を装着したフィルター
プレスＦｓ−２ｃ−２０（前出）に注入し、濾過圧力は
４ｋｇ／ｃｍ２に設定して、ケーキと濾過水とに濾別し
た。以上を２バッチ行った結果、濾過速度は８リットル
／分、最終濾過圧力は４ｋｇ／ｃｍ２、また濾過水の透
視度は３０ｃｍ以上、ＴＯＣは６．２ｐｐｍであった。
濾別して得られたケーキ量は２．５ｋｇであり、これを
乾燥処理することにより、１ｋｇのシリコン粉を回収し
た。
廃水をタンクへ５０ｍ３揚水し、０．１％重量のポリア
クリルアミド系有機カチオン凝集剤（前出）を０．８容
量％添加し、１分間攪拌した。さらに、０．１重量％の
弱アニオン高分子凝集剤（前出）を０．３容量％添加
し、１分間攪拌した後、１２時間静置した。静置後の廃
水をポンプで、濾布Ｐ−２６−１を装着したフィルター
プレスＦｓ−２ｃ−２０（前出）に注入し、濾過圧力は
４ｋｇ／ｃｍ２に設定して、ケーキと濾過水とに濾別し
た。以上を２バッチ行った結果、濾過速度は８リットル
／分、最終濾過圧力は４ｋｇ／ｃｍ２、また濾過水の透
視度は３０ｃｍ以上、ＴＯＣは６．２ｐｐｍであった。
濾別して得られたケーキ量は２．５ｋｇであり、これを
乾燥処理することにより、１ｋｇのシリコン粉を回収し
た。
Claims (8)
- 【請求項１】 シリコンウェーハの製造加工工程で発生
するシリコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離す
るシリコン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機
カチオン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加する
ことによりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴
とするシリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項２】 請求項１の記載において、有機カチオン
凝集剤としてポリアミン、ジシアンジアミド、ポリアク
リルアミド、ポリメタクリル酸エステル、ポリアミンサ
ルホンを用いるシリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項３】 請求項１の記載において、高分子凝集剤
として非イオン凝集剤または弱アニオン凝集剤を用いる
シリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項４】 請求項２の記載において、該廃水に対
し、有機カチオン凝集剤を０．１〜１００ｐｐｍ添加す
るシリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項５】 請求項３の記載において、該廃水に対
し、高分子凝集剤を０．１〜１００ｐｐｍ添加するシリ
コン加工廃水の処理方法。 - 【請求項６】 請求項１〜５の発明において、連続的に
廃水の処理を行うシリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項７】 請求項１〜６の発明において、該廃水を
分離してなる上澄み液を工業用水として再利用するシリ
コン加工廃水の処理方法。 - 【請求項８】 請求項１〜６の発明において、該廃水を
分離してなる沈殿からシリコンを分離回収し、シリコン
粉として再利用するシリコン加工廃水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18909895A JP3102309B2 (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | シリコン加工廃水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18909895A JP3102309B2 (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | シリコン加工廃水の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0929263A true JPH0929263A (ja) | 1997-02-04 |
| JP3102309B2 JP3102309B2 (ja) | 2000-10-23 |
Family
ID=16235323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18909895A Expired - Fee Related JP3102309B2 (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | シリコン加工廃水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3102309B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003525727A (ja) * | 1999-12-09 | 2003-09-02 | オンデオ デグレマン | メンブレンろ過方法 |
| JP2006075818A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-03-23 | Ngk Insulators Ltd | 無機懸濁粒子を含有する排水の処理方法 |
| JP2006263572A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Ngk Insulators Ltd | 無機懸濁粒子を含む排水の処理方法及び装置 |
| JP2010082568A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Daido Chem Ind Co Ltd | 廃液の処理方法 |
| JP2012115758A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Sanwa Biotech Kk | シリコン切削廃液の処理方法 |
| CN104370391A (zh) * | 2014-11-20 | 2015-02-25 | 济南银丰硅制品有限责任公司 | 一种硅粉水解法生产硅溶胶废水的处理方法 |
| JP2015139861A (ja) * | 2014-01-30 | 2015-08-03 | 株式会社クラレ | クーラント再生方法および再生クーラント中間生成物 |
-
1995
- 1995-07-25 JP JP18909895A patent/JP3102309B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP4526078B2 (ja) * | 2004-08-11 | 2010-08-18 | 日本碍子株式会社 | 無機懸濁粒子を含有する排水の処理方法 |
| JP2006263572A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Ngk Insulators Ltd | 無機懸濁粒子を含む排水の処理方法及び装置 |
| JP4522297B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2010-08-11 | 日本碍子株式会社 | 無機懸濁粒子を含む排水の処理方法及び装置 |
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| CN104370391A (zh) * | 2014-11-20 | 2015-02-25 | 济南银丰硅制品有限责任公司 | 一种硅粉水解法生产硅溶胶废水的处理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3102309B2 (ja) | 2000-10-23 |
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