JPH0929263A - シリコン加工廃水の処理方法 - Google Patents
シリコン加工廃水の処理方法Info
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- JPH0929263A JPH0929263A JP18909895A JP18909895A JPH0929263A JP H0929263 A JPH0929263 A JP H0929263A JP 18909895 A JP18909895 A JP 18909895A JP 18909895 A JP18909895 A JP 18909895A JP H0929263 A JPH0929263 A JP H0929263A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 シリコン加工廃水の処理により発生する多量
の凝集物、及び該廃水から凝集物を分離した後の上澄み
液中の多量の残存物を低減化することのできるシリコン
加工廃水の処理方法を開発する。 【解決手段】 シリコンウェーハの製造加工工程で発生
するシリコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離す
るシリコン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機
カチオン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加する
ことによりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴
とするシリコン加工廃水の処理方法。
の凝集物、及び該廃水から凝集物を分離した後の上澄み
液中の多量の残存物を低減化することのできるシリコン
加工廃水の処理方法を開発する。 【解決手段】 シリコンウェーハの製造加工工程で発生
するシリコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離す
るシリコン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機
カチオン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加する
ことによりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴
とするシリコン加工廃水の処理方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は廃水の処理方法に関
するものであり、特に半導体製造工程において発生する
シリコン加工廃水の処理方法に関するものである。
するものであり、特に半導体製造工程において発生する
シリコン加工廃水の処理方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】現在、各種の基板材料からなる半導体が
製品化されているが、集積回路など大部分の半導体基板
はシリコンの単体から製造されている。その製造に際し
ては、例えばシリコン単結晶のインゴットの切断工程に
おいて、粒径0.1〜100μmのシリコンの切削粉を
含む冷却加工廃水が発生する。同様に、シリコン基板の
研磨工程、素子形成後のダイシング工程においてもシリ
コンの微粒粉を含む廃水が発生する。この大量の廃水の
処理には、従来から珪藻土濾過法、または凝集沈澱法が
用いられてきた。珪藻土濾過法は、濾布に珪藻土をプレ
コートしたフィルターに廃水を通し、シリコンを吸着さ
せ、脱水して汚泥として廃棄する方法である。凝集沈澱
法は、ポリ塩化アルミニウムや硫酸アルミニウム等の無
機凝集剤を廃水に添加し必要に応じて中和剤で中和した
後、高分子凝集剤を添加してシリコンを凝集沈澱させ上
澄みを放流する一方、凝集した沈殿は脱水して汚泥とし
て廃棄する方法である。
製品化されているが、集積回路など大部分の半導体基板
はシリコンの単体から製造されている。その製造に際し
ては、例えばシリコン単結晶のインゴットの切断工程に
おいて、粒径0.1〜100μmのシリコンの切削粉を
含む冷却加工廃水が発生する。同様に、シリコン基板の
研磨工程、素子形成後のダイシング工程においてもシリ
コンの微粒粉を含む廃水が発生する。この大量の廃水の
処理には、従来から珪藻土濾過法、または凝集沈澱法が
用いられてきた。珪藻土濾過法は、濾布に珪藻土をプレ
コートしたフィルターに廃水を通し、シリコンを吸着さ
せ、脱水して汚泥として廃棄する方法である。凝集沈澱
法は、ポリ塩化アルミニウムや硫酸アルミニウム等の無
機凝集剤を廃水に添加し必要に応じて中和剤で中和した
後、高分子凝集剤を添加してシリコンを凝集沈澱させ上
澄みを放流する一方、凝集した沈殿は脱水して汚泥とし
て廃棄する方法である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記珪藻土濾過
法は、粒径0.5μm以下のシリコン粒子は素通りする
ため清澄な濾過水が得られないうえ、濾布が目詰まりし
やすく濾過能力が低いという難点がある。一方、凝集沈
澱法では、充分に凝集を行うためには多量の凝集剤及び
中和剤を廃水に加える必要があり、例えば廃水に対しポ
リ塩化アルミニウム0.1重量%、水酸化ナトリウムは
0.01重量%、及び高分子凝集剤5ppm程度の添加
を要する。
法は、粒径0.5μm以下のシリコン粒子は素通りする
ため清澄な濾過水が得られないうえ、濾布が目詰まりし
やすく濾過能力が低いという難点がある。一方、凝集沈
澱法では、充分に凝集を行うためには多量の凝集剤及び
中和剤を廃水に加える必要があり、例えば廃水に対しポ
リ塩化アルミニウム0.1重量%、水酸化ナトリウムは
0.01重量%、及び高分子凝集剤5ppm程度の添加
を要する。
【0004】さらに、両方法とも濾別または凝集により
生じる汚泥量が著しく多く、この大量の汚泥を廃棄する
には相応の場所や経費を要する。汚泥の大部分は珪藻土
や凝集剤であり、少量含有しているシリコンをこれから
分離して再利用することは極めて困難である。また廃水
から汚泥を分離した後の上ずみ液も珪藻土の微粒子や残
存凝集剤・生成塩類が大量に溶存するため再利用でき
ず、放流している。これら多量の廃棄物は、地球環境保
全上も問題がある。また両方法とも、設備費、動力費が
高額である。
生じる汚泥量が著しく多く、この大量の汚泥を廃棄する
には相応の場所や経費を要する。汚泥の大部分は珪藻土
や凝集剤であり、少量含有しているシリコンをこれから
分離して再利用することは極めて困難である。また廃水
から汚泥を分離した後の上ずみ液も珪藻土の微粒子や残
存凝集剤・生成塩類が大量に溶存するため再利用でき
ず、放流している。これら多量の廃棄物は、地球環境保
全上も問題がある。また両方法とも、設備費、動力費が
高額である。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者は以上の
問題に鑑み鋭意検討を重ねた結果、シリコン加工廃水に
有機カチオンを添加して、シリコン粒子のゼータ電位を
低下させることに着目し、本発明に至った。すなわち本
発明は、シリコンウェーハの製造加工工程で発生するシ
リコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離するシリ
コン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機カチオ
ン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加することに
よりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴とする
シリコン加工廃水の処理方法を要旨とするものである。
以下にこれをさらに詳述する。
問題に鑑み鋭意検討を重ねた結果、シリコン加工廃水に
有機カチオンを添加して、シリコン粒子のゼータ電位を
低下させることに着目し、本発明に至った。すなわち本
発明は、シリコンウェーハの製造加工工程で発生するシ
リコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離するシリ
コン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機カチオ
ン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加することに
よりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴とする
シリコン加工廃水の処理方法を要旨とするものである。
以下にこれをさらに詳述する。
【0006】図1は本発明による処理方法の工程の一例
を示す概略図である。シリコンを含む廃水を調整タンク
1から、攪拌混合槽2へ導入し、これへ有機カチオン凝
集剤4を添加してゼータ電位を低下させる。該廃水を凝
集槽6に導入し、さらに高分子凝集剤8を添加する。凝
集した沈殿を含む廃水をフィルタープレス10で濾過
し、ケーキと濾過水11とに分離する。
を示す概略図である。シリコンを含む廃水を調整タンク
1から、攪拌混合槽2へ導入し、これへ有機カチオン凝
集剤4を添加してゼータ電位を低下させる。該廃水を凝
集槽6に導入し、さらに高分子凝集剤8を添加する。凝
集した沈殿を含む廃水をフィルタープレス10で濾過
し、ケーキと濾過水11とに分離する。
【0007】本発明に用いる有機カチオン凝集剤4は、
廃水中で、マイナスに帯電し互いに反発し合っているシ
リコン粒子のゼ−タ電位を低下させ、シリコンの凝集し
た小フロックを形成するものである。具体的な成分とし
てはポリアミン、ジシアンジアミド、ポリアクリルアミ
ド、ポリメタクリル酸エステル、ポリアミンサルホン等
が例示される。添加量は廃水に対し0.1〜100pp
mが必要である。0.1ppmより少ない添加量では、
ゼータ電位の低下が不十分となる。また100ppmの
添加で前記ゼータ電位の低下は十分であり、100pp
mより大きな添加量は無駄となる。
廃水中で、マイナスに帯電し互いに反発し合っているシ
リコン粒子のゼ−タ電位を低下させ、シリコンの凝集し
た小フロックを形成するものである。具体的な成分とし
てはポリアミン、ジシアンジアミド、ポリアクリルアミ
ド、ポリメタクリル酸エステル、ポリアミンサルホン等
が例示される。添加量は廃水に対し0.1〜100pp
mが必要である。0.1ppmより少ない添加量では、
ゼータ電位の低下が不十分となる。また100ppmの
添加で前記ゼータ電位の低下は十分であり、100pp
mより大きな添加量は無駄となる。
【0008】高分子凝集剤8は廃水中のシリコンの小フ
ロックを凝集、沈降させるもので、例えば非イオン凝集
剤、または弱アニオン凝集剤が用いられる。添加量は廃
水に対し0.1〜100ppmが必要である。0.1p
pmより少ない添加量では、シリコンのフロックの形成
が不十分となる。また前記フロックは100ppmで十
分形成され、100ppmより大きな添加量は無駄とな
る。
ロックを凝集、沈降させるもので、例えば非イオン凝集
剤、または弱アニオン凝集剤が用いられる。添加量は廃
水に対し0.1〜100ppmが必要である。0.1p
pmより少ない添加量では、シリコンのフロックの形成
が不十分となる。また前記フロックは100ppmで十
分形成され、100ppmより大きな添加量は無駄とな
る。
【0009】濾別された凝集物は従来方法よりも少量で
あり、シリコンの含有率が高いことから、濾別されたケ
ーキからシリコン粉を分離・回収して再利用することが
容易となる。分離方法としてはフィルタープレス、ベル
トプレス、真空濾過器等が例示される。
あり、シリコンの含有率が高いことから、濾別されたケ
ーキからシリコン粉を分離・回収して再利用することが
容易となる。分離方法としてはフィルタープレス、ベル
トプレス、真空濾過器等が例示される。
【0010】また濾過水11中の有機カチオン凝集剤溶
存は平均0.5ppm 、高分子凝集剤溶存は平均0.2pp
m であり、従来の溶存量平均5ppm に比べて極めて少な
いため、そのままで、または小規模な後処理を経て、工
業用水として再利用することができる。再利用先は、シ
リコン切断・研磨工程でも良い。
存は平均0.5ppm 、高分子凝集剤溶存は平均0.2pp
m であり、従来の溶存量平均5ppm に比べて極めて少な
いため、そのままで、または小規模な後処理を経て、工
業用水として再利用することができる。再利用先は、シ
リコン切断・研磨工程でも良い。
【0011】本発明の処理方法は、図1の工程に限定さ
れないことは言うまでもない。また本発明によれば、廃
水を溜めたタンク中で行うバッチ式処理だけではなく、
ウェーハ製造工程作動中連続的に発生する廃水を、溜め
置きせずにそのまま連続的に処理することも可能であ
る。
れないことは言うまでもない。また本発明によれば、廃
水を溜めたタンク中で行うバッチ式処理だけではなく、
ウェーハ製造工程作動中連続的に発生する廃水を、溜め
置きせずにそのまま連続的に処理することも可能であ
る。
【0012】上記のように、本発明によれば、シリコン
ウェーハの製造加工工程で発生するシリコン粉を含む廃
水に、有機カチオン凝集剤を添加することにより、廃水
中のシリコン粒子のゼ−タ電位が低下する。この廃水
に、さらに高分子凝集剤を添加することにより、容易に
凝集・沈降が進行する。これを濾過すると、再利用可能
な濾過水、およびシリコン粉の回収可能な少量のケーキ
となる。
ウェーハの製造加工工程で発生するシリコン粉を含む廃
水に、有機カチオン凝集剤を添加することにより、廃水
中のシリコン粒子のゼ−タ電位が低下する。この廃水
に、さらに高分子凝集剤を添加することにより、容易に
凝集・沈降が進行する。これを濾過すると、再利用可能
な濾過水、およびシリコン粉の回収可能な少量のケーキ
となる。
【0013】
【発明の実施の形態】次に、図1にそって、本発明の実
施の形態を実施例、比較例を挙げて説明する。 実施例1 シリコン単結晶のインゴットの切断工程において発生し
た切断加工水の廃水(シリコン粉は平均500 mg/リット
ル含まれている)を調整タンク1(容量500 リットル)
から攪拌混合槽2(容量30リットル)へ、10リット
ル/分の速度でポンプ12により導入する。この攪拌混
合槽2へは0.1重量%のポリアクリルアミド系有機カ
チオン凝集剤 Qufix- KB(信越半導体社製製品名)4が
添加量50ミリリットル/分で薬注ポンプ5により添加
され、該槽内は攪拌機3で攪拌される。ゼータ電位の低
下した廃水は凝集槽6(容量90リットル)に導入され
る。凝集槽6へは0.1重量%の弱アニオン高分子凝集
剤 Qufix-P(信越半導体社製製品名)8が添加量50ミ
リリットル/分で添加され、攪拌機7で攪拌される。凝
集した沈殿を含む廃水をダイヤフラムポンプ9で、濾布
P-26-1(ポリプロピレン製、通気度80ミリリットル/min
・cm2)を装着したフィルタープレス10(日本濾過装置
社製、Fs-2c-20)に注入し、ケーキと濾過水11とに濾
別する。なお、フィルタープレスFs-2c-20は濾過面積2
m2 であり、濾過圧力は4kg/cm2に設定した。以上の装
置を2時間連続運転した後、フィルタープレスの濾過速
度・濾過圧力を測定し、また、図1のA〜D点の廃水を
採取し、粒度分布、ゼータ電位、濁度を測定した。2時
間連続運転ごとの廃水の測定結果を表1に示す。また、
連続運転時間の経過による、濾過速度・濾過圧力の変動
を図2に示す。
施の形態を実施例、比較例を挙げて説明する。 実施例1 シリコン単結晶のインゴットの切断工程において発生し
た切断加工水の廃水(シリコン粉は平均500 mg/リット
ル含まれている)を調整タンク1(容量500 リットル)
から攪拌混合槽2(容量30リットル)へ、10リット
ル/分の速度でポンプ12により導入する。この攪拌混
合槽2へは0.1重量%のポリアクリルアミド系有機カ
チオン凝集剤 Qufix- KB(信越半導体社製製品名)4が
添加量50ミリリットル/分で薬注ポンプ5により添加
され、該槽内は攪拌機3で攪拌される。ゼータ電位の低
下した廃水は凝集槽6(容量90リットル)に導入され
る。凝集槽6へは0.1重量%の弱アニオン高分子凝集
剤 Qufix-P(信越半導体社製製品名)8が添加量50ミ
リリットル/分で添加され、攪拌機7で攪拌される。凝
集した沈殿を含む廃水をダイヤフラムポンプ9で、濾布
P-26-1(ポリプロピレン製、通気度80ミリリットル/min
・cm2)を装着したフィルタープレス10(日本濾過装置
社製、Fs-2c-20)に注入し、ケーキと濾過水11とに濾
別する。なお、フィルタープレスFs-2c-20は濾過面積2
m2 であり、濾過圧力は4kg/cm2に設定した。以上の装
置を2時間連続運転した後、フィルタープレスの濾過速
度・濾過圧力を測定し、また、図1のA〜D点の廃水を
採取し、粒度分布、ゼータ電位、濁度を測定した。2時
間連続運転ごとの廃水の測定結果を表1に示す。また、
連続運転時間の経過による、濾過速度・濾過圧力の変動
を図2に示す。
【0014】
【表1】
【0015】実施例2 フィルタープレスの濾布をP-866 (通気度280 ミリリッ
トル/min・cm2)とした以外は、実施例1と同じ条件で行
った。2時間連続運転ごとの測定結果を表2に示す。ま
た、連続運転時間の経過による、濾過速度・濾過圧力の
変動を図3に示す。
トル/min・cm2)とした以外は、実施例1と同じ条件で行
った。2時間連続運転ごとの測定結果を表2に示す。ま
た、連続運転時間の経過による、濾過速度・濾過圧力の
変動を図3に示す。
【0016】
【表2】
【0017】実施例3 Sbドープシリコンインゴットの切断工程から発生した廃
水をタンクへ50m3 揚水し、0.1重量%のポリアクリ
ルアミド系有機カチオン凝集剤 Qufix-K(信越半導体社
製製品名)を0.8容量%添加し、1分間攪拌した。さ
らに、0.1重量%の弱アニオン高分子凝集剤 Qufix-P
(前出、信越半導体社製製品名)を0.3容量%添加
し、1分間攪拌した後、12時間静置した。静置後の廃
水をポンプで、濾布P-26-1を装着したフィルタープレス
Fs-2c-20(前出)に注入し、濾過圧力は4kg/cm2に設定
して、ケーキと濾過水とに濾別した。以上を2バッチ行
った結果、濾過速度は8リットル/分、最終濾過圧力は
4kg/cm2、また濾過水の透視度は30cm以上、TOCは
6.2ppm であった。濾別して得られたケーキ量は2.
5kgであり、これを乾燥処理することにより、1kg
のシリコン粉を回収した。
水をタンクへ50m3 揚水し、0.1重量%のポリアクリ
ルアミド系有機カチオン凝集剤 Qufix-K(信越半導体社
製製品名)を0.8容量%添加し、1分間攪拌した。さ
らに、0.1重量%の弱アニオン高分子凝集剤 Qufix-P
(前出、信越半導体社製製品名)を0.3容量%添加
し、1分間攪拌した後、12時間静置した。静置後の廃
水をポンプで、濾布P-26-1を装着したフィルタープレス
Fs-2c-20(前出)に注入し、濾過圧力は4kg/cm2に設定
して、ケーキと濾過水とに濾別した。以上を2バッチ行
った結果、濾過速度は8リットル/分、最終濾過圧力は
4kg/cm2、また濾過水の透視度は30cm以上、TOCは
6.2ppm であった。濾別して得られたケーキ量は2.
5kgであり、これを乾燥処理することにより、1kg
のシリコン粉を回収した。
【0018】比較例 凝集沈殿法で、ポリ塩化アルミニウム0.08重量%、
10%水酸化ナトリウム0.01重量%を添加する以外
は実施例3と同様に行った。2バッチ行った結果、濾過
速度は10リットル/分、最終濾過圧力は4kg/cm2、ま
た濾過水の透視度は30cm以上、TOCは20ppm 、濾
別して得られたケーキ量は20kgであった。このケー
キからのシリコン粉の回収はシリコン粉の含有率が低い
ため不可能であった。
10%水酸化ナトリウム0.01重量%を添加する以外
は実施例3と同様に行った。2バッチ行った結果、濾過
速度は10リットル/分、最終濾過圧力は4kg/cm2、ま
た濾過水の透視度は30cm以上、TOCは20ppm 、濾
別して得られたケーキ量は20kgであった。このケー
キからのシリコン粉の回収はシリコン粉の含有率が低い
ため不可能であった。
【0019】比較例と実施例3との結果より、本発明に
よる処理方法は従来法よりも少ない薬剤の添加で、濾過
水の透視度は従来法と同等またはそれ以上の結果が得ら
れることがわかった。また濾別して得られたケーキ量は
従来法の8分の1に減少した。
よる処理方法は従来法よりも少ない薬剤の添加で、濾過
水の透視度は従来法と同等またはそれ以上の結果が得ら
れることがわかった。また濾別して得られたケーキ量は
従来法の8分の1に減少した。
【0020】表1、表2より、本発明による処理が進む
につれ、廃水のゼータ電位が低下したこと、沈殿が凝集
して大径化したことがわかり、また濾過水の濁度は処理
前の廃水に比べて大幅に低減したことがわかった。また
これらの特質は、18時間連続処理を行っても殆ど劣化
しないことがわかった。
につれ、廃水のゼータ電位が低下したこと、沈殿が凝集
して大径化したことがわかり、また濾過水の濁度は処理
前の廃水に比べて大幅に低減したことがわかった。また
これらの特質は、18時間連続処理を行っても殆ど劣化
しないことがわかった。
【0021】図2、図3より本発明による処理方法は、
6時間〜20時間連続運転までは充分にフィルタープレ
スの濾過特性(濾過速度・濾過圧力)を維持できること
がわかった。
6時間〜20時間連続運転までは充分にフィルタープレ
スの濾過特性(濾過速度・濾過圧力)を維持できること
がわかった。
【0022】
【発明の効果】本発明によれば、濾別されたケーキに含
まれるシリコン粉の回収・再利用が可能であり、濾別さ
れた濾過水も再利用できる。また、処理に要する薬剤費
・設備費、シリコン以外の凝集物を廃棄する経費が低減
され、さらに、大量の廃棄物による環境汚染を防止する
ことができる。
まれるシリコン粉の回収・再利用が可能であり、濾別さ
れた濾過水も再利用できる。また、処理に要する薬剤費
・設備費、シリコン以外の凝集物を廃棄する経費が低減
され、さらに、大量の廃棄物による環境汚染を防止する
ことができる。
【図1】本発明による処理方法の工程の一例を示す概略
図である。
図である。
【図2】本発明による一実施例の、連続運転時間の経過
による、濾過速度・濾過圧力の変動を示すグラフであ
る。
による、濾過速度・濾過圧力の変動を示すグラフであ
る。
【図3】本発明による別の実施例の、連続運転時間の経
過による、濾過速度・濾過圧力の変動を示すグラフであ
る。
過による、濾過速度・濾過圧力の変動を示すグラフであ
る。
1 調整タンク 2 攪拌混合槽 3 攪拌機 4 有機カチオン凝
集剤 5 薬注ポンプ 6 凝集槽 7 攪拌機 8 高分子凝集剤 9 ダイヤフラムポンプ 10 フィルタープレ
ス 11 濾過水 12 ポンプ
集剤 5 薬注ポンプ 6 凝集槽 7 攪拌機 8 高分子凝集剤 9 ダイヤフラムポンプ 10 フィルタープレ
ス 11 濾過水 12 ポンプ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年9月4日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】
【発明の実施の形態】次に、図1にそって、本発明の実
施の形態を実施例、比較例を挙げて説明する。 実施例1 シリコン単結晶のインゴットの切断工程において発生し
た切断加工水の廃水(シリコン粉は平均500mg/リ
ットル含まれている)を調整タンク1(容量500リッ
トル)から攪拌混合槽2(容量30リットル)へ、10
リットル/分の速度でポンプ12により導入する。この
攪拌混合槽2へは0.1重量%のポリアクリルアミド系
有機カチオン凝集剤4が添加量50ミリリットル/分で
薬注ポンプ5により添加され、該槽内は攪拌機3で攪拌
される。ゼータ電位の低下した廃水は凝集槽6(容量9
0リットル)に導入される。凝集槽6へは0.1重量%
の弱アニオン高分子凝集剤8が添加量50ミリリットル
/分で添加され、攪拌機7で攪拌される。凝集した沈殿
を含む廃水をダイヤフラムポンプ9で、濾布P−26−
1(ポリプロピレン製、通気度80ミリリットル/mi
n・cm2)を装着したフィルタープレス10(日本濾
過装置社製、Fs−2c−20)に注入し、ケーキと濾
過水11とに濾別する。なお、フィルタープレスFs−
2c−20は濾過面積2m2であり、濾過圧力は4kg
/cm2に設定した。以上の装置を2時間連続運転した
後、フィルタープレスの濾過速度・濾過圧力を測定し、
また、図1のA〜D点の廃水を採取し、粒度分布、ゼー
タ電位、濁度を測定した。2時間連続運転ごとの廃水の
測定結果を表1に示す。また、連続運転時間の経過によ
る、濾過速度・濾過圧力の変動を図2に示す。
施の形態を実施例、比較例を挙げて説明する。 実施例1 シリコン単結晶のインゴットの切断工程において発生し
た切断加工水の廃水(シリコン粉は平均500mg/リ
ットル含まれている)を調整タンク1(容量500リッ
トル)から攪拌混合槽2(容量30リットル)へ、10
リットル/分の速度でポンプ12により導入する。この
攪拌混合槽2へは0.1重量%のポリアクリルアミド系
有機カチオン凝集剤4が添加量50ミリリットル/分で
薬注ポンプ5により添加され、該槽内は攪拌機3で攪拌
される。ゼータ電位の低下した廃水は凝集槽6(容量9
0リットル)に導入される。凝集槽6へは0.1重量%
の弱アニオン高分子凝集剤8が添加量50ミリリットル
/分で添加され、攪拌機7で攪拌される。凝集した沈殿
を含む廃水をダイヤフラムポンプ9で、濾布P−26−
1(ポリプロピレン製、通気度80ミリリットル/mi
n・cm2)を装着したフィルタープレス10(日本濾
過装置社製、Fs−2c−20)に注入し、ケーキと濾
過水11とに濾別する。なお、フィルタープレスFs−
2c−20は濾過面積2m2であり、濾過圧力は4kg
/cm2に設定した。以上の装置を2時間連続運転した
後、フィルタープレスの濾過速度・濾過圧力を測定し、
また、図1のA〜D点の廃水を採取し、粒度分布、ゼー
タ電位、濁度を測定した。2時間連続運転ごとの廃水の
測定結果を表1に示す。また、連続運転時間の経過によ
る、濾過速度・濾過圧力の変動を図2に示す。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0017
【補正方法】変更
【補正内容】
【0017】実施例3 Sbドープシリコンインゴットの切断工程から発生した
廃水をタンクへ50m3揚水し、0.1%重量のポリア
クリルアミド系有機カチオン凝集剤(前出)を0.8容
量%添加し、1分間攪拌した。さらに、0.1重量%の
弱アニオン高分子凝集剤(前出)を0.3容量%添加
し、1分間攪拌した後、12時間静置した。静置後の廃
水をポンプで、濾布P−26−1を装着したフィルター
プレスFs−2c−20(前出)に注入し、濾過圧力は
4kg/cm2に設定して、ケーキと濾過水とに濾別し
た。以上を2バッチ行った結果、濾過速度は8リットル
/分、最終濾過圧力は4kg/cm2、また濾過水の透
視度は30cm以上、TOCは6.2ppmであった。
濾別して得られたケーキ量は2.5kgであり、これを
乾燥処理することにより、1kgのシリコン粉を回収し
た。
廃水をタンクへ50m3揚水し、0.1%重量のポリア
クリルアミド系有機カチオン凝集剤(前出)を0.8容
量%添加し、1分間攪拌した。さらに、0.1重量%の
弱アニオン高分子凝集剤(前出)を0.3容量%添加
し、1分間攪拌した後、12時間静置した。静置後の廃
水をポンプで、濾布P−26−1を装着したフィルター
プレスFs−2c−20(前出)に注入し、濾過圧力は
4kg/cm2に設定して、ケーキと濾過水とに濾別し
た。以上を2バッチ行った結果、濾過速度は8リットル
/分、最終濾過圧力は4kg/cm2、また濾過水の透
視度は30cm以上、TOCは6.2ppmであった。
濾別して得られたケーキ量は2.5kgであり、これを
乾燥処理することにより、1kgのシリコン粉を回収し
た。
Claims (8)
- 【請求項1】 シリコンウェーハの製造加工工程で発生
するシリコン粉を含む廃水を上澄み液と沈殿とに分離す
るシリコン加工廃水の処理方法において、該廃水に有機
カチオン凝集剤を添加し、更に高分子凝集剤を添加する
ことによりシリコンを凝集沈殿・分離させることを特徴
とするシリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項2】 請求項1の記載において、有機カチオン
凝集剤としてポリアミン、ジシアンジアミド、ポリアク
リルアミド、ポリメタクリル酸エステル、ポリアミンサ
ルホンを用いるシリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項3】 請求項1の記載において、高分子凝集剤
として非イオン凝集剤または弱アニオン凝集剤を用いる
シリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項4】 請求項2の記載において、該廃水に対
し、有機カチオン凝集剤を0.1〜100ppm添加す
るシリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項5】 請求項3の記載において、該廃水に対
し、高分子凝集剤を0.1〜100ppm添加するシリ
コン加工廃水の処理方法。 - 【請求項6】 請求項1〜5の発明において、連続的に
廃水の処理を行うシリコン加工廃水の処理方法。 - 【請求項7】 請求項1〜6の発明において、該廃水を
分離してなる上澄み液を工業用水として再利用するシリ
コン加工廃水の処理方法。 - 【請求項8】 請求項1〜6の発明において、該廃水を
分離してなる沈殿からシリコンを分離回収し、シリコン
粉として再利用するシリコン加工廃水の処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18909895A JP3102309B2 (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | シリコン加工廃水の処理方法 |
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---|---|
JPH0929263A true JPH0929263A (ja) | 1997-02-04 |
JP3102309B2 JP3102309B2 (ja) | 2000-10-23 |
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ID=16235323
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP18909895A Expired - Fee Related JP3102309B2 (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | シリコン加工廃水の処理方法 |
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JP (1) | JP3102309B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003525727A (ja) * | 1999-12-09 | 2003-09-02 | オンデオ デグレマン | メンブレンろ過方法 |
JP2006075818A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-03-23 | Ngk Insulators Ltd | 無機懸濁粒子を含有する排水の処理方法 |
JP2006263572A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Ngk Insulators Ltd | 無機懸濁粒子を含む排水の処理方法及び装置 |
JP2010082568A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Daido Chem Ind Co Ltd | 廃液の処理方法 |
JP2012115758A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Sanwa Biotech Kk | シリコン切削廃液の処理方法 |
CN104370391A (zh) * | 2014-11-20 | 2015-02-25 | 济南银丰硅制品有限责任公司 | 一种硅粉水解法生产硅溶胶废水的处理方法 |
JP2015139861A (ja) * | 2014-01-30 | 2015-08-03 | 株式会社クラレ | クーラント再生方法および再生クーラント中間生成物 |
-
1995
- 1995-07-25 JP JP18909895A patent/JP3102309B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003525727A (ja) * | 1999-12-09 | 2003-09-02 | オンデオ デグレマン | メンブレンろ過方法 |
JP2006075818A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-03-23 | Ngk Insulators Ltd | 無機懸濁粒子を含有する排水の処理方法 |
JP4526078B2 (ja) * | 2004-08-11 | 2010-08-18 | 日本碍子株式会社 | 無機懸濁粒子を含有する排水の処理方法 |
JP2006263572A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Ngk Insulators Ltd | 無機懸濁粒子を含む排水の処理方法及び装置 |
JP4522297B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2010-08-11 | 日本碍子株式会社 | 無機懸濁粒子を含む排水の処理方法及び装置 |
JP2010082568A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Daido Chem Ind Co Ltd | 廃液の処理方法 |
JP2012115758A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Sanwa Biotech Kk | シリコン切削廃液の処理方法 |
JP2015139861A (ja) * | 2014-01-30 | 2015-08-03 | 株式会社クラレ | クーラント再生方法および再生クーラント中間生成物 |
CN104370391A (zh) * | 2014-11-20 | 2015-02-25 | 济南银丰硅制品有限责任公司 | 一种硅粉水解法生产硅溶胶废水的处理方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3102309B2 (ja) | 2000-10-23 |
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