JPH09267039A - 排ガス浄化用触媒及びこれを用いた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化システム - Google Patents
排ガス浄化用触媒及びこれを用いた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化システムInfo
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Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ディ−ゼルエンジンからの排気ガス中の硫黄
酸化物による担体及び触媒活性成分の被毒を防止するこ
とにより、耐被毒性に優れた、長寿命な排ガス浄化用触
媒及びこれを用いた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化シ
ステムを提供することを目的としている。 【解決手段】 耐熱性ハニカム構造物１と、耐熱性ハニ
カム構造物１の排ガス浄化面に担持された多孔性無機物
２からなる担体層と、担体層の上面に形成されたシリコ
ン、及び／又は、チタンの酸化物からなる酸化物皮膜３
及び貴金属、卑金属、金属酸化物の内のいずれか一種類
以上からなる活性触媒成分４と、を有する。
酸化物による担体及び触媒活性成分の被毒を防止するこ
とにより、耐被毒性に優れた、長寿命な排ガス浄化用触
媒及びこれを用いた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化シ
ステムを提供することを目的としている。 【解決手段】 耐熱性ハニカム構造物１と、耐熱性ハニ
カム構造物１の排ガス浄化面に担持された多孔性無機物
２からなる担体層と、担体層の上面に形成されたシリコ
ン、及び／又は、チタンの酸化物からなる酸化物皮膜３
及び貴金属、卑金属、金属酸化物の内のいずれか一種類
以上からなる活性触媒成分４と、を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、内燃機関の排気ガ
スを浄化する排ガス浄化用触媒及びこれを用いた排ガス
浄化装置並びに排ガス浄化システム、特にディーゼル機
関の排気ガスに含まれる一酸化炭素、炭化水素、パティ
キュレートを酸化燃焼して浄化する排ガス浄化用触媒及
びこれを用いた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化システ
ムに関するものである。
スを浄化する排ガス浄化用触媒及びこれを用いた排ガス
浄化装置並びに排ガス浄化システム、特にディーゼル機
関の排気ガスに含まれる一酸化炭素、炭化水素、パティ
キュレートを酸化燃焼して浄化する排ガス浄化用触媒及
びこれを用いた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化システ
ムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】内燃機関からの排気ガスが大気中に安全
に放出されるように浄化処理することは、環境保全上望
ましいことである。ガソリンエンジンについては、排気
ガスの厳しい規制と、それに対する技術の進歩、いわゆ
る三元触媒の出現により、排気ガス中の有害物質は確実
に減少している。しかし、ディーゼルエンジンについて
は、その特異な原理とパティキュレートと呼ばれる有害
成分の存在により、規制も技術開発もガソリンエンジン
に比べて大きく遅れており、確実に浄化できる排ガス浄
化用触媒及びこれを用いる排ガス浄化装置並びに排ガス
浄化システムの開発が望まれている。
に放出されるように浄化処理することは、環境保全上望
ましいことである。ガソリンエンジンについては、排気
ガスの厳しい規制と、それに対する技術の進歩、いわゆ
る三元触媒の出現により、排気ガス中の有害物質は確実
に減少している。しかし、ディーゼルエンジンについて
は、その特異な原理とパティキュレートと呼ばれる有害
成分の存在により、規制も技術開発もガソリンエンジン
に比べて大きく遅れており、確実に浄化できる排ガス浄
化用触媒及びこれを用いる排ガス浄化装置並びに排ガス
浄化システムの開発が望まれている。
【０００３】現在までに開発されているディーゼルエン
ジンからの排気ガスを浄化する触媒としては、三元触媒
と基本的に同じタイプのオープン型ＳＯＦ（Ｓｏｌｕｂ
ｌｅＯｒｇａｎｉｃ Ｆｒａｃｔｉｏｎ：可溶性有機成
分）分解触媒が知られている。オープン型ＳＯＦ分解触
媒では、例えば特開平１−１７１６２６号公報に開示さ
れているように、ガソリンエンジンと同様に触媒活性成
分である白金族金属等の貴金属の微粒子が高比表面積の
担体上に分散、担持されており、一酸化炭素や炭化水素
とともにディーゼルパティキュレート中のＳＯＦが酸化
分解して浄化される。高比表面積の担体としては、耐熱
性等を考慮してγ−アルミナ等の活性アルミナ又はアル
カリ金属や希土類が添加された活性アルミナ等が用いら
れている。このオープン型ＳＯＦ分解触媒は、ドライス
ーツの除去率が低いという欠点があるが、ドライスーツ
の量はディーゼルエンジンや燃料自体の改良によって低
減することが可能であり、かつ再生処理装置が不要とい
う大きなメリットがあるため、今後の一層の技術の向上
が期待されている。
ジンからの排気ガスを浄化する触媒としては、三元触媒
と基本的に同じタイプのオープン型ＳＯＦ（Ｓｏｌｕｂ
ｌｅＯｒｇａｎｉｃ Ｆｒａｃｔｉｏｎ：可溶性有機成
分）分解触媒が知られている。オープン型ＳＯＦ分解触
媒では、例えば特開平１−１７１６２６号公報に開示さ
れているように、ガソリンエンジンと同様に触媒活性成
分である白金族金属等の貴金属の微粒子が高比表面積の
担体上に分散、担持されており、一酸化炭素や炭化水素
とともにディーゼルパティキュレート中のＳＯＦが酸化
分解して浄化される。高比表面積の担体としては、耐熱
性等を考慮してγ−アルミナ等の活性アルミナ又はアル
カリ金属や希土類が添加された活性アルミナ等が用いら
れている。このオープン型ＳＯＦ分解触媒は、ドライス
ーツの除去率が低いという欠点があるが、ドライスーツ
の量はディーゼルエンジンや燃料自体の改良によって低
減することが可能であり、かつ再生処理装置が不要とい
う大きなメリットがあるため、今後の一層の技術の向上
が期待されている。
【０００４】ところが、オープン型ＳＯＦ分解触媒も排
気ガス中に含まれる触媒被毒物質により触媒活性が低下
する。すなわち、ディーゼルエンジンに使用する軽油に
は、現在のところ０．４０〜０．４５重量％の硫黄分が
含有され、長期規制実施後も０．０５重量％程度の硫黄
分が含有されるため、エンジンの燃焼の際に硫黄分が酸
化して硫黄酸化物となり、これが触媒活性成分や担体と
反応又は吸着して、触媒活性が低下する。これに対して
特開昭６３−２００２８号公報では、「触媒担体が、触
媒成分を含む活性アルミナ層と、活性アルミナ層を交互
に、少なくとも各々２層以上で被覆されていること特徴
とする排ガス浄化用触媒。」が開示されており、触媒活
性成分と硫黄酸化物を接触させにくくして触媒劣化を極
力抑えている。
気ガス中に含まれる触媒被毒物質により触媒活性が低下
する。すなわち、ディーゼルエンジンに使用する軽油に
は、現在のところ０．４０〜０．４５重量％の硫黄分が
含有され、長期規制実施後も０．０５重量％程度の硫黄
分が含有されるため、エンジンの燃焼の際に硫黄分が酸
化して硫黄酸化物となり、これが触媒活性成分や担体と
反応又は吸着して、触媒活性が低下する。これに対して
特開昭６３−２００２８号公報では、「触媒担体が、触
媒成分を含む活性アルミナ層と、活性アルミナ層を交互
に、少なくとも各々２層以上で被覆されていること特徴
とする排ガス浄化用触媒。」が開示されており、触媒活
性成分と硫黄酸化物を接触させにくくして触媒劣化を極
力抑えている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記オ
ープン型ＳＯＦ分解触媒の担体として用いられる活性ア
ルミナは、高温度域で硫黄酸化物と共存すると硫酸化が
起こり、アルミナの結晶構造が変化して比表面積が小さ
くなることが知られている。また、活性アルミナに添加
されるアルカリ金属や希土類については塩基性を示すこ
とから、酸性ガスである硫黄酸化物と吸着しやすく、こ
れにより硫酸化が生じる。
ープン型ＳＯＦ分解触媒の担体として用いられる活性ア
ルミナは、高温度域で硫黄酸化物と共存すると硫酸化が
起こり、アルミナの結晶構造が変化して比表面積が小さ
くなることが知られている。また、活性アルミナに添加
されるアルカリ金属や希土類については塩基性を示すこ
とから、酸性ガスである硫黄酸化物と吸着しやすく、こ
れにより硫酸化が生じる。
【０００６】以上のように、従来の排ガス浄化用触媒で
は、硫黄酸化物との吸着、及び／又は、反応によって生
じる担体の比表面積の低下及び触媒活性成分の被毒を、
同時にかつ効果的に防止することが十分になされていな
いため、硫黄酸化物による耐被毒性に乏しく、経時的に
触媒機能が劣化し、自動車用触媒としての寿命が短いと
いう問題が生じていた。
は、硫黄酸化物との吸着、及び／又は、反応によって生
じる担体の比表面積の低下及び触媒活性成分の被毒を、
同時にかつ効果的に防止することが十分になされていな
いため、硫黄酸化物による耐被毒性に乏しく、経時的に
触媒機能が劣化し、自動車用触媒としての寿命が短いと
いう問題が生じていた。
【０００７】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
のであり、内燃機関、特にディーゼルエンジンからの排
気ガスに含まれる硫黄酸化物と排ガス浄化用触媒を構成
する担体、及び／又は、触媒活性成分との吸着、及び／
又は、反応を防止することによって、硫黄酸化物に対す
る耐被毒性に優れた、長寿命な排ガス浄化用触媒及びこ
れを用いた耐久性に優れる排ガス浄化装置並びに排ガス
浄化システムを提供することを目的としている。
のであり、内燃機関、特にディーゼルエンジンからの排
気ガスに含まれる硫黄酸化物と排ガス浄化用触媒を構成
する担体、及び／又は、触媒活性成分との吸着、及び／
又は、反応を防止することによって、硫黄酸化物に対す
る耐被毒性に優れた、長寿命な排ガス浄化用触媒及びこ
れを用いた耐久性に優れる排ガス浄化装置並びに排ガス
浄化システムを提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の排ガス浄化用触
媒は、耐熱性ハニカム構造物と、耐熱性ハニカム構造物
の排ガス浄化面に担持された多孔性無機物からなる担体
層と、担体層の上面に形成されたシリコン、及び／又
は、チタンの酸化物からなる酸化物皮膜及び貴金属、卑
金属、金属酸化物の内のいずれか一種類以上からなる触
媒活性成分と、を有する構成よりなる。また、本発明の
排ガス浄化装置並びに排ガス浄化システムは、本発明の
排ガス浄化用触媒を備えた構成よりなる。これらの構成
により、ディーゼルエンジンからの排気ガス中に含まれ
る一酸化炭素、炭化水素、パティキュレートを酸化燃焼
して浄化する際に、触媒毒である硫黄酸化物と多孔性無
機物、及び／又は、触媒活性成分との吸着、及び／又
は、反応を防止することが可能となり、硫黄酸化物に対
する耐被毒性に優れた、長寿命な排ガス浄化用触媒及び
これを用いた耐久性に優れる排ガス浄化装置並びに排ガ
ス浄化システムを提供することができる。
媒は、耐熱性ハニカム構造物と、耐熱性ハニカム構造物
の排ガス浄化面に担持された多孔性無機物からなる担体
層と、担体層の上面に形成されたシリコン、及び／又
は、チタンの酸化物からなる酸化物皮膜及び貴金属、卑
金属、金属酸化物の内のいずれか一種類以上からなる触
媒活性成分と、を有する構成よりなる。また、本発明の
排ガス浄化装置並びに排ガス浄化システムは、本発明の
排ガス浄化用触媒を備えた構成よりなる。これらの構成
により、ディーゼルエンジンからの排気ガス中に含まれ
る一酸化炭素、炭化水素、パティキュレートを酸化燃焼
して浄化する際に、触媒毒である硫黄酸化物と多孔性無
機物、及び／又は、触媒活性成分との吸着、及び／又
は、反応を防止することが可能となり、硫黄酸化物に対
する耐被毒性に優れた、長寿命な排ガス浄化用触媒及び
これを用いた耐久性に優れる排ガス浄化装置並びに排ガ
ス浄化システムを提供することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、耐熱性ハニカム構造物と、耐熱性ハニカム構造物の
排ガス浄化面に担持された多孔性無機物からなる担体層
と、担体層の上面に形成されたシリコン、及び／又は、
チタンの酸化物からなる酸化物皮膜と、酸化物皮膜の上
面に担持された貴金属、卑金属、金属酸化物の内のいず
れか一種類以上からなる触媒活性成分と、を有すること
としたものであり、多孔性無機物の表面に酸化物皮膜を
形成することによって、多孔性無機物と硫黄酸化物との
吸着、及び／又は、反応による多孔性無機物の比表面積
の低下を防止できるという作用を有する。
は、耐熱性ハニカム構造物と、耐熱性ハニカム構造物の
排ガス浄化面に担持された多孔性無機物からなる担体層
と、担体層の上面に形成されたシリコン、及び／又は、
チタンの酸化物からなる酸化物皮膜と、酸化物皮膜の上
面に担持された貴金属、卑金属、金属酸化物の内のいず
れか一種類以上からなる触媒活性成分と、を有すること
としたものであり、多孔性無機物の表面に酸化物皮膜を
形成することによって、多孔性無機物と硫黄酸化物との
吸着、及び／又は、反応による多孔性無機物の比表面積
の低下を防止できるという作用を有する。
【００１０】耐熱性ハニカム構造物としては、コージェ
ライト、ムライト、アルミナ、シリカ、チタニア、ジル
コニア、シリカ−アルミナ、アルミナ−ジルコニア、ア
ルミナ−チタニア、シリカ−ジルコニア、チタニア−ジ
ルコニア等からなる片端閉じ型のセラミックハニカム、
セラミック多孔体、セラミックフォーム等や、ＳＵＳ−
３０１Ｓ、インコネル等からなる金属多孔体、金属発泡
体等が用いられるが、特にこれらに限定されるものでは
ない。
ライト、ムライト、アルミナ、シリカ、チタニア、ジル
コニア、シリカ−アルミナ、アルミナ−ジルコニア、ア
ルミナ−チタニア、シリカ−ジルコニア、チタニア−ジ
ルコニア等からなる片端閉じ型のセラミックハニカム、
セラミック多孔体、セラミックフォーム等や、ＳＵＳ−
３０１Ｓ、インコネル等からなる金属多孔体、金属発泡
体等が用いられるが、特にこれらに限定されるものでは
ない。
【００１１】多孔性無機物としては、高比表面積を有す
るもので、マグネシア等のように塩基性を示すか、γ−
アルミナのように硫黄酸化物との反応性が高い化合物で
あって微細孔を有する多孔体が用いられる。尚、多孔性
無機物を耐熱性ハニカム構造物に担持する際には、多孔
性無機物を含むスラリーをウォッシュコート等により耐
熱性ハニカム構造物の表面に塗布した後、乾燥し、焼成
する方法等の一般の担持法が用いられる。
るもので、マグネシア等のように塩基性を示すか、γ−
アルミナのように硫黄酸化物との反応性が高い化合物で
あって微細孔を有する多孔体が用いられる。尚、多孔性
無機物を耐熱性ハニカム構造物に担持する際には、多孔
性無機物を含むスラリーをウォッシュコート等により耐
熱性ハニカム構造物の表面に塗布した後、乾燥し、焼成
する方法等の一般の担持法が用いられる。
【００１２】シリコン又はチタンの酸化物皮膜を形成す
る方法としては、シリコン又はチタンのアルコキシドを
含む溶液を多孔性無機物、及び／又は、触媒活性成分を
担持した耐熱性ハニカム構造物上に含浸法、浸漬法等に
より塗布した後、乾燥し、焼成する方法等が用いられる
が、前記酸化物の出発原料はシリコン又はチタンのアル
コキシドに限定されるものではない。
る方法としては、シリコン又はチタンのアルコキシドを
含む溶液を多孔性無機物、及び／又は、触媒活性成分を
担持した耐熱性ハニカム構造物上に含浸法、浸漬法等に
より塗布した後、乾燥し、焼成する方法等が用いられる
が、前記酸化物の出発原料はシリコン又はチタンのアル
コキシドに限定されるものではない。
【００１３】触媒活性成分としては、白金、パラジウ
ム、ロジウム、オスミウム、イリジウム、ルテニウム、
金、銀等の貴金属、リチウム、ナトリウム、カリウム、
ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウ
ム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、テクネチウム、レニウム、鉄、コバル
ト、ニッケル、銅、亜鉛、錫等の卑金属、酸化銅、酸化
ニッケル、酸化コバルト、酸化ランタン、酸化セリウ
ム、酸化鉄、酸化バナジウム、酸化亜鉛、酸化クロム、
酸化アルミニウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸
化金、酸化銀、酸化白金、酸化パラジウム、酸化タリウ
ム、酸化トリウム、酸化チタン、酸化珪素、酸化マグネ
シウム、酸化モリブデン、酸化イットリウム、酸化ジル
コニウム、酸化ベリリウム等の金属酸化物、ＡＢＯ
3（Ａはランタン、セリウム等の希土類の少なくとも１
種類以上の元素、Ｂはクロム、マンガン、鉄、コバルト
等の遷移金属、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金
属、ストロンチウム、バリウム等のアルカリ土類金属、
白金、パラジウム等の貴金属の内の少なくとも１種類以
上の元素）を基本構造とするペロブスカイト型酸化物、
スピネル型酸化物、ペロブスカイト・スピネル複合酸化
物等のセラミックの内のいずれか一種類以上が用いられ
る。
ム、ロジウム、オスミウム、イリジウム、ルテニウム、
金、銀等の貴金属、リチウム、ナトリウム、カリウム、
ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウ
ム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、テクネチウム、レニウム、鉄、コバル
ト、ニッケル、銅、亜鉛、錫等の卑金属、酸化銅、酸化
ニッケル、酸化コバルト、酸化ランタン、酸化セリウ
ム、酸化鉄、酸化バナジウム、酸化亜鉛、酸化クロム、
酸化アルミニウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸
化金、酸化銀、酸化白金、酸化パラジウム、酸化タリウ
ム、酸化トリウム、酸化チタン、酸化珪素、酸化マグネ
シウム、酸化モリブデン、酸化イットリウム、酸化ジル
コニウム、酸化ベリリウム等の金属酸化物、ＡＢＯ
3（Ａはランタン、セリウム等の希土類の少なくとも１
種類以上の元素、Ｂはクロム、マンガン、鉄、コバルト
等の遷移金属、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金
属、ストロンチウム、バリウム等のアルカリ土類金属、
白金、パラジウム等の貴金属の内の少なくとも１種類以
上の元素）を基本構造とするペロブスカイト型酸化物、
スピネル型酸化物、ペロブスカイト・スピネル複合酸化
物等のセラミックの内のいずれか一種類以上が用いられ
る。
【００１４】本発明の請求項２に記載の発明は、請求項
１に記載の発明において、酸化物皮膜の担持量が、耐熱
性ハニカム構造物の重量に対して１〜３０重量％、好ま
しくは２〜２５重量％であり、触媒活性成分の担持量が
担体層の重量に対して０．１〜１５重量％、好ましくは
０．５〜１０重量％であることとしたものであり、多孔
性無機物と硫黄酸化物との吸着、及び／又は、反応を防
止できるとともに、触媒活性成分による排気ガスの浄化
効率が向上するという作用を有する。酸化物皮膜の担持
量が２重量％より小さくなるにつれて多孔性無機物の表
面の被覆が不十分となる傾向を生じ、また２５重量％よ
りも大きくなるにつれて酸化物皮膜が多孔性無機物の微
細孔を埋めて比表面積を著しく低下させる傾向を生じる
ため、それぞれ好ましくない。また、活性触媒成分の担
持量が０．５重量％よりも小さくなるにつれて活性触媒
成分の絶対量が不足して充分な触媒作用が得られなくな
る傾向を生じ、また１０重量％よりも大きくなるにつれ
て熱処理時に触媒活性成分の焼結が生じて粒径が大きく
なり、触媒活性成分の有効表面積が減少して触媒活性が
低下する傾向を生じるので、それぞれ好ましくない。
１に記載の発明において、酸化物皮膜の担持量が、耐熱
性ハニカム構造物の重量に対して１〜３０重量％、好ま
しくは２〜２５重量％であり、触媒活性成分の担持量が
担体層の重量に対して０．１〜１５重量％、好ましくは
０．５〜１０重量％であることとしたものであり、多孔
性無機物と硫黄酸化物との吸着、及び／又は、反応を防
止できるとともに、触媒活性成分による排気ガスの浄化
効率が向上するという作用を有する。酸化物皮膜の担持
量が２重量％より小さくなるにつれて多孔性無機物の表
面の被覆が不十分となる傾向を生じ、また２５重量％よ
りも大きくなるにつれて酸化物皮膜が多孔性無機物の微
細孔を埋めて比表面積を著しく低下させる傾向を生じる
ため、それぞれ好ましくない。また、活性触媒成分の担
持量が０．５重量％よりも小さくなるにつれて活性触媒
成分の絶対量が不足して充分な触媒作用が得られなくな
る傾向を生じ、また１０重量％よりも大きくなるにつれ
て熱処理時に触媒活性成分の焼結が生じて粒径が大きく
なり、触媒活性成分の有効表面積が減少して触媒活性が
低下する傾向を生じるので、それぞれ好ましくない。
【００１５】本発明の請求項３に記載の発明は、耐熱性
ハニカム構造物と、耐熱性ハニカム構造物の排ガス浄化
面に担持された多孔性無機物からなる担体層と、担体層
の上面に担持された貴金属、卑金属、金属酸化物の内の
いずれか一種類以上からなる触媒活性成分と、触媒活性
成分の上面に形成されたシリコン、及び／又は、チタン
の酸化物からなる酸化物皮膜と、を有することとしたも
のであり、触媒活性成分の表面に酸化物皮膜を形成する
ことによって、触媒活性成分と硫黄酸化物との吸着、及
び／又は、反応による触媒機能の低下を防止できるとい
う作用を有する。
ハニカム構造物と、耐熱性ハニカム構造物の排ガス浄化
面に担持された多孔性無機物からなる担体層と、担体層
の上面に担持された貴金属、卑金属、金属酸化物の内の
いずれか一種類以上からなる触媒活性成分と、触媒活性
成分の上面に形成されたシリコン、及び／又は、チタン
の酸化物からなる酸化物皮膜と、を有することとしたも
のであり、触媒活性成分の表面に酸化物皮膜を形成する
ことによって、触媒活性成分と硫黄酸化物との吸着、及
び／又は、反応による触媒機能の低下を防止できるとい
う作用を有する。
【００１６】本発明の請求項４に記載の発明は、請求項
３に記載の発明において、酸化物皮膜の担持量が、耐熱
性ハニカム構造物の重量に対して０．１〜１．０重量
％、好ましくは０．２〜０．５重量％であり、触媒活性
成分の担持量が担体層の重量に対して０．０１〜１５重
量％、好ましくは０．１〜１０重量％であることとした
ものであり、触媒活性成分と硫黄酸化物との吸着、及び
／又は、反応を防止できるとともに、触媒活性成分によ
る排気ガスの浄化効率が向上するという作用を有する。
酸化物皮膜の担持量が０．２重量％より小さくなるにつ
れて触媒活性成分と硫黄酸化物との吸着、及び／又は、
反応を十分に防止できなくなる傾向を生じ、また０．５
重量％よりも大きくなるにつれて触媒活性成分の表面の
被覆率が大きくなり触媒機能が抑制される傾向を生じる
ため、それぞれ好ましくない。また、触媒活性成分の担
持量が０．１重量％よりも小さくなるにつれて触媒活性
成分の絶対量が不足して充分な触媒作用を得られなくな
る傾向を生じ、また１０重量％よりも大きくなるにつれ
て熱処理時に触媒活性成分の焼結が生じて粒径が大きく
なり、触媒活性成分の有効表面積が減少して触媒活性が
低下する傾向を生じるので、それぞれ好ましくない。
３に記載の発明において、酸化物皮膜の担持量が、耐熱
性ハニカム構造物の重量に対して０．１〜１．０重量
％、好ましくは０．２〜０．５重量％であり、触媒活性
成分の担持量が担体層の重量に対して０．０１〜１５重
量％、好ましくは０．１〜１０重量％であることとした
ものであり、触媒活性成分と硫黄酸化物との吸着、及び
／又は、反応を防止できるとともに、触媒活性成分によ
る排気ガスの浄化効率が向上するという作用を有する。
酸化物皮膜の担持量が０．２重量％より小さくなるにつ
れて触媒活性成分と硫黄酸化物との吸着、及び／又は、
反応を十分に防止できなくなる傾向を生じ、また０．５
重量％よりも大きくなるにつれて触媒活性成分の表面の
被覆率が大きくなり触媒機能が抑制される傾向を生じる
ため、それぞれ好ましくない。また、触媒活性成分の担
持量が０．１重量％よりも小さくなるにつれて触媒活性
成分の絶対量が不足して充分な触媒作用を得られなくな
る傾向を生じ、また１０重量％よりも大きくなるにつれ
て熱処理時に触媒活性成分の焼結が生じて粒径が大きく
なり、触媒活性成分の有効表面積が減少して触媒活性が
低下する傾向を生じるので、それぞれ好ましくない。
【００１７】本発明の請求項５に記載の発明は、耐熱性
ハニカム構造物と、耐熱性ハニカム構造物の排ガス浄化
面に担持された多孔性無機物からなる担体層と、担体層
の上面に形成されたシリコン、及び／又は、チタンの酸
化物からなる第一酸化物皮膜と、第一酸化物皮膜の上面
に担持された貴金属、卑金属、金属酸化物の内のいずれ
か一種類以上からなる触媒活性成分と、触媒活性成分の
上面に形成されたシリコン、及び／又は、チタンの酸化
物からなる第二酸化物皮膜と、を有することとしたもの
であり、多孔性無機物及び触媒活性成分の表面に酸化物
皮膜を形成することによって、多孔性無機物及び触媒活
性成分と硫黄酸化物との吸着、及び／又は、反応による
多孔性無機物の比表面積の低下及び触媒活性成分の被毒
を防止できるという作用を有する。
ハニカム構造物と、耐熱性ハニカム構造物の排ガス浄化
面に担持された多孔性無機物からなる担体層と、担体層
の上面に形成されたシリコン、及び／又は、チタンの酸
化物からなる第一酸化物皮膜と、第一酸化物皮膜の上面
に担持された貴金属、卑金属、金属酸化物の内のいずれ
か一種類以上からなる触媒活性成分と、触媒活性成分の
上面に形成されたシリコン、及び／又は、チタンの酸化
物からなる第二酸化物皮膜と、を有することとしたもの
であり、多孔性無機物及び触媒活性成分の表面に酸化物
皮膜を形成することによって、多孔性無機物及び触媒活
性成分と硫黄酸化物との吸着、及び／又は、反応による
多孔性無機物の比表面積の低下及び触媒活性成分の被毒
を防止できるという作用を有する。
【００１８】本発明の請求項６に記載の発明は、請求項
５に記載の発明において、第一酸化物皮膜の担持量が、
耐熱性ハニカム構造物の重量に対して１〜３０重量％、
好ましくは２〜２５重量％であり、第二酸化物皮膜の担
持量が、耐熱性ハニカム構造物の重量に対して０．１〜
１．０重量％、好ましくは０．２〜０．５重量％であ
り、触媒活性成分の担持量が担体層の重量に対して０．
１〜１５重量％、好ましくは０．１〜１０重量％である
こととしたものであり、多孔性無機物及び触媒活性成分
と硫黄酸化物との吸着、及び／又は、反応を防止できる
とともに、触媒活性成分による排気ガスの浄化効率が向
上するという作用を有する。第一酸化物皮膜の担持量が
２重量％より小さくなるにつれて多孔性無機物の表面の
被覆が不十分となる傾向を生じ、また２５重量％よりも
大きくなるにつれて酸化物が多孔性無機物の微細孔を埋
めて比表面積を著しく低下させる傾向を生じるため、そ
れぞれ好ましくない。また、第二酸化物皮膜の担持量が
０．２重量％より小さくなるにつれて触媒活性成分と硫
黄酸化物との吸着、及び／又は、反応を十分に防止でき
なくなる傾向を生じ、また０．５重量％よりも大きくな
るにつれて触媒活性成分の表面の被覆率が大きくなり触
媒機能が抑制される傾向を生じるため、それぞれ好まし
くない。また、触媒活性成分の担持量が０．１重量％よ
りも小さくなるにつれて触媒活性成分の絶対量が不足し
て充分な触媒作用が得られなくなる傾向を生じ、また１
０重量％よりも大きくなるにつれて熱処理時に触媒活性
成分の焼結が生じて粒径が大きくなり、触媒活性成分の
有効表面積が減少して触媒活性が低下する傾向を生じる
ので、それぞれ好ましくない。
５に記載の発明において、第一酸化物皮膜の担持量が、
耐熱性ハニカム構造物の重量に対して１〜３０重量％、
好ましくは２〜２５重量％であり、第二酸化物皮膜の担
持量が、耐熱性ハニカム構造物の重量に対して０．１〜
１．０重量％、好ましくは０．２〜０．５重量％であ
り、触媒活性成分の担持量が担体層の重量に対して０．
１〜１５重量％、好ましくは０．１〜１０重量％である
こととしたものであり、多孔性無機物及び触媒活性成分
と硫黄酸化物との吸着、及び／又は、反応を防止できる
とともに、触媒活性成分による排気ガスの浄化効率が向
上するという作用を有する。第一酸化物皮膜の担持量が
２重量％より小さくなるにつれて多孔性無機物の表面の
被覆が不十分となる傾向を生じ、また２５重量％よりも
大きくなるにつれて酸化物が多孔性無機物の微細孔を埋
めて比表面積を著しく低下させる傾向を生じるため、そ
れぞれ好ましくない。また、第二酸化物皮膜の担持量が
０．２重量％より小さくなるにつれて触媒活性成分と硫
黄酸化物との吸着、及び／又は、反応を十分に防止でき
なくなる傾向を生じ、また０．５重量％よりも大きくな
るにつれて触媒活性成分の表面の被覆率が大きくなり触
媒機能が抑制される傾向を生じるため、それぞれ好まし
くない。また、触媒活性成分の担持量が０．１重量％よ
りも小さくなるにつれて触媒活性成分の絶対量が不足し
て充分な触媒作用が得られなくなる傾向を生じ、また１
０重量％よりも大きくなるにつれて熱処理時に触媒活性
成分の焼結が生じて粒径が大きくなり、触媒活性成分の
有効表面積が減少して触媒活性が低下する傾向を生じる
ので、それぞれ好ましくない。
【００１９】本発明の請求項７に記載の発明は、請求項
１乃至６の内のいずれか１に記載の発明において、酸化
物皮膜、若しくは、第一酸化物皮膜や第二酸化物皮膜を
形成する際の焼成温度が６００〜１１００℃、好ましく
は８００〜１０００℃であることとしたものであり、シ
リコン、及び／又は、チタンの酸化物の粒子成長による
多孔性無機物、及び／又は、触媒活性成分の比表面積の
低下を防止できるという作用を有する。熱処理温度が８
００℃よりも低くなるにつれて酸化物皮膜、若しくは、
第一酸化物皮膜や第二酸化物皮膜が十分に形成されなく
なる傾向を生じ、熱処理温度が１０００℃よりも高くな
るにつれて酸化物の粒子成長により多孔性無機物、及び
／又は、触媒活性成分の比表面積が著しく低下する傾向
を生じるので、それぞれ好ましくない。
１乃至６の内のいずれか１に記載の発明において、酸化
物皮膜、若しくは、第一酸化物皮膜や第二酸化物皮膜を
形成する際の焼成温度が６００〜１１００℃、好ましく
は８００〜１０００℃であることとしたものであり、シ
リコン、及び／又は、チタンの酸化物の粒子成長による
多孔性無機物、及び／又は、触媒活性成分の比表面積の
低下を防止できるという作用を有する。熱処理温度が８
００℃よりも低くなるにつれて酸化物皮膜、若しくは、
第一酸化物皮膜や第二酸化物皮膜が十分に形成されなく
なる傾向を生じ、熱処理温度が１０００℃よりも高くな
るにつれて酸化物の粒子成長により多孔性無機物、及び
／又は、触媒活性成分の比表面積が著しく低下する傾向
を生じるので、それぞれ好ましくない。
【００２０】尚、焼成は酸化性雰囲気、還元性雰囲気、
真空雰囲気のいずれかの条件下で行われる。
真空雰囲気のいずれかの条件下で行われる。
【００２１】本発明の請求項８に記載の発明は、請求項
１乃至７の内のいずれか１に記載の排ガス浄化用触媒
と、排ガス浄化用触媒の近傍に配設された加熱手段と、
を有することとしたものであり、排ガス浄化用触媒を加
熱することにより、低温の排気ガスも高温の排気ガスと
同様に高効率で浄化できるという作用を有する。
１乃至７の内のいずれか１に記載の排ガス浄化用触媒
と、排ガス浄化用触媒の近傍に配設された加熱手段と、
を有することとしたものであり、排ガス浄化用触媒を加
熱することにより、低温の排気ガスも高温の排気ガスと
同様に高効率で浄化できるという作用を有する。
【００２２】加熱手段としては電気ヒーター、バーナ
ー、マイクロ波等が用いられる。本発明の請求項９に記
載の発明は、請求項８に記載の発明において、排ガス浄
化用触媒の近傍に配設された送風手段を有することとし
たものであり、低温の排気ガスを加熱流体にして排ガス
浄化用触媒に吹き付けることにより、低温の排気ガスの
浄化効率が向上するという作用を有する。
ー、マイクロ波等が用いられる。本発明の請求項９に記
載の発明は、請求項８に記載の発明において、排ガス浄
化用触媒の近傍に配設された送風手段を有することとし
たものであり、低温の排気ガスを加熱流体にして排ガス
浄化用触媒に吹き付けることにより、低温の排気ガスの
浄化効率が向上するという作用を有する。
【００２３】送風手段としてはブロアー、コンプレッサ
ー等が用いられる。本発明の請求項１０に記載の発明
は、請求項１乃至７の内のいずれか１に記載の排ガス浄
化用触媒と、排ガス浄化用触媒を収納し、かつ一側部に
形成された排ガス流入口と他側部に形成された排ガス流
出口を有するケースと、を有することとしたものであ
り、排ガス浄化用触媒をケースに収納し、ケースに排気
ガスの流入・流出口を設けたことによって、ディーゼル
エンジンの排気系に取り付けることができるという作用
を有する。
ー等が用いられる。本発明の請求項１０に記載の発明
は、請求項１乃至７の内のいずれか１に記載の排ガス浄
化用触媒と、排ガス浄化用触媒を収納し、かつ一側部に
形成された排ガス流入口と他側部に形成された排ガス流
出口を有するケースと、を有することとしたものであ
り、排ガス浄化用触媒をケースに収納し、ケースに排気
ガスの流入・流出口を設けたことによって、ディーゼル
エンジンの排気系に取り付けることができるという作用
を有する。
【００２４】ケースとしては耐酸化性に優れた金属、セ
ラミックス等が用いられる。本発明の請求項１１に記載
の発明は、請求項１０に記載の発明において、ケースに
配設された加熱手段を有することとしたものであり、浄
化用触媒を加熱することにより、ディーゼルエンジンの
排気系における低温の排気ガスも、高温の排気ガスと同
様に高効率で浄化できるという作用を有する。
ラミックス等が用いられる。本発明の請求項１１に記載
の発明は、請求項１０に記載の発明において、ケースに
配設された加熱手段を有することとしたものであり、浄
化用触媒を加熱することにより、ディーゼルエンジンの
排気系における低温の排気ガスも、高温の排気ガスと同
様に高効率で浄化できるという作用を有する。
【００２５】本発明の請求項１２に記載の発明は、請求
項１１に記載の発明において、ケースの近傍に配設され
た送風手段を有することとしたものであり、ディーゼル
エンジンの排気系における低温の排気ガスを加熱流体に
して排ガス浄化用触媒に吹き付けることにより、低温の
排気ガスの浄化効率が向上するという作用を有する。
項１１に記載の発明において、ケースの近傍に配設され
た送風手段を有することとしたものであり、ディーゼル
エンジンの排気系における低温の排気ガスを加熱流体に
して排ガス浄化用触媒に吹き付けることにより、低温の
排気ガスの浄化効率が向上するという作用を有する。
【００２６】本発明の請求項１３に記載の発明は、請求
項１０乃至１２の内のいずれか１に記載の排ガス浄化装
置がエンジン直下のマニホールド部近傍に配設されてい
ることとしたものであり、排気ガスの温度低下が抑制さ
れることにより、排気ガスの浄化効率が向上するという
作用を有する。
項１０乃至１２の内のいずれか１に記載の排ガス浄化装
置がエンジン直下のマニホールド部近傍に配設されてい
ることとしたものであり、排気ガスの温度低下が抑制さ
れることにより、排気ガスの浄化効率が向上するという
作用を有する。
【００２７】本発明の請求項１４に記載の発明は、請求
項１３に記載の発明において、マニホールド部と排ガス
浄化装置の排ガス流入口との接続管の外周に断熱材を備
えていることとしたものであり、排気ガスの温度低下を
防止することにより、排気ガスの浄化効率が向上すると
いう作用を有する。
項１３に記載の発明において、マニホールド部と排ガス
浄化装置の排ガス流入口との接続管の外周に断熱材を備
えていることとしたものであり、排気ガスの温度低下を
防止することにより、排気ガスの浄化効率が向上すると
いう作用を有する。
【００２８】接続管としては耐酸化性に優れた金属等が
用いられ、断熱材としてはアスベスト、ガラス綿、スラ
グウール等が用いられる。
用いられ、断熱材としてはアスベスト、ガラス綿、スラ
グウール等が用いられる。
【００２９】以下に、本発明の実施の形態の具体例につ
いて図１〜８を用いて説明する。 （実施の形態１）図１は本発明の第１実施の形態におけ
る排ガス浄化用触媒の断面図である。図１において、耐
熱性ハニカム構造物１は排気ガス中の有害成分を捕集
し、耐熱性ハニカム構造物１の表面に担持された多孔性
無機物２は耐熱性ハニカム構造物１に高比表面積を提供
し、多孔性無機物２の上面に形成された酸化物皮膜３は
排気ガス中の硫黄酸化物と多孔性無機物２との吸着、及
び／又は、反応を防止し、酸化物皮膜３の上面に担持さ
れた触媒活性成分４は、排気ガス中の一酸化炭素、炭化
水素、パティキュレートを酸化燃焼により浄化する。
尚、図１の矢印は排気ガスの流入・流出方向を示す。
いて図１〜８を用いて説明する。 （実施の形態１）図１は本発明の第１実施の形態におけ
る排ガス浄化用触媒の断面図である。図１において、耐
熱性ハニカム構造物１は排気ガス中の有害成分を捕集
し、耐熱性ハニカム構造物１の表面に担持された多孔性
無機物２は耐熱性ハニカム構造物１に高比表面積を提供
し、多孔性無機物２の上面に形成された酸化物皮膜３は
排気ガス中の硫黄酸化物と多孔性無機物２との吸着、及
び／又は、反応を防止し、酸化物皮膜３の上面に担持さ
れた触媒活性成分４は、排気ガス中の一酸化炭素、炭化
水素、パティキュレートを酸化燃焼により浄化する。
尚、図１の矢印は排気ガスの流入・流出方向を示す。
【００３０】（実施の形態２）図２は本発明の第２実施
の形態における排ガス浄化用触媒の断面図である。図２
において、耐熱性ハニカム構造物５は排気ガス中の有害
成分を捕集し、耐熱性ハニカム構造物５の表面に担持さ
れた多孔性無機物６は耐熱性ハニカム構造物５に高比表
面積を提供し、多孔性無機物６の上面に担持された触媒
活性成分７は、排気ガス中の一酸化炭素、炭化水素、パ
ティキュレートを酸化燃焼により浄化し、触媒活性成分
７の上面に形成された酸化物皮膜８は排気ガス中の硫黄
酸化物と触媒活性成分との吸着、及び／又は、反応を防
止する。尚、図２の矢印は排気ガスの流入・流出方向を
示す。
の形態における排ガス浄化用触媒の断面図である。図２
において、耐熱性ハニカム構造物５は排気ガス中の有害
成分を捕集し、耐熱性ハニカム構造物５の表面に担持さ
れた多孔性無機物６は耐熱性ハニカム構造物５に高比表
面積を提供し、多孔性無機物６の上面に担持された触媒
活性成分７は、排気ガス中の一酸化炭素、炭化水素、パ
ティキュレートを酸化燃焼により浄化し、触媒活性成分
７の上面に形成された酸化物皮膜８は排気ガス中の硫黄
酸化物と触媒活性成分との吸着、及び／又は、反応を防
止する。尚、図２の矢印は排気ガスの流入・流出方向を
示す。
【００３１】（実施の形態３）図３は本発明の第３実施
の形態における排ガス浄化用触媒の断面図である。図３
において、耐熱性ハニカム構造物９は排気ガス中の有害
成分を捕集し、耐熱性ハニカム構造物９の表面に担持さ
れた多孔性無機物１０は耐熱性ハニカム構造物９に高比
表面積を提供し、多孔性無機物１０の上面に形成された
第一酸化物皮膜１１は排気ガス中の硫黄酸化物と多孔性
無機物１０の吸着、及び／又は、反応を防止し、第一酸
化物皮膜１１の上面に担持された触媒活性成分１２は、
排気ガス中の一酸化炭素、炭化水素、パティキュレート
を酸化燃焼により浄化し、触媒活性成分１２の上面に形
成された第二酸化物皮膜１３は排気ガス中の硫黄酸化物
と触媒活性成分１２との吸着、及び／又は、反応を防止
する。尚、図３の矢印は排気ガスの流入・流出方向を示
す。
の形態における排ガス浄化用触媒の断面図である。図３
において、耐熱性ハニカム構造物９は排気ガス中の有害
成分を捕集し、耐熱性ハニカム構造物９の表面に担持さ
れた多孔性無機物１０は耐熱性ハニカム構造物９に高比
表面積を提供し、多孔性無機物１０の上面に形成された
第一酸化物皮膜１１は排気ガス中の硫黄酸化物と多孔性
無機物１０の吸着、及び／又は、反応を防止し、第一酸
化物皮膜１１の上面に担持された触媒活性成分１２は、
排気ガス中の一酸化炭素、炭化水素、パティキュレート
を酸化燃焼により浄化し、触媒活性成分１２の上面に形
成された第二酸化物皮膜１３は排気ガス中の硫黄酸化物
と触媒活性成分１２との吸着、及び／又は、反応を防止
する。尚、図３の矢印は排気ガスの流入・流出方向を示
す。
【００３２】（実施の形態４）図４は本発明の第４実施
の形態における排ガス浄化装置の断面図である。図４に
おいて、ケース１５に形成された排ガス流入口１６より
一酸化炭素、炭化水素、パティキュレートを含む排気ガ
スがケース１５内に流入し、流入した排気ガスはケース
１５に収納された排ガス浄化用触媒１４により浄化さ
れ、浄化された排気ガスはケース１５に形成された排ガ
ス流出口１７より放出される。
の形態における排ガス浄化装置の断面図である。図４に
おいて、ケース１５に形成された排ガス流入口１６より
一酸化炭素、炭化水素、パティキュレートを含む排気ガ
スがケース１５内に流入し、流入した排気ガスはケース
１５に収納された排ガス浄化用触媒１４により浄化さ
れ、浄化された排気ガスはケース１５に形成された排ガ
ス流出口１７より放出される。
【００３３】（実施の形態５）図５は本発明の第５実施
の形態における排ガス浄化装置の断面図である。図５に
おいて、ケース１９に形成された排ガス流入口２０より
一酸化炭素、炭化水素、パティキュレートを含む排気ガ
スがケース１９内に流入し、ケース１９に収納された排
ガス浄化用触媒１８は加熱手段２２によって加熱され、
加熱された排気ガス浄化用触媒１８によって流入した排
気ガスが浄化され、浄化された排気ガスはケース１９に
形成された排ガス流出口２１より放出される。
の形態における排ガス浄化装置の断面図である。図５に
おいて、ケース１９に形成された排ガス流入口２０より
一酸化炭素、炭化水素、パティキュレートを含む排気ガ
スがケース１９内に流入し、ケース１９に収納された排
ガス浄化用触媒１８は加熱手段２２によって加熱され、
加熱された排気ガス浄化用触媒１８によって流入した排
気ガスが浄化され、浄化された排気ガスはケース１９に
形成された排ガス流出口２１より放出される。
【００３４】（実施の形態６）図６は本発明の第６実施
の形態における排ガス浄化装置の断面図である。図６に
おいて、送風手段２８により一酸化炭素、炭化水素、パ
ティキュレートを含む排気ガスが加速され、加速された
排気ガスはケース２４に形成された排ガス流入口２５よ
りケース２４内に流入し、流入した排気ガスはケース２
４に設けられた加熱手段２７によって加熱され、加熱さ
れた排気ガスはケース２４内に収納された排ガス浄化用
触媒２３によって浄化され、浄化された排気ガスはケー
ス２４に形成された排ガス流出口２６より放出される。
の形態における排ガス浄化装置の断面図である。図６に
おいて、送風手段２８により一酸化炭素、炭化水素、パ
ティキュレートを含む排気ガスが加速され、加速された
排気ガスはケース２４に形成された排ガス流入口２５よ
りケース２４内に流入し、流入した排気ガスはケース２
４に設けられた加熱手段２７によって加熱され、加熱さ
れた排気ガスはケース２４内に収納された排ガス浄化用
触媒２３によって浄化され、浄化された排気ガスはケー
ス２４に形成された排ガス流出口２６より放出される。
【００３５】（実施の形態７）図７は本発明の第７実施
の形態における排ガス浄化システムの断面図である。図
７において、２９はエンジン、４４はエンジン直下のマ
ニホールド部であり、エンジン２９より排気された一酸
化炭素、炭化水素、パティキュレートを含む排気ガスは
送風手段３５により加速され、加速された排気ガスはケ
ース３１に形成された排ガス流入口３２よりケース３１
内に流入し、流入した排気ガスはケース３１に設けられ
た加熱手段３４によって加熱され、加熱された排気ガス
はケース３１内に収納された排ガス浄化用触媒３０によ
って浄化され、浄化された排気ガスはケース３１に形成
された排ガス流出口３３より放出される。尚、本実施の
形態においては、加熱手段３４又は加熱手段３４と送風
手段３５がないシステムも可能である。
の形態における排ガス浄化システムの断面図である。図
７において、２９はエンジン、４４はエンジン直下のマ
ニホールド部であり、エンジン２９より排気された一酸
化炭素、炭化水素、パティキュレートを含む排気ガスは
送風手段３５により加速され、加速された排気ガスはケ
ース３１に形成された排ガス流入口３２よりケース３１
内に流入し、流入した排気ガスはケース３１に設けられ
た加熱手段３４によって加熱され、加熱された排気ガス
はケース３１内に収納された排ガス浄化用触媒３０によ
って浄化され、浄化された排気ガスはケース３１に形成
された排ガス流出口３３より放出される。尚、本実施の
形態においては、加熱手段３４又は加熱手段３４と送風
手段３５がないシステムも可能である。
【００３６】（実施の形態８）図８は本発明の第８実施
の形態における排ガス浄化システムの断面図である。図
８において、３６はエンジン、４５はエンジン直下のマ
ニホールド部であり、エンジン３６より一酸化炭素、炭
化水素、パティキュレートを含む排気ガスは断熱材４１
によって保温された接続管４６に導入され、導入された
排気ガスは接続管４６内で送風手段４３により加速さ
れ、加速された排気ガスはケース３８に形成された排ガ
ス流入口３９よりケース３８内に流入し、流入した排気
ガスはケース３８に設けられた加熱手段４２によって加
熱され、加熱された排気ガスはケース３８内に収納され
た排ガス浄化用触媒３７によって浄化され、浄化された
排気ガスはケース３８に形成された排ガス流出口４０よ
り放出される。尚、本実施の形態においては、加熱手段
４２又は加熱手段４２と送風手段４３がないシステムも
可能である。
の形態における排ガス浄化システムの断面図である。図
８において、３６はエンジン、４５はエンジン直下のマ
ニホールド部であり、エンジン３６より一酸化炭素、炭
化水素、パティキュレートを含む排気ガスは断熱材４１
によって保温された接続管４６に導入され、導入された
排気ガスは接続管４６内で送風手段４３により加速さ
れ、加速された排気ガスはケース３８に形成された排ガ
ス流入口３９よりケース３８内に流入し、流入した排気
ガスはケース３８に設けられた加熱手段４２によって加
熱され、加熱された排気ガスはケース３８内に収納され
た排ガス浄化用触媒３７によって浄化され、浄化された
排気ガスはケース３８に形成された排ガス流出口４０よ
り放出される。尚、本実施の形態においては、加熱手段
４２又は加熱手段４２と送風手段４３がないシステムも
可能である。
【００３７】以下に、本発明を実施の形態を実施例、比
較例により説明する。
較例により説明する。
【００３８】
（実施例１）ムライト製ハニカムフィルター（例えば、
ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学工業製）、硝
酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アルミナゾル（日
産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中に１分間浸漬
してから引き上げて、エアーブロー等により余分なスラ
リーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥してから８
００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカムフィルター
の表面上にγ−アルミナを担持した担体を作製した。次
に、還流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃
度のテトラエトキシシラン（関東化学製）を混合し、こ
の溶液に前記担体を２分間浸漬してから引き上げ、余分
な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、８０℃で２時
間乾燥してから７００℃で２時間焼成して、担体の表面
にシリコンの酸化物皮膜を形成した。さらに、所定濃度
の硝酸パラジウム（和光純薬工業製）と塩化第二白金ア
ンモニウム（三和化学薬品製）の混合水溶液に、シリコ
ンの酸化物皮膜を形成した担体を２分間浸漬してから引
き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、
１２０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成し
て、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体の上面にパラ
ジウム及び白金並びにこれらの金属の酸化物からなる触
媒活性成分を担持させ、排ガス浄化用触媒を得た。
ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学工業製）、硝
酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アルミナゾル（日
産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中に１分間浸漬
してから引き上げて、エアーブロー等により余分なスラ
リーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥してから８
００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカムフィルター
の表面上にγ−アルミナを担持した担体を作製した。次
に、還流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃
度のテトラエトキシシラン（関東化学製）を混合し、こ
の溶液に前記担体を２分間浸漬してから引き上げ、余分
な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、８０℃で２時
間乾燥してから７００℃で２時間焼成して、担体の表面
にシリコンの酸化物皮膜を形成した。さらに、所定濃度
の硝酸パラジウム（和光純薬工業製）と塩化第二白金ア
ンモニウム（三和化学薬品製）の混合水溶液に、シリコ
ンの酸化物皮膜を形成した担体を２分間浸漬してから引
き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、
１２０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成し
て、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体の上面にパラ
ジウム及び白金並びにこれらの金属の酸化物からなる触
媒活性成分を担持させ、排ガス浄化用触媒を得た。
【００３９】（実施例２）ムライト製ハニカムフィルタ
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のチタンテトライソプロポキシド（和光純
薬工業製）を混合し、この溶液に前記担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時
間焼成して、担体の表面にチタンの酸化物皮膜を形成し
た。さらに、所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業
製）と塩化第二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の
混合水溶液に、チタンの酸化物皮膜を形成した担体を２
分間浸漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー
等で吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６０
０℃で２時間焼成して、チタンの酸化物皮膜を形成した
担体の上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させ、排ガス浄化用
触媒を得た。
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のチタンテトライソプロポキシド（和光純
薬工業製）を混合し、この溶液に前記担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時
間焼成して、担体の表面にチタンの酸化物皮膜を形成し
た。さらに、所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業
製）と塩化第二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の
混合水溶液に、チタンの酸化物皮膜を形成した担体を２
分間浸漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー
等で吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６０
０℃で２時間焼成して、チタンの酸化物皮膜を形成した
担体の上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させ、排ガス浄化用
触媒を得た。
【００４０】（実施例３）ムライト製ハニカムフィルタ
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のテトラエトキシシラン（関東化学製）及
びチタンテトライソプロポキシド（和光純薬工業製）を
１：１の割合で混合し、この溶液に前記担体を２分間浸
漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹
き払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２
時間焼成して、担体の表面にシリコン及びチタンの酸化
物皮膜を形成した。さらに、所定濃度の硝酸パラジウム
（和光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和
化学薬品製）の混合水溶液に、シリコン及びチタンの酸
化物皮膜を形成した担体を２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２
０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、
シリコン及びチタンの酸化物皮膜を形成した担体の上面
にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の酸化物から
なる触媒活性成分を担持させ、排ガス浄化用触媒を得
た。
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のテトラエトキシシラン（関東化学製）及
びチタンテトライソプロポキシド（和光純薬工業製）を
１：１の割合で混合し、この溶液に前記担体を２分間浸
漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹
き払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２
時間焼成して、担体の表面にシリコン及びチタンの酸化
物皮膜を形成した。さらに、所定濃度の硝酸パラジウム
（和光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和
化学薬品製）の混合水溶液に、シリコン及びチタンの酸
化物皮膜を形成した担体を２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２
０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、
シリコン及びチタンの酸化物皮膜を形成した担体の上面
にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の酸化物から
なる触媒活性成分を担持させ、排ガス浄化用触媒を得
た。
【００４１】（実施例４）ムライト製ハニカムフィルタ
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、この担体を所定濃度の硝酸パラジウム
（和光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和
化学薬品製）の混合水溶液に２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２
０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、
担体の表面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還
流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のテ
トラエトキシシラン（関東化学製）を混合し、この溶液
に触媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬してから引
き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、
８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成し
て、触媒活性成分を担持した担体の最表面にシリコンの
酸化物皮膜を形成し、排ガス浄化用触媒を得た。
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、この担体を所定濃度の硝酸パラジウム
（和光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和
化学薬品製）の混合水溶液に２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２
０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、
担体の表面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還
流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のテ
トラエトキシシラン（関東化学製）を混合し、この溶液
に触媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬してから引
き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、
８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成し
て、触媒活性成分を担持した担体の最表面にシリコンの
酸化物皮膜を形成し、排ガス浄化用触媒を得た。
【００４２】（実施例５）ムライト製ハニカムフィルタ
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、この担体を所定濃度の硝酸パラジウム
（和光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和
化学薬品製）の混合水溶液に２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２
０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、
担体の表面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還
流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のチ
タンテトライソプロポキシド（和光純薬工業製）を混合
し、この溶液に触媒活性成分を担持した担体を２分間浸
漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹
き払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２
時間焼成して、触媒活性成分を担持した担体の最表面に
チタンの酸化物皮膜を形成し、排ガス浄化用触媒を得
た。
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、この担体を所定濃度の硝酸パラジウム
（和光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和
化学薬品製）の混合水溶液に２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２
０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、
担体の表面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還
流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のチ
タンテトライソプロポキシド（和光純薬工業製）を混合
し、この溶液に触媒活性成分を担持した担体を２分間浸
漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹
き払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２
時間焼成して、触媒活性成分を担持した担体の最表面に
チタンの酸化物皮膜を形成し、排ガス浄化用触媒を得
た。
【００４３】（実施例６）ムライト製ハニカムフィルタ
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、この担体を所定濃度の硝酸パラジウム
（和光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和
化学薬品製）の混合水溶液に２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２
０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、
担体の表面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還
流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のテ
トラエトキシシラン（関東化学製）及びチタンテトライ
ソプロポキシド（和光純薬工業製）を１：１の割合で混
合し、この溶液に触媒活性成分を担持した担体を２分間
浸漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で
吹き払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で
２時間焼成して、触媒活性成分を担持した担体の最表面
にシリコン及びチタンの酸化物皮膜を形成し、排ガス浄
化用触媒を得た。
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、この担体を所定濃度の硝酸パラジウム
（和光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和
化学薬品製）の混合水溶液に２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２
０℃で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、
担体の表面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還
流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のテ
トラエトキシシラン（関東化学製）及びチタンテトライ
ソプロポキシド（和光純薬工業製）を１：１の割合で混
合し、この溶液に触媒活性成分を担持した担体を２分間
浸漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で
吹き払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で
２時間焼成して、触媒活性成分を担持した担体の最表面
にシリコン及びチタンの酸化物皮膜を形成し、排ガス浄
化用触媒を得た。
【００４４】（実施例７）ムライト製ハニカムフィルタ
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のテトラエトキシシラン（関東化学製）を
混合し、この溶液に前記担体を２分間浸漬してから引き
上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、８
０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成して、
担体の表面にシリコンの酸化物皮膜を形成した。次に、
所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業製）と塩化第
二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の混合水溶液
に、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６００℃で２
時間焼成して、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体の
上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の酸化物
からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、前記テト
ラエトキシシランとエチルアルコールの混合溶液に、触
媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、８０
℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成して、シ
リコンの酸化物皮膜上に触媒活性成分を担持した担体の
最表面にもシリコンの酸化物皮膜を形成して、排ガス浄
化用触媒を得た。
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のテトラエトキシシラン（関東化学製）を
混合し、この溶液に前記担体を２分間浸漬してから引き
上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、８
０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成して、
担体の表面にシリコンの酸化物皮膜を形成した。次に、
所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業製）と塩化第
二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の混合水溶液
に、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６００℃で２
時間焼成して、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体の
上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の酸化物
からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、前記テト
ラエトキシシランとエチルアルコールの混合溶液に、触
媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬してから引き上
げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、８０
℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成して、シ
リコンの酸化物皮膜上に触媒活性成分を担持した担体の
最表面にもシリコンの酸化物皮膜を形成して、排ガス浄
化用触媒を得た。
【００４５】（実施例８）ムライト製ハニカムフィルタ
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のチタンテトライソプロポキシド（和光純
薬工業製）を混合し、この溶液に前記担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時
間焼成して、担体の表面にチタンの酸化物皮膜を形成し
た。次に、所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業
製）と塩化第二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の
混合水溶液に、チタンの酸化物皮膜を形成した担体を２
分間浸漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー
等で吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６０
０℃で２時間焼成して、チタンの酸化物皮膜を形成した
担体の上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、前
記チタンテトライソプロポキシドとエチルアルコールの
混合溶液に、触媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時
間焼成して、チタンの酸化物皮膜上に触媒活性成分を担
持した担体の最表面にもチタンの酸化物皮膜を形成し
て、排ガス浄化用触媒を得た。
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のチタンテトライソプロポキシド（和光純
薬工業製）を混合し、この溶液に前記担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時
間焼成して、担体の表面にチタンの酸化物皮膜を形成し
た。次に、所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業
製）と塩化第二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の
混合水溶液に、チタンの酸化物皮膜を形成した担体を２
分間浸漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー
等で吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６０
０℃で２時間焼成して、チタンの酸化物皮膜を形成した
担体の上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、前
記チタンテトライソプロポキシドとエチルアルコールの
混合溶液に、触媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時
間焼成して、チタンの酸化物皮膜上に触媒活性成分を担
持した担体の最表面にもチタンの酸化物皮膜を形成し
て、排ガス浄化用触媒を得た。
【００４６】（実施例９）ムライト製ハニカムフィルタ
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のテトラエトキシシラン（関東化学製）を
混合し、この溶液に前記担体を２分間浸漬してから引き
上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、８
０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成して、
担体の表面にシリコンの酸化物皮膜を形成した。次に、
所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業製）と塩化第
二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の混合水溶液
に、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６００℃で２
時間焼成して、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体の
上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の酸化物
からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還流によ
り脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のチタンテ
トライソプロポキシド（和光純薬工業製）を混合し、こ
の溶液に触媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬して
から引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払っ
た後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼
成して、シリコンの酸化物皮膜上に触媒活性成分を担持
した担体の最表面にチタンの酸化物皮膜を形成して、排
ガス浄化用触媒を得た。
ー（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学
工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アル
ミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中
に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により
余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥
してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカム
フィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作
製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコー
ルに所定濃度のテトラエトキシシラン（関東化学製）を
混合し、この溶液に前記担体を２分間浸漬してから引き
上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、８
０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成して、
担体の表面にシリコンの酸化物皮膜を形成した。次に、
所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業製）と塩化第
二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の混合水溶液
に、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体を２分間浸漬
してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き
払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６００℃で２
時間焼成して、シリコンの酸化物皮膜を形成した担体の
上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の酸化物
からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還流によ
り脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のチタンテ
トライソプロポキシド（和光純薬工業製）を混合し、こ
の溶液に触媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬して
から引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払っ
た後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼
成して、シリコンの酸化物皮膜上に触媒活性成分を担持
した担体の最表面にチタンの酸化物皮膜を形成して、排
ガス浄化用触媒を得た。
【００４７】（実施例１０）ムライト製ハニカムフィル
ター（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化
学工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、ア
ルミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー
中に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等によ
り余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾
燥してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカ
ムフィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を
作製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコ
ールに所定濃度のチタンテトライソプロポキシド（和光
純薬工業製）を混合し、この溶液に前記担体を２分間浸
漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹
き払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２
時間焼成して、担体の表面にチタンの酸化物皮膜を形成
した。次に、所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業
製）と塩化第二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の
混合水溶液に、チタンの酸化物皮膜を形成した担体を２
分間浸漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー
等で吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６０
０℃で２時間焼成して、チタンの酸化物皮膜を形成した
担体の上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還
流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のテ
トラエトキシシラン（関東化学製）を混合し、この溶液
に触媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬してから引
き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、
８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成し
て、チタンの酸化物皮膜上に触媒活性成分を担持した担
体の最表面にもシリコンの酸化物皮膜を形成して、排ガ
ス浄化用触媒を得た。
ター（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化
学工業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、ア
ルミナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー
中に１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等によ
り余分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾
燥してから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカ
ムフィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を
作製した。次に、還流により脱水処理したエチルアルコ
ールに所定濃度のチタンテトライソプロポキシド（和光
純薬工業製）を混合し、この溶液に前記担体を２分間浸
漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹
き払った後、８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２
時間焼成して、担体の表面にチタンの酸化物皮膜を形成
した。次に、所定濃度の硝酸パラジウム（和光純薬工業
製）と塩化第二白金アンモニウム（三和化学薬品製）の
混合水溶液に、チタンの酸化物皮膜を形成した担体を２
分間浸漬してから引き上げ、余分な溶液をエアーブロー
等で吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥してから６０
０℃で２時間焼成して、チタンの酸化物皮膜を形成した
担体の上面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。さらに、還
流により脱水処理したエチルアルコールに所定濃度のテ
トラエトキシシラン（関東化学製）を混合し、この溶液
に触媒活性成分を担持した担体を２分間浸漬してから引
き上げ、余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、
８０℃で２時間乾燥してから７００℃で２時間焼成し
て、チタンの酸化物皮膜上に触媒活性成分を担持した担
体の最表面にもシリコンの酸化物皮膜を形成して、排ガ
ス浄化用触媒を得た。
【００４８】（比較例）ムライト製ハニカムフィルター
（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学工
業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アルミ
ナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中に
１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により余
分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥し
てから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカムフ
ィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作製
した。次に、この担体を所定濃度の硝酸パラジウム（和
光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和化学
薬品製）の混合水溶液に２分間浸漬してから引き上げ、
余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２０℃
で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、前記
担体の表面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。このように
して、シリコン、及び／又は、チタンの酸化物皮膜が形
成されていない排ガス浄化用触媒を得た。
（例えば、ＮＧＫ製）をγ−アルミナ粉末（住友化学工
業製）、硝酸アルミニウム（和光純薬工業製）、アルミ
ナゾル（日産化学製）及び蒸留水からなるスラリー中に
１分間浸漬してから引き上げ、エアーブロー等により余
分なスラリーを吹き払った後、１２０℃で２時間乾燥し
てから８００℃で５時間焼成し、ムライト製ハニカムフ
ィルターの表面上にγ−アルミナを担持した担体を作製
した。次に、この担体を所定濃度の硝酸パラジウム（和
光純薬工業製）と塩化第二白金アンモニウム（三和化学
薬品製）の混合水溶液に２分間浸漬してから引き上げ、
余分な溶液をエアーブロー等で吹き払った後、１２０℃
で２時間乾燥してから６００℃で２時間焼成して、前記
担体の表面にパラジウム及び白金並びにこれらの金属の
酸化物からなる触媒活性成分を担持させた。このように
して、シリコン、及び／又は、チタンの酸化物皮膜が形
成されていない排ガス浄化用触媒を得た。
【００４９】次に、上記の第１実施例〜第１０実施例及
び比較例における排ガス浄化用触媒に対して実施した触
媒活性評価試験を説明する。図９は、触媒活性評価試験
に用いた固定床流通系反応装置の概略図である。図９に
おいて、窒素ガス４９、乾燥空気５０、ＳＯＦ５１は気
体用流量調整器４７ａ、４７ｂと液体用流量調整器４８
のそれぞれによって所定の流量に調節された後、気化器
５２においてＳＯＦ５１が所定濃度で気化されるととも
に窒素ガス４９及び乾燥空気５０と混合される。この混
合ガスは石英管５３内に導入され、石英管５３内に置か
れた排ガス浄化用触媒５４によって浄化される。尚、排
ガス浄化用触媒５４の前後には石英ウール５６が配置さ
れ、石英管５３は電気炉５５内に設置されている。浄化
された混合ガスは炭酸ガスセンサ５７に導入されて一酸
化炭素濃度及び二酸化炭素濃度を検知した後、酸素セン
サ５８に導入されて酸素濃度が測定される。尚、触媒活
性評価試験は、混合ガスの酸素分圧１２％、空間速度３
００００／ｈ-1、ＳＯＦ濃度３００ｐｐｍ、電気炉内温
度２５０℃の条件で行った。次に、排ガス浄化用触媒を
ＳＯ2濃度が１０００ｐｐｍ、酸素分圧が５％、４５０
℃の条件下で２５時間保持するＳＯ2処理を施した後、
反応管内に配置し、上記の触媒活性評価試験を行った。
以上の方法により、ＳＯ2処理の前後における一酸化炭
素濃度、二酸化炭素濃度から、（数１）により燃焼率を
算出した。
び比較例における排ガス浄化用触媒に対して実施した触
媒活性評価試験を説明する。図９は、触媒活性評価試験
に用いた固定床流通系反応装置の概略図である。図９に
おいて、窒素ガス４９、乾燥空気５０、ＳＯＦ５１は気
体用流量調整器４７ａ、４７ｂと液体用流量調整器４８
のそれぞれによって所定の流量に調節された後、気化器
５２においてＳＯＦ５１が所定濃度で気化されるととも
に窒素ガス４９及び乾燥空気５０と混合される。この混
合ガスは石英管５３内に導入され、石英管５３内に置か
れた排ガス浄化用触媒５４によって浄化される。尚、排
ガス浄化用触媒５４の前後には石英ウール５６が配置さ
れ、石英管５３は電気炉５５内に設置されている。浄化
された混合ガスは炭酸ガスセンサ５７に導入されて一酸
化炭素濃度及び二酸化炭素濃度を検知した後、酸素セン
サ５８に導入されて酸素濃度が測定される。尚、触媒活
性評価試験は、混合ガスの酸素分圧１２％、空間速度３
００００／ｈ-1、ＳＯＦ濃度３００ｐｐｍ、電気炉内温
度２５０℃の条件で行った。次に、排ガス浄化用触媒を
ＳＯ2濃度が１０００ｐｐｍ、酸素分圧が５％、４５０
℃の条件下で２５時間保持するＳＯ2処理を施した後、
反応管内に配置し、上記の触媒活性評価試験を行った。
以上の方法により、ＳＯ2処理の前後における一酸化炭
素濃度、二酸化炭素濃度から、（数１）により燃焼率を
算出した。
【００５０】
【数１】
【００５１】（数１）において、ＰＣＯは炭酸ガスセン
サによって測定された一酸化炭素濃度の値、ＰＣＯ2は
炭酸ガスセンサによって測定された二酸化炭素濃度の値
であり、ＰＣはＳＯＦが１００％燃焼した時のＣＯ又は
ＣＯ2の濃度である。（表１）及び（表２）は、第１実
施例〜第１０実施例及び比較例における排ガス浄化用触
媒に対する触媒活性評価試験の結果であり、各実施例に
おけるシリコン、及び／又は、チタンの酸化物の重量比
を変えた排ガス浄化用触媒及び比較例における排ガス浄
化用触媒でのＳＯ2処理の前後における燃焼率を示して
いる。
サによって測定された一酸化炭素濃度の値、ＰＣＯ2は
炭酸ガスセンサによって測定された二酸化炭素濃度の値
であり、ＰＣはＳＯＦが１００％燃焼した時のＣＯ又は
ＣＯ2の濃度である。（表１）及び（表２）は、第１実
施例〜第１０実施例及び比較例における排ガス浄化用触
媒に対する触媒活性評価試験の結果であり、各実施例に
おけるシリコン、及び／又は、チタンの酸化物の重量比
を変えた排ガス浄化用触媒及び比較例における排ガス浄
化用触媒でのＳＯ2処理の前後における燃焼率を示して
いる。
【００５２】
【表１】
【００５３】
【表２】
【００５４】（表１）及び（表２）において、Ａは担体
層の上面に形成された酸化物皮膜又は第一酸化物皮膜の
担持量であり、Ｂは触媒活性成分の上面に形成された酸
化物皮膜又は第二酸化物皮膜の担持量である。（表１）
及び（表２）より、本発明のいずれの実施例における排
ガス浄化用触媒についても、比較例における排ガス浄化
用触媒に比べてＳＯ2処理の前後における燃焼率の差が
小さく、硫黄酸化物による耐被毒性に優れていることが
判った。また、実施例７〜実施例１０における排ガス浄
化用触媒の中で、担体層の上面に形成された酸化物皮膜
又は第一酸化物皮膜の担持量が０．２重量％で、触媒活
性成分の上面に形成された酸化物皮膜又は第二酸化物皮
膜の担持量が０．２又は０．５重量％の場合には、ＳＯ
2処理前後において燃焼率がいずれも９０％以上であ
り、これらの構成の排ガス浄化用触媒が被毒による触媒
機能の低下に対して特に優れた耐久性を有することが判
明した。
層の上面に形成された酸化物皮膜又は第一酸化物皮膜の
担持量であり、Ｂは触媒活性成分の上面に形成された酸
化物皮膜又は第二酸化物皮膜の担持量である。（表１）
及び（表２）より、本発明のいずれの実施例における排
ガス浄化用触媒についても、比較例における排ガス浄化
用触媒に比べてＳＯ2処理の前後における燃焼率の差が
小さく、硫黄酸化物による耐被毒性に優れていることが
判った。また、実施例７〜実施例１０における排ガス浄
化用触媒の中で、担体層の上面に形成された酸化物皮膜
又は第一酸化物皮膜の担持量が０．２重量％で、触媒活
性成分の上面に形成された酸化物皮膜又は第二酸化物皮
膜の担持量が０．２又は０．５重量％の場合には、ＳＯ
2処理前後において燃焼率がいずれも９０％以上であ
り、これらの構成の排ガス浄化用触媒が被毒による触媒
機能の低下に対して特に優れた耐久性を有することが判
明した。
【００５５】
【発明の効果】以上のように、本発明の排ガス浄化用触
媒及びこれを用いた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化シ
ステムによれば、以下のような優れた効果が得られる。 （１）排気ガス中の硫黄酸化物による担体及び触媒活性
成分の被毒を防止することにより、長期間排気ガスを高
い浄化率で処理することができるという優れた効果が得
られる。 （２）被毒による触媒機能の低下が防止された排ガス浄
化用触媒を用いることによって、触媒機能、耐久性、信
頼性に優れた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化システム
が可能になるという優れた効果が得られる。
媒及びこれを用いた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化シ
ステムによれば、以下のような優れた効果が得られる。 （１）排気ガス中の硫黄酸化物による担体及び触媒活性
成分の被毒を防止することにより、長期間排気ガスを高
い浄化率で処理することができるという優れた効果が得
られる。 （２）被毒による触媒機能の低下が防止された排ガス浄
化用触媒を用いることによって、触媒機能、耐久性、信
頼性に優れた排ガス浄化装置並びに排ガス浄化システム
が可能になるという優れた効果が得られる。
【図１】本発明の第１実施の形態における排ガス浄化用
触媒の断面図
触媒の断面図
【図２】本発明の第２実施の形態における排ガス浄化用
触媒の断面図
触媒の断面図
【図３】本発明の第３実施の形態における排ガス浄化用
触媒の断面図
触媒の断面図
【図４】本発明の第４実施の形態における排ガス浄化装
置の断面図
置の断面図
【図５】本発明の第５実施の形態における排ガス浄化装
置の断面図
置の断面図
【図６】本発明の第６実施の形態における排ガス浄化装
置の断面図
置の断面図
【図７】本発明の第７実施の形態における排ガス浄化シ
ステムの断面図
ステムの断面図
【図８】本発明の第８実施の形態における排ガス浄化シ
ステムの断面図
ステムの断面図
【図９】触媒活性評価試験に用いた固定床流通系反応装
置の概略図
置の概略図
１ 耐熱性ハニカム構造物 ２ 多孔性無機物 ３ 酸化物皮膜 ４ 触媒活性成分 ５ 耐熱性ハニカム構造物 ６ 多孔性無機物 ７ 触媒活性成分 ８ 酸化物皮膜 ９ 耐熱性ハニカム構造物 １０ 多孔性無機物 １１ 第一酸化物皮膜 １２ 触媒活性成分 １３ 第二酸化物皮膜 １４ 排ガス浄化用触媒 １５ ケース １６ 排ガス流入口 １７ 排ガス流出口 １８ 排ガス浄化用触媒 １９ ケース ２０ 排ガス流入口 ２１ 排ガス流出口 ２２ 加熱手段 ２３ 排ガス浄化用触媒 ２４ ケース ２５ 排ガス流入口 ２６ 排ガス流出口 ２７ 加熱手段 ２８ 送風手段 ２９ エンジン ３０ 排ガス浄化用触媒 ３１ ケース ３２ 排ガス流入口 ３３ 排ガス流出口 ３４ 加熱手段 ３５ 送風手段 ３６ エンジン ３７ 排ガス浄化用触媒 ３８ ケース ３９ 排ガス流入口 ４０ 排ガス流出口 ４１ 断熱材 ４２ 加熱手段 ４３ 送風手段 ４４ マニホールド部 ４５ マニホールド部 ４６ 接続管 ４７ａ、４７ｂ 気体用流量調整器 ４８ 液体用流量調整器 ４９ 窒素ガス ５０ 乾燥空気 ５１ ＳＯＦ ５２ 気化器 ５３ 石英管 ５４ 排ガス浄化用触媒 ５５ 電気炉 ５６ 石英ウール ５７ 炭酸ガスセンサ ５８ 酸素センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 雅博 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (14)
- 【請求項１】耐熱性ハニカム構造物と、前記耐熱性ハニ
カム構造物の排ガス浄化面に担持された多孔性無機物か
らなる担体層と、前記担体層の上面に形成されたシリコ
ン、及び／又は、チタンの酸化物からなる酸化物皮膜
と、前記酸化物皮膜の上面に担持された貴金属、卑金
属、金属酸化物の内のいずれか一種類以上からなる触媒
活性成分と、を有する排ガス浄化用触媒。 - 【請求項２】前記酸化物皮膜の担持量が、前記耐熱性ハ
ニカム構造物の重量に対して１〜３０重量％、好ましく
は２〜２５重量％であり、前記触媒活性成分の担持量が
前記担体層の重量に対して０．１〜１５重量％、好まし
くは０．５〜１０重量％であることを特徴とする請求項
１に記載の排ガス浄化用触媒。 - 【請求項３】耐熱性ハニカム構造物と、前記耐熱性ハニ
カム構造物の排ガス浄化面に担持された多孔性無機物か
らなる担体層と、前記担体層の上面に担持された貴金
属、卑金属、金属酸化物の内のいずれか一種類以上から
なる触媒活性成分と、前記触媒活性成分の上面に形成さ
れたシリコン、及び／又は、チタンの酸化物からなる酸
化物皮膜と、を有する排ガス浄化用触媒。 - 【請求項４】前記酸化物皮膜の担持量が、前記耐熱性ハ
ニカム構造物の重量に対して０．１〜１．０重量％、好
ましくは０．２〜０．５重量％であり、前記触媒活性成
分の担持量が前記担体層の重量に対して０．０１〜１５
重量％、好ましくは０．１〜１０重量％であることを特
徴とする請求項３に記載の排ガス浄化用触媒。 - 【請求項５】耐熱性ハニカム構造物と、前記耐熱性ハニ
カム構造物の排ガス浄化面に担持された多孔性無機物か
らなる担体層と、前記担体層の上面に形成されたシリコ
ン、及び／又は、チタンの酸化物からなる第一酸化物皮
膜と、前記第一酸化物皮膜の上面に担持された貴金属、
卑金属、金属酸化物の内のいずれか一種類以上からなる
触媒活性成分と、前記触媒活性成分の上面に形成された
シリコン、及び／又は、チタンの酸化物からなる第二酸
化物皮膜と、を有する排ガス浄化用触媒。 - 【請求項６】前記第一酸化物皮膜の担持量が、前記耐熱
性ハニカム構造物の重量に対して１〜３０重量％、好ま
しくは２〜２５重量％であり、前記第二酸化物皮膜の担
持量が、前記耐熱性ハニカム構造物の重量に対して０．
１〜１．０重量％、好ましくは０．２〜０．５重量％で
あり、前記触媒活性成分の担持量が前記担体層の重量に
対して０．１〜１５重量％、好ましくは０．１〜１０重
量％であることを特徴とする請求項５に記載の排ガス浄
化用触媒。 - 【請求項７】前記酸化物皮膜、若しくは、前記第一酸化
物皮膜や前記第二酸化物皮膜を形成する際の焼成温度が
６００〜１１００℃、好ましくは８００〜１０００℃で
あることを特徴とする請求項１乃至６の内のいずれか１
に記載の排ガス浄化用触媒。 - 【請求項８】請求項１乃至７の内のいずれか１に記載の
排ガス浄化用触媒と、前記排ガス浄化用触媒の近傍に配
設された加熱手段と、を有する排ガス浄化装置。 - 【請求項９】前記排ガス浄化用触媒の近傍に配設された
送風手段を有することを特徴とする請求項８に記載の排
ガス浄化装置。 - 【請求項１０】請求項１乃至７の内のいずれか１に記載
の排ガス浄化用触媒と、前記排ガス浄化用触媒を収納
し、かつ一側部に形成された排ガス流入口と他側部に形
成された排ガス流出口とを有するケースと、を備えた排
ガス浄化装置。 - 【請求項１１】前記ケースに配設された加熱手段を有す
ることを特徴とする請求項１０に記載の排ガス浄化装
置。 - 【請求項１２】前記ケースの近傍に配設された送風手段
を有することを特徴とする請求項１１に記載の排ガス浄
化装置。 - 【請求項１３】請求項１０乃至１２の内のいずれか１に
記載の排ガス浄化装置が、エンジン直下のマニホールド
部近傍に配設されていることを特徴とする排ガス浄化シ
ステム。 - 【請求項１４】前記マニホールド部と前記排ガス浄化装
置の排ガス流入口との接続管の外周に断熱材を備えてい
ることを特徴とする請求項１３に記載の排ガス浄化シス
テム。
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JP3800658B2 (ja) |
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1996
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