JPH09266357A - エレクトリカルテスト用配線基板及びその製造法 - Google Patents
エレクトリカルテスト用配線基板及びその製造法Info
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- JPH09266357A JPH09266357A JP7401396A JP7401396A JPH09266357A JP H09266357 A JPH09266357 A JP H09266357A JP 7401396 A JP7401396 A JP 7401396A JP 7401396 A JP7401396 A JP 7401396A JP H09266357 A JPH09266357 A JP H09266357A
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- Japan
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- electrodes
- wiring
- substrate
- insulating material
- board
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K1/02—Details
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-
- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4007—Surface contacts, e.g. bumps
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被検査基板の電極損傷を防止すると共に、突
起電極部と被検査基板の電極との確実接触を可能とする
エレクトリカルテスト用配線基板を提供する。 【構成】 狭ピッチでの導電性金属ならなる突起電極に
導通する所定配線の全てまたは一部に対し、弾力のある
絶縁材を局在化させるもので、 １．導電性仮基板に、第１絶縁材を形成する工程、 ２．第１の絶縁材の間隙に、第１絶縁材の厚さより低く
なるよう導電性仮基板に導通接触して所定パターン配線
を形成する工程、 ３．所定パターン配線上に存在する第１絶縁材の間隙に
第１絶縁材より弾力性の高い第２絶縁材を形成する工
程、 ４．所定パターン配線に設けられた第２絶縁材の周囲を
超えない範囲で該突起電極を導電性仮基板のエッチング
により形成する工程により製造する。
起電極部と被検査基板の電極との確実接触を可能とする
エレクトリカルテスト用配線基板を提供する。 【構成】 狭ピッチでの導電性金属ならなる突起電極に
導通する所定配線の全てまたは一部に対し、弾力のある
絶縁材を局在化させるもので、 １．導電性仮基板に、第１絶縁材を形成する工程、 ２．第１の絶縁材の間隙に、第１絶縁材の厚さより低く
なるよう導電性仮基板に導通接触して所定パターン配線
を形成する工程、 ３．所定パターン配線上に存在する第１絶縁材の間隙に
第１絶縁材より弾力性の高い第２絶縁材を形成する工
程、 ４．所定パターン配線に設けられた第２絶縁材の周囲を
超えない範囲で該突起電極を導電性仮基板のエッチング
により形成する工程により製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板、集
積回路用基板、液晶表示基板などの高密度配線基板にお
ける導通抵抗検査をはじめとする接触導通を要する電気
的検査に利用できるエレクトリカルテスト用配線基板及
びその製造法に関する。
積回路用基板、液晶表示基板などの高密度配線基板にお
ける導通抵抗検査をはじめとする接触導通を要する電気
的検査に利用できるエレクトリカルテスト用配線基板及
びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明の背景として、実装基板上への電
子部品実装密度の増大や部品端子の狭ピッチ化がある。
このため、実装部品端子の相互配置間隔が縮小してい
る。相互結線が確保できるようにする微細配線化及び多
層化技術が進むに伴い、これら実装技術を駆使して、実
装部品のマルチチップモジュール化が図られている。例
えば、シリコン基板上に半導体素子が集積回路化された
もの（以下ベアチップ）をこれまで、リードフレームに
実装封止して、挿入部品もしくは面実装部品としてき
た。これに対し、該ベアチップを複数個、ひとつの基板
にワイヤボンド接続またはＴＡＢ接続あるいはＣＣＢ接
続し封止後、リードフレームに実装して機能化する形態
である。ＭＣＭは、ＣＯＢ、ＰＧＡ、ＨＩＣの分野と特
徴付けは、明確でないが、ひとつの指標として、実装基
板面積に対するデバイスの面積比率が３０％以上と定義
されている。このような、基板はシリコンを基板とする
ＭＣＭ−Ｄ、セラミック系材料を基板とするＭＣＭ−
Ｃ、有機材料を基板とするＭＣＭ−Ｌに分けられる。
子部品実装密度の増大や部品端子の狭ピッチ化がある。
このため、実装部品端子の相互配置間隔が縮小してい
る。相互結線が確保できるようにする微細配線化及び多
層化技術が進むに伴い、これら実装技術を駆使して、実
装部品のマルチチップモジュール化が図られている。例
えば、シリコン基板上に半導体素子が集積回路化された
もの（以下ベアチップ）をこれまで、リードフレームに
実装封止して、挿入部品もしくは面実装部品としてき
た。これに対し、該ベアチップを複数個、ひとつの基板
にワイヤボンド接続またはＴＡＢ接続あるいはＣＣＢ接
続し封止後、リードフレームに実装して機能化する形態
である。ＭＣＭは、ＣＯＢ、ＰＧＡ、ＨＩＣの分野と特
徴付けは、明確でないが、ひとつの指標として、実装基
板面積に対するデバイスの面積比率が３０％以上と定義
されている。このような、基板はシリコンを基板とする
ＭＣＭ−Ｄ、セラミック系材料を基板とするＭＣＭ−
Ｃ、有機材料を基板とするＭＣＭ−Ｌに分けられる。
【０００３】これらの基板は、ベアチップ実装前に、所
定パターンの形成を電気的なオープンショートテストで
確認する必要があり、プリント板で培われてきた検査方
法を適用する場合に、検査条件は従来よりさらに厳しく
なりつつある。例えば、所定パターンは、線幅と線間
（以下ラインアンドスペース）が１００μｍ〜１００μ
ｍ以下の特徴がある。同時に、金めっき処理された部品
実装の電極も９０〜１２０μｍピッチとなりつつあり、
その電極数は将来、１インチ角あたり１０００個を越え
ると予測される。従って、２００μｍピッチ以下で検査
用接触端子を被検査基板の電極に対向させる必要があ
る。また、被検査基板の電極は、実装前の損傷防止に格
段のの注意を必要とする。この背景から、従来技術とし
て検査用接触端子を被検査基板に対向して配置する方法
がある。
定パターンの形成を電気的なオープンショートテストで
確認する必要があり、プリント板で培われてきた検査方
法を適用する場合に、検査条件は従来よりさらに厳しく
なりつつある。例えば、所定パターンは、線幅と線間
（以下ラインアンドスペース）が１００μｍ〜１００μ
ｍ以下の特徴がある。同時に、金めっき処理された部品
実装の電極も９０〜１２０μｍピッチとなりつつあり、
その電極数は将来、１インチ角あたり１０００個を越え
ると予測される。従って、２００μｍピッチ以下で検査
用接触端子を被検査基板の電極に対向させる必要があ
る。また、被検査基板の電極は、実装前の損傷防止に格
段のの注意を必要とする。この背景から、従来技術とし
て検査用接触端子を被検査基板に対向して配置する方法
がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来技術においては、
被検査基板に対向する端子は、導電性金属端子が用いら
れる。しかし、被検査基板の電極を損傷させる可能性が
ある。電極の損傷防止を改善する方法として、特開昭５
７−１１１４９６に示される該従来技術において、該検
査用接触端子と該検査基板との間に圧接時に導電性ゴム
シートを挿入する技術がある。本方法は、電極配線層表
面がソルダレジストなどのパッシベーション膜で沿面を
とって被覆されている場合、確実圧接するには不利であ
る。また、端子を保持する基板を利用するのでは、狭ピ
ッチに対応するのに限界がある。本発明は、狭ピッチで
の導電性金属ならなる突起電極に導通する所定配線の全
てまたは一部に対し、弾力のある絶縁材を局在化させ、
被検査基板の電極損傷を防止すると共に、突起電極部と
被検査基板の電極との確実接触を可能とするものであ
る。
被検査基板に対向する端子は、導電性金属端子が用いら
れる。しかし、被検査基板の電極を損傷させる可能性が
ある。電極の損傷防止を改善する方法として、特開昭５
７−１１１４９６に示される該従来技術において、該検
査用接触端子と該検査基板との間に圧接時に導電性ゴム
シートを挿入する技術がある。本方法は、電極配線層表
面がソルダレジストなどのパッシベーション膜で沿面を
とって被覆されている場合、確実圧接するには不利であ
る。また、端子を保持する基板を利用するのでは、狭ピ
ッチに対応するのに限界がある。本発明は、狭ピッチで
の導電性金属ならなる突起電極に導通する所定配線の全
てまたは一部に対し、弾力のある絶縁材を局在化させ、
被検査基板の電極損傷を防止すると共に、突起電極部と
被検査基板の電極との確実接触を可能とするものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のエレクトリカル
テスト用配線基板は、絶縁基板と、絶縁基板中に埋め込
まれている所定パターンの配線と、その配線上に設けら
れた、被テスト用デバイスの電極と接触する突起電極と
よりなるエレクトリカルテスト用配線基板であって、該
絶縁基板内で該所定パターンの配線全体あるいは一部に
弾力性の異なる絶縁樹脂材が局在することを特徴とする
ものである。
テスト用配線基板は、絶縁基板と、絶縁基板中に埋め込
まれている所定パターンの配線と、その配線上に設けら
れた、被テスト用デバイスの電極と接触する突起電極と
よりなるエレクトリカルテスト用配線基板であって、該
絶縁基板内で該所定パターンの配線全体あるいは一部に
弾力性の異なる絶縁樹脂材が局在することを特徴とする
ものである。
【０００６】本発明のエレクトリカルテスト用配線基板
の製造法は、導電性仮基板に、第１絶縁材を形成する工
程、第１絶縁材の間隙に、第１絶縁材の厚さより低くな
るよう導電性仮基板に導通接触して所定パターン配線を
形成する工程、所定パターン配線上に存在する第１絶縁
材の間隙に第１絶縁材より弾力性の高い第２絶縁材を形
成する工程、所定パターン配線に設けられた第２絶縁材
の周囲を超えない範囲で該突起電極を導電性仮基板のエ
ッチングにより形成する工程を含むことを特徴とするも
のである。
の製造法は、導電性仮基板に、第１絶縁材を形成する工
程、第１絶縁材の間隙に、第１絶縁材の厚さより低くな
るよう導電性仮基板に導通接触して所定パターン配線を
形成する工程、所定パターン配線上に存在する第１絶縁
材の間隙に第１絶縁材より弾力性の高い第２絶縁材を形
成する工程、所定パターン配線に設けられた第２絶縁材
の周囲を超えない範囲で該突起電極を導電性仮基板のエ
ッチングにより形成する工程を含むことを特徴とするも
のである。
【０００７】１．導電性仮基板に、第１絶縁材を形成す
る工程、 ２．第１の絶縁材の間隙に、第１絶縁材の厚さより低く
なるよう導電性仮基板に導通接触して所定パターン配線
を形成する工程、 ３．所定パターン配線上に存在する第１絶縁材の間隙に
第１絶縁材より弾力性の高い第２絶縁材を形成する工
程、 ４．所定パターン配線に設けられた第２絶縁材の周囲を
超えない範囲で該突起電極を導電性仮基板のエッチング
により形成する工程により本発明のエレクトリカルテス
ト用配線基板を製造する。
る工程、 ２．第１の絶縁材の間隙に、第１絶縁材の厚さより低く
なるよう導電性仮基板に導通接触して所定パターン配線
を形成する工程、 ３．所定パターン配線上に存在する第１絶縁材の間隙に
第１絶縁材より弾力性の高い第２絶縁材を形成する工
程、 ４．所定パターン配線に設けられた第２絶縁材の周囲を
超えない範囲で該突起電極を導電性仮基板のエッチング
により形成する工程により本発明のエレクトリカルテス
ト用配線基板を製造する。
【０００８】
（１）箔作製 図１に突起電極形成工程及び各工程で実現される基板断
面を示す。まず、箔作製においては、（〜１）で示す厚
さ３５〜７０μｍの電解銅箔と（〜２）で示す厚さ０．
１〜０．５μｍのニッケル層からなる例えば福田金属製
２層箔を用いる。このニッケル面に、レジストをラミネ
ートする。レジストは、例えば日立化成製ＨＮ６４０を
用いる。露光、現像で図４に示すパターンを含むネガイ
メージを焼き付ける。パターンのネガイメージは（〜
３）で示すレジスト層に焼き付けられる。（〜１、２）
を電極として、パターンのポジイメージを電気銅めっき
する。この時、レジスト厚さ４０μｍを超えないように
電流値を調整して、約１０〜１５μｍの厚さでめっきす
る。パターンのポジイメージ断面を（〜４）で示す。
面を示す。まず、箔作製においては、（〜１）で示す厚
さ３５〜７０μｍの電解銅箔と（〜２）で示す厚さ０．
１〜０．５μｍのニッケル層からなる例えば福田金属製
２層箔を用いる。このニッケル面に、レジストをラミネ
ートする。レジストは、例えば日立化成製ＨＮ６４０を
用いる。露光、現像で図４に示すパターンを含むネガイ
メージを焼き付ける。パターンのネガイメージは（〜
３）で示すレジスト層に焼き付けられる。（〜１、２）
を電極として、パターンのポジイメージを電気銅めっき
する。この時、レジスト厚さ４０μｍを超えないように
電流値を調整して、約１０〜１５μｍの厚さでめっきす
る。パターンのポジイメージ断面を（〜４）で示す。
【０００９】（２）第２絶縁形成 第１絶縁材の間隙に第２絶縁材料（〜６）を印刷で被覆
するように埋める。第２絶縁材として例えば、信越シリ
コーン社製ＫＥ１８４２などの６０〜１２０度で硬化す
るシリコーン材を使用する。この前に、パターン間での
異物や油脂分除去のため、ネオサンディップに浸漬洗浄
しパターンの整面処理する。この後、直径３．１５〜
３．１７５のドリル穴明け（Ｋ点）を行う。
するように埋める。第２絶縁材として例えば、信越シリ
コーン社製ＫＥ１８４２などの６０〜１２０度で硬化す
るシリコーン材を使用する。この前に、パターン間での
異物や油脂分除去のため、ネオサンディップに浸漬洗浄
しパターンの整面処理する。この後、直径３．１５〜
３．１７５のドリル穴明け（Ｋ点）を行う。
【００１０】（３）突起電極形成用マスクガイド窓明け この区分では、（〜１）のキャリアをエッチングして所
定配線パターン上に位置精度良く、ピラー形成を行うた
め、（〜５）に示す直径４φのガイドマークをキャリア
側から見えるようにする。このガイドマークはピラー群
に近い方が望ましく、マスク位置合わせがより高精度と
なる。この後、レジストラミネート、該マークに沿面を
取った円パターンをネガイメージに焼き付ける。露光現
像後、アルカリエッチングで銅エッチングする。この
際、（〜２）で示すニッケルはエッチングされない。こ
のため、埋め込まれた銅パターンのエッチングを防いで
いる。この後、ニッケルをメルストリップ社製ニッケル
選択エッチング用液（Ａ液、Ｂ液、過酸化水素水）で除
去する。この後、ＳＵＳ板やガラス板などの平坦な基板
（〜７）を第２絶縁材を埋めた面側に、適切な接着材を
用いて貼り付ける。さらに、ガイドマークとＫ点部の間
隙を透明樹脂（エポキシ樹脂）（〜８）で埋める。
定配線パターン上に位置精度良く、ピラー形成を行うた
め、（〜５）に示す直径４φのガイドマークをキャリア
側から見えるようにする。このガイドマークはピラー群
に近い方が望ましく、マスク位置合わせがより高精度と
なる。この後、レジストラミネート、該マークに沿面を
取った円パターンをネガイメージに焼き付ける。露光現
像後、アルカリエッチングで銅エッチングする。この
際、（〜２）で示すニッケルはエッチングされない。こ
のため、埋め込まれた銅パターンのエッチングを防いで
いる。この後、ニッケルをメルストリップ社製ニッケル
選択エッチング用液（Ａ液、Ｂ液、過酸化水素水）で除
去する。この後、ＳＵＳ板やガラス板などの平坦な基板
（〜７）を第２絶縁材を埋めた面側に、適切な接着材を
用いて貼り付ける。さらに、ガイドマークとＫ点部の間
隙を透明樹脂（エポキシ樹脂）（〜８）で埋める。
【００１１】（４）突起電極形成 この区分では、レジストの密着を確実にするバフ研磨に
よる粗化処理をまず行う。ニッケル金めっき用レジスト
ラミネート後、ピラーのネガイメージを焼き付けるた
め、該ガイドマークと該ネガイメージに含まれるガイド
マークとの位置合わせマークを、倍率４０〜１００倍の
マイクロスコープで見ながらあわせる。ガイドマークは
ピラ群の周囲に少なくとも４ケ所設けることが望まし
い。露光及び現像後、銅キャリアを電極に電気ニッケル
金めっきまたは無電解ニッケル金めっき（〜９）を行
う。レジスト剥離後、めっきれたニッケル金のピラーイ
メージをマスクに銅キャリアをエッチングする。次に、
ニッケルエッチングをする。これにより、めっきされた
所定パターン上に突起電極が形成される。このように形
成された本発明の基本構造を図２に示す。
よる粗化処理をまず行う。ニッケル金めっき用レジスト
ラミネート後、ピラーのネガイメージを焼き付けるた
め、該ガイドマークと該ネガイメージに含まれるガイド
マークとの位置合わせマークを、倍率４０〜１００倍の
マイクロスコープで見ながらあわせる。ガイドマークは
ピラ群の周囲に少なくとも４ケ所設けることが望まし
い。露光及び現像後、銅キャリアを電極に電気ニッケル
金めっきまたは無電解ニッケル金めっき（〜９）を行
う。レジスト剥離後、めっきれたニッケル金のピラーイ
メージをマスクに銅キャリアをエッチングする。次に、
ニッケルエッチングをする。これにより、めっきされた
所定パターン上に突起電極が形成される。このように形
成された本発明の基本構造を図２に示す。
【００１２】
【発明の効果】まず、平面図で本発明の電極群が、被検
査基板へどのような位置関係にあるか補足説明する。図
３は、被検査基板の表面電極パターン及び引き回し配線
を裏面から透視した場合の概略図である。一方、図３と
同様な方向から、本発明の検査基板パターンを見た場合
の概略図を図４に示す。図４の４−３に示す突起電極群
は、３−３の表面電極パターン群と対向して配置され、
相互の接触には４−４のガイド穴を位置合わせに利用可
能である。３−１の引き回し配線は、相互接触により所
定配線４−１と４−１’で半田接続などハンドリングで
十分可能な大きさ及び低密度な電極群に引き出され、こ
の電極群を使って自動測定システムやテスタなどに半田
接続される。同様に、３−２の引き回し配線は４−２と
４−２’の所定配線で引き出される。本発明は、この相
互接触の際、図２に示す第２絶縁材が突起電極部のクッ
ションとなり、３−３の表面電極を損傷させることな
く、かつ平面間での接触確度ばらつきを抑えると共に、
電極の寿命を向上させる。
査基板へどのような位置関係にあるか補足説明する。図
３は、被検査基板の表面電極パターン及び引き回し配線
を裏面から透視した場合の概略図である。一方、図３と
同様な方向から、本発明の検査基板パターンを見た場合
の概略図を図４に示す。図４の４−３に示す突起電極群
は、３−３の表面電極パターン群と対向して配置され、
相互の接触には４−４のガイド穴を位置合わせに利用可
能である。３−１の引き回し配線は、相互接触により所
定配線４−１と４−１’で半田接続などハンドリングで
十分可能な大きさ及び低密度な電極群に引き出され、こ
の電極群を使って自動測定システムやテスタなどに半田
接続される。同様に、３−２の引き回し配線は４−２と
４−２’の所定配線で引き出される。本発明は、この相
互接触の際、図２に示す第２絶縁材が突起電極部のクッ
ションとなり、３−３の表面電極を損傷させることな
く、かつ平面間での接触確度ばらつきを抑えると共に、
電極の寿命を向上させる。
【図１】本発明のエレクトリカルテスト用配線基板の製
造工程を示す断面図。
造工程を示す断面図。
【図２】本発明のエレクトリカルテスト用配線基板の断
面図。
面図。
【図３】被検査基板の平面図。
【図４】本発明のエレクトリカルテスト用配線基板の平
面図。
面図。
１ 銅箔 ２ ニッケル層 ３ レジスト層（第１絶縁材） ４ ガイドマークパターン ５ めっきパターン ６ 第２絶縁材 ７ 裏打ち基板 ８ 透明樹脂 ９ ニッケル金めっき ３−１、３−２ 引き回し配線 ３−３ 表面電極パターン群 ４−１、４−１’、４−２、及び４−２’ 所定配線 ４−３ 突起電極群 ４−４ ガイド穴
Claims (2)
- 【請求項１】 絶縁基板と、絶縁基板中に埋め込まれて
いる所定パターンの配線と、その配線上に設けられた、
被テスト用デバイスの電極と接触する突起電極とよりな
るエレクトリカルテスト用配線基板であって、該絶縁基
板内で該所定パターンの配線全体あるいは一部に弾力性
の異なる絶縁樹脂材が局在することを特徴とするエレク
トリカルテスト用配線基板。 - 【請求項２】 導電性仮基板に、第１絶縁材を形成する
工程、第１絶縁材の間隙に、第１絶縁材の厚さより低く
なるよう導電性仮基板に導通接触して所定パターン配線
を形成する工程、所定パターン配線上に存在する第１絶
縁材の間隙に第１絶縁材より弾力性の高い第２絶縁材を
形成する工程、所定パターン配線に設けられた第２絶縁
材の周囲を超えない範囲で該突起電極を導電性仮基板の
エッチングにより形成する工程を含むことを特徴とする
エレクトリカルテスト用配線基板の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07401396A JP3862032B2 (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | エレクトリカルテスト用配線基板及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07401396A JP3862032B2 (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | エレクトリカルテスト用配線基板及びその製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006204565A Division JP2006332697A (ja) | 2006-07-27 | 2006-07-27 | エレクトリカルテスト用配線基板及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09266357A true JPH09266357A (ja) | 1997-10-07 |
| JP3862032B2 JP3862032B2 (ja) | 2006-12-27 |
Family
ID=13534798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07401396A Expired - Lifetime JP3862032B2 (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | エレクトリカルテスト用配線基板及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3862032B2 (ja) |
-
1996
- 1996-03-28 JP JP07401396A patent/JP3862032B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3862032B2 (ja) | 2006-12-27 |
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