JPH09263972A - 酸化物超電導積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属基材と酸化物超電導体との熱膨張差を小
さくし、ひずみ及びクラックの発生を抑えた酸化物超電
導積層体を提供する。 【解決手段】 金属基材上に非超電導体層を形成し、さ
らにその上面に酸化物超電導体層と非超電導体層とを交
互に積層した酸化物超電導積層体において、該酸化物超
電導体層の３０℃における線膨張係数α_s、酸化物超電
導体層の体積Ｖ_s、非超電導体層の３０℃における線膨
張係数α_n、非超電導体層の体積Ｖ_n及び金属基材の３０
℃における線膨張係数α_mが次式に示される関係にある
酸化物超電導積層体。 【数１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気シールド体など
への応用が可能な酸化物超電導積層体の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】酸化物超電導体を線材、磁気シールド体
等に応用する場合、酸化物超電導体だけでは充分な機械
的強度が得られないために金属基材上に酸化物超電導体
層を形成した構造のものが用いられていた。特に生体磁
気計測用の磁気シールド体では人体及び計測器を収納す
る必要性から大型の酸化物超電導体が要求され、Ｎｉ合
金などの耐熱金属上に非超電導体層を設け、さらにその
上面に酸化物超電導体を積層した構造のものが一般的に
用いられている。

【０００３】金属基材上に非超電導体層及び酸化物超電
導体層を形成した構造のものは例えば、特開平３−１９
２６１５号公報に示されている。しかしながらステンレ
ス、Ｎｉ合金等の耐熱金属基材は酸化物超電導体よりも
熱膨張係数が大きく、このため酸化物超電導体を焼成し
室温まで冷却したとき、熱膨張差により酸化物超電導体
内に熱応力が残り、臨界電流密度などの超電導特性が低
下する。一方、超電導特性を発現させるためには極低温
に酸化物超電導体を冷却する必要がある。酸化物超電導
体は室温から液体窒素温度（７７Ｋ）まで冷却し、再び
室温に戻す冷却−加熱サイクルを繰り返し受けるが、こ
の場合も熱膨張差により酸化物超電導体内にひずみが発
生し、甚だしい場合にはクラックや酸化物超電導体層の
剥離が生ずるという問題点があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、金属基材と酸化物超電導体との熱膨張差を小さく
し、ひずみ及びクラックの発生を抑えた酸化物超電導積
層体を提供するものである。請求項２記載の発明は、請
求項１記載の発明の効果に加えて、耐熱性を向上した酸
化物超電導積層体を提供するものである。請求項３記載
の発明は、請求項１又は請求項２記載の発明の効果に加
えて、金属基材と酸化物超電導体の反応を防止した酸化
物超電導積層体を提供するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、金属基材上に
非超電導体層を形成し、さらにその上面に酸化物超電導
体層と非超電導体層とを交互に積層した酸化物超電導積
層体において、該酸化物超電導体層の３０℃における線
膨張係数α_s、酸化物超電導体層の体積Ｖ_s、非超電導体
層の３０℃における線膨張係数α_n、非超電導体層の体
積Ｖ_n及び金属基材の３０℃における線膨張係数α_mが次
式に示される関係にある酸化物超電導積層体に関する。

【数２】 また、本発明は前記金属基材がＮｉ合金である酸化物超
電導積層体に関する。さらに、本発明は前記非超電導体
層がＡｇである酸化物超電導積層体に関する。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明に用いる金属基材として
は、例えば、ステンレス、Ｎｉ合金、貴金属等があげら
れ、その中でもＮｉ合金が耐熱性が良いため好ましく、
Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系合金がより好ましい。非超電導体層
としては線膨張係数が金属基材よりも大きく、かつ金属
基材と酸化物超電導体との反応を防止し、酸化物超電導
体を焼成する温度でも溶融しない材料が好ましく、例え
ば、Ａｇ、Ａｕ等の貴金属又はこれらの合金、ＭｇＯ、
ＺｒＯ₂等の酸化物があげられ、その中でもＡｇは酸化
物超電導体との密着性が良好であるのでより好ましい。
非超電導体層を形成する方法については特に制限はない
が、金属基材の上面に形成する一層目の非超電導体層は
溶射法で行うことが好ましい。なお溶射の方法は、ガス
式、プラズマ式等を用いることができる。該非超電導体
層の厚さは特に制限はないが、薄いと非超電導体層を通
して金属基材と酸化物超電導体とが反応し超電導特性が
低下しやすくなるため、５０μｍ以上、望ましくは１０
０μｍ〜６００μｍである。

【０００７】酸化物超電導体としては、臨界温度が７７
Ｋを超える物質であれば冷却に液体窒素が利用できるの
で好ましく、例えば、Ｙ−Ｂａ−Ｃｕ−Ｏ系、Ｂｉ−Ｓ
ｒ−Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系、Ｔｌ−Ｂａ−Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ
系、Ｈｇ−Ｂａ−Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系、Ａｇ−Ｂａ−Ｃａ
−Ｃｕ−Ｏ系等が好ましい。またＢｉの一部をＰｂなど
で置換したものも使用できる。

【０００８】酸化物超電導体層と二層目以降の非超電導
体層とを交互に積層する形態としては酸化物超電導体と
非超電導体とをそれぞれ一層ずつ重ねたものを用いても
よく、さらに酸化物超電導体と非超電導体とを繰り返し
て積層してもよく特に制限はない。酸化物超電導体層及
び非超電導体層の積層方法についても特に制限はない
が、溶射法、スクリーン印刷法、転写法、スプレーコー
ト法、ディップコート法、グリーンシート積層法等の方
法で積層することができる。

【０００９】酸化物超電導体層の３０℃における線膨張
係数α_s、酸化物超電導体層の体積Ｖ_s、非超電導体層の
３０℃における線膨張係数α_n、非超電導体層の体積
Ｖ_n、金属基材の３０℃における線膨張係数α_mの関係に
おいて次式を満足するためには各材料の種類、酸化物超
電導体層及び非超電導体層の厚みを適宜選定すればよ
い。もし次式を満足しない場合、即ち次式の範囲から外
れた場合には、酸化物超電導体を焼成後、冷却までの間
に発生する金属基材と酸化物超電導体層との熱収縮の差
により、酸化物超電導体層内にひずみやクラックが発生
する。

【００１０】

【数３】

【００１１】本発明の酸化物超電導積層体は、例えば金
属基材上に一層目の非超電導体層を形成し、その上面に
数３に示す式を満足するように各材料の種類及び厚みを
調整しながら酸化物超電導体層と二層目以降の非超電導
体層とを交互に積層した後、熱処理して製造することが
できる。

【００１２】本発明の酸化物超電導積層体は、例えば磁
気シールド体として使用することができる。なお、磁気
シールド体は、筒状、板状、箱形等に成形した酸化物超
電導積層体を液体窒素、冷凍機等で冷却して使用される
が冷却法についてはとくに制限されない。

【００１３】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 実施例１ ビスマス、ストロンチウム、カルシウム及び銅の比率が
原子比で２：２：１：２となるように、Ｂｉ₂Ｏ₃（レア
メタリック社製、純度９９．９％）２３３．０ｇ、Ｓｒ
ＣＯ₃（レアメタリック社製、純度９９．９％）１４
７．６ｇ、ＣａＣＯ₃（高純度化学研究所製、純度９
９．９％）５０．１ｇ及びＣｕＯ（高純度化学研究所
製、純度９９．９％）７９．５ｇを秤量した後、合成樹
脂製ポット及び合成樹脂製ボールを用いて、蒸留水３０
０ｇと共に７２時間混合し、次いで１００℃で１２時間
乾燥し、原料混合粉末を得た。この原料混合粉末をアル
ミナ容器に入れ、８００℃で１０時間仮焼し、次いで乳
鉢で粗粉砕した後、合成樹脂製ポット内にジルコニア製
ボール及び酢酸エチル３００ｇと共に充填し、４８時間
湿式粉砕した後、乾燥して仮焼粉末を得た。

【００１４】上記仮焼粉末１００重量部にポリビニルブ
チラール樹脂８重量部、フタル酸エステル３重量部及び
１−ブタノール５０重量部を添加し混合した後、脱気を
行い粘度１５Pa・sのスラリーを作製した。このスラリー
を厚さが１８０μｍのポリエステル製フィルム（東レ
(株)製）上に供給し、ドクターブレード法で厚さが０．
３mmの酸化物超電導体用グリーンシートＡ（以下グリー
ンシートＡとする）及び厚さが０．１mmの酸化物超電導
体用グリーンシートＢ（以下グリーンシートＢとする）
を得た。

【００１５】次に表面（片側）をブラスト処理して粗化
した幅２００mm、長さ２００mm及び厚さ１．５mmのイン
コネル板を金属基材として用い、この表面にプラズマ溶
射法で銀を溶射した後、表面をサンドペーパーで研磨、
延伸して厚さ２００μｍの銀を一層目の非超電導体層と
して形成した後、幅５０mm及び長さ１００mmに切断して
複合基材を得た。

【００１６】上記の複合基材に前記のグリーンシートＡ
を幅１０mm及び長さ８０mmに切断し、６０℃、１０MPa
の条件で１５分間加熱圧着した後、電気炉で、大気中で
３００℃までは５０℃／時間、３００℃から８８０℃ま
では１５０℃／時間の速度で昇温し、８８０℃で１０分
間保持して焼き付けた後、１５０℃／時間の速度で室温
まで冷却して第一層目の酸化物超電導体層を形成した酸
化物超電導積層体用前駆体Ａを得た。

【００１７】一方銀粉末（田中貴金属工業(株)製、平均
粒径３μｍ）１００重量部に対して有機結合材としてエ
チルセルロース（和光純薬工業(株)製）５重量部及び溶
媒としてテルピネオール３０重量部を加え、均一に混合
して銀ペーストを得た。

【００１８】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ａ
の表面に上記の銀ペーストを刷毛で塗布して乾燥する工
程を３回繰り返した後、大気中８００℃で３０分間加熱
して、厚さ２０μｍの第二層目の非超電導体層を形成し
た。この第二層目の非超電導体層の表面に前記のグリー
ンシートＡを幅１０mm及び長さ８０mmに切断し、６０
℃、１０MPaの条件で１５分間加熱圧着した後、電気炉
で、大気中で３００℃までは５０℃／時間、３００℃か
ら８８０℃までは１５０℃／時間の速度で昇温し、８８
０℃で１０分間保持した後、８５０℃まで２℃／時間、
８５０℃から室温までは１５０℃／時間の速度で冷却
し、第二層目の酸化物超電導体層を形成した酸化物超電
導積層体用前駆体Ｂを得た。

【００１９】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ｂ
の表面に上記の銀ペーストを刷毛で塗布して乾燥する工
程を４回繰り返した後、大気中８００℃で３０分間加熱
して、厚さ３０μｍの第三層目の非超電導体層を形成し
た。さらにこれを電気炉に入れ、酸素分圧０．０２気圧
の雰囲気中で、７８０℃で１０時間熱処理して、酸化物
超電導積層体を得た。

【００２０】一方試験用の試料を作製するために、前記
仮焼粉末を油圧プレスで９８MPaで５mm×１０mm×２５m
mの大きさに成形し、電気炉中で８６０℃で１０時間焼
成した後、３mm×３mm×１８mmの寸法に切断して熱膨張
測定用酸化物超電導体試料を得た。

【００２１】また前記銀粉末を油圧プレスで９８MPaで
５mm×１０mm×２５mmの大きさに成形し、電気炉中で９
２０℃で２時間焼成した後、３mm×３mm×１８mmの寸法
に切断して熱膨張測定用銀焼結体を得た。

【００２２】得られた熱膨張測定用酸化物超電導体試
料、熱膨張測定用銀焼結体及び３mm×３mm×１８mmに切
断したインコネル板について示差熱膨張式熱膨張計を用
いて３０℃から８００℃までの熱膨張を測定した。３０
℃付近の線膨張係数は、酸化物超電導体が１１×１０^-6
／Ｋ、銀焼結体が２０×１０^-6／Ｋ及びインコネル板が
１５×１０^-6／Ｋであった。

【００２３】上記で得られた酸化物超電導積層体につい
て液体窒素中（７７Ｋ）で四端子法で臨界電流（以下Ｉ
ｃとする）を測定したところ１２Ａであった。また、室
温〜液体窒素温度〜室温のヒートサイクルを１０回繰り
返し行った後のＩｃは１１Ａであった。

【００２４】この後、酸化物超電導積層体から中間層、
酸化物超電導体層及び非超電導体層を剥がして酸化物超
電導体層の厚みを測定したところ、第一層目の酸化物超
電導体層の厚みは７０μｍ、第二層目の酸化物超電導体
層の厚みは８０μｍであった。また、得られた酸化物超
電導積層体にはクラック、酸化物超電導体層の剥離等は
見られなかった。上記で得られた線膨張係数及び各層の
厚みから次式の値を計算したところ−１．８×１０^-6／
Ｋであった。

【００２５】

【数４】

【００２６】実施例２ 実施例１で得た複合基材上に実施例１で得たグリーンシ
ートＢを幅１０mm及び長さ８０mmに切断し、以下実施例
１と同様の工程を経て第一層目の酸化物超電導体層を形
成した酸化物超電導積層体用前駆体Ｃを得た。

【００２７】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ｃ
の表面に実施例１で得た銀ペーストを刷毛で塗布して乾
燥する工程を８回繰り返した後、大気中８００℃で３０
分間加熱して、厚さ５０μｍの第二層目の非超電導体層
を形成した。この第二層目の非超電導体層の表面に前記
のグリーンシートＢを幅１０mm及び長さ８０mmに切断
し、６０℃、１０MPaの条件で１５分間加熱圧着した
後、電気炉で、大気中で３００℃までは５０℃／時間、
３００℃から８８０℃までは１５０℃／時間の速度で昇
温し、８８０℃で１０分間保持した後、８５０℃まで２
℃／時間、８５０℃から室温までは１５０℃／時間の速
度で冷却し、第二層目の酸化物超電導体層を形成した酸
化物超電導積層体用前駆体Ｄを得た。

【００２８】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ｄ
の表面に上記の銀ペーストを刷毛で塗布して乾燥する工
程を１５回繰り返した後、大気中８００℃で３０分間加
熱して、厚さ１００μｍの第三層目の非超電導体層を形
成した。さらにこれを電気炉に入れ、酸素分圧０．０２
気圧の雰囲気中で、７８０℃で１０時間熱処理して、酸
化物超電導積層体を得た。

【００２９】上記で得られた酸化物超電導積層体につい
て液体窒素中（７７Ｋ）で四端子法でＩｃを測定したと
ころ１６Ａであった。また、室温〜液体窒素温度〜室温
のヒートサイクルを１０回繰り返し行った後のＩｃは１
５．５Ａであった。

【００３０】この後、酸化物超電導積層体から中間層、
酸化物超電導体層及び非超電導体層を剥がして酸化物超
電導体層の厚みを測定したところ第一層目の酸化物超電
導体層の厚みは２０μｍ、第二層目の酸化物超電導体層
の厚みは３０μｍであった。また、得られた酸化物超電
導積層体にはクラック、酸化物超電導体層の剥離等は見
られなかった。実施例１で得られた線膨張係数及び上記
の各層の厚みから次式の値を計算したところ２．８×１
０^-6／Ｋであった。

【００３１】

【数５】

【００３２】実施例３ 外周面をブラスト処理して粗化した外径６０mm、内径５
７mm及び長さ２００mmのインコネル円筒を金属基材とし
て用い、この外周面にプラズマ溶射法で銀を溶射した
後、表面をサンドペーパーで研磨、延伸して厚さ２００
μｍの銀を中間層として形成した複合基材を得た。

【００３３】上記の複合基材に実施例１で得たグリーン
シートＡを６０℃、１０MPaの条件で１５分間加熱圧着
した後、電気炉で、大気中で３００℃までは５０℃／時
間、３００℃から８８０℃までは１５０℃／時間の速度
で昇温し、８８０℃で１０分間保持した後、１５０℃／
時間の速度で室温まで冷却して第一層目の酸化物超電導
体層を形成した酸化物超電導積層体用前駆体Ｅを得た。

【００３４】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ｅ
の外周面に実施例１で得た銀ペーストを用いて実施例１
と同様の工程を経て厚さ５０μｍの第二層目の非超電導
体層を形成した。この第二層目の非超電導体層の表面に
実施例１で得たグリーンシートＡを用いて６０℃、１０
MPaの条件で１５分間加熱圧着した後、電気炉で、大気
中で３００℃までは５０℃／時間、３００℃から８８０
℃までは１００℃／時間の速度で昇温し、８８０℃で１
０分間保持した後、８５０℃まで２℃／時間、８５０℃
から室温までは１００℃／時間の速度で冷却し、第二層
目の酸化物超電導体層を形成した酸化物超電導積層体用
前駆体Ｆを得た。

【００３５】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ｆ
の外周面に実施例１で得た銀ペーストを用いて実施例１
と同様の工程を経て厚さ５０μｍの第三層目の非超電導
体層を形成した。さらにこれを電気炉に入れ、酸素分圧
０．０２気圧の雰囲気中で、７８０℃で１０時間熱処理
して、円筒状の酸化物超電導積層体を得た。このものを
磁気シールド体とした。

【００３６】得られた磁気シールド体を冷却容器に入
れ、１Ｋ／分の速度で冷却して最終的には液体窒素中に
浸漬した。この状態で磁気シールド体の外部にソレノイ
ドコイルで磁気シールド体の軸方向に周波数８０Hz及び
強さ０．１mTの交流磁場を印加し、磁気シールド体内部
の中央にはピックアップコイルを配置して磁気シールド
体内部に漏れる磁場を測定した。シールド効果は「外部
磁場の強さ／内部磁場の強さ」で求められ、その値は２
×１０⁵であり、超電導体円筒の開口端からの磁場の漏
れを仮定した理論値［exp（−６．７７×開口端からの
距離／円筒の直径）］にほぼ等しかった。

【００３７】また上記の磁気シールド体を室温〜液体窒
素温度〜室温のヒートサイクルを６回くり返した後、シ
ールド効果を測定した結果、１．９×１０⁵であり、シ
ールド性能はほとんど変化しなかった。この後、酸化物
超電導積層体から中間層、酸化物超電導体層及び非超電
導体層を剥がして酸化物超電導体層の厚みを測定したと
ころ、第一層目の酸化物超電導体層の厚みは７０μｍ、
第二層目の酸化物超電導体層の厚みは８μｍであった。
また得られた酸化物超電導積層体にはクラック、酸化物
超電導体層の剥離等は見られなかった。実施例１で得ら
れた線膨張係数及び上記の各層の厚みから次式の値を計
算したところ−０．４×１０^-6／Ｋであった。

【００３８】

【数６】

【００３９】比較例１ 実施例１で得た複合基材上に実施例１で得たグリーンシ
ートＡを幅１０mm及び長さ８０mmに切断し、以下実施例
１と同様の工程を経て第一層目の酸化物超電導体層を形
成した酸化物超電導積層体用前駆体Ｇを得た。

【００４０】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ｇ
の表面に実施例１で得た銀ペーストを刷毛で塗布して乾
燥した後、大気中８００℃で３０分間加熱して、厚さ８
μｍの第二層目の非超電導体層を形成した。この第二層
目の非超電導体層の表面に実施例１で得たグリーンシー
トＡを幅１０mm及び長さ８０mmに切断し、６０℃、１０
MPaの条件で１５分間加熱圧着した後、電気炉で、大気
中で３００℃までは５０℃／時間、３００℃から８８０
℃までは１５０℃／時間の速度で昇温し、８８０℃で１
０分保持した後、８５０℃まで２℃／時間、８５０℃か
ら室温までは１５０℃／時間の速度で冷却し、第二層目
の酸化物超電導体層を形成した酸化物超電導積層体用前
駆体Ｈを得た。

【００４１】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ｈ
の表面に実施例１で得た銀ペーストを刷毛で塗布して乾
燥した後、大気中８００℃で３０分間加熱して、厚さ８
μｍの第三層目の非超電導体層を形成した。さらにこれ
を電気炉に入れ、酸素分圧０．０２気圧の雰囲気中で、
７８０℃で１０時間熱処理して、酸化物超電導積層体を
得た。

【００４２】上記で得られた酸化物超電導積層体につい
て液体窒素中（７７Ｋ）で四端子法でＩｃを測定したと
ころ１１Ａであった。また、室温〜液体窒素温度〜室温
のヒートサイクルを５回繰り返し行った後のＩｃは７．
５Ａであった。

【００４３】この後に酸化物積層体から中間層、酸化物
超電導体層及び非超電導体層を剥がして酸化物超電導体
層の厚みを測定したところ、第一層目の酸化物超電導体
層の厚みは７０μｍ、第二層目の酸化物超電導体層の厚
みは８０μｍであった。なお得られた酸化物超電導積層
体の第二層目の酸化物超電導体層の表面に長さ１００μ
ｍ程度のクラック及び長さ１００μｍ以上にわたって超
電導体結晶がせり上がった部分が見られた、実施例１で
得られた線膨張係数及び上記の各層の厚みから次式の値
を計算したところ−３．１×１０^-6／Ｋであった。

【００４４】

【数７】

【００４５】比較例２ 実施例１で得た複合基材上に実施例１で得たグリーンシ
ートＢを幅１０mm及び長さ８０mmに切断し、以下実施例
１と同様の工程を経て第一層目の酸化物超電導体層を形
成した酸化物超電導積層体用前駆体Ｉを得た。

【００４６】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ｉ
の表面に実施例１で得た銀ペーストを刷毛で塗布して乾
燥する工程を２３回繰り返した後、大気中８００℃で３
０分間加熱して、厚さ１５０μｍの第二層目の非超電導
体層を形成した。この第二層目の非超電導体層の表面に
実施例１で得たグリーンシートＢを幅１０mm及び長さ８
０mmに切断し、６０℃、１０MPaの条件で１５分間加熱
圧着した後、電気炉で、大気中で３００℃までは５０℃
／時間、３００℃から８８０℃までは１５０℃／時間の
速度で昇温し、８８０℃で１０分保持した後、８５０℃
まで２℃／時間、８５０℃から室温までは１５０℃／時
間の速度で冷却し、第二層目の酸化物超電導体層を形成
した酸化物超電導積層体用前駆体Ｈを得た。

【００４７】次に前記の酸化物超電導積層体用前駆体Ｈ
の表面に実施例１で得た銀ペーストを刷毛で塗布して乾
燥する工程を１５回繰り返した後、大気中８００℃で３
０分間加熱して、厚さ１００μｍの第三層目の非超電導
体層を形成した。さらにこれを電気炉に入れ、酸素分圧
０．０２気圧の雰囲気中で、７８０℃で１０時間熱処理
して、酸化物超電導積層体を得た。

【００４８】上記で得られた酸化物超電導積層体につい
て液体窒素中（７７Ｋ）で四端子法でＩｃを測定したと
ころ１５Ａであった。また、室温〜液体窒素温度〜室温
のヒートサイクルを５回繰り返し行った後のＩｃは９Ａ
であった。

【００４９】この後に酸化物積層体から中間層、酸化物
超電導体層及び非超電導体層を剥がして酸化物超電導体
層の厚みを測定したところ、第一層目の酸化物超電導体
層の厚みは２０μｍ、第二層目の酸化物超電導体層の厚
みは３０μｍであった。なお得られた酸化物超電導積層
体の第二層目の酸化物超電導体層の表面には長さ３０μ
ｍ程度のクラックがわずかに認められた。実施例１で得
られた線膨張係数及び上記の各層の厚みから次式の値を
計算したところ３．５×１０^-6／Ｋであった。

【００５０】

【数８】

【００５１】

【発明の効果】請求項１記載の酸化物超電導積層体は、
金属基材と酸化物超電導体との熱膨張差を小さくし、ひ
ずみ及びクラックの発生を抑えられ、超電導線材、磁気
シールド体等に好適である。請求項２記載の酸化物超電
導積層体は、請求項１記載の効果を奏し、さらに耐熱性
に優れている。請求項３記載の酸化物超電導積層体は、
請求項１又は請求項２記載の効果を奏し、さらに金属基
材と酸化物超電導体の反応を防止できる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｂ 13/00 ５６５ Ｈ０１Ｂ 13/00 ５６５Ｄ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｈ０５Ｋ 9/00

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 金属基材上に非超電導体層を形成し、さ
   らにその上面に酸化物超電導体層と非超電導体層とを交
   互に積層した酸化物超電導積層体において、該酸化物超
   電導体層の３０℃における線膨張係数α_s、酸化物超電
   導体層の体積Ｖ_s、非超電導体層の３０℃における線膨
   張係数α_n、非超電導体層の体積Ｖ_n及び金属基材の３０
   ℃における線膨張係数α_mが次式に示される関係にある
   酸化物超電導積層体。 【数１】
2. 【請求項２】 金属基材がＮｉ合金である請求項１記載
   の酸化物超電導積層体。
3. 【請求項３】 非超電導体層がＡｇである請求項１又は
   ２記載の酸化物超電導積層体。