JPH09258457A - 薬液の回収方法および回収装置 - Google Patents
薬液の回収方法および回収装置Info
- Publication number
- JPH09258457A JPH09258457A JP6076196A JP6076196A JPH09258457A JP H09258457 A JPH09258457 A JP H09258457A JP 6076196 A JP6076196 A JP 6076196A JP 6076196 A JP6076196 A JP 6076196A JP H09258457 A JPH09258457 A JP H09258457A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- solution
- discharged
- conduit
- concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 薬液循環供給系における新液の補給量を減ら
し、薬液循環供給系の装置サイズを小型化すること。 【解決手段】 原液を希釈液で希釈してなる処理用薬液
と、該希釈液と同一のリンス液とを交互に使用する処理
装置１から排出される排出液のうち、主として該処理用
薬液を回収する方法および装置であって、該排出液の濃
度を濃度測定手段31によりリアルタイムで測定し、その
測定値により管路切換え手段32を作動させることによ
り、測定値が予め定めた管理範囲内にある時は排出液を
回収管路５に導いてこれを回収し、該管理範囲内にない
時は該排出液を廃棄管路４に導いてこれを廃棄する。
し、薬液循環供給系の装置サイズを小型化すること。 【解決手段】 原液を希釈液で希釈してなる処理用薬液
と、該希釈液と同一のリンス液とを交互に使用する処理
装置１から排出される排出液のうち、主として該処理用
薬液を回収する方法および装置であって、該排出液の濃
度を濃度測定手段31によりリアルタイムで測定し、その
測定値により管路切換え手段32を作動させることによ
り、測定値が予め定めた管理範囲内にある時は排出液を
回収管路５に導いてこれを回収し、該管理範囲内にない
時は該排出液を廃棄管路４に導いてこれを廃棄する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）等の製造工程において処理用薬液を循環使用するた
めの薬液の回収方法と回収装置に関する。
Ｄ）等の製造工程において処理用薬液を循環使用するた
めの薬液の回収方法と回収装置に関する。
【０００２】近年、ＬＣＤ等の製造工程の内、レジスト
現像等、薬液で処理する工程では、製造コスト削減のた
め、処理装置と薬液循環供給装置とを組み合わせて使用
済の薬液を効率良く回収・再使用することが求められて
いる。
現像等、薬液で処理する工程では、製造コスト削減のた
め、処理装置と薬液循環供給装置とを組み合わせて使用
済の薬液を効率良く回収・再使用することが求められて
いる。
【０００３】
【従来の技術】従来技術を図６を参照しながら説明す
る。図６は従来の薬液循環供給装置の概略構成図であ
る。同図において、図１と同じものには同一の符号を付
与した。この薬液循環供給装置では、液濃度調整装置６
で所定の濃度に調整された処理用薬液とリンス液とが交
互に処理装置１に供給され、使用後はいずれもその排出
口から排出管路２に排出される。排出された排出液は電
磁弁等の管路切換え手段３２により廃棄管路４か回収管
路５のいずれかに導かれる。廃棄管路４に導かれた排出
液は廃棄され、回収管路５に導かれた排出液は液濃度調
整装置６に回収される。排出液の管路切換えは、処理装
置１における処理用薬液とリンス液の供給のタイミング
に合わせて自動的に行っていた。
る。図６は従来の薬液循環供給装置の概略構成図であ
る。同図において、図１と同じものには同一の符号を付
与した。この薬液循環供給装置では、液濃度調整装置６
で所定の濃度に調整された処理用薬液とリンス液とが交
互に処理装置１に供給され、使用後はいずれもその排出
口から排出管路２に排出される。排出された排出液は電
磁弁等の管路切換え手段３２により廃棄管路４か回収管
路５のいずれかに導かれる。廃棄管路４に導かれた排出
液は廃棄され、回収管路５に導かれた排出液は液濃度調
整装置６に回収される。排出液の管路切換えは、処理装
置１における処理用薬液とリンス液の供給のタイミング
に合わせて自動的に行っていた。
【０００４】これを、処理装置１がスピン方式のレジス
ト現像装置である場合について具体例で説明する。先ず
基板表面の露光済みレジスト膜上に基板静止又はスピン
状態で処理用薬液として所定濃度の現像液を供給してこ
れを盛り、一定時間後に基板を高速スピンさせて現像液
を振り落とし、引き続きリンス液を供給してリンスし、
その後、リンス液の供給を停止してスピン乾燥する。排
出液の管路切換えは、例えば、レジスト現像装置が現像
液の吐出を開始すると同時に回収側に切り換え、リンス
液の吐出を開始すると同時に、或いはその一定時間後
に、廃棄側に切り換えていた。
ト現像装置である場合について具体例で説明する。先ず
基板表面の露光済みレジスト膜上に基板静止又はスピン
状態で処理用薬液として所定濃度の現像液を供給してこ
れを盛り、一定時間後に基板を高速スピンさせて現像液
を振り落とし、引き続きリンス液を供給してリンスし、
その後、リンス液の供給を停止してスピン乾燥する。排
出液の管路切換えは、例えば、レジスト現像装置が現像
液の吐出を開始すると同時に回収側に切り換え、リンス
液の吐出を開始すると同時に、或いはその一定時間後
に、廃棄側に切り換えていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
従来技術によれば、回収に適した濃度の排出液を廃棄し
たり回収に適さない濃度の排出液を回収することがある
ために新液（原液）の補給量が多くなる、回収される排
出液の濃度の変動幅が大きくなり易いために液濃度調整
装置のタンクを大型化する必要がある、という問題があ
った。
従来技術によれば、回収に適した濃度の排出液を廃棄し
たり回収に適さない濃度の排出液を回収することがある
ために新液（原液）の補給量が多くなる、回収される排
出液の濃度の変動幅が大きくなり易いために液濃度調整
装置のタンクを大型化する必要がある、という問題があ
った。
【０００６】本発明は、このような問題を解決して、薬
液循環供給系における新液の補給量を減らすことがで
き、又、薬液循環供給系の装置サイズを小型化すること
が可能な薬液の回収方法および回収装置を提供すること
を目的とする。
液循環供給系における新液の補給量を減らすことがで
き、又、薬液循環供給系の装置サイズを小型化すること
が可能な薬液の回収方法および回収装置を提供すること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明請求項１は、処理用薬液とリンス液とを交互
に使用する処理装置から排出される薬液を回収する方法
において、排出液の濃度を測定し、測定値が予め定めた
管理範囲内にある時は排出液を回収し、該管理範囲外の
時は該排出液を廃棄するようにしている。
め、本発明請求項１は、処理用薬液とリンス液とを交互
に使用する処理装置から排出される薬液を回収する方法
において、排出液の濃度を測定し、測定値が予め定めた
管理範囲内にある時は排出液を回収し、該管理範囲外の
時は該排出液を廃棄するようにしている。
【０００８】又、請求項４は、処理用薬液とリンス液と
を交互に使用する処理装置から排出される薬液を回収す
る装置において、排出液の濃度を測定する濃度測定手段
と、該排出液を廃棄管路と回収管路のいずれかに導く管
路切換え手段とを有し、該濃度測定手段の測定値が予め
定めた管理範囲内にある時は該管路切換え手段が該排出
液を回収管路に導き、該管理範囲外の時は該管路切換え
手段が該排出液を廃棄管路に導くように構成している。
を交互に使用する処理装置から排出される薬液を回収す
る装置において、排出液の濃度を測定する濃度測定手段
と、該排出液を廃棄管路と回収管路のいずれかに導く管
路切換え手段とを有し、該濃度測定手段の測定値が予め
定めた管理範囲内にある時は該管路切換え手段が該排出
液を回収管路に導き、該管理範囲外の時は該管路切換え
手段が該排出液を廃棄管路に導くように構成している。
【０００９】即ち、排出液の濃度をリアルタイムで測定
し、その測定値と予め定めた管理値との関係で回収／廃
棄の切換えを行うから、回収する排出液の濃度を精度良
くコントロールでき、従って、薬液循環供給系における
新液の補給量を減らすことが可能となり又、薬液循環供
給系の装置サイズを小型化することが可能となる。
し、その測定値と予め定めた管理値との関係で回収／廃
棄の切換えを行うから、回収する排出液の濃度を精度良
くコントロールでき、従って、薬液循環供給系における
新液の補給量を減らすことが可能となり又、薬液循環供
給系の装置サイズを小型化することが可能となる。
【００１０】本発明請求項２は、処理用薬液とリンス液
とを交互に使用する処理装置から排出される薬液を回収
する方法において、排出液の濃度を測定し、該処理装置
が該処理用薬液の使用を開始した直後の排出液の測定値
が予め定めた第一の管理範囲外の場合は該排出液を予め
定めた時間だけ回収し、該測定値が該第一の管理範囲内
にある場合は排出液の測定値が予め定めた第二の管理範
囲内にある間、該排出液の回収を継続するようにしてい
る。
とを交互に使用する処理装置から排出される薬液を回収
する方法において、排出液の濃度を測定し、該処理装置
が該処理用薬液の使用を開始した直後の排出液の測定値
が予め定めた第一の管理範囲外の場合は該排出液を予め
定めた時間だけ回収し、該測定値が該第一の管理範囲内
にある場合は排出液の測定値が予め定めた第二の管理範
囲内にある間、該排出液の回収を継続するようにしてい
る。
【００１１】又、請求項５は、処理用薬液とリンス液と
を交互に使用する処理装置から排出される薬液を回収す
る装置において、排出液の濃度を測定する液濃度測定手
段と、該排出液を廃棄管路と回収管路のいずれかに導く
第一の管路切換え手段と、第一の管路切換え手段より下
流側に設けられて該排出液を廃棄管路と回収管路のいず
れかに導く第二の管路切換え手段とを有し、該処理装置
が該処理用薬液を使用した直後の該液濃度測定手段の測
定値が予め定めた第一の管理範囲を超えた場合は該第一
の管路切換え手段が予め定めた時間だけ該排出液を回収
管路に導いたのち廃棄管路に切換え、該測定値が該第一
の管理範囲内にある場合は該処理装置が該リンス液の使
用を開始した後の測定値が予め定めた第二の管理範囲を
超えるまで該第一の管路切換え手段が該排出液を回収管
路に導くように構成している。
を交互に使用する処理装置から排出される薬液を回収す
る装置において、排出液の濃度を測定する液濃度測定手
段と、該排出液を廃棄管路と回収管路のいずれかに導く
第一の管路切換え手段と、第一の管路切換え手段より下
流側に設けられて該排出液を廃棄管路と回収管路のいず
れかに導く第二の管路切換え手段とを有し、該処理装置
が該処理用薬液を使用した直後の該液濃度測定手段の測
定値が予め定めた第一の管理範囲を超えた場合は該第一
の管路切換え手段が予め定めた時間だけ該排出液を回収
管路に導いたのち廃棄管路に切換え、該測定値が該第一
の管理範囲内にある場合は該処理装置が該リンス液の使
用を開始した後の測定値が予め定めた第二の管理範囲を
超えるまで該第一の管路切換え手段が該排出液を回収管
路に導くように構成している。
【００１２】即ち、排出液の濃度をリアルタイムで測定
し、その測定値と予め定めた管理値との関係で回収／廃
棄の切換えを行うから、回収する排出液の濃度を精度良
くコントロールでき、従って、薬液循環供給系における
新液の補給量を減らすことが可能となるとともに、薬液
循環供給系の装置サイズを小型化することが可能とな
る。更に、排出液濃度の管理範囲上限側を超えた場合に
回収時間を制限することにより回収量を大幅に減らすこ
とができるから、薬液を循環使用することによる薬液中
の溶解物質濃度を一定水準以下に維持することが容易で
ある。
し、その測定値と予め定めた管理値との関係で回収／廃
棄の切換えを行うから、回収する排出液の濃度を精度良
くコントロールでき、従って、薬液循環供給系における
新液の補給量を減らすことが可能となるとともに、薬液
循環供給系の装置サイズを小型化することが可能とな
る。更に、排出液濃度の管理範囲上限側を超えた場合に
回収時間を制限することにより回収量を大幅に減らすこ
とができるから、薬液を循環使用することによる薬液中
の溶解物質濃度を一定水準以下に維持することが容易で
ある。
【００１３】本発明請求項３および６は、前記処理装置
をレジスト現像装置とし、前記処理用薬液をレジスト現
像液としている。即ち、レジスト現像液装置ではレジス
ト現像液とリンス液とを交互に使用し、現像液の希釈液
とリンス液とが同一であり、しかも現像液が高価でリン
ス液が廉価であるから、前述の作用・効果が顕著であ
る。
をレジスト現像装置とし、前記処理用薬液をレジスト現
像液としている。即ち、レジスト現像液装置ではレジス
ト現像液とリンス液とを交互に使用し、現像液の希釈液
とリンス液とが同一であり、しかも現像液が高価でリン
ス液が廉価であるから、前述の作用・効果が顕著であ
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の第一の実施形態を図１〜
２を参照して説明する。図１は本発明の第一の実施形態
を示す装置構成図であり、本発明の回収装置を含む薬液
循環供給装置の概略構成を示している。同図において、
１は処理装置、２は排出管路、３は回収装置、４は廃棄
管路、５は回収管路、６は液濃度調整装置、７は処理用
薬液供給管路、８はリンス液供給管路であり、この２乃
至８が処理装置１に対する薬液循環供給装置を構成して
いる。図２は本発明の第一の実施形態を示すグラフであ
り、排出液の濃度の推移と、濃度と切換えタイミングと
の関係を示している。
２を参照して説明する。図１は本発明の第一の実施形態
を示す装置構成図であり、本発明の回収装置を含む薬液
循環供給装置の概略構成を示している。同図において、
１は処理装置、２は排出管路、３は回収装置、４は廃棄
管路、５は回収管路、６は液濃度調整装置、７は処理用
薬液供給管路、８はリンス液供給管路であり、この２乃
至８が処理装置１に対する薬液循環供給装置を構成して
いる。図２は本発明の第一の実施形態を示すグラフであ
り、排出液の濃度の推移と、濃度と切換えタイミングと
の関係を示している。
【００１５】処理装置１は処理のために処理用薬液とリ
ンス液とを交互に使用する。尚、この処理用薬液はリン
ス液と同じ希釈液で原液を希釈したものである。回収装
置３は濃度測定手段３１、電磁弁等からなる管路切換え
手段３２等で構成されている。濃度測定手段３１は排出
管路２に設けた小容量のバッファータンクで液濃度を測
定する。排出管路２にバイパス管路設け、このバイパス
管路にバッファータンクを設けても良い。液濃度調整装
置６はタンク、攪拌機、液濃度測定器、液面レベル検出
器、フィルタ等を具備するとともに、原液補給管路６１
と希釈液補給管路６２が接続されており、原液と希釈液
とを適宜補給して、タンク内の処理用薬液の濃度と液量
を所望の範囲内に維持する。
ンス液とを交互に使用する。尚、この処理用薬液はリン
ス液と同じ希釈液で原液を希釈したものである。回収装
置３は濃度測定手段３１、電磁弁等からなる管路切換え
手段３２等で構成されている。濃度測定手段３１は排出
管路２に設けた小容量のバッファータンクで液濃度を測
定する。排出管路２にバイパス管路設け、このバイパス
管路にバッファータンクを設けても良い。液濃度調整装
置６はタンク、攪拌機、液濃度測定器、液面レベル検出
器、フィルタ等を具備するとともに、原液補給管路６１
と希釈液補給管路６２が接続されており、原液と希釈液
とを適宜補給して、タンク内の処理用薬液の濃度と液量
を所望の範囲内に維持する。
【００１６】この薬液循環供給装置では、液濃度調整装
置６で所望の濃度に調整された処理用薬液とリンス液と
が処理装置１内で交互に使用され、使用後はいずれもそ
の排出口から排出管路２に排出される。この排出液は、
図２に示したように、処理装置１内で処理用薬液を使用
している間は殆ど処理用薬液だけであるが、リンス液の
吐出を開始すると、リンス液で希釈されて濃度は間もな
く低下し、やがて殆どリンス液だけになる。
置６で所望の濃度に調整された処理用薬液とリンス液と
が処理装置１内で交互に使用され、使用後はいずれもそ
の排出口から排出管路２に排出される。この排出液は、
図２に示したように、処理装置１内で処理用薬液を使用
している間は殆ど処理用薬液だけであるが、リンス液の
吐出を開始すると、リンス液で希釈されて濃度は間もな
く低下し、やがて殆どリンス液だけになる。
【００１７】この排出液の濃度を排出管路２内で濃度測
定手段３１（例えば導電率計、比色計、ｐＨ計）がリア
ルタイムで測定し、その測定値が予め設定した値に達す
ると管路切換え手段３２が作動して、その先の管路が切
り換わる。即ち、測定値が管理範囲内である間は排出液
は回収管路５に導かれて液濃度調整装置６に回収され、
管理範囲外である間は廃棄管路４に導かれて廃棄され
る。
定手段３１（例えば導電率計、比色計、ｐＨ計）がリア
ルタイムで測定し、その測定値が予め設定した値に達す
ると管路切換え手段３２が作動して、その先の管路が切
り換わる。即ち、測定値が管理範囲内である間は排出液
は回収管路５に導かれて液濃度調整装置６に回収され、
管理範囲外である間は廃棄管路４に導かれて廃棄され
る。
【００１８】これを、処理装置１がスピン方式のレジス
ト現像装置、処理用薬液が現像液である場合について具
体例で説明する。尚、ＬＣＤのフォト工程では、レジス
トとしてポジ型フォトレジストが多用されている。レジ
ストがポジ型フォトレジストの場合、通常、現像液とし
てはアルカリ水溶液、リンス液としては純水が使用され
る。従って、現像液はその原液をリンス液と同じ純水で
希釈して濃度を調整することになる。
ト現像装置、処理用薬液が現像液である場合について具
体例で説明する。尚、ＬＣＤのフォト工程では、レジス
トとしてポジ型フォトレジストが多用されている。レジ
ストがポジ型フォトレジストの場合、通常、現像液とし
てはアルカリ水溶液、リンス液としては純水が使用され
る。従って、現像液はその原液をリンス液と同じ純水で
希釈して濃度を調整することになる。
【００１９】レジスト現像装置による現像処理は、先ず
基板表面の露光済みレジスト膜上に基板静止又はスピン
状態で処理用薬液として所定濃度の現像液を供給してこ
れを盛り、一定時間後に基板を高速スピンさせて現像液
を振り落とし、引き続きリンス液を供給してリンスし、
その後、リンス液の供給を停止してスピン乾燥する、と
いうものである。
基板表面の露光済みレジスト膜上に基板静止又はスピン
状態で処理用薬液として所定濃度の現像液を供給してこ
れを盛り、一定時間後に基板を高速スピンさせて現像液
を振り落とし、引き続きリンス液を供給してリンスし、
その後、リンス液の供給を停止してスピン乾燥する、と
いうものである。
【００２０】回収装置３の濃度測定手段３１としては導
電率計又は光電比色計を使用する。前者によれば液のア
ルカリ濃度が、後者によれば液に溶解しているレジスト
濃度が、それぞれ測定される。両者を併用し、アルカリ
濃度の下限と溶解レジスト濃度の上限を設定して排出液
の濃度を管理しても良い。この回収装置３における排出
液の濃度の管理範囲は、液濃度調整装置６における現像
液のそれより若干広く設定する。
電率計又は光電比色計を使用する。前者によれば液のア
ルカリ濃度が、後者によれば液に溶解しているレジスト
濃度が、それぞれ測定される。両者を併用し、アルカリ
濃度の下限と溶解レジスト濃度の上限を設定して排出液
の濃度を管理しても良い。この回収装置３における排出
液の濃度の管理範囲は、液濃度調整装置６における現像
液のそれより若干広く設定する。
【００２１】図３は本発明の第二の実施形態を示す装置
構成実施形態の説明図であり、図１と同様、本発明の回
収装置を含む薬液循環供給装置の概略構成を示してい
る。同図において、図１と同じものには同一の符号を付
与した。３Ａは回収装置、９は廃棄管路、３３は管路切
換え手段である。図３および図４は本発明の第二の実施
形態を示すグラフであり、排出液の濃度の推移と、濃度
と切換えタイミングとの関係を示している。
構成実施形態の説明図であり、図１と同様、本発明の回
収装置を含む薬液循環供給装置の概略構成を示してい
る。同図において、図１と同じものには同一の符号を付
与した。３Ａは回収装置、９は廃棄管路、３３は管路切
換え手段である。図３および図４は本発明の第二の実施
形態を示すグラフであり、排出液の濃度の推移と、濃度
と切換えタイミングとの関係を示している。
【００２２】この回収装置３Ａは、回収装置３における
濃度測定手段３１と管路切換え手段３２の他に排出管路
２の管路切換え手段３２より上流側に排出管路２を廃棄
管路９に接続可能な管路切換え手段３３を有しており、
濃度測定手段３１による測定値に応じて管路切換え手段
３３の切換えのタイミングをコントロールして排出液の
回収量を回収時間で制限する。
濃度測定手段３１と管路切換え手段３２の他に排出管路
２の管路切換え手段３２より上流側に排出管路２を廃棄
管路９に接続可能な管路切換え手段３３を有しており、
濃度測定手段３１による測定値に応じて管路切換え手段
３３の切換えのタイミングをコントロールして排出液の
回収量を回収時間で制限する。
【００２３】例えば、処理装置１がレジスト現像装置、
濃度測定手段３１が光電比色計の場合、回収開始時点で
の溶解レジスト濃度が現像液の管理範囲（第一の管理範
囲）の上限を超えておれば、図４に示したように回収開
始から所定の短時間後（リンス液による希釈が始まる以
前）に管路切換え手段３３を作動させて回収を打切り、
回収量を減らす。回収量が減れば液濃度調整装置６にお
ける液の補給量が増えて、現像液の溶解レジスト濃度が
下がり、液性能の劣化が防止される。若しくは多量のリ
ンス液が回収されるように回収時間を長くとっても良
い。
濃度測定手段３１が光電比色計の場合、回収開始時点で
の溶解レジスト濃度が現像液の管理範囲（第一の管理範
囲）の上限を超えておれば、図４に示したように回収開
始から所定の短時間後（リンス液による希釈が始まる以
前）に管路切換え手段３３を作動させて回収を打切り、
回収量を減らす。回収量が減れば液濃度調整装置６にお
ける液の補給量が増えて、現像液の溶解レジスト濃度が
下がり、液性能の劣化が防止される。若しくは多量のリ
ンス液が回収されるように回収時間を長くとっても良
い。
【００２４】回収開始直後の溶解レジスト濃度がこの上
限値以下であれば管路切換え手段３３は作動せず、図５
に示したようにリンス液で希釈された後に管理範囲の下
限側で管路切換え手段３２が作動して回収が終了する。
限値以下であれば管路切換え手段３３は作動せず、図５
に示したようにリンス液で希釈された後に管理範囲の下
限側で管路切換え手段３２が作動して回収が終了する。
【００２５】濃度測定手段３１として導電率計と光電比
色計を併用し、アルカリ濃度の管理範囲の下限側で管路
切換え手段３２を作動させ、溶解レジスト濃度の管理範
囲の上限側でその測定値に応じたタイミングで管路切換
え手段３３を作動させる場合も、同様の効果が得られ
る。
色計を併用し、アルカリ濃度の管理範囲の下限側で管路
切換え手段３２を作動させ、溶解レジスト濃度の管理範
囲の上限側でその測定値に応じたタイミングで管路切換
え手段３３を作動させる場合も、同様の効果が得られ
る。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
薬液循環供給系における新液の補給量を減らすことが可
能となるとともに、薬液循環供給系の装置サイズを小型
化することが可能な薬液回収方法および薬液回収装置を
提供することが出来る。
薬液循環供給系における新液の補給量を減らすことが可
能となるとともに、薬液循環供給系の装置サイズを小型
化することが可能な薬液回収方法および薬液回収装置を
提供することが出来る。
【図１】 本発明の第一の実施形態を示す装置構成図で
ある。
ある。
【図２】 本発明の第一の実施形態を示すグラフ。
【図３】 本発明の第二の実施形態を示す装置構成図で
ある。
ある。
【図４】 本発明の第二の実施形態を示すグラフ（その
一）である。
一）である。
【図５】 本発明の第二の実施形態を示すグラフ（その
二）である。
二）である。
【図６】 従来の薬液循環供給装置の概略構成図であ
る。
る。
１ 処理装置 ２ 排出管路 ３，３Ａ 回収装置 ４ 廃棄管路（第二の廃棄管路） ５ 回収管路 ６ 液濃度調整装置 ７ 処理用薬液供給管路 ８ リンス液供給管路 ９ 廃棄管路（第一の廃棄管路） ３１ 濃度測定手段 ３２ 管路切換え手段（第二の管路切換え手段） ３３ 管路切換え手段（第一の管路切換え手段） ６１ 原液補給管路 ６２ 希釈液補給管路
Claims (6)
- 【請求項１】 処理用薬液とリンス液とを交互に使用す
る処理装置から排出される薬液を回収する方法であっ
て、 排出液の濃度を測定し、測定値が予め定めた管理範囲内
にある時は排出液を回収し、該管理範囲外の時は該排出
液を廃棄することを特徴とする薬液の回収方法。 - 【請求項２】 処理用薬液とリンス液とを交互に使用す
る処理装置から排出される薬液を回収する方法であっ
て、 排出液の濃度を測定し、該処理装置が該処理用薬液の使
用を開始した直後の排出液の測定値が予め定めた第一の
管理範囲外の場合は該排出液を予め定めた時間だけ回収
し、該測定値が該第一の管理範囲内にある場合は該排出
液の測定値が予め定めた第二の管理範囲内にある間、該
排出液の回収を継続することを特徴とする薬液の回収方
法。 - 【請求項３】 前記処理装置がレジスト現像装置であ
り、前記処理用薬液がレジスト現像液であることを特徴
とする請求項１又は２記載の薬液の回収方法。 - 【請求項４】 処理用薬液とリンス液とを交互に使用す
る処理装置から排出される薬液を回収する装置であっ
て、 排出液の濃度を測定する濃度測定手段と、該排出液を廃
棄管路と回収管路のいずれかに導く管路切換え手段とを
有し、 該濃度測定手段の測定値が予め定めた管理範囲内にある
時は該管路切換え手段が該排出液を回収管路に導き、該
管理範囲外の時は該管路切換え手段が該排出液を廃棄管
路に導くように構成したことを特徴とする薬液の回収装
置。 - 【請求項５】 処理用薬液とリンス液とを交互に使用す
る処理装置から排出される薬液を回収する装置であっ
て、 排出液の濃度を測定する液濃度測定手段と、該排出液を
廃棄管路と回収管路のいずれかに導く第二の管路切換え
手段と、第二の管路切換え手段より上流側に設けられて
該排出液を廃棄管路と該第二の管路切換え手段のいずれ
かに導く第一の管路切換え手段とを有し、 該処理装置が該処理用薬液を使用した直後の該液濃度測
定手段の測定値が予め定めた第一の管理範囲を超えた場
合は該第一の管路切換え手段が予め定めた時間だけ該排
出液を回収管路に導いたのち廃棄管路に切換え、該測定
値が該第一の管理範囲内にある場合は該処理装置が該リ
ンス液の使用を開始した後の測定値が予め定めた第二の
管理範囲を超えるまで該第一の管路切換え手段が該排出
液を回収管路に導くように構成したことを特徴とする薬
液の回収装置。 - 【請求項６】 前記処理装置がレジスト現像装置であ
り、前記処理用薬液がレジスト現像液であることを特徴
とする請求項４又は５記載の薬液の回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6076196A JPH09258457A (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 薬液の回収方法および回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6076196A JPH09258457A (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 薬液の回収方法および回収装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09258457A true JPH09258457A (ja) | 1997-10-03 |
Family
ID=13151592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6076196A Pending JPH09258457A (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 薬液の回収方法および回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09258457A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004170451A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-17 | Tokyo Electron Ltd | 現像方法及び現像装置 |
| WO2017135064A1 (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
1996
- 1996-03-18 JP JP6076196A patent/JPH09258457A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004170451A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-17 | Tokyo Electron Ltd | 現像方法及び現像装置 |
| WO2017135064A1 (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
| CN108604547A (zh) * | 2016-02-03 | 2018-09-28 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理装置和基板处理方法 |
| JPWO2017135064A1 (ja) * | 2016-02-03 | 2018-11-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
| TWI666700B (zh) * | 2016-02-03 | 2019-07-21 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板處理裝置及基板處理方法 |
| CN108604547B (zh) * | 2016-02-03 | 2022-08-16 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理装置和基板处理方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2561578B2 (ja) | 現像液管理装置 | |
| JP4456308B2 (ja) | 薬液供給装置 | |
| JP2005260238A (ja) | 近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法 | |
| JPH09258457A (ja) | 薬液の回収方法および回収装置 | |
| KR20130102184A (ko) | 포토레지스트를 포함한 현상액의 농도 산출 방법 및 농도 조절 장치 | |
| JP5553705B2 (ja) | 試薬調製装置 | |
| TW386900B (en) | Developer solution centrally managing device for processing patterns | |
| JP2659260B2 (ja) | 感光材料処理装置の加水方法 | |
| KR100602992B1 (ko) | 현상(現像)장치 | |
| JPH10143255A (ja) | 液管理装置 | |
| JPS62118346A (ja) | 写真処理廃液の処理方法及び処理装置 | |
| KR100281179B1 (ko) | 반도체장치 제조용 포토레지스트 공급장치 및 포토레지스트의공급방법 | |
| JP2865771B2 (ja) | 自動液管理装置 | |
| JPS61159999A (ja) | 洗濯機の制御方法 | |
| JPH0297024A (ja) | 半導体ウエハの薬液循環濾過装置 | |
| JPH06280054A (ja) | エッチング装置 | |
| JP2003131398A (ja) | アルカリ系加工液、加工液調整方法及び装置、並びに、加工液供給方法及び装置 | |
| JPH0225167Y2 (ja) | ||
| JP2000100684A (ja) | 基板処理方法およびその装置 | |
| US5150142A (en) | Device for replenishing fixing solution employed in automatic processor | |
| JPH07140671A (ja) | 基板現像装置 | |
| JPH0627683A (ja) | 非銀塩感光材料の処理方法及びそれに用いる装置 | |
| JPS62106463A (ja) | 写真現像機の廃液処理装置 | |
| JPH07245289A (ja) | 半導体ウエハ用ウエット処理装置 | |
| JPS62106461A (ja) | 写真現像機の廃液処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20040514 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20050712 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050713 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050722 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060419 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060425 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060622 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20060801 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |