JPH0225167Y2 - - Google Patents
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- JPH0225167Y2 JPH0225167Y2 JP4070582U JP4070582U JPH0225167Y2 JP H0225167 Y2 JPH0225167 Y2 JP H0225167Y2 JP 4070582 U JP4070582 U JP 4070582U JP 4070582 U JP4070582 U JP 4070582U JP H0225167 Y2 JPH0225167 Y2 JP H0225167Y2
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、オーバーフロー槽から間欠的に供給
される試料水と試薬槽から間欠的に供給される試
薬とを反応槽内で混合し、試料水中の測定対象成
分を測定するようにした例えば比色法や滴定法に
よる自動測定装置に関するものであり、その目的
は、測定中にオーバーフロー槽への試料水の供給
が断たれたとき、測定を停止すると共に、試料水
を利用して反応槽を洗浄することにより、測定を
再開したとき、直ちに、正確な濃度測定が行なえ
るようにした洗浄機構を有する自動測定装置を提
供することにある。
される試料水と試薬槽から間欠的に供給される試
薬とを反応槽内で混合し、試料水中の測定対象成
分を測定するようにした例えば比色法や滴定法に
よる自動測定装置に関するものであり、その目的
は、測定中にオーバーフロー槽への試料水の供給
が断たれたとき、測定を停止すると共に、試料水
を利用して反応槽を洗浄することにより、測定を
再開したとき、直ちに、正確な濃度測定が行なえ
るようにした洗浄機構を有する自動測定装置を提
供することにある。
例えば、火力発電所においては、ボイラ水のシ
リカ濃度がボイラ水の水質を監視する上での重要
な指針となつている。即ち、ボイラは、燃料を有
効に使用するために、電力消費の少ない週末に停
止し、週初めに起動するといつたように、電力の
需要に応じて起動及び停止が行なわれるものであ
り、起動時には、ボイラ水中のシリカ濃度を監視
し乍ら、各部の操作をコントロールしているので
ある。
リカ濃度がボイラ水の水質を監視する上での重要
な指針となつている。即ち、ボイラは、燃料を有
効に使用するために、電力消費の少ない週末に停
止し、週初めに起動するといつたように、電力の
需要に応じて起動及び停止が行なわれるものであ
り、起動時には、ボイラ水中のシリカ濃度を監視
し乍ら、各部の操作をコントロールしているので
ある。
このシリカ濃度の測定には、上記の自動測定装
置が用いられている。具体的に説明すると、試料
水としてボイラ水をオーバーフロー槽に供給して
一定の水頭圧に保ち、バツチ式の測定を行なう一
定の測定シーケンスに従つて、オーバーフロー槽
から供給されるボイラ水と３個の試薬槽から順次
供給される３種類の試薬（硫酸酸性モリブデン酸
アンモニウム、酒石酸、１−アミノ−２−ナフト
ール−４−スルフオン酸）を反応槽内で順次混合
し、酸性中でボイラ水中のイオン状シリカとモリ
ブデン酸アンモニウムとが反応して生成する黄色
のヘテロポリ化合物を、１−アミノ−２−ナフト
ール−４−スルフオン酸で還元して、モリブデン
酸青に変え、その吸光度を測定する所謂比色法に
よつてシリカ濃度を測定しているのである。
置が用いられている。具体的に説明すると、試料
水としてボイラ水をオーバーフロー槽に供給して
一定の水頭圧に保ち、バツチ式の測定を行なう一
定の測定シーケンスに従つて、オーバーフロー槽
から供給されるボイラ水と３個の試薬槽から順次
供給される３種類の試薬（硫酸酸性モリブデン酸
アンモニウム、酒石酸、１−アミノ−２−ナフト
ール−４−スルフオン酸）を反応槽内で順次混合
し、酸性中でボイラ水中のイオン状シリカとモリ
ブデン酸アンモニウムとが反応して生成する黄色
のヘテロポリ化合物を、１−アミノ−２−ナフト
ール−４−スルフオン酸で還元して、モリブデン
酸青に変え、その吸光度を測定する所謂比色法に
よつてシリカ濃度を測定しているのである。
しかし乍ら、従来の自動測定装置においては、
測定中にボイラが停止すると、試薬のみが反応槽
に入り、反応槽が試薬で汚れるという欠点があつ
た。即ち、従来の自動測定装置においても、１回
の測定が完了する都度、ボイラ水のみを反応槽に
流して、これらを洗浄し、次回の測定にそなえて
待機するシーケンス制御が行なわれているが、測
定シーケンスが進行している間に、ボイラが停止
した場合には、オーバーフロー槽に対するボイラ
水の供給が断たれるので、試薬のみが反応槽に供
給されることになるのである。
測定中にボイラが停止すると、試薬のみが反応槽
に入り、反応槽が試薬で汚れるという欠点があつ
た。即ち、従来の自動測定装置においても、１回
の測定が完了する都度、ボイラ水のみを反応槽に
流して、これらを洗浄し、次回の測定にそなえて
待機するシーケンス制御が行なわれているが、測
定シーケンスが進行している間に、ボイラが停止
した場合には、オーバーフロー槽に対するボイラ
水の供給が断たれるので、試薬のみが反応槽に供
給されることになるのである。
この従来欠点は、ボイラの停止、つまり、オー
バーフロー槽に対するボイラ水の供給が断たれた
ことを検知して、試薬供給ポンプを停止すべく構
成することによつてある程度解消できるが、十分
ではない。何故なら、ボイラ水の供給が断たれる
と、ボイラ水による洗浄が行なえないので、反応
槽が試薬の混入した測定排液で汚れた状態のまま
待機することになり、待機時間が長いと、測定排
液が乾燥して、試薬や反応生成物が反応槽に付着
してとれにくくなる。従つて、ボイラを再起動し
たとき、これらの付着物が洗い流されるまでの間
は、正しい測定値が得られないことになる。
バーフロー槽に対するボイラ水の供給が断たれた
ことを検知して、試薬供給ポンプを停止すべく構
成することによつてある程度解消できるが、十分
ではない。何故なら、ボイラ水の供給が断たれる
と、ボイラ水による洗浄が行なえないので、反応
槽が試薬の混入した測定排液で汚れた状態のまま
待機することになり、待機時間が長いと、測定排
液が乾燥して、試薬や反応生成物が反応槽に付着
してとれにくくなる。従つて、ボイラを再起動し
たとき、これらの付着物が洗い流されるまでの間
は、正しい測定値が得られないことになる。
本考案は、かかる問題を解決すべくなされたも
のであつて、オーバーフロー槽から反応槽への試
料水供給路中に排出流路を設けて、弁の切換えに
より試料水を反応槽装置外とに交互に流すように
構成すると共に、前記オーバーフロー槽の内部に
液面検出器を設けて、オーバーフロー槽に対する
試料水の供給が断たれたことを検知すべく構成す
る一方、前記オーバーフロー槽に供給された余剰
試料水の貯溜部を設け、前記液面検出器による検
知信号に基づいて測定を停止すると同時に前記貯
溜部内の試料水を反応槽に流して洗浄すべく構成
したことを特徴としている。
のであつて、オーバーフロー槽から反応槽への試
料水供給路中に排出流路を設けて、弁の切換えに
より試料水を反応槽装置外とに交互に流すように
構成すると共に、前記オーバーフロー槽の内部に
液面検出器を設けて、オーバーフロー槽に対する
試料水の供給が断たれたことを検知すべく構成す
る一方、前記オーバーフロー槽に供給された余剰
試料水の貯溜部を設け、前記液面検出器による検
知信号に基づいて測定を停止すると同時に前記貯
溜部内の試料水を反応槽に流して洗浄すべく構成
したことを特徴としている。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図は本考案に係る洗浄機構を有する自動測
定装置の一例を示す。図において、１は火力発電
所におけるボイラ、その他のプラント等より連続
的に送給される試料水のオーバーフロー槽、２
ａ，２ｂ，２ｃは試薬槽、３ａ，３ｂ，３ｃは試
薬供給ポンプである。４は試料水計量装置（図示
せず）と撹拌装置を備えた反応槽、５は光源とフ
オトマル等の検出器間に設置された比色セル、
Va，Vbは反応槽４や比色セル５に、試料水や試
料水と試薬の混合された測定液を導入、排出する
ための電磁開閉弁である。
定装置の一例を示す。図において、１は火力発電
所におけるボイラ、その他のプラント等より連続
的に送給される試料水のオーバーフロー槽、２
ａ，２ｂ，２ｃは試薬槽、３ａ，３ｂ，３ｃは試
薬供給ポンプである。４は試料水計量装置（図示
せず）と撹拌装置を備えた反応槽、５は光源とフ
オトマル等の検出器間に設置された比色セル、
Va，Vbは反応槽４や比色セル５に、試料水や試
料水と試薬の混合された測定液を導入、排出する
ための電磁開閉弁である。
オーバーフロー槽１から反応槽４への試料水供
給路６には、三方電磁弁V1及び排出流路１３が
介装され、この弁V1の切換えにより、試料水を
反応槽４と装置外とに交互に流すように構成して
ある。三方電磁弁V1から装置外へ排出される流
量は、反応槽４に向けて流す流量と等しく、ある
いは、少なくとも同程度に設定され、オーバーフ
ロー槽１に対する試料水の供給が正常に行なわれ
ている限り、三方電磁弁V1による流れ方向を、
反応槽４側、装置外のいずれに切換えても、オー
バーフロー槽１内の液面高さに影響を及ぼさない
ように構成してある。オーバーフロー槽１の内部
には、液面検出器７がその検出端をオーバーフロ
ーによつて保たれる液面よりも低く位置させた状
態に設けられており、オーバーフロー槽１に対す
る試料水の供給が断たれたことを検知するように
構成してある。
給路６には、三方電磁弁V1及び排出流路１３が
介装され、この弁V1の切換えにより、試料水を
反応槽４と装置外とに交互に流すように構成して
ある。三方電磁弁V1から装置外へ排出される流
量は、反応槽４に向けて流す流量と等しく、ある
いは、少なくとも同程度に設定され、オーバーフ
ロー槽１に対する試料水の供給が正常に行なわれ
ている限り、三方電磁弁V1による流れ方向を、
反応槽４側、装置外のいずれに切換えても、オー
バーフロー槽１内の液面高さに影響を及ぼさない
ように構成してある。オーバーフロー槽１の内部
には、液面検出器７がその検出端をオーバーフロ
ーによつて保たれる液面よりも低く位置させた状
態に設けられており、オーバーフロー槽１に対す
る試料水の供給が断たれたことを検知するように
構成してある。
また、オーバーフロー槽１に供給された余剰試
料水の貯溜部Ａの一例として、オーバーフロー槽
１からオーバーフローした試料水を貯溜する予備
タンク８が設けられている。予備タンク８には、
反応槽４や比色セル５の洗浄に必要な量の試料水
が貯溜され、必要量以上の試料水は予備タンク８
から装置外にオーバーフローされるように構成し
てある。予備タンク８と反応槽４とは、前記三方
電磁弁V1よりも下流側において、電磁弁V2が介
装された流路９で接続されている。
料水の貯溜部Ａの一例として、オーバーフロー槽
１からオーバーフローした試料水を貯溜する予備
タンク８が設けられている。予備タンク８には、
反応槽４や比色セル５の洗浄に必要な量の試料水
が貯溜され、必要量以上の試料水は予備タンク８
から装置外にオーバーフローされるように構成し
てある。予備タンク８と反応槽４とは、前記三方
電磁弁V1よりも下流側において、電磁弁V2が介
装された流路９で接続されている。
尚、図示の実施例では、流路９の下流端を、三
方電磁弁V1よりも下流側の試料水供給路６に接
してあり、この接続部に電磁弁V2を設けてある
ので、電磁弁V2として三方弁を用いているが、
接続部より上流側の流路９途中に設けたり、流路
９の下流端を直接反応槽４に接続する場合には、
電磁弁V2として、単なる開閉動作を行なう二方
弁を用いることになる。
方電磁弁V1よりも下流側の試料水供給路６に接
してあり、この接続部に電磁弁V2を設けてある
ので、電磁弁V2として三方弁を用いているが、
接続部より上流側の流路９途中に設けたり、流路
９の下流端を直接反応槽４に接続する場合には、
電磁弁V2として、単なる開閉動作を行なう二方
弁を用いることになる。
１０は、試薬供給ポンプ３ａ，３ｂ，３ｃ、電
磁開閉弁Va，Vb、三方電磁弁V1、電磁弁V2等
を制御するコントローラであり、一定のシーケン
スに従つて、測定及び測定後における洗浄を行な
うだけでなく、液面検出器７による検出信号に基
づいて測定を停止すると同時に反応槽４及び比色
セル５の測定液を排出し、その後前記電磁弁V2
を作動して予備タンク８内の試料水で反応槽４や
比色セル５を洗浄すべく構成してある。
磁開閉弁Va，Vb、三方電磁弁V1、電磁弁V2等
を制御するコントローラであり、一定のシーケン
スに従つて、測定及び測定後における洗浄を行な
うだけでなく、液面検出器７による検出信号に基
づいて測定を停止すると同時に反応槽４及び比色
セル５の測定液を排出し、その後前記電磁弁V2
を作動して予備タンク８内の試料水で反応槽４や
比色セル５を洗浄すべく構成してある。
次に、上記の構成よりなる自動測定装置の動作
を説明する。
を説明する。
(i) オーバーフロー槽１に試料水が供給されてい
る場合 試料水はオーバーフロー槽１をオーバーフロー
して予備タンク８に入り、予備タンク８から装置
外へとオーバーフローし、オーバーフロー槽１及
び予備タンク８には試料水が満たされている。オ
ーバーフロー槽１内の試料水は、オーバーフロー
槽１の底部から三方電磁弁V1及び電磁弁V2を経
て反応槽４に供給される。反応槽４に所定量の試
料水が供給された後、三方電磁弁V1が切換えら
れて、オーバーフロー槽１の底部から流下する試
料水を装置外に排出する一方、試薬供給ポンプ３
ａ，３ｂ，３ｃが順次作動して、試薬槽２ａ，２
ｂ，２ｃ内の試薬が順次所定量ずつ反応槽４に供
給され、反応槽４内で、試料水と試薬とが撹拌混
合される。試料水中の測定対象成分（例えば、シ
リカ）が発色反応した後、電磁開閉弁Vaが開き、
反応槽４内の測定液が比色セル５に導入され、吸
光度の測定（比色法による濃度測定）が行なわれ
る。
る場合 試料水はオーバーフロー槽１をオーバーフロー
して予備タンク８に入り、予備タンク８から装置
外へとオーバーフローし、オーバーフロー槽１及
び予備タンク８には試料水が満たされている。オ
ーバーフロー槽１内の試料水は、オーバーフロー
槽１の底部から三方電磁弁V1及び電磁弁V2を経
て反応槽４に供給される。反応槽４に所定量の試
料水が供給された後、三方電磁弁V1が切換えら
れて、オーバーフロー槽１の底部から流下する試
料水を装置外に排出する一方、試薬供給ポンプ３
ａ，３ｂ，３ｃが順次作動して、試薬槽２ａ，２
ｂ，２ｃ内の試薬が順次所定量ずつ反応槽４に供
給され、反応槽４内で、試料水と試薬とが撹拌混
合される。試料水中の測定対象成分（例えば、シ
リカ）が発色反応した後、電磁開閉弁Vaが開き、
反応槽４内の測定液が比色セル５に導入され、吸
光度の測定（比色法による濃度測定）が行なわれ
る。
測定完了後、電磁開閉弁Va，Vbが開き、反応
槽４や比色セル５内の測定排液が装置外に排出さ
れると共に、オーバーフロー槽１の底部から流下
する試料水が、測定時と同じ順序で反応槽４及び
比色セル５に導入され、これらを洗浄した後、装
置外に排出される。
槽４や比色セル５内の測定排液が装置外に排出さ
れると共に、オーバーフロー槽１の底部から流下
する試料水が、測定時と同じ順序で反応槽４及び
比色セル５に導入され、これらを洗浄した後、装
置外に排出される。
(ii) オーバーフロー槽１に対する試料水の供給が
断たれた場合 試料水の供給が断たれているので、オーバーフ
ロー槽１内の試料水が反応槽４に供給されるか、
三方電磁弁V1を経て装置外に排出されることに
より、オーバーフロー槽１内の液面が下降し、液
面検出器７がこれを検知する。この検知信号によ
り、測定が停止されると同時に電磁弁V2が作動
するので、予備タンク８に貯溜されていた試料水
が反応槽４及び比色セル５に導入され、これらの
洗浄が行なわれる。
断たれた場合 試料水の供給が断たれているので、オーバーフ
ロー槽１内の試料水が反応槽４に供給されるか、
三方電磁弁V1を経て装置外に排出されることに
より、オーバーフロー槽１内の液面が下降し、液
面検出器７がこれを検知する。この検知信号によ
り、測定が停止されると同時に電磁弁V2が作動
するので、予備タンク８に貯溜されていた試料水
が反応槽４及び比色セル５に導入され、これらの
洗浄が行なわれる。
尚、図示の実施例では、比色セル５が反応槽４
と別個に設けられているが、反応槽４に比色セル
５を組込んで両者４，５を一体物にした場合につ
いても、本考案は同様に実施できる。また、予備
タンク８は、オーバーフロー槽１の内部を堰板で
区画して形成したものでもよい。
と別個に設けられているが、反応槽４に比色セル
５を組込んで両者４，５を一体物にした場合につ
いても、本考案は同様に実施できる。また、予備
タンク８は、オーバーフロー槽１の内部を堰板で
区画して形成したものでもよい。
第２図は別の実施例を示す。この実施例は、オ
ーバーフロー槽１に対する試料水供給口１１及び
オーバーフロー槽１からの試料水出口（試料水供
給路６の上端開口）１２を、オーバーフロー槽１
の底面から適当な高さに開口し、オーバーフロー
槽１内に、余剰試料水（反応槽４や比色セル５を
洗浄するための試料水）の貯溜部Ａを形成した点
に特徴がある。
ーバーフロー槽１に対する試料水供給口１１及び
オーバーフロー槽１からの試料水出口（試料水供
給路６の上端開口）１２を、オーバーフロー槽１
の底面から適当な高さに開口し、オーバーフロー
槽１内に、余剰試料水（反応槽４や比色セル５を
洗浄するための試料水）の貯溜部Ａを形成した点
に特徴がある。
図示しないが、オーバーフロー槽１の容積を大
きくし、かつ、液面検出器７の検出端を、オーバ
ーフロー槽１の底面から十分に高い位置に設け
て、液面検出器７が、オーバーフロー槽１に対す
る試料水の供給が断たれたことを検知した時点
で、オーバーフロー槽１の内部に、反応槽４や比
色セル５の洗浄に必要な量以上の試料水が残存す
るように構成し、液面検出器７による検知信号に
基づいて測定を停止し、反応槽４及び比色セル５
内の測定液が排出され、次に三方電磁弁V2を動
作させ、オーバーフロー槽１に残存した試料水で
反応槽４や比色セル５を洗浄するように構成する
ことも可能である。この場合には、オーバーフロ
ー槽１内を堰板で区画したり、前記試料水供給口
１１や試料水出口１２をオーバーフロー槽１の底
面から立上がらせることにより、オーバーフロー
槽１内に余剰試料水の貯溜部Ａを形成することが
できる。
きくし、かつ、液面検出器７の検出端を、オーバ
ーフロー槽１の底面から十分に高い位置に設け
て、液面検出器７が、オーバーフロー槽１に対す
る試料水の供給が断たれたことを検知した時点
で、オーバーフロー槽１の内部に、反応槽４や比
色セル５の洗浄に必要な量以上の試料水が残存す
るように構成し、液面検出器７による検知信号に
基づいて測定を停止し、反応槽４及び比色セル５
内の測定液が排出され、次に三方電磁弁V2を動
作させ、オーバーフロー槽１に残存した試料水で
反応槽４や比色セル５を洗浄するように構成する
ことも可能である。この場合には、オーバーフロ
ー槽１内を堰板で区画したり、前記試料水供給口
１１や試料水出口１２をオーバーフロー槽１の底
面から立上がらせることにより、オーバーフロー
槽１内に余剰試料水の貯溜部Ａを形成することが
できる。
以上のように、本考案によれば、オーバーフロ
ー槽に供給された余剰試料水の貯溜部を設け、オ
ーバーフロー槽内に設けた液面検出器によつて、
オーバーフロー槽に対する試料水の供給が断たれ
たことを検知し、測定を停止させると同時に貯溜
された試料水を反応槽及び比色セルに流して洗浄
するので、試料水の供給が断たれても、試薬のみ
が反応槽に流れ込むといつた不都合を解消できる
のみならず、反応槽が洗浄された状態で待機する
ため、測定を再開したとき、直ちに正確な測定値
を示すという効果がある。
ー槽に供給された余剰試料水の貯溜部を設け、オ
ーバーフロー槽内に設けた液面検出器によつて、
オーバーフロー槽に対する試料水の供給が断たれ
たことを検知し、測定を停止させると同時に貯溜
された試料水を反応槽及び比色セルに流して洗浄
するので、試料水の供給が断たれても、試薬のみ
が反応槽に流れ込むといつた不都合を解消できる
のみならず、反応槽が洗浄された状態で待機する
ため、測定を再開したとき、直ちに正確な測定値
を示すという効果がある。
第１図は本考案に係る洗浄機構を有する自動測
定装置の実施態様を例示する構成図、第２図は別
の実施例を示す要部の構成図である。 １……オーバーフロー槽、２ａ，２ｂ，２ｃ…
…試薬槽、４……反応槽、６……試料水供給路、
７……液面検出器、V1……三方電磁弁、Ａ……
貯溜部。
定装置の実施態様を例示する構成図、第２図は別
の実施例を示す要部の構成図である。 １……オーバーフロー槽、２ａ，２ｂ，２ｃ…
…試薬槽、４……反応槽、６……試料水供給路、
７……液面検出器、V1……三方電磁弁、Ａ……
貯溜部。
Claims (1)
- オーバーフロー槽から間欠的に供給される試料
水と試薬槽から間欠的に供給される試薬とを反応
槽内で混合し、試料水中の測定対象成分を測定す
る自動測定装置において、オーバーフロー槽から
反応槽への試料水供給路中に排出流路を設けて、
弁の切換えにより試料水を反応槽と装置外とに交
互に流すように構成すると共に、前記オーバーフ
ロー槽の内部に液面検出器を設けて、オーバーフ
ロー槽に対する試料水の供給が断たれたことを検
知すべく構成する一方、前記オーバーフロー槽に
供給された余剰試料水の貯溜部を設け、前記液面
検出器による検知信号に基づいて測定を停止する
と同時に前記貯溜部内の試料水を反応槽に流して
洗浄すべく構成したことを特徴とする洗浄機構を
有する自動測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4070582U JPS58144264U (ja) | 1982-03-20 | 1982-03-20 | 洗浄機構を有する自動測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4070582U JPS58144264U (ja) | 1982-03-20 | 1982-03-20 | 洗浄機構を有する自動測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58144264U JPS58144264U (ja) | 1983-09-28 |
| JPH0225167Y2 true JPH0225167Y2 (ja) | 1990-07-11 |
Family
ID=30051914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4070582U Granted JPS58144264U (ja) | 1982-03-20 | 1982-03-20 | 洗浄機構を有する自動測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58144264U (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0747719Y2 (ja) * | 1989-06-29 | 1995-11-01 | 岩井機械工業株式会社 | ペーハー測定装置を備えた調合槽 |
| JP2009236619A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Tokyo Metropolis | クロラミン類含有量の測定装置 |
-
1982
- 1982-03-20 JP JP4070582U patent/JPS58144264U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58144264U (ja) | 1983-09-28 |
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