JPH06280054A - エッチング装置 - Google Patents
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- JPH06280054A JPH06280054A JP6690593A JP6690593A JPH06280054A JP H06280054 A JPH06280054 A JP H06280054A JP 6690593 A JP6690593 A JP 6690593A JP 6690593 A JP6690593 A JP 6690593A JP H06280054 A JPH06280054 A JP H06280054A
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- etching liquid
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 エッチング液循環式のエッチング装置におい
て、エッチング処理槽２内に、エッチング液１の濃度を
検出する濃度センサＳを設ける。濃度センサＳにて検出
された濃度は電気信号に変換され、制御手段１５に入力
され、制御手段１５は、この信号に基づいてエッチング
液１が使用可能か否かを判断し、使用不可と判断した場
合は、エッチング処理槽２内へワークを投入する搬送手
段４を停止させる。 【効果】 エッチング液１の劣化状態を、正確に検知で
きるので、タイミング良く液交換が行え、エッチング液
１の無駄がなくなると共に、パターン形成の安定性、及
び形成精度の向上が図れる。
て、エッチング処理槽２内に、エッチング液１の濃度を
検出する濃度センサＳを設ける。濃度センサＳにて検出
された濃度は電気信号に変換され、制御手段１５に入力
され、制御手段１５は、この信号に基づいてエッチング
液１が使用可能か否かを判断し、使用不可と判断した場
合は、エッチング処理槽２内へワークを投入する搬送手
段４を停止させる。 【効果】 エッチング液１の劣化状態を、正確に検知で
きるので、タイミング良く液交換が行え、エッチング液
１の無駄がなくなると共に、パターン形成の安定性、及
び形成精度の向上が図れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶ディスプレ
イや、ＩＣ、ＬＳＩ等の製造プロセスで用いられるフォ
トリソグラフィー工程において使用されるエッチング装
置に関するものである。
イや、ＩＣ、ＬＳＩ等の製造プロセスで用いられるフォ
トリソグラフィー工程において使用されるエッチング装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、上記のようなフォトリソグラ
フィー工程における回路パターン形成精度は、得られる
液晶ディスプレイなどのデバイスの特性に大きく影響す
ることが知られており、そのため、回路パターン形成精
度の高精度化が強く望まれている。
フィー工程における回路パターン形成精度は、得られる
液晶ディスプレイなどのデバイスの特性に大きく影響す
ることが知られており、そのため、回路パターン形成精
度の高精度化が強く望まれている。
【０００３】上記のような回路パターン形成において使
用される機器として、エッチング装置があり、今日にお
いては、経済的なエッチング液循環式のものが広く使用
されている。
用される機器として、エッチング装置があり、今日にお
いては、経済的なエッチング液循環式のものが広く使用
されている。
【０００４】このようなエッチング液循環式のエッチン
グ装置は、図３に示すように、フォトレジストが塗布さ
れ、回路パターンが現像されたワーク（基板）３０表面
に、回路パターンを形成すべくエッチング処理を施す弗
酸緩衝液などのエッチング液２１を貯溜し、ワーク３０
がカセット２３等に収容された状態で投入されるエッチ
ング処理槽２２を備えている。このエッチング処理槽２
２には、エッチング液貯溜槽２５からの新しいエッチン
グ液２１を供給する給液バルブ２４と、排液用の排液バ
ルブ２６・２６とが設けられている。
グ装置は、図３に示すように、フォトレジストが塗布さ
れ、回路パターンが現像されたワーク（基板）３０表面
に、回路パターンを形成すべくエッチング処理を施す弗
酸緩衝液などのエッチング液２１を貯溜し、ワーク３０
がカセット２３等に収容された状態で投入されるエッチ
ング処理槽２２を備えている。このエッチング処理槽２
２には、エッチング液貯溜槽２５からの新しいエッチン
グ液２１を供給する給液バルブ２４と、排液用の排液バ
ルブ２６・２６とが設けられている。
【０００５】また、このエッチング処理槽２２の上部に
は、エッチング処理槽２２から溢れ出たエッチング液２
１を回収するオーバーフロー槽２７が設けられており、
このオーバーフロー槽２７には、排液バルブ２６と共
に、オーバーフロー槽２７内のエッチング液２１を、フ
ィルタ２９を通して再びエッチング処理槽２２内に戻す
ポンプ２８が設けられている。これにより、エッチング
液２１は、循環して利用されるようになっている。
は、エッチング処理槽２２から溢れ出たエッチング液２
１を回収するオーバーフロー槽２７が設けられており、
このオーバーフロー槽２７には、排液バルブ２６と共
に、オーバーフロー槽２７内のエッチング液２１を、フ
ィルタ２９を通して再びエッチング処理槽２２内に戻す
ポンプ２８が設けられている。これにより、エッチング
液２１は、循環して利用されるようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
エッチング装置においては、エッチング液２１の液交換
を良いタイミングで行うことが難しく、そのため、まだ
処理可能な状態のエッチング液２１を無駄に棄てること
による経済上の問題と、高精度のデバイスを安定して製
造するために、できるだけ小さくしなければならない現
像仕上げ線幅とエッチング仕上げ線幅との差を小さくす
ることができないという精度上の問題とを有している。
エッチング装置においては、エッチング液２１の液交換
を良いタイミングで行うことが難しく、そのため、まだ
処理可能な状態のエッチング液２１を無駄に棄てること
による経済上の問題と、高精度のデバイスを安定して製
造するために、できるだけ小さくしなければならない現
像仕上げ線幅とエッチング仕上げ線幅との差を小さくす
ることができないという精度上の問題とを有している。
【０００７】即ち、上記のエッチング装置においては、
エッチング液２１の利用限界を、処理したバッチ数等に
基づいて経験的に推定し、これに基づいてエッチング液
２１の液交換を行っている。ところが、エッチング液の
劣化は、使用状況によって大きく異なり、処理したバッ
チ数に必ずしも依存するものとは言えない。そのため、
上記したようなエッチング液２１の無駄や、現像仕上げ
線幅とエッチング仕上げ線幅との差を小さくできない等
の不具合を生じることとなる。
エッチング液２１の利用限界を、処理したバッチ数等に
基づいて経験的に推定し、これに基づいてエッチング液
２１の液交換を行っている。ところが、エッチング液の
劣化は、使用状況によって大きく異なり、処理したバッ
チ数に必ずしも依存するものとは言えない。そのため、
上記したようなエッチング液２１の無駄や、現像仕上げ
線幅とエッチング仕上げ線幅との差を小さくできない等
の不具合を生じることとなる。
【０００８】本発明は、上記課題に鑑みなされたもの
で、経済的で、製造コストの削減が可能であると共に、
パターン形成の安定性、及び形成精度の向上が可能なエ
ッチング装置を提供することを目的としている。
で、経済的で、製造コストの削減が可能であると共に、
パターン形成の安定性、及び形成精度の向上が可能なエ
ッチング装置を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
エッチング装置は、上記目的を達成するために、フォト
レジストが塗布され、パターンが現像された基板に対し
てエッチング液を用いてエッチング処理を施し、基板上
にパターンを形成させるエッチング装置において、エッ
チング液の濃度を検出する濃度検出手段が設けられてい
ることを特徴としている。
エッチング装置は、上記目的を達成するために、フォト
レジストが塗布され、パターンが現像された基板に対し
てエッチング液を用いてエッチング処理を施し、基板上
にパターンを形成させるエッチング装置において、エッ
チング液の濃度を検出する濃度検出手段が設けられてい
ることを特徴としている。
【００１０】また、請求項２記載のエッチング装置は、
上記目的を達成するために、上記請求項１記載のエッチ
ング装置において、濃度検出手段が、エッチング液の吸
光度に基づいて濃度検出を行うことを特徴としている。
上記目的を達成するために、上記請求項１記載のエッチ
ング装置において、濃度検出手段が、エッチング液の吸
光度に基づいて濃度検出を行うことを特徴としている。
【００１１】
【作用】上記の請求項１の構成によれば、エッチング液
の濃度を測定する濃度検出手段、例えば、請求項２の構
成によれば、エッチング液の吸光度に基づいて濃度検出
を行う濃度検出手段が設けられているので、エッチング
液の濃度が正確に検出され、この濃度検出手段の測定結
果に基づいて、エッチング液の交換を行うことにより、
エッチング液を利用限界直前まで効率良く使用すること
ができる。これにより、エッチング液の無駄をなくし、
製造コストを削減させることができる。
の濃度を測定する濃度検出手段、例えば、請求項２の構
成によれば、エッチング液の吸光度に基づいて濃度検出
を行う濃度検出手段が設けられているので、エッチング
液の濃度が正確に検出され、この濃度検出手段の測定結
果に基づいて、エッチング液の交換を行うことにより、
エッチング液を利用限界直前まで効率良く使用すること
ができる。これにより、エッチング液の無駄をなくし、
製造コストを削減させることができる。
【００１２】また、同時に、エッチング液の交換がタイ
ミング良く成されるため、エッチング液の濃度の管理不
足によるエッチング不良の発生を防ぐことができ、パタ
ーン形成の安定性、及び形成精度の向上が図れる。
ミング良く成されるため、エッチング液の濃度の管理不
足によるエッチング不良の発生を防ぐことができ、パタ
ーン形成の安定性、及び形成精度の向上が図れる。
【００１３】
【実施例】本発明の一実施例について図１に基づいて説
明すれば、以下の通りである。本実施例のエッチング装
置は、図に示すように、レジストが塗布されて回路パタ
ーン様に現像されたワーク（基板）１６に対して、回路
パターンを形成すべくエッチングするエッチング液１を
貯溜したエッチング処理槽２を備えている。
明すれば、以下の通りである。本実施例のエッチング装
置は、図に示すように、レジストが塗布されて回路パタ
ーン様に現像されたワーク（基板）１６に対して、回路
パターンを形成すべくエッチングするエッチング液１を
貯溜したエッチング処理槽２を備えている。
【００１４】このエッチング処理槽２は、ワーク１６を
カセット３等に収容された状態で浸漬して処理するよう
になっており、このようなエッチング処理槽２へのワー
ク１６の搬入は、具体的には搬送ロボットである搬送手
段４にて成されている。投入側搬送ロボットは、図示し
ないローダー部からワーク１６をカセット３ごと搬送し
てエッチング処理槽２内へ投入し、処理終了後、引き上
げ側搬送ロボットが、回路パターンが形成されたワーク
１６を、次の図示しない水洗槽へと搬送するようになっ
ている。但し、１台で投入及び引き上げの両方の動作を
行う搬送ロボットを用いてもよい。
カセット３等に収容された状態で浸漬して処理するよう
になっており、このようなエッチング処理槽２へのワー
ク１６の搬入は、具体的には搬送ロボットである搬送手
段４にて成されている。投入側搬送ロボットは、図示し
ないローダー部からワーク１６をカセット３ごと搬送し
てエッチング処理槽２内へ投入し、処理終了後、引き上
げ側搬送ロボットが、回路パターンが形成されたワーク
１６を、次の図示しない水洗槽へと搬送するようになっ
ている。但し、１台で投入及び引き上げの両方の動作を
行う搬送ロボットを用いてもよい。
【００１５】上記エッチング液１としては、成膜材料に
応じて種々の薬剤、例えば弗硝酸、弗酸緩衝液等が使用
され、本実施例においては、弗硝酸が用いられている。
応じて種々の薬剤、例えば弗硝酸、弗酸緩衝液等が使用
され、本実施例においては、弗硝酸が用いられている。
【００１６】上記エッチング処理槽２の上面には、他端
側が、新しいエッチング液１を貯溜したエッチング液貯
溜槽５に接続された連通管６が配設されており、この連
通管６には、必要に応じて開閉される給液バルブ７が設
けられている。
側が、新しいエッチング液１を貯溜したエッチング液貯
溜槽５に接続された連通管６が配設されており、この連
通管６には、必要に応じて開閉される給液バルブ７が設
けられている。
【００１７】一方、エッチング処理槽２の底面には、途
中二股に分岐され、分岐路の一方が図示しない廃液用タ
ンクに接続された連通管８・９が配設されており、これ
ら廃液用タンクに至る分岐路には、必要に応じて開閉さ
れる排液バルブ１０がそれぞれ設けられている。これら
連通路８・９における他方側の分岐路は、エッチング処
理槽２の上面に接続されており、これらエッチング処理
槽２に至る分岐路には、連通路８・９を通って流れるエ
ッチング液１を、流路前方に備えたフィルタ１１にて濾
過した後、再びエッチング処理槽２内へ送り込むこと
で、エッチング処理槽２内のエッチング液１の循環利用
を図るポンプ１２がそれぞれ設けられている。
中二股に分岐され、分岐路の一方が図示しない廃液用タ
ンクに接続された連通管８・９が配設されており、これ
ら廃液用タンクに至る分岐路には、必要に応じて開閉さ
れる排液バルブ１０がそれぞれ設けられている。これら
連通路８・９における他方側の分岐路は、エッチング処
理槽２の上面に接続されており、これらエッチング処理
槽２に至る分岐路には、連通路８・９を通って流れるエ
ッチング液１を、流路前方に備えたフィルタ１１にて濾
過した後、再びエッチング処理槽２内へ送り込むこと
で、エッチング処理槽２内のエッチング液１の循環利用
を図るポンプ１２がそれぞれ設けられている。
【００１８】また、エッチング処理槽２の上部には、処
理槽２から溢れ出たエッチング液１を貯溜するオーバー
フロー槽１４が設けられている。このオーバーフロー槽
１４の底面にも、一方側の分岐路に排液バルブ１０を備
えた連通管１３が配設されており、他方側の分岐路は、
上記と同様に、ポンプ１２及びフィルタ１１を介して、
エッチング処理槽２の上面に接続されている。
理槽２から溢れ出たエッチング液１を貯溜するオーバー
フロー槽１４が設けられている。このオーバーフロー槽
１４の底面にも、一方側の分岐路に排液バルブ１０を備
えた連通管１３が配設されており、他方側の分岐路は、
上記と同様に、ポンプ１２及びフィルタ１１を介して、
エッチング処理槽２の上面に接続されている。
【００１９】さらに、上記エッチング処理槽２内には、
エッチング液１の濃度を検出する濃度検出手段である濃
度センサＳが取り付けられており、本実施例の濃度セン
サＳは、エッチング液１の吸光度を測定し、得られた吸
光度に基づいてエッチング液１の濃度を検出するように
なっている。
エッチング液１の濃度を検出する濃度検出手段である濃
度センサＳが取り付けられており、本実施例の濃度セン
サＳは、エッチング液１の吸光度を測定し、得られた吸
光度に基づいてエッチング液１の濃度を検出するように
なっている。
【００２０】また、本エッチング装置には、装置各部を
制御するＣＰＵ等を備えたコンピュータからなる制御手
段１５が設けられており、この制御手段１５に、上記濃
度センサＳにて測定された濃度が、電気信号に変換され
て入力されるようになっている。この制御手段１５の記
憶部には、予め、エッチング処理不可能状態のエッチン
グ液１の濃度値が入力されており、濃度センサＳからの
信号が、この値を越えた値であれば、即刻、搬送手段４
の投入側搬送ロボットを停止させ、エッチング処理槽２
へのワーク１６の搬入を停止させるようになっている。
制御するＣＰＵ等を備えたコンピュータからなる制御手
段１５が設けられており、この制御手段１５に、上記濃
度センサＳにて測定された濃度が、電気信号に変換され
て入力されるようになっている。この制御手段１５の記
憶部には、予め、エッチング処理不可能状態のエッチン
グ液１の濃度値が入力されており、濃度センサＳからの
信号が、この値を越えた値であれば、即刻、搬送手段４
の投入側搬送ロボットを停止させ、エッチング処理槽２
へのワーク１６の搬入を停止させるようになっている。
【００２１】ここで、上記エッチング装置における処理
動作を説明する。
動作を説明する。
【００２２】作業者にて、図示しない開始スイッチがＯ
Ｎされると、投入側搬送ロボットがローダ部からカセッ
ト３に収容されたワーク１６をエッチング処理槽２へと
搬送し、内部へ投入する。エッチング処理槽２内のエッ
チング液１に浸漬されたワーク１６は、エッチング液１
にてエッチングされ、所定の回路パターンを形成され
る。この間、連通管８・９に設けられたポンプ１２が、
エッチング処理槽２内のエッチング液１を、フィルタ１
１にて濾過しながら循環させる。また、ワーク１６の投
入にて、エッチング処理槽２から溢れ出たエッチング液
１も、オーバーフロー槽１４に配設された連通管１３を
介して、エッチング処理槽２内へ戻され、循環利用され
る。
Ｎされると、投入側搬送ロボットがローダ部からカセッ
ト３に収容されたワーク１６をエッチング処理槽２へと
搬送し、内部へ投入する。エッチング処理槽２内のエッ
チング液１に浸漬されたワーク１６は、エッチング液１
にてエッチングされ、所定の回路パターンを形成され
る。この間、連通管８・９に設けられたポンプ１２が、
エッチング処理槽２内のエッチング液１を、フィルタ１
１にて濾過しながら循環させる。また、ワーク１６の投
入にて、エッチング処理槽２から溢れ出たエッチング液
１も、オーバーフロー槽１４に配設された連通管１３を
介して、エッチング処理槽２内へ戻され、循環利用され
る。
【００２３】ワーク１６のエッチング処理が終了したな
らば、引き上げ側搬送ロボットが、エッチング処理槽２
から処理済のワーク１６をカセット３ごと引き上げ、次
の水洗槽へと搬送する。同時に、投入側の搬送ロボット
が、次に処理すべきワーク１６を、ローダ部からエッチ
ング処理槽２へと搬送する。処理済のワーク１６が引き
上げられてから、未処理のワーク１６が投入されるまで
の間、各ポンプ１２が一旦停止し、エッチング液１の循
環が停止する。そして、濃度センサＳが、エッチング処
理槽２内のエッチング液１の濃度を検出し、検出結果を
電気信号に変換して制御手段１５へ出力する。
らば、引き上げ側搬送ロボットが、エッチング処理槽２
から処理済のワーク１６をカセット３ごと引き上げ、次
の水洗槽へと搬送する。同時に、投入側の搬送ロボット
が、次に処理すべきワーク１６を、ローダ部からエッチ
ング処理槽２へと搬送する。処理済のワーク１６が引き
上げられてから、未処理のワーク１６が投入されるまで
の間、各ポンプ１２が一旦停止し、エッチング液１の循
環が停止する。そして、濃度センサＳが、エッチング処
理槽２内のエッチング液１の濃度を検出し、検出結果を
電気信号に変換して制御手段１５へ出力する。
【００２４】信号が入力されると、制御手段１５が、こ
の入力信号に基づいてエッチング液１が処理可能か否か
を判断する。制御手段１５にて、処理可能と判断された
場合、そのまま投入側搬送ロボットが未処理の次のワー
ク１６を搬送し、エッチング処理槽２内へ投入する。一
方、制御手段１５にて処理不能と判断された場合、投入
側搬送ロボットが停止する。
の入力信号に基づいてエッチング液１が処理可能か否か
を判断する。制御手段１５にて、処理可能と判断された
場合、そのまま投入側搬送ロボットが未処理の次のワー
ク１６を搬送し、エッチング処理槽２内へ投入する。一
方、制御手段１５にて処理不能と判断された場合、投入
側搬送ロボットが停止する。
【００２５】投入側搬送ロボットが停止し、エッチング
液の要交換を知った作業者は、マニュアルにて、エッチ
ング液１の液交換を行う。具体的には、各排液バルブ１
０を開栓し、エッチング処理槽２内の劣化したエッチン
グ液１を排出した後、排液バルブ１０を閉栓し、次い
で、給液バルブ７を開栓して新しいエッチング液１をエ
ッチング液貯溜槽５からエッチング処理槽２内へ供給さ
せる。
液の要交換を知った作業者は、マニュアルにて、エッチ
ング液１の液交換を行う。具体的には、各排液バルブ１
０を開栓し、エッチング処理槽２内の劣化したエッチン
グ液１を排出した後、排液バルブ１０を閉栓し、次い
で、給液バルブ７を開栓して新しいエッチング液１をエ
ッチング液貯溜槽５からエッチング処理槽２内へ供給さ
せる。
【００２６】液交換が終了したならば、作業者が再び開
始スイッチをＯＮする。これにより、投入側搬送ロボッ
トが未処理のワーク１６の搬送を再開し、エッチング処
理槽２内に投入する。以下、同様の動作が繰り返され
る。
始スイッチをＯＮする。これにより、投入側搬送ロボッ
トが未処理のワーク１６の搬送を再開し、エッチング処
理槽２内に投入する。以下、同様の動作が繰り返され
る。
【００２７】以上のように、本実施例のエッチング装置
においては、エッチング処理槽２内に、エッチング液１
の濃度を検出する濃度センサＳが備えられており、制御
手段１５が、この濃度センサＳの検出結果に基づいて、
エッチング処理槽２内のエッチング液１の劣化状態を検
知し、劣化が激しくエッチング処理不能と判断した場
合、投入側搬送ロボットを停止させ、作業者は、投入側
搬送ロボットが停止した時点で、エッチング処理槽２内
のエッチング液１の交換を行うようになっている。
においては、エッチング処理槽２内に、エッチング液１
の濃度を検出する濃度センサＳが備えられており、制御
手段１５が、この濃度センサＳの検出結果に基づいて、
エッチング処理槽２内のエッチング液１の劣化状態を検
知し、劣化が激しくエッチング処理不能と判断した場
合、投入側搬送ロボットを停止させ、作業者は、投入側
搬送ロボットが停止した時点で、エッチング処理槽２内
のエッチング液１の交換を行うようになっている。
【００２８】これにより、エッチング液１の液交換がタ
イミング良く行えるようになり、エッチング液１を利用
限界直前まで効率良く使用することができる。この結
果、エッチング液１が無駄に廃棄されず、製造コストが
削減される。
イミング良く行えるようになり、エッチング液１を利用
限界直前まで効率良く使用することができる。この結
果、エッチング液１が無駄に廃棄されず、製造コストが
削減される。
【００２９】同時に、エッチング液１の利用限界を、正
確に把握することができるので、現像仕上げ線幅とエッ
チング仕上げ線幅との差を小さくすることが可能とな
り、エッチング液１の濃度の管理不足によるエッチング
不良の発生を防いで、パターン形成の安定性、及び形成
精度の向上が図れる。
確に把握することができるので、現像仕上げ線幅とエッ
チング仕上げ線幅との差を小さくすることが可能とな
り、エッチング液１の濃度の管理不足によるエッチング
不良の発生を防いで、パターン形成の安定性、及び形成
精度の向上が図れる。
【００３０】尚、上記実施例においては、濃度センサＳ
をエッチング処理槽２内に取り付けたが、取り付け箇所
をフィルタ１１の流路前方とすることにより、濃度セン
サＳのメンテナンス性を向上させることができる。
をエッチング処理槽２内に取り付けたが、取り付け箇所
をフィルタ１１の流路前方とすることにより、濃度セン
サＳのメンテナンス性を向上させることができる。
【００３１】また、上記実施例においては、エッチング
処理槽２の液交換作業を、マニュアルにて行うようにな
っていたが、作業者の負担を軽減するために、図２に示
すように、制御手段１５’に、投入側の搬送ロボットの
停止と共に、各排液バルブ１０及び給液バルブ７の開栓
／閉栓も制御させ、液交換を自動化にした構成としても
よい。
処理槽２の液交換作業を、マニュアルにて行うようにな
っていたが、作業者の負担を軽減するために、図２に示
すように、制御手段１５’に、投入側の搬送ロボットの
停止と共に、各排液バルブ１０及び給液バルブ７の開栓
／閉栓も制御させ、液交換を自動化にした構成としても
よい。
【００３２】その場合、例えば、図に示すように、濃度
センサＳを３ヵ所に設置し、２ヵ所以上の濃度センサＳ
から濃度異常の信号が入力された際に、投入側の搬送ロ
ボットを停止させ、エッチング液１の液交換を行うよう
にすることにより、濃度センサＳの異常時に液交換が行
われて使用可能なエッチング液１が無駄になるという事
態を回避することができる。
センサＳを３ヵ所に設置し、２ヵ所以上の濃度センサＳ
から濃度異常の信号が入力された際に、投入側の搬送ロ
ボットを停止させ、エッチング液１の液交換を行うよう
にすることにより、濃度センサＳの異常時に液交換が行
われて使用可能なエッチング液１が無駄になるという事
態を回避することができる。
【００３３】
【発明の効果】本発明の請求項１記載のエッチング装置
は、以上のように、エッチング液の濃度を検出する濃度
検出手段が設けられている構成である。
は、以上のように、エッチング液の濃度を検出する濃度
検出手段が設けられている構成である。
【００３４】また、請求項２記載のエッチング装置は、
以上のように、上記請求項１記載のエッチング装置にお
いて、濃度検出手段が、エッチング液の吸光度に基づい
て濃度検出を行う構成である。
以上のように、上記請求項１記載のエッチング装置にお
いて、濃度検出手段が、エッチング液の吸光度に基づい
て濃度検出を行う構成である。
【００３５】それゆえ、エッチング液の濃度が正確に検
出され、この濃度検出手段の測定結果に基づいて、エッ
チング液の交換を行うことにより、エッチング液を利用
限界直前まで効率良く使用することができる。これによ
り、エッチング液の無駄をなくし、製造コストを削減さ
せることができるという効果を奏する。
出され、この濃度検出手段の測定結果に基づいて、エッ
チング液の交換を行うことにより、エッチング液を利用
限界直前まで効率良く使用することができる。これによ
り、エッチング液の無駄をなくし、製造コストを削減さ
せることができるという効果を奏する。
【００３６】また、同時に、エッチング液の交換が、タ
イミング良く成されるため、エッチング液の濃度の管理
不足による、エッチング不良の発生を防ぐことができ、
パターン形成の安定性、及び形成精度の向上が図れると
いう効果も併せて奏する。
イミング良く成されるため、エッチング液の濃度の管理
不足による、エッチング不良の発生を防ぐことができ、
パターン形成の安定性、及び形成精度の向上が図れると
いう効果も併せて奏する。
【図１】本発明の一実施例のエッチング装置の概略の構
成図である。
成図である。
【図２】本発明の他の実施例のエッチング装置の概略の
構成図である。
構成図である。
【図３】従来のエッチング装置の概略の構成図である。
１ エッチング液 ２ エッチング処理槽 ３ カセット ４ 搬送手段 ５ エッチング液貯溜槽 ６ 連通管 ７ 給液バルブ ８ 連通管 ９ 連通管 １０ 排液バルブ １１ フィルタ １２ ポンプ １３ 連通路 １４ オーバーフロー槽 １５ 制御手段 １６ ワーク（基板）
Claims (2)
- 【請求項１】フォトレジストが塗布され、パターンが現
像された基板に対してエッチング液を用いてエッチング
処理を施し、基板上にパターンを形成させるエッチング
装置において、 エッチング液の濃度を検出する濃度検出手段が設けられ
ていることを特徴とするエッチング装置。 - 【請求項２】上記濃度検出手段が、エッチング液の吸光
度に基づいて濃度検出を行うことを特徴とする請求項１
記載のエッチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06690593A JP3350129B2 (ja) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | エッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06690593A JP3350129B2 (ja) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | エッチング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06280054A true JPH06280054A (ja) | 1994-10-04 |
| JP3350129B2 JP3350129B2 (ja) | 2002-11-25 |
Family
ID=13329440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06690593A Expired - Fee Related JP3350129B2 (ja) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | エッチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3350129B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000151120A (ja) * | 1998-11-13 | 2000-05-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 多層プリント配線板の製造方法 |
| JP2000151117A (ja) * | 1998-11-13 | 2000-05-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 多層プリント配線板の製造方法 |
| JP2004517486A (ja) * | 2000-12-30 | 2004-06-10 | ドンジン セミケム カンパニー リミテッド | 近赤外線分光器を利用した金属膜エッチング工程制御方法及び金属膜エッチング工程用エッチャントの再生方法 |
| JP2005099739A (ja) * | 2003-07-31 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | パターン製造システム、露光装置および露光方法 |
| WO2022074817A1 (ja) * | 2020-10-09 | 2022-04-14 | 三菱重工業株式会社 | 分析システム及び管理システム、分析方法、並びに分析プログラム |
-
1993
- 1993-03-25 JP JP06690593A patent/JP3350129B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000151120A (ja) * | 1998-11-13 | 2000-05-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 多層プリント配線板の製造方法 |
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| JP2005099739A (ja) * | 2003-07-31 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | パターン製造システム、露光装置および露光方法 |
| JP4515184B2 (ja) * | 2003-07-31 | 2010-07-28 | 富士フイルム株式会社 | パターン製造システム、露光装置および露光方法 |
| WO2022074817A1 (ja) * | 2020-10-09 | 2022-04-14 | 三菱重工業株式会社 | 分析システム及び管理システム、分析方法、並びに分析プログラム |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3350129B2 (ja) | 2002-11-25 |
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