JPH09246352A - 基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は基板搬送方法に関し、露光ステージの
移動を抑えて不要な移動時間を削除し、露光装置のスル
ープツトを向上し得るようにする。 【解決手段】露光ステージ（５）の可動範囲内の所望位
置に対して基板保持部（６Ｅ、７Ｅ）を自由に移動し得
る第１及び第２のロボツトアーム（６、７）を設け、基
板搬入時には、露光開始位置にある露光ステージの位置
情報を露光装置から受け、該位置情報で示される位置に
第１のロボツトアームの基板保持部を移動して基板搬入
し、基板搬出時には、露光終了位置にある露光ステージ
の位置情報を露光装置から受け、該位置情報で示される
位置に第２のロボツトアームの基板保持部を移動して基
板搬出するようにしたことにより、露光ステージの余分
な移動を抑えて不要な移動時間を削除し、露光装置のス
ループツトを向上し得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は基板搬送方法に関
し、例えば液晶デイスプレイの回路パターンを基板に対
して露光する露光装置において、露光ステージ上に基板
を搬入又は露光ステージ上から基板を搬出する際に適用
して好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の露光装置においては、基
板搬送機構として所定方向に進退可能な２つの搬送アー
ムを有し、このうち第１の搬送アームによつて基板を露
光ステージ上に搬入し、第２の搬送アームによつて基板
を露光ステージ上から搬出するようになされている（以
下、第１の搬送アームをロードアームと呼び、第２の搬
送アームをアンロードアームと呼ぶ）。

【０００３】具体的に説明すると、基板を搬入する場合
には、まずＸ及びＹ軸方向に移動可能なＸＹステージ上
に設けられている露光ステージを、ＸＹステージを駆動
することによつて基板受渡し位置まで移動する。そして
ロードアームを前進させることによつてアーム先端の基
板保持部に保持されている露光対象の基板を基板受渡し
位置まで搬送し、これによつて基板を露光ステージ上に
搬入する。

【０００４】一方、露光が終了した基板を搬出する場合
には、ＸＹステージを駆動することによつて再び露光ス
テージを基板受渡し位置まで移動する。そしてアンロー
ドアームを前進させることによつてアーム先端の基板保
持部を基板受渡し位置まで移動して基板を露光ステージ
上から受け取つた後、アンロードアームを後退させて基
板を露光ステージ上から搬出する。

【０００５】因みに、このようにして基板の搬入及び搬
出に対してそれぞれ別々の搬送アームを設ける理由は、
搬入及び搬出を並列的に行つて露光処理を効率的に行い
得るようにするためである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところでかかる構成の
露光装置においては、基板受渡し位置を起点として基板
の搬入及び搬出を行うため、基板を露光処理する際に
は、必ず露光ステージを基板受渡し位置まで又は基板受
渡し位置から移動しなければならず、この移動時間が単
位時間当たりの基板処理能力（以下、これをスループツ
トと呼ぶ）を劣化させる要因になつている。

【０００７】例えば基板に対して第１層目の露光を行う
場合には、露光ステージをまず基板受渡し位置まで移動
して基板を受け取り、その後、露光ステージを露光開始
位置まで移動しなければならず、露光ステージを２回移
動しなければならない。また基板に対して第２層目以降
の露光を行う場合には、露光ステージを基板受渡し位置
に移動して基板を受け取つた後、露光済のパターンとこ
れから露光するパターンとの位置合わせを行うため、露
光ステージをこの位置合わせ動作のできる位置（以下、
これをアライメント位置と呼ぶ）まで移動しなければな
らない。このアライメント位置においては、回路パター
ンがずれて露光されることを回避するため、前層に露光
された原板のアライメントマークとこれから露光する原
板のアライメントマークとを合致させることによつて位
置合わせを行う。この位置合わせの後、露光ステージを
露光開始位置に移動して露光を開始する。このように第
２層目以降の露光を行う場合には、露光ステージを３回
移動しなければならない。

【０００８】また露光が終了した後は、基板の搬出のた
め露光ステージを露光終了位置から基板受渡し位置まで
移動しなければならず、ここでも露光ステージを移動し
なければならない。このようにしてかかる構成の露光装
置においては、基板に対して露光処理を行う際、露光ス
テージを基板受渡し位置を起点として何回か移動しなけ
ればならず、この移動時間が露光装置のスループツトを
劣化させる大きな要因になつている。

【０００９】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、露光ステージの移動を抑えて不要な移動時間を削除
し、露光装置のスループツトを向上し得る基板搬送方法
を提案しようとするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、露光ステージの可動範囲内の所望
位置に対してアーム先端部の基板保持部を自由に移動し
得る第１及び第２のロボツトアームを設け、露光対象の
基板を露光ステージ上に搬入する場合には、露光開始位
置にある露光ステージの位置情報を露光装置から受け、
該位置情報で示される位置に対して基板を保持している
第１のロボツトアームの基板保持部を移動することによ
り、露光対象の基板を露光ステージ上に搬入し、露光終
了後の基板を露光ステージ上から搬出する場合には、露
光終了位置にある露光ステージの位置情報を露光装置か
ら受け、該位置情報で示される位置に対して第２のロボ
ツトアームの基板保持部を移動することにより、露光終
了後の基板を露光ステージから受け取つて該露光ステー
ジ上から搬出するようにした。

【００１１】このようにして第１のロボツトアームを用
いて露光開始位置にある露光ステージ上に基板を直接搬
入すると共に、第２のロボツトアームを用いて露光終了
位置にある露光ステージ上から基板を直接搬出するよう
にしたことにより、従来のように基板受渡し位置に露光
ステージを移動させなくても基板の搬入及び搬出がで
き、露光ステージの余分な移動を抑えて不要な移動時間
を削除し得る。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。

【００１３】図１及び図２において、１は全体として本
発明を適用した露光装置を示し、基板保管部（以下、こ
れをキヤリアと呼ぶ）２に保管されている基板３を基板
搬送機構４によつて露光ステージ５上に搬入し、ここで
基板３に対してレチクル原板を介した所望の光束を照射
することにより所望の回路パターンを露光するようにな
されている。また露光が終了した基板３は同じく基板搬
送機構４によつて露光ステージ５上から搬出され、キヤ
リア２に収納されるようになされている。この露光装置
１では、キヤリア２内に複数の基板３が収納されてお
り、基板３を順次露光ステージ５に搬入すると共に、露
光が終了した基板３を順次搬出してキヤリア２に収納す
ることにより、複数の基板３を連続的に露光処理し得る
ようになされている。

【００１４】ここでこの露光装置１では、基板搬送機構
４として３軸の回転機能を有する２つのロボツトアーム
６、７が設けられている。ロボツトアーム６はキヤリア
２から基板３を取り出して露光ステージ５上に搬入する
いわゆるロードアームであり、ロボツトアーム７は露光
が終了した基板３を露光ステージ５上から搬出してキヤ
リア２に収納するいわゆるアンロードアームである。こ
れら２つのロボツトアーム６、７は防振台８に垂直に立
てられた軸９に対して回動自在にかつ段違いに取り付け
られており、キヤリア２から露光ステージ５への基板搬
送と露光ステージ５からキヤリア２への基板搬送とを並
列的に行えるようになされている。

【００１５】ロボツトアーム６は軸９に回動自在に取り
付けられた第１のアーム６Ａと、その第１のアーム６Ａ
の先端に軸６Ｂによつて回動自在に軸支された第２のア
ーム６Ｃと、その第２のアーム６Ｃの先端に軸６Ｄによ
つて回動自在に軸支された基板保持部６Ｅとによつて構
成されており、第１及び第２のアーム６Ａ、６Ｃ及び基
板保持部６Ｅの回転角をアーム制御部１０によつて制御
することにより所望位置に基板保持部６Ｅを移動し、こ
れによつて所望位置への基板搬入が行い得るようになさ
れている。

【００１６】同様に、ロボツトアーム７は軸９に回動自
在に取り付けられた第１のアーム７Ａと、その第１のア
ーム７Ａの先端に軸７Ｂによつて回動自在に軸支された
第２のアーム７Ｃと、その第２のアーム７Ｃの先端に軸
７Ｄによつて回動自在に軸支された基板保持部７Ｅとに
よつて構成されており、第１及び第２のアーム７Ａ、７
Ｃ及び基板保持部７Ｅの回転角をアーム制御部１０によ
つて制御することにより所望位置に基板保持部７Ｅを移
動し、これによつて所望位置からの基板搬出が行い得る
ようになされている。

【００１７】因みに、ロボツトアーム６及び７の先端に
設けられている基板保持部６Ｅ及び７Ｅはいわゆる人間
の手のひらに相当する部分であり、基板搬送時にはこの
部分に基板３を載置して運ぶようになされている。また
基板保持部６Ｅ及び７Ｅには基板吸着機構（図示せず）
が設けられており、基板搬送時、この基板吸着機構によ
つて基板３を下から吸着して確実に保持し得るようにな
されている。

【００１８】基板３が保管されるキヤリア２内部には複
数段の棚が設けられており、各棚に１つずつ基板３を収
納することによつて複数の基板３を収納し得るようにな
されている。このキヤリア２から基板３を取り出す場合
には、キヤリア２の上下動機構（以下、これをキヤリア
エレベータと呼ぶ）１１によつてキヤリア２を上下動さ
せることにより、目的の基板３が収納されている棚をロ
ボツトアーム６の高さに合わせて基板３を取り出す。ま
た同様に、キヤリア２に基板３を収納する場合には、キ
ヤリアエレベータ１１によつてキヤリア２を上下動させ
ることにより、目的の収納棚をロボツトアーム７の高さ
に合わせて基板３を収納する。

【００１９】一方、基板３が載置される露光ステージ５
はＸＹステージ１２上に設けられており、ＸＹステージ
１２を駆動することによつて水平面内の所定範囲を自由
に移動し得るようになされている。この露光装置１で
は、基板３に露光処理を行う場合、露光ステージ５を露
光開始位置から順に露光終了位置までステツプ移動して
投影露光処理を行う。このために露光ステージ５は上述
したように水平面内の所定範囲を自由に移動できるよう
になつている。

【００２０】また露光ステージ５にはセンタアツプ機構
１３が設けられており、このセンタアツプ機構１３を上
下動させることによりロボツトアーム６又は７との基板
受渡しを行うようになされている。例えば基板３をロボ
ツトアーム６から受け取るときには、センタアツプ機構
１３を上昇させてロボツトアーム６によつて搬送されて
きた基板３を下から支え、この後、ロボツトアーム６を
後退させて基板３を受け取る。また基板３をロボツトア
ーム７に渡すときには、センタアツプ機構１３を上昇さ
せることによつて基板３を上方に持ち上げた後、ロボツ
トアーム７の基板保持部７Ｅを基板３の下に入れると共
に、センタアツプ機構１３を下降させることにより基板
３をロボツトアーム７に渡す。

【００２１】また露光ステージ５のステージ面には基板
吸着機構（図示せず）が設けられており、この基板吸着
機構によつて基板３を下から吸着することにより載置さ
れた基板３を確実に保持し得るようになされている。

【００２２】ここで上述したような露光ステージ５の移
動や、センタアツプ機構１３の上下動、或いは基板吸着
機構による基板吸着は全てステージ制御部１４による制
御によつて行われる。すなわちステージ制御部１４がＸ
Ｙステージ１２に動作指示を与えてＸＹステージ１２を
駆動し、これによつて露光ステージ５を所望位置に移動
する。同様に、ステージ制御部１４がセンタアツプ機構
１３や露光ステージの基板吸着機構に動作指示を与えて
これらを動作させる。またこのステージ制御部１４は露
光ステージ５の位置を示す位置情報を所定の信号フオー
マツトでインターフエイス部１５を介してアーム制御部
１０に伝えるようになされている。これを受けたアーム
制御部１０はその位置情報に基づいてロボツトアーム６
又は７を駆動し、その位置情報で示される位置に基板保
持部６Ｅ又は７Ｅを移動して露光ステージ５との基板受
渡しを行う。

【００２３】以上の構成において、この露光装置１にお
ける基板搬送について、図３〜図６を用いて説明する。
基板３を露光ステージ５上に搬入する場合には、まずロ
ボツトアーム６をキヤリア２の方向に向け、これと同時
にキヤリアエレベータ１１を駆動して取り出す基板３が
収納されている棚をロボツトアーム６とほぼ同じ高さに
調整する。次にロボツトアーム６を駆動して基板保持部
６Ｅをキヤリア２の内部に挿入する。その際、基板保持
部６Ｅが取り出す基板３の下側に来るように挿入する。
次に再びキヤリアエレベータ１１を駆動してキヤリア２
を所定量下方に下げ、基板３を基板保持部６Ｅに載置す
る。この後、下から基板３を吸着することにより基板３
を確実に保持した上で基板保持部６Ｅをキヤリア２内か
ら退避し、基板３をキヤリア２から取り出す。

【００２４】この基板取り出し動作と並行して、図３に
示すように、露光ステージ５を露光処理に備えて露光開
始位置に移動する。このときステージ制御部１４は露光
開始位置に移動した露光ステージ５の位置情報をインタ
ーフエイス部１５を介してアーム制御部１０に伝える。
アーム制御部１０はこの位置情報を受け、その位置情報
が示す位置（すなわち露光開始位置）に基板３を保持し
た基板保持部６Ｅを移動する。次に基板保持部６Ｅの基
板吸着を解除すると共に、露光ステージ５のセンタアツ
プ機構１３を上昇させることにより、基板３を基板保持
部６Ｅからセンタアツプ機構１３に渡す。この後、ロボ
ツトアーム６を駆動して基板保持部６Ｅを退避させると
共に、センタアツプ機構１３を下降させることにより、
基板３を露光ステージ５上に載置する。このとき露光ス
テージ５の基板吸着機構によつて基板３を吸着すること
により載置した基板３を確実に保持する。

【００２５】なお、ここでは特に図示しないが、防振台
８上の所定位置には基板３に対してレチクル原板とのお
およその位置合わせを行うプリアライメント機構が設け
られており、基板３を露光ステージ５上に搬入するまで
の間に、このプリアライメント機構を利用して基板３に
プリアライメントを行うようになつている。これにより
基板３を露光ステージ５上に載置したときにはレチクル
原板に対する位置合わせが可能なようになつている。

【００２６】上述したように露光ステージ５上に基板３
を搬入すると、図４に示すように、ロボツトアーム６は
再びキヤリア２をアクセスし、次の露光処理に備えて次
の基板３を取り出す。そしてロボツトアーム６は次回最
短距離で搬入動作が行えるように所定位置にて待機する
（次に説明する図５を参照）。一方、露光ステージ５上
に載置された基板３に対しては、投影露光処理が行われ
る。このため露光ステージ５は順にステツプ移動して行
く。

【００２７】その後、基板３に対する露光処理が終了す
ると、露光ステージ５としては、図５に示すような露光
終了位置に移動している。露光処理が終了すると、露光
ステージ５は基板吸着機構による基板吸着を解除すると
共に、センタアツプ機構１３を上昇させて基板３をステ
ージ面から持ち上げる。またこのときステージ制御部１
４は露光終了位置に移動した露光ステージ５の位置情報
をインターフエイス部１５を介してアーム制御部１０に
伝える。

【００２８】アーム制御部１０はこの位置情報を受け、
その位置情報が示す位置（すなわち露光終了位置）にロ
ボツトアーム７の基板保持部７Ｅを移動する。なお、ロ
ボツトアーム７の基板保持部７Ｅは、ステージ制御部１
４からの位置情報を受ける以前に基板搬出に備えて露光
終了位置に最短距離で移動し得る位置に予め待機してい
る（図４参照）。これにより位置情報を受け取つたとき
には即座に露光終了位置に移動することができる。

【００２９】ロボツトアーム７の基板保持部７Ｅが露光
終了位置に移動すると、露光ステージ５はセンタアツプ
機構１３を下降させることにより基板３をロボツトアー
ム７の基板保持部７Ｅに渡す。このようにして基板３が
渡されると、ロボツトアーム７は退避し、図６に示すよ
うに、キヤリア２をアクセスして基板３を所望の棚に収
納する。

【００３０】一方、この基板収納動作と並行して、露光
ステージ５は再び露光開始位置に移動する。これと同時
にロボツトアーム６も基板保持部６Ｅを露光開始位置に
移動して次に露光処理する基板３を露光ステージ５上に
搬入する。この場合、ロボツトアーム６はステージ制御
部１４から露光ステージ５の位置情報を受けず、先程の
露光開始位置と同じであるため、それを利用して露光開
始位置をアクセスする。その際、上述したように所定位
置にて待機しているため（図５参照）、ロボツトアーム
６は最短距離で露光開始位置をアクセスすることができ
る。またこの場合には、露光ステージ５を露光開始位置
に移動させるのと同時にロボツトアーム６の基板保持部
６Ｅを露光開始位置に移動させているため、露光ステー
ジ５を露光開始位置に移動するまでの時間が装置として
のスループツトに影響を及ぼすようなことはない。

【００３１】以下、同様にしてこの露光装置１では、露
光処理する基板３を露光ステージ５に順次搬入して行く
と共に、露光処理が終了した基板３を露光ステージ５か
ら順次搬出して行くことにより連続して露光処理を行
う。

【００３２】なお、基板３に対して第２層目以降の露光
処理を行う場合には、露光済のパターンとこれから露光
するパターンとの位置合わせを行う必要がある。そのた
めこの露光装置１では、位置合わせ動作を行い得るアラ
イメント位置にて位置合わせ行つた後、露光処理を開始
する。従つてこの露光装置１では、第２層目以降の露光
処理を行う場合、まず露光ステージ５をアライメント位
置に移動する。そのとき上述の場合と同様にステージ制
御部１４からアライメント位置にある露光ステージ５の
位置情報をインターフエイス部１５を介してアーム制御
部１０に伝える。これを受けたアーム制御部１０はロボ
ツトアーム６を駆動してその位置情報が示す位置（すな
わちアライメント位置）に基板保持部６Ｅを移動し、こ
れによつてアライメント位置において基板３を露光ステ
ージ５上に搬入する。

【００３３】この後、アライメント位置において、前層
に露光された原板のアライメントマークとこれから露光
する原板のアライメントマークとを合致させることによ
つて位置合わせを行い、これが終了すると、露光ステー
ジ５を露光開始位置に移動して露光処理を開始する。こ
のように第２層目以降の露光処理を行う場合、アライメ
ント位置にて基板３を受渡し、そこで位置合わせを行つ
た後、露光ステージ５を露光開始位置に移動して露光処
理を開始する。

【００３４】このようにしてこの露光装置１では、基板
３を保持する基板保持部６Ｅ、７Ｅを露光ステージ５の
可動範囲内の所望位置に対して自由に移動し得るロボツ
トアーム６、７を設け、露光ステージ５に基板３を搬入
する場合には、ステージ制御部１４から受けた露光ステ
ージ５の位置情報に基づいて基板保持部６Ｅを移動し、
これによつて露光開始位置にある露光ステージ５に基板
３を搬入し、露光ステージ５から基板を搬出する場合に
は、同様にステージ制御部１４から受けた露光ステージ
５の位置情報に基づいて基板保持部７Ｅを移動し、これ
によつて露光終了位置にある露光ステージ５から基板３
を搬出する。

【００３５】すなわちこの露光装置１では、ロボツトア
ーム６を用いることによつて露光開始位置にある露光ス
テージ５に基板３を直接搬入し、ロボツトアーム７を用
いることによつて露光終了位置にある露光ステージ５か
ら基板３を直接搬出する。これによりこの露光装置１で
は、従来のように基板受渡し位置に露光ステージ５を移
動することもなく、基板３の搬入及び搬出が行える。

【００３６】また第２層目の露光処理を行う場合にも、
ロボツトアーム６を用いることによつてアライメント位
置にある露光ステージ５に基板３を直接搬入する。これ
によりこの場合にも、従来のように基板受渡し位置に露
光ステージ５を移動することもなく、基板３の搬入が行
える。このようにこの露光装置１では、いずれの場合に
も、露光ステージ５の余分な移動を抑えて不要な移動時
間を削除し得、装置としてのスループツトを向上し得
る。

【００３７】以上の構成によれば、露光ステージ５の可
動範囲内の所望位置に対して自由にアクセスし得るロボ
ツトアーム６、７を設け、そのロボツトアーム６、７を
用いて基板３を搬送するようにしたことにより、露光ス
テージ５の余分な移動を抑えて不要な移動時間を削除
し、露光装置としてのスループツトを向上し得る。

【００３８】なお、上述の実施例においては、ロボツト
アーム６、７からなる基板搬送機構４を露光装置１の一
部として説明した場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、露光装置と基板搬送機構とを別構成にしても
良い。その場合にも、上述した場合と同様に露光装置側
から露光ステージの位置情報を伝え、その位置情報に基
づいてロボツトアームを駆動するようにすれば同様の効
果を得ることができる。

【００３９】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、露光ステ
ージの可動範囲内の所望位置に対してアーム先端部の基
板保持部を自由に移動し得る第１及び第２のロボツトア
ームを設け、基板搬入時には、露光開始位置にある露光
ステージの位置情報を露光装置から受け、該位置情報で
示される位置に対して基板を保持している第１のロボツ
トアームの基板保持部を移動して基板を露光ステージ上
に搬入し、基板搬出時には、露光終了位置にある露光ス
テージの位置情報を露光装置から受け、該位置情報で示
される位置に対して第２のロボツトアームの基板保持部
を移動して基板を露光ステージ上から搬出するようにし
たことにより、従来のように露光ステージを基板受渡し
位置に移動させなくても基板の搬入及び搬出ができる。
かくするにつき露光ステージの余分な移動を抑えて不要
な移動時間を削除し、露光装置のスループツトを向上し
得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例による露光装置の構成を示す
略線図である。

【図２】その露光装置をＡ−Ａ′面から見た断面図であ
る。

【図３】その露光装置における基板搬送の説明に供する
略線図である。

【図４】その露光装置における基板搬送の説明に供する
略線図である。

【図５】その露光装置における基板搬送の説明に供する
略線図である。

【図６】その露光装置における基板搬送の説明に供する
略線図である。

【符号の説明】

１……露光装置、２……キヤリア、３……基板、４……
基板搬送機構、５……露光ステージ、６、７……ロボツ
トアーム、６Ｅ、７Ｅ……基板保持部、８……防振台、
１０……アーム制御部、１２……ＸＹステージ、１４…
…ステージ制御部、１５……インターフエイス部。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板に所定パターンを露光する露光装置に
   設けられている水平面内の所定範囲を自由に移動し得る
   露光ステージに対して前記基板を搬入又は搬出する基板
   搬送方法において、 アーム先端部に前記基板を保持し得る基板保持部を有
   し、かつ該基板保持部を前記露光ステージの可動範囲内
   の所望位置に対して自由に移動し得る第１及び第２のロ
   ボツトアームを設け、 露光対象の前記基板を前記露光ステージ上に搬入する場
   合には、露光開始位置にある前記露光ステージの位置情
   報を前記露光装置から受け、該位置情報で示される位置
   に対して露光対象の前記基板を保持している前記第１の
   ロボツトアームの前記基板保持部を移動することによ
   り、露光対象の前記基板を前記露光ステージ上に搬入
   し、 露光終了後の前記基板を前記露光ステージ上から搬出す
   る場合には、露光終了位置にある前記露光ステージの位
   置情報を前記露光装置から受け、該位置情報で示される
   位置に対して前記第２のロボツトアームの基板保持部を
   移動することにより、露光終了後の前記基板を前記露光
   ステージから受け取つて該露光ステージ上から搬出する
   ことを特徴とする基板搬送方法。
2. 【請求項２】前記第１のロボツトアームは、所定の基板
   保管部から前記基板を取り出して前記露光ステージ上に
   搬入し、 前記第２のロボツトアームは、前記露光ステージから受
   け取つた前記基板を所定の基板保管部に収納することを
   特徴とする請求項１に記載の基板搬送方法。
3. 【請求項３】前記基板に対して第２層目以降の露光を行
   う場合、前記露光ステージは露光済のパターンとこれか
   ら露光するパターンとの位置合わせを行うために所定の
   アライメント位置に移動しており、前記第１のロボツト
   アームは前記露光装置からの位置情報に基づいて前記基
   板保持部を該アライメント位置に移動することにより前
   記基板を前記露光ステージ上に搬入することを特徴とす
   る請求項１に記載の基板搬送方法。
4. 【請求項４】前記第１のロボツトアームによつて前記基
   板を前記露光ステージ上に搬入する迄の間に前記基板に
   対してプリアライメントを行うことを特徴とする請求項
   １に記載の基板搬送方法。
5. 【請求項５】前記第１及び第２のロボツトアームに設け
   られた前記基板保持部は、前記基板を吸着することによ
   つて保持することを特徴とする請求項１に記載の基板搬
   送方法。