JPH09206912A - 密閉式給湯装置および給湯方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 ラドル移送中の溶湯の滴下が無く、かつ、給
湯精度が高く、酸化物の混入がない高品質の溶湯を連続
安定的に供給できる密閉式給湯装置と給湯方法を提供す
る。 【解決手段】 アルミニウム合金の溶湯を射出スリーブ
内へ給湯する装置であって、溶解保持炉内に浸漬懸架さ
れ底部側方に設けた吸入口２０ｃと弁棒２２と弁棒シリ
ンダ２４とからなる開閉装置を外部に備えたラドル２０
と、ラドル懸垂支持昇降手段６０と、一端がラドル内に
他端が射出スリーブ２００内へ挿入された導管２８と、
加圧ガスの注入手段３０とを備えるとともに、ラドル内
の液面レベルを検出するレベル検出センサ１５０ａを配
設し、かつ、液面レベルが設定値に達するまでの間加圧
ガスを供給するガス供給制御装置を備えてなり、導管の
溶湯吐出側は、下方に向かって傾斜させるとともに、ラ
ドルの昇降方向をこれと平行に傾斜させた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウム合金
またはマグネシウム合金などの溶湯をダイカストマシン
などの成形装置の射出スリーブへ給湯する密閉式給湯装
置および密閉式給湯装置の給湯方法に係り、特に給湯精
度の向上に配慮した密閉式給湯装置および密閉式給湯装
置の給湯方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ダイカストマシンの射出スリーブ
へアルミニウム合金やマグネシウム合金などの溶湯を給
湯するには、従来、図８に示すように、溶解保持炉１０
内の溶湯を酌み取ったラドル２０を機械的機構を使用し
て上昇、または円弧状軌跡を描きながら横移動して傾斜
した射出スリーブ２００の位置まで移動し、しかる後、
ラドル２０内の溶湯を射出スリーブ内へ注湯するラドル
反転方式が採用されていた。また、図９に示すような上
部に蓋２０ａを有し底部に開口部（吸入口２０ｃ）を備
え、蓋２０ａに空気抜き２０ｄを有する密閉式でないラ
ドル２０を溶解保持炉１０内へ浸漬し、底部の開口部２
０ｃよりラドル２０内へ溶湯を侵入させた後に開口部２
０ｃを閉塞した後、傾斜した射出スリーブ２００の位置
までラドル２０を移動し、射出スリーブ２００の軸線に
合わせてラドル２０を傾斜しつつラドル底部を射出スリ
ーブ２００内へ装入してから、底部の開口部２０ｃを閉
塞状態から開放状態にしてラドル内部の溶湯を自然落下
させて射出スリーブ２００内へ供給する（給湯する）方
法も採用されていた。この方式は底抜きラドル方式と呼
ばれている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ラドル反転方式や底抜きラドル方式のいずれにおいて
も、射出スリーブへの注湯口（ラドルの吐出口）は、溶
湯をラドル内へ入れる場合にラドル本体を溶解保持炉内
へ浸漬するため、ラドル内部に溶湯が入るだけでなくラ
ドルの外周に溶湯が付着し、ラドルを射出スリーブの位
置まで移動し、その後の注湯動作中にラドル外周に付着
した溶湯と空気中の酸素とが反応して酸化物を生成し、
かつ、これが注湯中に滴下してラドル内部の溶湯ととも
に射出スリーブ内へ落下することとなる。この溶湯落下
物は空気に触れて酸化物を形成し、したがって、ダイカ
スト成形後の鋳造品にこの酸化物が混入して、品質の低
下を招くという問題があった。また、上述のラドル反転
方式や底抜きラドル方式のいずれにおいても、ラドル内
へ取り込む給湯量の精度が粗く、毎回の射出スリーブへ
の給湯量がばらつくために成形品品質が一定しないこと
から鋳造品品質を均一に保つことができないという難点
があり、給湯精度の向上が成形品品質の向上に欠かせな
いという背景があった。また、底抜き方式では、開口部
（吸入口２０ｃ）が底部中央に下側に向かって開口して
おり、ラドル内への溶湯の取り込み後の開閉装置のシー
ルが不完全であるとき、射出スリーブまでのラドルの移
送時に溶湯の滴下が起こり、危険であるばかりでなく作
業環境を著しく汚染するという問題があった。さらに、
上述のラドル（図８のラドル２０や図９のラドル２０）
では、給湯の初期に射出スリーブ内に落下する溶湯の落
下高さが大きく、大きな落下高さの際に周囲の空気の巻
き込みを誘発して鋳造品にブローホールなどの鋳造欠陥
を生じる惧れがあった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
めに、本発明（第１の発明）においては、アルミニウム
合金またはマグネシウム合金の溶湯をダイカストマシン
などの射出スリーブ内へ給湯する密閉式給湯装置であっ
て、溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて懸架され底部側方
に突出して設けた上方に開口した連通遮断自在な溶湯の
吸入口を備えるとともに該吸入口を連通遮断する弁棒と
弁棒昇降用の弁棒シリンダとからなる開閉装置をラドル
本体の外部に備えたラドルと、該ラドル懸垂支持昇降手
段と、一端が該ラドル内に収納され他端が該ラドルより
突出して前記射出スリーブ内へ挿入され該ラドル内の溶
湯を前記射出スリーブへ注湯する導管と、該ラドル内の
溶湯液面を加圧する加圧ガスの注入手段とを備えるとと
もに、該ラドル内に供給する溶湯の液面レベルを検出す
る溶湯液面レベル検出センサを該ラドル内に配設し、か
つ、ラドル内に充満された溶湯の液面レベルが該溶湯液
面レベル検出センサのあらかじめ設定した設定値に達す
るまでの間加圧ガスを持続して供給するガス供給制御装
置を備えてなり、前記導管の溶湯吐出側は、下方に向か
って傾斜させるとともに、前記ラドル懸垂支持昇降手段
の昇降方向を傾斜した前記射出スリーブと平行に傾斜さ
せた構成とした。また、第２の発明の密閉式給湯装置の
給湯方法では、第１の発明の密閉式給湯装置において、
溶湯液面レベル検出センサを、溶湯に接したとき通電状
態となり溶湯から離れると非通電状態となる昇降自在な
接触棒センサとするか、または、レーザ光あるいは超音
波による非接触型位置センサとした。さらに、第３の発
明では、第１や第２の発明の密閉式給湯装置を使用し
て、ラドル内の溶湯液面の検出値があらかじめ設定した
第１の設定値に達するまで該ラドル内に溶湯を取り込
み、導管を前記射出スリーブ内に挿入して該ラドル内に
加圧ガスを注入して溶湯を該射出スリーブ内へ給湯し、
該ラドル内の溶湯液面の検出値があらかじめ設定した下
位の第２の設定値に達するまでの間、加圧ガスを持続し
て供給することにより、該ラドル内の溶湯の一定重量を
導管を経由して射出スリーブ内へ給湯するようにした。
すなわち、前記第１の発明ではラドル内にあらかじめ充
満された一定量の溶湯の排出終了時点の溶湯液面レベル
のみを溶湯液面レベル検出センサの設定値で規制しよう
とするものであるのに対して、ラドル内溶湯の排出開始
と排出終了の２点の溶湯液面レベルを、ともに溶湯液面
レベル検出センサの設定値で規制しようとするものであ
る。

【０００５】

【発明の実施の態様】本発明の密閉式給湯装置において
は、アルミニウム合金またはマグネシウム合金の溶湯を
ダイカストマシンなどの射出スリーブ内へ給湯する密閉
式給湯装置であって、溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて
懸架され底部側方に突出して設けた上方に開口した連通
遮断自在な溶湯の吸入口を備えるとともに該吸入口を連
通遮断する弁棒と弁棒昇降用の弁棒シリンダとからなる
開閉装置をラドル本体の外部に備えたラドルと、該ラド
ル懸垂支持昇降手段と、一端が該ラドル内に収納され他
端が該ラドルより突出して前記射出スリーブ内へ挿入さ
れ該ラドル内の溶湯を前記射出スリーブへ注湯する導管
と、該ラドル内の溶湯液面を加圧する加圧ガスの注入手
段とを備えるとともに、該ラドル内に供給する溶湯の液
面レベルを検出する溶湯液面レベル検出センサを該ラド
ル内に配設し、かつ、ラドル内に充満された溶湯の液面
レベルが該溶湯液面レベル検出センサのあらかじめ設定
した設定値に達するまでの間加圧ガスを持続して供給す
るガス供給制御装置を備えてなり、前記導管の溶湯吐出
側は、下方に向かって傾斜させるとともに、前記ラドル
懸垂支持昇降手段の昇降方向を傾斜した前記射出スリー
ブと平行に傾斜させた構成としてある。したがって、ラ
ドルを溶湯の入った溶解保持炉内に浸漬して、ラドル底
部側方に突出して設けた上方開口の溶湯吸入口より溶湯
をラドル内に吸入して取り込んだあとラドル本体を通過
することなく、ラドル本体の側方を上下方向に昇降自在
な弁棒と弁棒昇降用の弁棒シリンダとからなる開閉装置
で吸入口を閉塞するので、従来の底抜きラドル方式であ
ってラドル内を密閉する密閉蓋を備えた底抜きラドル方
式では密閉蓋と弁棒とのガスシールが必要であるが、本
発明においては弁棒が密閉蓋を貫通する構造になってい
ないので、弁棒とラドル密閉蓋とのガスシールを考慮す
る必要がない。ラドル内への溶湯の取り込みが完了した
後、ラドル懸垂支持昇降手段を操作してラドルを移送し
ラドルに連結された導管吐出側先端を射出スリーブ底部
のプランジャチップ上面近くまで挿入し、不活性ガスな
どの加圧ガスをラドル内に吹き込んでこの押圧力により
ラドル内の溶湯を導管を経由して射出スリーブ内へ給湯
する。また、ラドル内に充満された溶湯の加圧ガスによ
る押圧力によりラドル内溶湯の排出、すなわち射出スリ
ーブへの溶湯の給湯量の制御は、該ラドル内に設置され
た溶湯液面レベル検出センサを使用して、該溶湯液面レ
ベル検出センサの検出値があらかじめ設定した設定値に
達するまでの間不活性ガスなどの加圧ガスを持続して供
給する方法を採用しているので、給湯量の精度が高く、
毎回の射出スリーブへの給湯量が均一化され、鋳造品品
質が良好に保持される。さらに、第２の発明では、溶湯
液面レベル検出センサを、溶湯に接したとき通電状態と
なり溶湯から離れると非通電状態となる昇降自在な接触
棒センサとするか、または、レーザ光あるいは超音波に
よる非接触型位置センサとしたため、簡便容易に、か
つ、自動的に、所望の給湯量を射出スリーブへ供給でき
る。また、第３の発明では、ラドル内の溶湯液面の検出
値があらかじめ設定した第１の設定値に達してからそれ
より下位の第２の設定値に達するまでの間、不活性ガス
を持続して供給することにより、該ラドル内の溶湯の一
定重量を導管を経由して射出スリーブ内へ給湯するよう
にしたため、給湯作業の自動化を図ることが出来、作業
能率が著しく向上する。したがって、本発明の密閉式給
湯装置では、従来技術に比べて、給湯作業が簡便化さ
れ、毎回の給湯条件が均一化されるとともに、給湯精度
が高く、ラドル移送中の溶湯の滴下も少なく、かつ溶湯
酸化物の混入も少ないので鋳造品品質が良好に維持でき
る。

【０００６】

【実施例】以下図面に基づいて本発明の実施例の詳細に
ついて説明する。図１〜図７はいずれも本発明の実施例
に係り、図１は密閉式給湯装置の全体構成図、図２は密
閉式給湯装置（給湯中）の要部拡大縦断面図、図３は密
閉式給湯装置（酸化物除去清掃中）の要部拡大縦断面
図、図４は図２のＡ−Ａ視を示す非作業中の酸化物除去
装置の正面図、図５は図３のＢ−Ｂ視の作業中の酸化物
除去装置の位置状態を示す密閉式給湯装置の要部拡大縦
断面図、図６はレーザ光による液面レベルセンサの原理
を示す原理説明図、図７は超音波による液面レベルセン
サの使用状況を示す斜視図である。

【０００７】図１に示すように、第１の発明である密閉
式給湯装置１は、直立円筒状のラドル２０を建屋（また
は構造物）５０に傾斜して固設されたラドル懸垂支持昇
降シリンダ６０のピストンロッド６０ａの先端に接続さ
れて懸架され、溶解保持炉１０内にその大部分が浸漬さ
れるように保持したもので、ラドル２０は上端部を天蓋
２０ａと密閉蓋２０ｂとでそれぞれボルトナットを介し
て接合されて密閉されるとともに、底部側方に突出して
設けられ、溶解保持炉１０内の溶湯Ｍがラドル２０内へ
吸入するための上方に開口した開口部（吸入口２０ｃ）
を備えるとともに、吸入口２０ｃと溶解保持炉１０とを
連通遮断するための弁棒２２と、天蓋２０ａに取り付け
られたサポート２４ａに載置固設された弁棒２２の昇降
手段である弁棒シリンダ２４とからなる開閉装置４０を
備えている。

【０００８】一方、天蓋２０ａと密閉蓋２０ｂには、一
端がラドル２０内へ下向きに貫通し、他端が湾曲してダ
イカストマシンの射出スリーブ２００の傾斜した軸線Ｘ
−Ｘに沿って傾斜して下降する導管２８が取り付けられ
るとともに、Ｎ₂ ガスやＡｒガス、ＣＯ₂ ガスなどの不
活性ガス供給装置７０から供給される不活性ガスをラド
ル２０内へ注入する不活性ガス配管３０が設けられる。
密閉蓋２０ａの上部に取り付けられたラドルサポート２
６は前記したようにラドル懸垂支持昇降シリンダ６０の
ピストンロッド６０ａの先端に連結され、ラドル懸垂支
持昇降シリンダ６０の操作によりラドル２０や導管２８
は一体的に傾斜した軸線Ｘ−Ｘに沿って昇降自在になっ
ている。

【０００９】加圧ガスとしては、不活性ガスのほか、工
場内の廃棄ガスや燃焼ガスや通常の空気を使用すること
も出来るが、溶湯の酸化を防止するためには、酸素を含
まない不活性ガス（Ｎ₂ ガス、Ａｒガス、ＣＯ₂ ガスな
ど）が望ましい。不活性ガス配管３０は、不活性ガス供
給装置７０を出た後、温度調節装置９０を通過して所望
の温度に昇温されるよう構成され、不活性ガス供給制御
装置８０により昇温温度や供給時間を任意に制御できる
よう構成される。また、３つの液圧シリンダである、ラ
ドル懸垂支持昇降シリンダ６０と弁棒シリンダ２４と後
述する酸化物除去装置１００の掃除具昇降シリンダ１１
０の油圧配管は、各々独立して図示しない油圧ユニット
に接続されるとともに、該油圧ユニットは、図示しない
プログラマブルコントローラと接続され、動作指令をプ
ログラマブルコントローラから受信して作動する。

【００１０】また、図２〜図５に示すように、導管２８
の吐出部先端２８ａ外周に付着した溶湯や溶湯酸化物を
除去清掃する酸化物除去装置１００が、サポート２６の
導管吐出側に配設される。酸化物除去装置１００は、図
４〜図５に示すような、導管２８の外周を把持して導管
軸方向に摺動する左右一対の掃除具１２２を備えた掃除
具開閉シリンダ１２０と掃除具開閉シリンダ１２０を導
管軸方向に昇降させる掃除具昇降シリンダ１１０とより
構成され、溶湯の給湯中は掃除具開閉シリンダ１２０は
図２に示すように上方に後退させて置き、給湯作業終了
後毎回、図３に示すように導管２８の吐出側先端部２８
ａに掃除具１２２を上下に摺動させて、導管外周に付着
した溶湯や溶湯酸化物を剥離除去する。なお、昇降させ
る掃除具昇降シリンダ１１０と掃除具開閉シリンダ１２
０は油圧シリンダでなく、エアシリンダとしてもよい。

【００１１】さらに、ラドル２０内には、溶湯液面レベ
ル検出センサ１５０が配設される。溶湯液面レベル検出
センサ１５０は、溶湯に接したとき通電状態となり溶湯
から離れると非通電状態となる昇降自在な接触棒センサ
（図２に示す湯面検知棒１５０ａ）としてもよいが、あ
るいは、たとえば図６に示すレーザ光センサ１６０や図
７に示す超音波センサ１７０などの非接触型の溶湯液面
レベル検出センサ１５０を図３のように密閉蓋２０ｂの
下面に取り付けて採用すると、簡便で精度もよい。

【００１２】図６のレーザ光センサ１６０は、被測定物
にレーザ光を照射し、その輝点の位置を受光レンズを通
してイメージセンサに結像させることにより、被測定物
の位置を検出するものであり、その特徴は被測定物から
離れて被接触で測定可能で、反射光を利用するので色彩
に左右されず安定性が高いことである。レーザ光センサ
１６０の測定原理を図６にしたがって説明すると、セン
サ部１６０ｂより被測定物にレーザ光を照射すると、光
が当たった点は輝点となる。被測定物がセンサ部１６０
ｂより最も遠い位置にあるとき光の輝点をＳ₃ とする
と、輝点Ｓ₃ で反射した光はレンズで集光され、イメー
ジセンサの点ｎ₃ にＳ₃の像を結ぶ。センサ部１６０ｂ
へ被測定物が次第に近づくにつれて、被測定物はから
、さらにの位置に変化し、輝点はＳ₃ からＳ₂ 、さ
らにＳ₁ へと移動し、それと同時にイメージセンサ上の
結像点の位置もｎ₃ からｎ₂ 、そしてｎ₁へ変化移動す
る。このようにして、被測定物の測定面の変位量や位置
がイメージセンサ上のｎ₃ からｎ₁ までの変位ｗや位置
に置き換えられ、ラドル内溶湯液面レベル等の位置（高
さ）が測定される。

【００１３】一方、図７の超音波センサ１７０は、その
測定原理はレーザ光の場合とほぼ同様なものであり、レ
ーザ光の代わりに超音波を被測定物に発射し、その反射
波を受信して被測定物までの距離を検出するもので、セ
ンサヘッド１７０ａとアンプユニット１７０ｂとからな
り、レーザ光センサ１６０と同様に、被測定物までの距
離を非接触で測定で測定可能で、溶湯の温度、粘度に影
響されず、腐食の問題もない。

【００１４】以上のように構成された本発明の密閉式給
湯装置１の作動について説明する。まず、空のラドル２
０を溶解保持炉１０内へ入れ、密閉蓋２０ｂの下面と溶
解保持炉内溶湯液面レベルが一致するようにラドル懸垂
支持昇降シリンダ６０を操作してラドル２０を静止させ
る。次に、図２のような状態に保持されたラドル２０に
おいて、弁棒シリンダ２４を操作して弁棒２２を上昇し
て吸入口２０ｃを開状態にしてラドル２０内の気体を排
出しつつ溶解保持炉１０の溶湯Ｍをラドル２０内に自然
吸入させる。

【００１５】次に、ラドル２０内への溶湯の充満が完了
した後、ラドル懸垂支持昇降シリンダ６０を操作して導
管２８の吐出部先端（導管吐出側先端部）２８ａを下降
させ、射出スリーブ２００内のプランジャチップ２００
ａの上面に導管２８の吐出部先端２８ａを近接するよう
調節したうえ、あらかじめ、たとえば１．２ｋｇ／ｃｍ
² 程度の低圧に加圧された不活性ガスなどの加圧ガス
を、不活性供給制御装置８０を介して不活性ガス供給装
置７０により不活性ガス配管３０を通じてラドル２０内
へ注入すると、ラドル２０内の溶湯液面は加圧され導管
２８を流れ導管２８の吐出部先端２８ａより落下して射
出スリーブ２００内へ注湯され始める。なお、不活性ガ
スは、温度調節装置９０により溶湯温度に近接した、た
とえば、２５０〜７００℃の範囲の中の一定の温度状態
に加熱して供給することが望ましい。

【００１６】注湯作業が開始されるとともに射出スリー
ブ２００内に入った溶湯液面が次第に上昇し始めるので
導管２８の吐出部先端２８ａがこの溶湯液面に約２０ｍ
ｍ程浸漬された後、溶湯液面の上昇速度と同一速度で導
管２８が上昇するようにラドル２０を上昇させる。こう
することにより、吐出部先端２８ａの溶湯浸漬深さを前
述の約２０ｍｍの一定値に保持しながら射出スリーブ２
００内へ給湯することになる。この浸漬深さは、通常２
０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲でできるだけ少ない方が導管吐
出側先端部外周に付着する溶湯を少なくできるので好ま
しい。このようにして、ラドル２０内に設置した溶湯液
面レベル検出センサ１５０（具体的には、湯面検知棒１
５０ａを使用するか、またはレーザ光センサ１６０や超
音波センサ１７０を使用する）の検出値があらかじめ設
定した設定値に達するまで加圧ガスの供給を継続し、設
定値に達した時点で加圧ガスの供給を停止して射出スリ
ーブ２００への給湯量を制御する。上述の給湯量制御方
法は、ラドル内に溶湯を充満してから、加圧ガスをラド
ル内に注入して溶湯を排出を開始し、排出終了のラドル
内溶湯液面レベルのみを溶湯液面レベル検出センサ１５
０で把握するようにしたが、これに対して、図２に示す
ように、たとえば、湯面検知棒１５０ａを２個設置し、
排出開始と排出終了の両方のラドル内溶湯液面レベルを
制御する方法も採用することが出来る。また、この方法
は、湯面検知棒１５０ａばかりでなく、レーザ光センサ
１６０や超音波センサ１７０を使用することも出来る。
また、２個の湯面検知棒１５０ａを使用代わりに、湯面
検知棒１５０ａを昇降自在とし、上方の液面レベル（溶
湯排出開始レベル）を検知した後、溶湯排出作業中に下
方の液面レベル（溶湯排出終了レベル）まで即座に下降
させることにより、１個で済ませることも出来る。ま
た、別の給湯方法として、前記のラドル２０内に設置の
湯面検知棒１５０ａやレーザ光センサ１６０、超音波セ
ンサ１７０などの溶湯液面レベル検出センサ１５０を使
用して溶湯を規定量だけ供給し、ラドル２０内に射出ス
リーブ２００への１回の給湯量のみを吸入し、これを全
部射出スリーブ２００へ供給する方法を採用することも
できる。

【００１７】以上述べた一連の作業手順（溶解保持炉１
０へのラドル２０の浸漬、弁棒２２の上昇によるラドル
内溶湯吸入作業、弁棒下降による吸入口２０ｃ閉止、導
管吐出部先端２８ａの射出スリーブ内挿入、加圧ガス
（不活性ガス）のラドル内注入、給湯中の導管上昇、ガ
スラドル内注入停止など）の順序起動停止プログラムを
あらかじめプログラマブルコントローラに入力して、こ
のプログラムに則り作業を自動的に継続させることもで
きる。なお、数回の給湯の度毎に、定期的に酸化物除去
装置１００を使用して、導管吐出側先端部２８ａ外周を
清掃し、発生した溶湯酸化物を除去しておくことが望ま
しい。

【００１８】さらに、射出スリーブ２００内への給湯時
に、導管２８の吐出側先端部２８ａの浸漬深さをほぼ一
定に保って注湯するようにすれば、溶湯の射出スリーブ
２００内への落下による撥ね飛びや飛沫がなく、空気巻
き込みが少ない。また、吐出側先端部２８ａの外側に付
着する溶湯の状況が毎回一定するとともに、給湯終了の
都度毎回、酸化物除去装置１００を使用して吐出側先端
部２８ａの外側に付着した溶湯や酸化物を除去清掃する
ようにすれば、溶湯酸化物の成形品への混入がほとんど
無くなる。

【００１９】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の密閉式給湯
装置においては、ラドル移送中の滴下がほとんど無く、
かつ、給湯量を溶湯液面レベル検出センサを使用して正
確に射出スリーブへ供給するので給湯精度が向上すると
ともに、不活性ガス等の加圧ガスの吹き込みによる押圧
力でラドル内溶湯を射出スリーブへ給湯し、酸化物の混
入がほとんどなく、注湯時の空気巻き込みも極力防止さ
れるので、鋳造欠陥のない高品質の鋳造品を連続安定的
に供給できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る密閉式給湯装置の全体構
成図である。

【図２】本発明の実施例に係る密閉式給湯装置（給湯
中）の要部拡大縦断面図である。

【図３】本発明の実施例に係る密閉式給湯装置（酸化物
除去清掃中）の要部拡大縦断面図である。

【図４】図２のＡ−Ａ視を示す非作業中の酸化物除去装
置の正面図である。

【図５】図３のＢ−Ｂ視の作業中の酸化物除去装置の位
置状態を示す密閉式給湯装置の要部拡大縦断面図であ
る。

【図６】本発明の実施例に係るレーザ光による液面レベ
ルセンサの原理を示す原理説明図である。

【図７】本発明の実施例に係る超音波による液面レベル
センサの使用状況を示す斜視図である。

【図８】従来の給湯装置の説明図である。

【図９】従来の給湯装置の説明図である。

【符号の説明】

１ 密閉式給湯装置 １０ 溶解保持炉 １０ａ るつぼ ２０ ラドル ２０ａ 天蓋 ２０ｂ 密閉蓋 ２０ｃ 吸入口 ２２ 弁棒 ２４ 弁棒シリンダ ２４ａ サポート ２６ ラドルサポート ２８ 導管 ２８ａ 吐出部先端（吐出側先端部） ３０ 不活性ガス配管 ４０ 開閉装置 ５０ 建屋（または構造物） ６０ ラドル懸垂支持昇降シリンダ ６０ａ ピストンロッド ７０ 不活性ガス供給装置 ８０ 不活性ガス供給制御装置 ９０ 温度調節装置 １００ 酸化物除去装置 １０２ サポート １１０ 掃除具昇降シリンダ １２０ 掃除具開閉シリンダ １２２ 掃除具 １５０ 溶湯液面レベル検出センサ １５０ａ 湯面検知棒 １６０ レーザ光センサ １６０ａ 表示部 １６０ｂ センサ部 １７０ 超音波センサ １７０ａ センサヘッド １７０ｂ アンプユニット ２００ 射出スリーブ ２００ａ プランジャチップ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルミニウム合金またはマグネシウム合
   金の溶湯をダイカストマシンなどの射出スリーブ内へ給
   湯する密閉式給湯装置であって、 溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて懸架され底部側方に突
   出して設けた上方に開口した連通遮断自在な溶湯の吸入
   口を備えるとともに該吸入口を連通遮断する弁棒と弁棒
   昇降用の弁棒シリンダとからなる開閉装置をラドル本体
   の外部に備えたラドルと、該ラドル懸垂支持昇降手段
   と、一端が該ラドル内に収納され他端が該ラドルより突
   出して前記射出スリーブ内へ挿入され該ラドル内の溶湯
   を前記射出スリーブへ注湯する導管と、該ラドル内の溶
   湯液面を加圧する加圧ガスの注入手段とを備えるととも
   に、 該ラドル内に供給する溶湯の液面レベルを検出する溶湯
   液面レベル検出センサを該ラドル内に配設し、かつ、ラ
   ドル内に充満された溶湯の液面レベルが該溶湯液面レベ
   ル検出センサのあらかじめ設定した設定値に達するまで
   の間加圧ガスを持続して供給するガス供給制御装置を備
   えてなり、 前記導管の溶湯吐出側は、下方に向かって傾斜させると
   ともに、前記ラドル懸垂支持昇降手段の昇降方向を傾斜
   した前記射出スリーブと平行に傾斜させたことを特徴と
   する密閉式給湯装置。
2. 【請求項２】 溶湯液面レベル検出センサを、溶湯に接
   したとき通電状態となり溶湯から離れると非通電状態と
   なる昇降自在な接触棒センサとするか、または、レーザ
   光あるいは超音波による非接触型位置センサとした請求
   項１記載の密閉式給湯装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２記載の密閉式給
   湯装置を使用して射出スリーブへ給湯する密閉式給湯装
   置の給湯方法であって、 ラドル内の溶湯液面の検出値があらかじめ設定した第１
   の設定値に達するまで該ラドル内に溶湯を取り込み、導
   管を前記射出スリーブ内に挿入して該ラドル内に加圧ガ
   スを注入して溶湯を該射出スリーブ内へ給湯し、該ラド
   ル内の溶湯液面の検出値があらかじめ設定した下位の第
   ２の設定値に達するまでの間、加圧ガスを持続して供給
   することにより、該ラドル内の溶湯の一定重量を導管を
   経由して射出スリーブ内へ給湯する密閉式給湯装置の給
   湯方法。