JPH09216043A

JPH09216043A - 密閉式給湯装置

Info

Publication number: JPH09216043A
Application number: JP2374296A
Authority: JP
Inventors: Sadayuki Dannoura; 貞行檀浦; Kunio Takeya; 国男武谷
Original assignee: Ube Industries Ltd
Current assignee: Ube Corp
Priority date: 1996-02-09
Filing date: 1996-02-09
Publication date: 1997-08-19

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】給湯量が容易に変更出来、給湯精度が向上す
るとともに、ラドル移送中の滴下や酸化物の混入がな
く、かつ、注湯時の空気巻き込みも防止される密閉式給
湯装置を提供する。【解決手段】アルミニウム合金の溶湯を射出スリーブ
２００内へ給湯する装置であって、溶解保持炉１０内に
浸漬され中間部側方に設けた吸入口２０ｃを備えるとと
もに吸入口を連通遮断する弁棒２２と昇降用の弁棒シリ
ンダ２４とからなる開閉装置を外部に備えたラドル２０
と、ラドル懸垂支持昇降手段６０と、一端がラドルの底
部に接続され他端の溶湯吐出側が射出スリーブ内へ挿入
された導管２８と、ラドル内の溶湯液面を加圧するガス
の注入手段３０とを備えるとともに、ラドルは溶湯量が
可変に形成され、導管の溶湯吐出側２８ａは、下方に向
かって傾斜させるとともに、前記ラドル懸垂支持昇降手
段の昇降方向を傾斜した導管と平行に傾斜させた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウム合金
またはマグネシウム合金などの溶湯をダイカストマシン
などの成形装置の射出スリーブへ給湯する密閉式給湯装
置に係り、特に給湯精度の向上と溶湯に溶湯酸化物が混
入しないようにする酸化物混入防止対策に配慮した密閉
式給湯装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ダイカストマシンの射出スリーブ
へアルミニウム合金やマグネシウム合金などの溶湯を給
湯するには、従来、図６に示すように、溶解保持炉１０
内の溶湯を酌み取ったラドル２０を機械的機構を使用し
て上昇、または円弧状軌跡を描きながら横移動して傾斜
した射出スリーブ２００の位置まで移動し、しかる後、
ラドル２０内の溶湯を射出スリーブ内へ注湯するラドル
反転方式が採用されていた。また、図７に示すような上
部に蓋２０ａを有し底部に開口部（吸入口２０ｃ）を備
え、蓋２０ａに空気抜き２０ｄを有する密閉式でないラ
ドル２０を溶解保持炉１０内へ浸漬し、底部の開口部２
０ｃよりラドル２０内へ溶湯を侵入させた後に開口部２
０ｃを閉塞した後、傾斜した射出スリーブ２００の位置
までラドル２０を移動し、射出スリーブ２００の軸線に
合わせてラドル２０を傾斜しつつラドル底部を射出スリ
ーブ２００内へ装入してから、底部の開口部２０ｃを閉
塞状態から開放状態にしてラドル内部の溶湯を自然落下
させて射出スリーブ２００内へ供給する（給湯する）方
法も採用されていた。この方式は底抜きラドル方式と呼
ばれている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ラドル反転方式や底抜きラドル方式のいずれにおいて
も、射出スリーブへの注湯口（ラドルの吐出口）は、溶
湯をラドル内へ入れる場合にラドル本体を溶解保持炉内
へ浸漬するため、ラドル内部に溶湯が入るだけでなくラ
ドルの外周に溶湯が付着し、ラドルを射出スリーブの位
置まで移動し、その後の注湯動作中にラドル外周に付着
した溶湯と空気中の酸素とが反応して酸化物を生成し、
かつ、これが注湯中に滴下してラドル内部の溶湯ととも
に射出スリーブ内へ落下することとなる。したがって、
ダイカスト成形後の鋳造品にこの酸化物が混入して、品
質の低下を招くという問題があった。また、上述の底抜
きラドル方式では、開口部（吸入口２０ｃ）が底部中央
に下側に向かって開口しており、ラドル内への溶湯の取
り込み後の開閉装置のシールが不完全であるとき、射出
スリーブまでのラドルの移送時に溶湯の滴下が起こり、
危険であるばかりでなく作業環境を著しく汚染するとい
う問題があった。また溶解保持炉の溶湯液面が毎回の給
湯時に異なるとラドル２０内へ取り込まれる溶湯量が微
妙に異なり、毎回の注湯量にばらつきが生じることとな
り、その結果、射出スリーブへの給湯量にもばらつきが
生じるので給湯精度が低く、鋳造品品質を均一に保つこ
とができないという難点があった。さらに、上述のラド
ル（図６のラドル２０や図７のラドル２０）では、給湯
の初期に射出スリーブ内に落下する溶湯の落下高さが大
きく、大きな落下高さの際に周囲の空気の巻き込みを誘
発して鋳造品にブローホールなどの鋳造欠陥を生じる惧
れがあった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
めに、本発明（第１の発明）においては、アルミニウム
合金またはマグネシウム合金の溶湯をダイカストマシン
などの射出スリーブ内へ給湯する密閉式給湯装置であっ
て、溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて懸架され中間部側
方に突出して設けた連通遮断自在な溶湯の吸入口を備え
るとともに該吸入口を連通遮断する弁棒と弁棒昇降用の
弁棒シリンダとからなる開閉装置をラドル本体の外部に
備えたラドルと、該ラドル懸垂支持昇降手段と、一端が
該ラドルの底部に接続されたのち上部に向かって湾曲し
他端の溶湯吐出側が前記射出スリーブ内へ挿入され該ラ
ドル内の溶湯を前記射出スリーブへ注湯する導管と、該
ラドル内の溶湯液面を加圧する加圧ガスの注入手段とを
備えるとともに、該ラドルは該ラドル内に取り込まれる
溶湯量が可変自在に形成され、前記導管の溶湯吐出側
は、下方に向かって傾斜させるとともに、前記ラドル懸
垂支持昇降手段の昇降方向を傾斜した導管と平行に傾斜
させた構成とした。また、第２の発明では、第１の発明
の密閉式給湯装置において、ラドルは、外筒と該外筒内
を軸方向摺動自在な内筒とからなる２重管構造に形成さ
れ、かつ、該内筒下端には該内筒直径よりも小径の排出
ノズルを下方に突出して設けることにより該内筒内に形
成された容量一定の溶湯上部室と該内筒下部の該外筒内
に形成された容量可変自在な溶湯下部室を保有するとと
もに、該内筒の該外筒内摺動昇降手段を備え、該溶湯上
部室と該溶湯下部室にそれぞれ加圧ガスの注入口を配設
した構成とした。さらに、第３の発明では、第１や第２
の発明の密閉式給湯装置において、ラドルの溶湯の吸入
口を上方に開口した構成とした。

【０００５】

【発明の実施の態様】本発明の密閉式給湯装置において
は、アルミニウム合金またはマグネシウム合金の溶湯を
ダイカストマシンなどの射出スリーブ内へ給湯する密閉
式給湯装置であって、溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて
懸架され中間部側方に突出して設けた連通遮断自在な溶
湯の吸入口を備えるとともに該吸入口を連通遮断する弁
棒と弁棒昇降用の弁棒シリンダとからなる開閉装置をラ
ドル本体の外部に備えたラドルと、該ラドル懸垂支持昇
降手段と、一端が該ラドルの底部に接続されたのち上部
に向かって湾曲し他端の溶湯吐出側が前記射出スリーブ
内へ挿入され該ラドル内の溶湯を前記射出スリーブへ注
湯する導管と、該ラドル内の溶湯液面を加圧する加圧ガ
スの注入手段とを備えるとともに、該ラドルは該ラドル
内に取り込まれる溶湯量が可変自在に形成され、前記導
管の溶湯吐出側は、下方に向かって傾斜させるととも
に、前記ラドル懸垂支持昇降手段の昇降方向を傾斜した
導管と平行に傾斜させた構成としてある。

【０００６】すなわち、第２の発明で具体化したよう
に、ラドルは溶湯容量一定の溶湯上部室と溶湯容量可変
自在な溶湯下部室を保有するから、あらかじめ両室に不
活性ガスを注入した後、不活性ガスを封入し、ラドルを
溶解保持炉に静かに浸漬するととともに溶湯上部室の加
圧ガスのみ大気開放し、ラドル中間部側方に突出して設
けた溶湯吸入口より溶湯をラドル内に吸入して取り込
む。ラドル内に入った溶湯は最初溶湯下部室に入り、溶
湯液面が上昇して内筒の管通路下端に達すると溶湯下部
室に封入された不活性ガスのために溶湯下部室の液面レ
ベルを停止し、その後溶湯液面は排出ノズルを上昇した
後溶湯上部室を充満する。このように、ラドル内に溶湯
を取り込む際には、ラドル本体を通過することなく、ラ
ドル本体の側方を上下方向に昇降自在な弁棒と弁棒昇降
用の弁棒シリンダとからなる開閉装置で吸入口を開閉す
るので、従来の底抜きラドル方式であってラドルを密閉
蓋で密閉する底抜きラドル方式では、弁棒が密閉蓋を貫
通するので弁棒と密閉蓋とのガスシールを考慮する必要
があるが、本発明においては弁棒が密閉蓋を貫通する構
造になっていないので、ガスシールの必要がなく、簡便
である。

【０００７】ラドル内への溶湯の取り込みがすべて完了
した後、溶湯上部室のガス通路も溶湯下部室と同様に閉
じたあと、ラドル懸垂支持昇降手段を操作してラドルを
移送しラドルに連結された導管吐出側先端を射出スリー
ブ底部のプランジャチップ上面近くまで挿入し、加圧し
た加圧ガスをラドル内の溶湯下部室や、あるいは溶湯下
部室と溶湯上部室の両方に吹き込んで、ラドル内溶湯液
面を加圧してラドル内の溶湯の全量を導管を経由して射
出スリーブ内へ給湯する。このようにして、射出スリー
ブ内へ供給する給湯量を毎回一定の値に保持し、給湯量
のばらつきを出来るだけ少なくして給湯精度を高めるよ
うにした。さらに、第３の発明では、ラドルの溶湯吸入
口を上方に開口した構成としたので、たとえ経年変化に
よる開閉装置の閉塞時のシールが少々不完全であって
も、開口部が上向きであるから溶湯が漏れにくくラドル
の射出スリーブへの移動中におけるラドル内溶湯の滴下
を最小限に食い止めることが出来る。また、ラドルから
射出スリーブへの溶湯の給湯に際しては、導管の吐出側
先端を射出スリーブ内底面まで挿入して静止した後、給
湯を開始し、給湯の進行に伴なう該射出スリーブ内の溶
湯液面上昇により該導管吐出側先端部の溶湯浸漬深さが
所定の値に達したとき該所定の溶湯浸漬深さを一定に維
持するように溶湯液面の上昇と同一速度で該導管と一体
的にラドルを上昇させつつ給湯するようにすれば、溶湯
の落下に伴なう飛び撥ねや飛沫の発生が防止できるので
空気の溶湯内巻き込みを防止し、かつ、射出スリーブ内
の導管溶湯浸漬深さが一定の状態で給湯が進行するた
め、導管外側に付着する溶湯量が毎回一定しており、溶
湯の酸化物皮膜の生成状況を均一化できる。したがっ
て、本発明の密閉式給湯装置では、従来技術に比べて、
毎回の給湯条件が均一化されるので給湯精度が高く、ラ
ドル移送中の溶湯の滴下が少なく、かつ溶湯酸化物の混
入も少ないので鋳造品品質が良好に維持できる。

【０００８】

【実施例】以下図面に基づいて本発明の実施例の詳細に
ついて説明する。図１〜図５はいずれも本発明の実施例
に係り、図１は密閉式給湯装置の全体構成図、図２は密
閉式給湯装置（給湯中）の要部拡大縦断面図、図３は密
閉式給湯装置（酸化物除去清掃中）の要部拡大縦断面
図、図４は図２のＡ−Ａ視を示す非作業中の酸化物除去
装置の正面図、図５は図３のＢ−Ｂ視の作業中の酸化物
除去装置の位置状態を示す密閉式給湯装置の要部拡大縦
断面図である。

【０００９】図１に示すように、第１の発明である密閉
式給湯装置１は、直立円筒状のラドル２０を建屋（また
は構造物）５０に傾斜して固設されたラドル懸垂支持昇
降シリンダ６０のピストンロッド６０ａの先端に接続さ
れて懸架され、溶解保持炉１０内にその大部分が浸漬さ
れるように保持したもので、ラドル２０は上端部を天蓋
２０ａと密閉蓋２０ｂとでそれぞれボルトナットを介し
て接合されて密閉されるとともに、ラドル２０の中間部
側方に突出して設けられ、溶解保持炉１０のるつぼ１０
ａ内の溶湯Ｍがラドル２０内へ吸入するための上方に開
口した開口部（吸入口２０ｃ）を備えるとともに、吸入
口２０ｃと溶解保持炉１０とを連通遮断するための弁棒
２２と、天蓋２０ａに取り付けられたサポート２４ａに
載置固設された弁棒２２の昇降手段である弁棒シリンダ
２４とからなる開閉装置４０を備えている。そして、ラ
ドル２０内に取り込まれる溶湯量が可変自在となるよう
にラドル２０は構成される。

【００１０】上述のように、ラドル内容量が可変自在と
するためのラドル２０の構造の１実施例を具体的に説明
すると、ラドル２０は、図２に示すように、有底円筒状
の外筒２０Ａの内部に、同じく円筒状で底部に下方に突
出した小径の排出ノズル２０ｄを備えた内筒２０Ｂが摺
動自在に嵌装されており、前記した外筒中間部側方に設
けた吸入口２０ｃとは、内筒２０Ｂの中間部側方に設け
た長穴２０ｅを介して連通されている。外筒２０Ａの頂
部は開放されているのに対して、内筒２０Ｂの頂部は密
閉蓋２０ｂで被覆され、この密閉蓋２０ｂはその上部の
天蓋２０ａとボルト締結されて一体とされ、この両者を
貫通する透孔が不活性ガス配管３０と接続される。そし
て、天蓋２０ａの頂部外周のフランジと外筒上部外周に
設けたフランジとの間には、下部室昇降シリンダ２１が
配設され、外筒２０Ａと内筒２０Ｂとの相対高さ位置を
調節出来るようになっている。このようにして、ラドル
２０は、内筒２０Ｂで形成された上部室２０Ｕと、内筒
下部と外筒２０Ａで囲まれた下部室２０Ｌとに区画さ
れ、排出ノズル２０ｄで連通される。下部室２０Ｌにも
不活性ガス配管３０が接続される。外筒２０Ａの最下端
中央部には、前記した導管２８が接続される。導管２８
は、外筒最下端から上方に湾曲し、天蓋２０ａとほぼ同
じ高さ位置で、下方に反転し、図２のように、射出スリ
ーブ２００の軸線方向と平行に下向きに傾斜される。

【００１１】加圧ガスとしては、不活性ガスのほか、工
場内の廃棄ガスや燃焼ガスや通常の空気を使用すること
も出来るが、溶湯の酸化を防止するためには、酸素を含
まない不活性ガス（Ｎ₂ガス、Ａｒガス、ＣＯ₂ガスな
ど）が望ましい。一方、不活性ガス配管３０は、Ｎ₂ガ
スやＡｒガス、ＣＯ2 ガスなどの不活性ガス供給装置７
０から供給される不活性ガスをラドル２０内へ注入する
設けられる。密閉蓋２０ａの上部に取り付けられたラド
ルサポート２６は前記したようにラドル懸垂支持昇降シ
リンダ６０のピストンロッド６０ａの先端に連結され、
ラドル懸垂支持昇降シリンダ６０の操作によりラドル２
０や導管２８は一体的に傾斜した軸線Ｘ−Ｘに沿って昇
降自在になっている。

【００１２】不活性配管３０を流れる不活性ガスは、不
活性ガス供給装置７０を出た後、温度調節装置９０を通
過して所望の温度に昇温されるよう構成され、不活性ガ
ス供給装置７０と温度調節装置９０との間にある不活性
ガス供給制御装置８０により昇温温度や供給時間を任意
に制御できるよう構成される。また、３つの液圧シリン
ダである、ラドル懸垂支持昇降シリンダ６０と弁棒シリ
ンダ２４と下部室昇降シリンダ２１や、後述する酸化物
除去装置１００の掃除具昇降シリンダ１１０の油圧配管
は、各々独立して図示しない油圧ユニットに接続される
とともに、該油圧ユニットは、図示しないプログラマブ
ルコントローラと接続され、動作指令をプログラマブル
コントローラから受信して作動する。

【００１３】また、図２〜図５に示すように、導管２８
の吐出部先端外周に付着した溶湯や溶湯酸化物を除去清
掃する酸化物除去装置１００が、サポート２６の導管吐
出側にサポート１０２を介して配設される。酸化物除去
装置１００は、図４〜図５に示すような、導管２８の外
周を把持して導管軸方向に摺動する左右一対の掃除具１
２２を備えた掃除具開閉シリンダ１２０と掃除具開閉シ
リンダ１２０を導管軸方向に昇降させる掃除具昇降シリ
ンダ１１０とより構成され、溶湯の給湯中は掃除具開閉
シリンダ１２０は図２に示すように上方に後退させて置
き、必要に応じて図３に示すように導管２８の吐出下端
部に掃除具１２２を上下に摺動させて、導管外周に付着
した溶湯や溶湯酸化物を剥離除去する。なお、掃除具昇
降シリンダ１１０と掃除具開閉シリンダ１２０は油圧シ
リンダでなく、エアシリンダとしてもよい。また、ラド
ル２０内には、原則的には不要であるが、安全上、ラド
ル内に取り込まれる溶湯量を把握するため、湯面検知棒
やレーザ光センサまたは超音波センサなどの溶湯液面レ
ベル検出センサを配設してもよい。

【００１４】以上のように構成された本発明の密閉式給
湯装置１の作動について説明する。まず、上部室２０Ｕ
と下部室２０Ｌへあらかじめ大気圧の不活性ガスを充満
した後、バルブ３０ａおよびバルブ３０ｂを閉じてお
く。そのあと、ラドル２０を溶解保持炉１０のるつぼ１
０ａ内に静かに浸漬する。そして、図１のような高さ位
置状態に保持されたラドル２０において、バルブ３０ａ
を閉じたままバルブ３０ｃを閉じバルブ３０ｄを開けて
上部室２０Ｕのみ大気開放し、そのあと、弁棒シリンダ
２４を操作して弁棒２２を上昇して吸入口２０ｃを開状
態にして上部室２０Ｕ内の気体を排出しつつ溶解保持炉
１０の溶湯Ｍをラドル２０内に自然吸入させる。

【００１５】ラドル２０内に吸入された溶湯は、まず下
部室２０Ｌへ流れ込み、下部室２０Ｌ内の溶湯液面レベ
ルは次第に上昇するが、下部室２０Ｌの溶湯液面レベル
が排出ノズル下部先端に達すると下部室２０Ｌ内の気体
の逃げ場がなくなるので下部室溶湯液面はそれ以上上昇
せず、その後の溶湯液面は排出ノズル２０ｄを上昇し、
やがて上部室２０Ｕに溜まってゆき上部室２０Ｕは溶湯
で充満される（図１の状態となる）。このようにして、
射出スリーブ２００へ供給する１回の給湯量をラドル内
に取り込むが、この１回の給湯量は、上述のように溶解
保持炉１０内に埋没させるラドル２０の高さで調節する
が、他の方法として、ラドル２０の外側に配設した図示
しない湯面検知棒やレーザ光センサまたは超音波センサ
などの溶湯液面レベル検出センサで調整してもよい。

【００１６】上述のいずれの場合にも、ラドル２０内の
溶湯液面は、図１に示すように、密閉蓋２０ｂの下面と
接するか、もしくは、下面とすれすれの状態に保持し、
ラドル２０内に封入される不活性ガス量を出来るだけ少
なくするのが望ましい。この後、不活性供給制御装置８
０を介して不活性ガス供給装置７０により不活性ガスを
不活性ガス配管３０を通じてラドル内に供給する。ま
た、不活性ガスは、温度調節装置９０により溶湯温度に
近接した、たとえば、２５０〜７００℃の範囲の中の一
定の温度状態に加熱して供給することが望ましい。

【００１７】次に、ラドル２０内への溶湯の規定量の吸
入が終了した後、吸入口２０ｃを閉じるとともに、バル
ブ３０ｂも閉じ（バルブ３０ａは閉じたまま）、ラドル
２０を射出スリーブ２００の位置まで図示しない移送設
備にて移送した後、ラドル懸垂支持昇降シリンダ６０を
操作して導管２８の吐出部先端２８ａを下降させ、射出
スリーブ２００内のプランジャチップ２００ａの上面に
導管２８の吐出部先端２８ａを近接するよう調節したう
え、あらかじめ、たとえば１．１〜１．２ｋｇ／ｃｍ²
程度の大気圧より僅かに大きい低圧に加圧された不活性
ガスをラドル２０内の下部室２０Ｌか、下部室２０Ｌと
上部室２０Ｕへ注入すると、ラドル２０内の溶湯液面は
加圧され導管２８を流れ導管２８の吐出部先端２８ａよ
り落下して射出スリーブ２００内へ注湯され始める（図
２の状態）。

【００１８】給湯量を変更したい場合には、下部室昇降
シリンダ２１を操作して外筒２０Ａ内の内筒２０Ｂを上
下方向に摺動して両者の相対位置を変化させる。すなわ
ち、下部室昇降シリンダ２１のピストンロッドを前進さ
せて外筒２０Ａを下降させることにより、下部室２０Ｌ
の容量を増加させることができる（上部室２０Ｕの容量
は常時不変）。つまり、１回の給湯量は、上部室２０Ｕ
と下部室２０Ｌに入った溶湯の和となる。

【００１９】注湯作業が開始されるとともに射出スリー
ブ２００内に入った溶湯液面が次第に上昇し始めるので
導管２８の吐出部先端２８ａがこの溶湯液面に約２０ｍ
ｍ程浸漬された後、溶湯液面の上昇速度と同一速度で導
管２８が上昇するようにラドル２０を上昇させる。こう
することにより、吐出部先端２８ａの溶湯浸漬深さを前
述の約２０ｍｍの一定値に保持しながら射出スリーブ２
００内へ給湯することになる。射出スリーブ２００へ供
給する給湯量は、たとえばラドル内の溶湯液面が下降し
てラドル内に一定の深さで浸漬している湯面検知棒１５
０ａの下端以下になり、湯面検知棒１５０ａに流れてい
た電流が非通電状態になった時点で不活性ガスの供給を
ストップし、所定の溶湯量になるようにしている。この
ようにして、規定時間、不活性ガスを供給することによ
り規定量の溶湯をラドル２０内から射出スリーブ２００
内へ給湯する。

【００２０】以上述べた一連の作業手順（溶解保持炉へ
のラドル２０の浸漬、弁棒２２の上昇による吸入作業、
弁棒下降による吸入口２０ｃ閉止、導管吐出部先端の射
出スリーブ内挿入、不活性ガスのラドル内注入、給湯中
の導管上昇など）の順序起動停止プログラムをあらかじ
めプログラマブルコントローラに入力して、このプログ
ラムに則り作業を自動的に継続させることもできる。

【００２１】さらに、射出スリーブ２００内への給湯時
に、導管２８の吐出部先端２８ａの浸漬深さをほぼ一定
に保って注湯するので、溶湯の射出スリーブ２００内へ
の落下による撥ね飛びや飛沫がなく、空気巻き込みが少
ない。また、吐出部先端２８ａの外側に付着する溶湯の
状況が毎回一定するとともに、その付着量も少なくなる
から溶湯酸化物の成形品への混入が最小限に止められ
る。そして、たとえば、図２〜図５に示した酸化物除去
装置１００を使用して必要に応じて適性な頻度で導管下
端部外側を清掃することにより、溶湯酸化物の製品への
混入が防止される。

【００２２】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の密閉式給湯
装置においては、給湯量の変更が簡便容易に行なうこと
が出来、給湯精度が向上するとともに、ラドル移送中の
滴下がほとんど無く、不活性ガスの吹き込みによる押圧
力で給湯するため酸化物の混入がほとんどなく、かつ、
注湯時の空気巻き込みも極力防止されるので、鋳造欠陥
のない高品質の鋳造品を連続安定的に供給できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る密閉式給湯装置の全体構
成図である。

【図２】本発明の実施例に係る密閉式給湯装置（給湯
中）の要部拡大縦断面図である。

【図３】本発明の実施例に係る密閉式給湯装置（酸化物
除去清掃中）の要部拡大縦断面図である。

【図４】図２のＡ−Ａ視を示す非作業中の酸化物除去装
置の正面図である。

【図５】図３のＢ−Ｂ視の作業中の酸化物除去装置の位
置状態を示す密閉式給湯装置の要部拡大縦断面図であ
る。

【図６】従来の給湯装置の説明図である。

【図７】従来の給湯装置の説明図である。

【符号の説明】

１密閉式給湯装置１０溶解保持炉１０ａるつぼ２０ラドル２０Ａ外筒２０Ｂ内筒２０Ｌ溶湯下部室（下部室）２０Ｕ溶湯上部室（上部室）２０ａ天蓋２０ｂ密閉蓋２０ｃ吸入口２０ｄ排出ノズル２０ｅ長穴２１下部室昇降シリンダ２２弁棒２４弁棒シリンダ２４ａサポート２６ラドルサポート２８導管２８ａ吐出部先端（吐出側先端部）３０不活性ガス配管３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄバルブ４０開閉装置５０建屋（または構造物）６０ラドル懸垂支持昇降シリンダ６０ａピストンロッド７０不活性ガス供給装置８０不活性ガス供給制御装置９０温度調節装置１００酸化物除去装置１０２サポート１１０掃除具昇降シリンダ１２０掃除具開閉シリンダ１２２掃除具１５０ａ湯面検知棒１６０レーザ光センサ１７０超音波センサ２００射出スリーブ２００ａプランジャチップ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】アルミニウム合金またはマグネシウム合
金の溶湯をダイカストマシンなどの射出スリーブ内へ給
湯する密閉式給湯装置であって、溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて懸架され中間部側方に
突出して設けた連通遮断自在な溶湯の吸入口を備えると
ともに該吸入口を連通遮断する弁棒と弁棒昇降用の弁棒
シリンダとからなる開閉装置をラドル本体の外部に備え
たラドルと、該ラドル懸垂支持昇降手段と、一端が該ラ
ドルの底部に接続されたのち上部に向かって湾曲し他端
の溶湯吐出側が前記射出スリーブ内へ挿入され該ラドル
内の溶湯を前記射出スリーブへ注湯する導管と、該ラド
ル内の溶湯液面を加圧する加圧ガスの注入手段とを備え
るとともに、該ラドルは該ラドル内に取り込まれる溶湯量が可変自在
に形成され、前記導管の溶湯吐出側は、下方に向かって傾斜させると
ともに、前記ラドル懸垂支持昇降手段の昇降方向を傾斜
した導管と平行に傾斜させたことを特徴とする密閉式給
湯装置。
【請求項２】ラドルは、外筒と該外筒内を軸方向摺動
自在な内筒とからなる２重管構造に形成され、かつ、該
内筒下端には該内筒直径よりも小径の排出ノズルを下方
に突出して設けることにより該内筒内に形成された容量
一定の溶湯上部室と該内筒下部の該外筒内に形成された
容量可変自在な溶湯下部室を保有するとともに、該内筒
の該外筒内摺動昇降手段を備え、該溶湯上部室と該溶湯
下部室にそれぞれ加圧ガスの注入口を配設した請求項１
記載の密閉式給湯装置。
【請求項３】ラドルの溶湯の吸入口が上方に開口した
ことを特徴とする請求項１または請求項２記載の密閉式
給湯装置。