JP2002273564A - 溶湯供給装置 - Google Patents
溶湯供給装置Info
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- JP2002273564A JP2002273564A JP2001080633A JP2001080633A JP2002273564A JP 2002273564 A JP2002273564 A JP 2002273564A JP 2001080633 A JP2001080633 A JP 2001080633A JP 2001080633 A JP2001080633 A JP 2001080633A JP 2002273564 A JP2002273564 A JP 2002273564A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶湯内に浸漬したフロートを昇降させて湯面
を上下動させる溶湯供給装置において、構造を簡略化し
給湯量の精度を向上させる。 【解決手段】 保持炉１０内に貯留された溶湯１６内に
浸漬したフロート１１をフロート駆動装置１３により昇
降して、溶湯の湯面の高さを調整する。フロート内には
フロート内部空洞１２を形成し、制御器２０は、フロー
トにより溶湯の湯面が定湯面Ｌ0 となるように制御した
状態において、ガス供給装置２１からフロート内部空洞
内に制御された圧力のガスを供給して、移送管１４を介
して所定量の溶湯を溶湯供給先１７に供給する。ガス供
給装置は、制御器により制御されてフロート内部空洞内
に不活性ガスを給排するシリンダとするのがよい。
を上下動させる溶湯供給装置において、構造を簡略化し
給湯量の精度を向上させる。 【解決手段】 保持炉１０内に貯留された溶湯１６内に
浸漬したフロート１１をフロート駆動装置１３により昇
降して、溶湯の湯面の高さを調整する。フロート内には
フロート内部空洞１２を形成し、制御器２０は、フロー
トにより溶湯の湯面が定湯面Ｌ0 となるように制御した
状態において、ガス供給装置２１からフロート内部空洞
内に制御された圧力のガスを供給して、移送管１４を介
して所定量の溶湯を溶湯供給先１７に供給する。ガス供
給装置は、制御器により制御されてフロート内部空洞内
に不活性ガスを給排するシリンダとするのがよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、保持炉内の溶湯を
移送管を介してダイカストマシンの射出スリーブあるい
は重力式鋳造装置のホッパなどの溶湯供給先に所定量ず
つ供給する溶湯供給方法および溶湯供給装置に関する。
移送管を介してダイカストマシンの射出スリーブあるい
は重力式鋳造装置のホッパなどの溶湯供給先に所定量ず
つ供給する溶湯供給方法および溶湯供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の溶湯供給方法および溶湯供給装
置としては、例えば特開平１０−２７２５５０に開示さ
れた技術がある。この技術の第１の実施の形態では、先
ず、溶湯内に浸漬したフロートを昇降させて湯面を定湯
面とし、その後にフロートを所定量下降させて所定量の
溶湯を移送管を介してダイカストマシンの射出スリーブ
に搬送している。この方法によれば部品点数が少なく装
置がコンパクトになるという利点があるが、大きなフロ
ートで給湯量を制御しているので、給湯量のばらつきが
大きくなるという問題がある。そこで上述した従来技術
の第２の実施の形態では、フロートを外フロートとその
内部に摺動可能に設けた内フロートに分割し、湯面を定
湯面にするのは両フロートを同時に昇降させて行い、所
定量の給湯は外フロートに対し内フロートを所定量下降
させることにより行って、給湯量の精度を向上させてい
る。
置としては、例えば特開平１０−２７２５５０に開示さ
れた技術がある。この技術の第１の実施の形態では、先
ず、溶湯内に浸漬したフロートを昇降させて湯面を定湯
面とし、その後にフロートを所定量下降させて所定量の
溶湯を移送管を介してダイカストマシンの射出スリーブ
に搬送している。この方法によれば部品点数が少なく装
置がコンパクトになるという利点があるが、大きなフロ
ートで給湯量を制御しているので、給湯量のばらつきが
大きくなるという問題がある。そこで上述した従来技術
の第２の実施の形態では、フロートを外フロートとその
内部に摺動可能に設けた内フロートに分割し、湯面を定
湯面にするのは両フロートを同時に昇降させて行い、所
定量の給湯は外フロートに対し内フロートを所定量下降
させることにより行って、給湯量の精度を向上させてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記第２の実施の形態
の構造によれば、外フロートと内フロートの間の摺動面
をシールする必要があるが、各フロートは溶湯によりお
かされない材質であることを要し、また生じる熱歪みも
大きいので、そのようなシールは容易ではない。またそ
れが可能であったとしても、摺動面の一部にでも欠けを
生じると機能を果たさなくなるという問題がある。本発
明はこのような問題を解決することを目的とする。
の構造によれば、外フロートと内フロートの間の摺動面
をシールする必要があるが、各フロートは溶湯によりお
かされない材質であることを要し、また生じる熱歪みも
大きいので、そのようなシールは容易ではない。またそ
れが可能であったとしても、摺動面の一部にでも欠けを
生じると機能を果たさなくなるという問題がある。本発
明はこのような問題を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明による溶湯供給方
法は、保持炉内に貯留された溶湯内に昇降可能にフロー
トを浸漬し、保持炉内と溶湯供給先とを移送管により接
続し、フロートの昇降により溶湯の湯面を上下動させる
ようにしてなる溶湯供給方法において、フロートの上下
位置を調整して溶湯の湯面を溶湯供給先に供給がなされ
る前の定湯面とする第１工程と、フロート内に形成され
て下側が溶湯内に開口されたフロート内部空洞内に制御
された圧力のガスを供給して溶湯の湯面を所定の給湯湯
面まで上昇させることにより移送管を介して所定量の溶
湯を溶湯供給先に供給することを特徴とするものであ
る。
法は、保持炉内に貯留された溶湯内に昇降可能にフロー
トを浸漬し、保持炉内と溶湯供給先とを移送管により接
続し、フロートの昇降により溶湯の湯面を上下動させる
ようにしてなる溶湯供給方法において、フロートの上下
位置を調整して溶湯の湯面を溶湯供給先に供給がなされ
る前の定湯面とする第１工程と、フロート内に形成され
て下側が溶湯内に開口されたフロート内部空洞内に制御
された圧力のガスを供給して溶湯の湯面を所定の給湯湯
面まで上昇させることにより移送管を介して所定量の溶
湯を溶湯供給先に供給することを特徴とするものであ
る。
【０００５】本発明による溶湯供給装置は、溶湯を貯留
する保持炉と、溶湯内に浸漬されフロート駆動装置によ
り昇降されて溶湯の湯面を上下動させるフロートと、溶
湯を溶湯供給先に移送する移送管と、溶湯の湯面を検知
する湯面検知センサと、この湯面検知センサからの信号
に基づいてフロート駆動装置を作動させて溶湯の湯面が
溶湯供給先に供給がなされる前の定湯面となるように制
御する制御器を備えてなる溶湯供給装置において、フロ
ート内に形成されて下側が溶湯内に開口されたフロート
内部空洞と、このフロート内部空洞内にガスを供給する
ガス供給装置を備え、制御器は溶湯の湯面が定湯面とな
るように制御した状態においてガス供給装置の作動を制
御することによりフロート内部空洞内に制御された圧力
のガスを供給して溶湯の湯面を所定の給湯湯面まで上昇
させることにより移送管を介して所定量の溶湯を溶湯供
給先に供給することを特徴とするものである。
する保持炉と、溶湯内に浸漬されフロート駆動装置によ
り昇降されて溶湯の湯面を上下動させるフロートと、溶
湯を溶湯供給先に移送する移送管と、溶湯の湯面を検知
する湯面検知センサと、この湯面検知センサからの信号
に基づいてフロート駆動装置を作動させて溶湯の湯面が
溶湯供給先に供給がなされる前の定湯面となるように制
御する制御器を備えてなる溶湯供給装置において、フロ
ート内に形成されて下側が溶湯内に開口されたフロート
内部空洞と、このフロート内部空洞内にガスを供給する
ガス供給装置を備え、制御器は溶湯の湯面が定湯面とな
るように制御した状態においてガス供給装置の作動を制
御することによりフロート内部空洞内に制御された圧力
のガスを供給して溶湯の湯面を所定の給湯湯面まで上昇
させることにより移送管を介して所定量の溶湯を溶湯供
給先に供給することを特徴とするものである。
【０００６】前項の発明のガス供給装置は、制御器によ
り制御されてフロート内部空洞内に不活性ガスを給排す
るシリンダでとすることが好ましい。
り制御されてフロート内部空洞内に不活性ガスを給排す
るシリンダでとすることが好ましい。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は、本発明による溶湯供給装
置の一実施の形態を示す。この実施の形態の溶湯供給装
置は、保持炉１０と、フロート１１と、フロート駆動装
置１３と、湯面検知センサ１５と、保持炉１０内の溶湯
１６を射出スリーブ（溶湯供給先）１７に供給する移送
管１４と、制御器２０よりなるものである。
置の一実施の形態を示す。この実施の形態の溶湯供給装
置は、保持炉１０と、フロート１１と、フロート駆動装
置１３と、湯面検知センサ１５と、保持炉１０内の溶湯
１６を射出スリーブ（溶湯供給先）１７に供給する移送
管１４と、制御器２０よりなるものである。
【０００８】アルミニウムなどの溶湯１６を貯留する保
持炉１０の上部には制御器２０により制御されるフロー
ト駆動装置１３が設けられ、溶湯１６内に浸漬されるフ
ロート１１は上部の突出部１１ａがこのフロート駆動装
置１３により支持されて昇降され、これにより溶湯１６
の湯面は上下動される。フロート１１は例えば窒化珪素
などのアルミニウムとは反応しないセラミックス製で、
その下半部は溶湯１６内に浸漬され、またフロート１１
の内部には溶湯１６内となる底面に下側が開口され上側
が閉じたフロート内部空洞１２が同軸的に形成されてい
る。
持炉１０の上部には制御器２０により制御されるフロー
ト駆動装置１３が設けられ、溶湯１６内に浸漬されるフ
ロート１１は上部の突出部１１ａがこのフロート駆動装
置１３により支持されて昇降され、これにより溶湯１６
の湯面は上下動される。フロート１１は例えば窒化珪素
などのアルミニウムとは反応しないセラミックス製で、
その下半部は溶湯１６内に浸漬され、またフロート１１
の内部には溶湯１６内となる底面に下側が開口され上側
が閉じたフロート内部空洞１２が同軸的に形成されてい
る。
【０００９】保持炉１０の上壁には例えばレーザ式など
の非接触式の湯面検知センサ１５が設けられ、検出され
た溶湯１６の湯面の位置（高さ）は制御器２０に出力さ
れる。また保持炉１０の側壁に形成された溶湯出口１０
ａは移送管１４を介して射出スリーブ１７に形成した注
湯口１７ａに接続され、射出スリーブ１７内に供給され
た溶湯１６はプランジャチップ１８の前進によりにより
ダイカストマシンの金型のキャビティ内に射出されるよ
うになっている。
の非接触式の湯面検知センサ１５が設けられ、検出され
た溶湯１６の湯面の位置（高さ）は制御器２０に出力さ
れる。また保持炉１０の側壁に形成された溶湯出口１０
ａは移送管１４を介して射出スリーブ１７に形成した注
湯口１７ａに接続され、射出スリーブ１７内に供給され
た溶湯１６はプランジャチップ１８の前進によりにより
ダイカストマシンの金型のキャビティ内に射出されるよ
うになっている。
【００１０】フロート内部空洞１２は制御バルブ２３を
介してシリンダ（ガス供給装置）２１に接続されてお
り、シリンダ２１は駆動装置２２を介して制御器２０に
より作動される。制御バルブ２３は制御器２０により制
御されて、シリンダ２１をフロート内部空洞１２側と不
活性ガス供給源２４側とに切り換えるものである。
介してシリンダ（ガス供給装置）２１に接続されてお
り、シリンダ２１は駆動装置２２を介して制御器２０に
より作動される。制御バルブ２３は制御器２０により制
御されて、シリンダ２１をフロート内部空洞１２側と不
活性ガス供給源２４側とに切り換えるものである。
【００１１】次に上述した溶湯供給装置の作動の説明を
する。射出スリーブ１７内の溶湯１６をダイカストマシ
ンの金型のキャビティ内に射出してプランジャチップ１
８が後退した状態では、射出スリーブ１７の注湯口１７
ａは開口している。この状態において、制御器２０は駆
動装置２２を介してシリンダ２１のピストンを所定の最
後退位置とし、また制御バルブ２３を制御してシリンダ
２１の不活性ガスの内圧を大気圧とし、これによりフロ
ート内部空洞１２内の溶湯１６の湯面は保持炉１０内の
定湯面Ｌ0 と一致する。そして制御器２０はフロート駆
動装置１３によりフロート１１の上下位置を移動させ、
湯面検知センサ１５により検出した湯面が定湯面Ｌ0 、
すなわち注湯口１７ａから射出スリーブ１７内に溶湯１
６が供給される直前の所定の湯面となるように、フロー
ト１１の上下位置位置を調整する。
する。射出スリーブ１７内の溶湯１６をダイカストマシ
ンの金型のキャビティ内に射出してプランジャチップ１
８が後退した状態では、射出スリーブ１７の注湯口１７
ａは開口している。この状態において、制御器２０は駆
動装置２２を介してシリンダ２１のピストンを所定の最
後退位置とし、また制御バルブ２３を制御してシリンダ
２１の不活性ガスの内圧を大気圧とし、これによりフロ
ート内部空洞１２内の溶湯１６の湯面は保持炉１０内の
定湯面Ｌ0 と一致する。そして制御器２０はフロート駆
動装置１３によりフロート１１の上下位置を移動させ、
湯面検知センサ１５により検出した湯面が定湯面Ｌ0 、
すなわち注湯口１７ａから射出スリーブ１７内に溶湯１
６が供給される直前の所定の湯面となるように、フロー
ト１１の上下位置位置を調整する。
【００１２】次いで制御器２０は駆動装置２２を介して
シリンダ２１のピストンを、溶湯供給先１７から１回に
射出すべき溶湯１６の量に応じて予め設定された所定距
離前進させ、この前進距離に応じてフロート内部空洞１
２内の圧力を上昇させて、フロート内部空洞１２内の湯
面を破線の位置まで押し下げる。これにより保持炉１０
内の湯面は破線で示す予め設定された給湯湯面Ｌまで上
昇し、保持炉１０内の溶湯１６の一部は移送管１４を通
って射出スリーブ１７内に移動され、射出スリーブ１７
内の湯面も保持炉１０内と同じ給湯湯面Ｌまで上昇され
る。この状態において制御器２０はプランジャチップ１
８を前進させ、プランジャチップ１８が注湯口１７ａを
遮断した後は射出スリーブ１７内の溶湯１６はランナを
介してダイカストマシンの金型のキャビティ内に射出充
填される。
シリンダ２１のピストンを、溶湯供給先１７から１回に
射出すべき溶湯１６の量に応じて予め設定された所定距
離前進させ、この前進距離に応じてフロート内部空洞１
２内の圧力を上昇させて、フロート内部空洞１２内の湯
面を破線の位置まで押し下げる。これにより保持炉１０
内の湯面は破線で示す予め設定された給湯湯面Ｌまで上
昇し、保持炉１０内の溶湯１６の一部は移送管１４を通
って射出スリーブ１７内に移動され、射出スリーブ１７
内の湯面も保持炉１０内と同じ給湯湯面Ｌまで上昇され
る。この状態において制御器２０はプランジャチップ１
８を前進させ、プランジャチップ１８が注湯口１７ａを
遮断した後は射出スリーブ１７内の溶湯１６はランナを
介してダイカストマシンの金型のキャビティ内に射出充
填される。
【００１３】溶湯の射出充填後は、制御器２０はプラン
ジャチップ１８を図１に示す状態に後退させ、前述と同
様、シリンダ２１のピストンを所定の最後退位置とし、
シリンダ２１内を大気圧とし、また保持炉１０内の湯面
が定湯面Ｌ0 となるようにフロート１１の、上下位置を
調整して次のショットに備える。１ショット毎にシリン
ダ２１からフロート内部空洞１２に給排される不活性ガ
スが外部に漏れる量は少ないが、不活性ガスの量が減少
した場合は、シリンダ２１のピストンを後退位置とする
際に制御器２０により制御バルブ２３を切り換えて、不
活性ガス供給源２４からシリンダ２１内に不活性ガスを
吸入するようにすればよい。１ショット毎に溶湯１６は
射出スリーブ１７内に供給されるので保持炉１０内の湯
面は次第に低下するとともにフロート１１も下降し、こ
れが所定レベルとなれば溶湯補充装置（図示省略）によ
り保持炉１０内に溶湯１６が補充される。これにより湯
面が上昇すれば、制御器２０により制御されるフロート
１１の位置も上昇される。
ジャチップ１８を図１に示す状態に後退させ、前述と同
様、シリンダ２１のピストンを所定の最後退位置とし、
シリンダ２１内を大気圧とし、また保持炉１０内の湯面
が定湯面Ｌ0 となるようにフロート１１の、上下位置を
調整して次のショットに備える。１ショット毎にシリン
ダ２１からフロート内部空洞１２に給排される不活性ガ
スが外部に漏れる量は少ないが、不活性ガスの量が減少
した場合は、シリンダ２１のピストンを後退位置とする
際に制御器２０により制御バルブ２３を切り換えて、不
活性ガス供給源２４からシリンダ２１内に不活性ガスを
吸入するようにすればよい。１ショット毎に溶湯１６は
射出スリーブ１７内に供給されるので保持炉１０内の湯
面は次第に低下するとともにフロート１１も下降し、こ
れが所定レベルとなれば溶湯補充装置（図示省略）によ
り保持炉１０内に溶湯１６が補充される。これにより湯
面が上昇すれば、制御器２０により制御されるフロート
１１の位置も上昇される。
【００１４】上述した実施の形態によれば、溶湯１６内
に浸漬したフロート１１を昇降させて湯面を定湯面Ｌ0
とし、その後にフロート内部空洞１２内にシリンダ２１
からの制御された圧力の不活性ガスを供給して移送管１
４を介して所定量の溶湯１６をダイカストマシンの射出
スリーブ１７に供給しており、溶湯１６内に浸漬される
フロート１１に摺動面がないのでフロート１１の構造は
簡略化され、摺動の不調により故障を生じることはなく
なる。またフロート内部空洞１２の横断面積はフロート
１１の横断面積よりも小さいので、フロート内部空洞１
２内に供給するガス圧の制御精度をそれほど向上させな
くても、給湯量の精度を向上させることができる。
に浸漬したフロート１１を昇降させて湯面を定湯面Ｌ0
とし、その後にフロート内部空洞１２内にシリンダ２１
からの制御された圧力の不活性ガスを供給して移送管１
４を介して所定量の溶湯１６をダイカストマシンの射出
スリーブ１７に供給しており、溶湯１６内に浸漬される
フロート１１に摺動面がないのでフロート１１の構造は
簡略化され、摺動の不調により故障を生じることはなく
なる。またフロート内部空洞１２の横断面積はフロート
１１の横断面積よりも小さいので、フロート内部空洞１
２内に供給するガス圧の制御精度をそれほど向上させな
くても、給湯量の精度を向上させることができる。
【００１５】また上述した実施の形態では、湯面を定湯
面Ｌ0 から給湯湯面Ｌにする際にフロート内部空洞１２
に供給するガスを不活性ガスとしたので、溶湯１６の酸
化などによる品質の低下は防止される。また不活性ガス
をシリンダ２１により給排するようにしたので、射出ス
リーブ１７への給湯速度および給湯精度を向上させ、不
活性ガスの消費量を減少させることができる。しかしな
がら本発明はこれに限られるものではなく、シリンダの
代わりに制御器２０により制御される弁装置によりフロ
ート内部空洞１２に供給するガス圧を制御するようにし
て実施することも可能である。
面Ｌ0 から給湯湯面Ｌにする際にフロート内部空洞１２
に供給するガスを不活性ガスとしたので、溶湯１６の酸
化などによる品質の低下は防止される。また不活性ガス
をシリンダ２１により給排するようにしたので、射出ス
リーブ１７への給湯速度および給湯精度を向上させ、不
活性ガスの消費量を減少させることができる。しかしな
がら本発明はこれに限られるものではなく、シリンダの
代わりに制御器２０により制御される弁装置によりフロ
ート内部空洞１２に供給するガス圧を制御するようにし
て実施することも可能である。
【００１６】なお、上述した実施の形態では、保持炉１
０内の溶湯１６を移送管１４を通してダイカストマシン
の射出スリーブ１７に供給する例について説明したが、
本発明はこれに限らず、保持炉１０内の溶湯１６を移送
管１４を通して重力式鋳造装置のホッパなどに供給する
ようにして実施することもできる。また湯面検知センサ
１５も上述した実施の形態のようにレーザ式のものに限
らず、超音波式の非接触式湯面検知センサを使用しても
よいし、あるいはフロート式湯面検知センサなどの接触
式のものを使用してもよい。
０内の溶湯１６を移送管１４を通してダイカストマシン
の射出スリーブ１７に供給する例について説明したが、
本発明はこれに限らず、保持炉１０内の溶湯１６を移送
管１４を通して重力式鋳造装置のホッパなどに供給する
ようにして実施することもできる。また湯面検知センサ
１５も上述した実施の形態のようにレーザ式のものに限
らず、超音波式の非接触式湯面検知センサを使用しても
よいし、あるいはフロート式湯面検知センサなどの接触
式のものを使用してもよい。
【００１７】
【発明の効果】本発明の溶湯供給方法によれば、溶湯内
に浸漬したフロートを昇降させて湯面を定湯面とし、そ
の後にフロート内部空洞内に制御された圧力のガスを供
給して移送管を介して所定量の溶湯を溶湯供給先に供給
しており、溶湯内に浸漬される部分に摺動面がないので
フロートの構造は簡略化され、機能を果たさなくなるよ
うな故障を生じるおそれは大幅に減少される。またフロ
ート内部空洞の横断面積はフロートの横断面積よりも小
さいので、フロート内部空洞内に供給するガス圧の制御
精度をそれほど向上させなくても、給湯量の精度を向上
させることができる。
に浸漬したフロートを昇降させて湯面を定湯面とし、そ
の後にフロート内部空洞内に制御された圧力のガスを供
給して移送管を介して所定量の溶湯を溶湯供給先に供給
しており、溶湯内に浸漬される部分に摺動面がないので
フロートの構造は簡略化され、機能を果たさなくなるよ
うな故障を生じるおそれは大幅に減少される。またフロ
ート内部空洞の横断面積はフロートの横断面積よりも小
さいので、フロート内部空洞内に供給するガス圧の制御
精度をそれほど向上させなくても、給湯量の精度を向上
させることができる。
【００１８】また、本発明の溶湯供給装置によれば、制
御器は、湯面検知センサからの信号に基づいてフロート
駆動装置を作動させて溶湯の湯面が定湯面となるように
制御した状態で、ガス供給装置によりフロート内部空洞
内に制御された圧力のガスを供給して移送管を介して所
定量の溶湯を溶湯供給先に供給しており、溶湯内に浸漬
される部分に摺動面がないのでフロートの構造は簡略化
され、機能を果たさなくなるような故障を生じることは
なくなる。またフロート内部空洞の横断面積はフロート
の横断面積よりも小さいので、フロート内部空洞内に供
給するガス圧の制御精度をそれほど向上させなくても、
給湯精度を向上させることができる。
御器は、湯面検知センサからの信号に基づいてフロート
駆動装置を作動させて溶湯の湯面が定湯面となるように
制御した状態で、ガス供給装置によりフロート内部空洞
内に制御された圧力のガスを供給して移送管を介して所
定量の溶湯を溶湯供給先に供給しており、溶湯内に浸漬
される部分に摺動面がないのでフロートの構造は簡略化
され、機能を果たさなくなるような故障を生じることは
なくなる。またフロート内部空洞の横断面積はフロート
の横断面積よりも小さいので、フロート内部空洞内に供
給するガス圧の制御精度をそれほど向上させなくても、
給湯精度を向上させることができる。
【００１９】前項の発明において、ガス供給装置を、制
御器により制御されてフロート内部空洞内に不活性ガス
を給排するシリンダとしたものによれば、溶湯の酸化な
どによる品質の低下は防止され、また溶湯供給先への給
湯速度および給湯精度を向上させ、不活性ガスの消費量
を減少させることができる。
御器により制御されてフロート内部空洞内に不活性ガス
を給排するシリンダとしたものによれば、溶湯の酸化な
どによる品質の低下は防止され、また溶湯供給先への給
湯速度および給湯精度を向上させ、不活性ガスの消費量
を減少させることができる。
【図１】 本発明による溶湯供給方法に使用する溶湯供
給装置一実施の形態の全体構成を示す図である。
給装置一実施の形態の全体構成を示す図である。
１０…保持炉、１１…フロート、１２…フロート内部空
洞、１３…フロート駆動装置、１４…移送管、１５…湯
面検知センサ、１６…溶湯、１７…溶湯供給先（射出ス
リーブ）、２０…制御器２、２１…ガス供給装置（シリ
ンダ）、Ｌ…給湯湯面、Ｌ0 …定湯面。
洞、１３…フロート駆動装置、１４…移送管、１５…湯
面検知センサ、１６…溶湯、１７…溶湯供給先（射出ス
リーブ）、２０…制御器２、２１…ガス供給装置（シリ
ンダ）、Ｌ…給湯湯面、Ｌ0 …定湯面。
Claims (3)
- 【請求項１】 保持炉内に貯留された溶湯内に昇降可能
にフロートを浸漬し、前記保持炉内と溶湯供給先とを移
送管により接続し、前記フロートの昇降により前記溶湯
の湯面を上下動させるようにしてなる溶湯供給方法にお
いて、前記フロートの上下位置を調整して前記溶湯の湯
面を前記溶湯供給先に供給がなされる前の定湯面とする
第１工程と、前記フロート内に形成されて下側が前記溶
湯内に開口されたフロート内部空洞内に制御された圧力
のガスを供給して前記溶湯の湯面を所定の給湯湯面まで
上昇させることにより前記移送管を介して所定量の前記
溶湯を前記溶湯供給先に供給することを特徴とする溶湯
供給方法。 - 【請求項２】 溶湯を貯留する保持炉と、前記溶湯内に
浸漬されフロート駆動装置により昇降されて前記溶湯の
湯面を上下動させるフロートと、前記溶湯を溶湯供給先
に移送する移送管と、前記溶湯の湯面を検知する湯面検
知センサと、この湯面検知センサからの信号に基づいて
前記フロート駆動装置を作動させて前記溶湯の湯面が前
記溶湯供給先に供給がなされる前の定湯面となるように
制御する制御器を備えてなる溶湯供給装置において、前
記フロート内に形成されて下側が前記溶湯内に開口され
たフロート内部空洞と、このフロート内部空洞内にガス
を供給するガス供給装置を備え、前記制御器は前記溶湯
の湯面が前記定湯面となるように制御した状態において
前記ガス供給装置の作動を制御することにより前記フロ
ート内部空洞内に制御された圧力のガスを供給して前記
溶湯の湯面を所定の給湯湯面まで上昇させることにより
前記移送管を介して所定量の前記溶湯を前記溶湯供給先
に供給することを特徴とする溶湯供給装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載の溶湯供給装置におい
て、前記ガス供給装置は、前記制御器により制御されて
前記フロート内部空洞内に不活性ガスを給排するシリン
ダであることを特徴とする溶湯供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001080633A JP2002273564A (ja) | 2001-03-21 | 2001-03-21 | 溶湯供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001080633A JP2002273564A (ja) | 2001-03-21 | 2001-03-21 | 溶湯供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002273564A true JP2002273564A (ja) | 2002-09-25 |
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ID=18936878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001080633A Pending JP2002273564A (ja) | 2001-03-21 | 2001-03-21 | 溶湯供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002273564A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2001
- 2001-03-21 JP JP2001080633A patent/JP2002273564A/ja active Pending
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