JPH09171176A - 液晶表示パネル及びその製造方法 - Google Patents

液晶表示パネル及びその製造方法

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JPH09171176A
JPH09171176A JP29882296A JP29882296A JPH09171176A JP H09171176 A JPH09171176 A JP H09171176A JP 29882296 A JP29882296 A JP 29882296A JP 29882296 A JP29882296 A JP 29882296A JP H09171176 A JPH09171176 A JP H09171176A
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color
transparent substrate
color filter
liquid crystal
crystal display
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Si-Hyun Lee
時 賢 李
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Samsung SDI Co Ltd
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SANSEI DENKAN KK
Samsung Electron Devices Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示パネル及びその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 多数の溝を有する透明基板21′と、透
明基板21′の溝に各々形成された第1色、第2色及び
第3色のカラーフィルター26′,27′,28′と、
カラーフィルター上に形成された保護膜23′と、保護
膜23′の上部に形成された電極層24′を含む。本発
明によれば、色再現性及び色特性の改善された液晶表示
パネルを製造しうる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示パネル及び
その製造方法に係り、特に平坦度の優秀なカラーフィル
ターを採用することにより色再現の範囲が広がり、色特
性の向上された液晶表示パネル及びその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】最近、脚光を浴びている液晶表示装置は
陰極線管を用いた表示装置に比べて軽く小さくて携帯が
簡便である。また、人体に有害な電子波が出ない長所が
ある。従って、液晶表示装置は電子計算器の小型表示部
からノート型パソコンの大型表示部に当たって広範に使
用されている。
【0003】従来の液晶表示パネルの構造は図1に示さ
れたようである。これに基づき液晶表示パネルの製造方
法を説明すれば次のようである。
【0004】基板11上にブラックマトリックス15を
形成した後、その間に赤色(R)カラーフィルター1
6、緑色(G)カラーフィルター17及び青色(B)カ
ラーフィルター18を形成させる。この際ブラックマト
リックス15及び赤色、緑色及び青色のカラーフィルタ
ー16、17及び18を総称してカラーフィルター層と
称する。このカラーフィルター層上には平坦性及び耐薬
品性を満足させるための保護膜13を形成させ、その上
部にはITO電極層14を形成する。
【0005】前記R,G及びBカラーフィルターの形成
時、まず赤色の着色樹脂組成物を基板11の全面に塗布
した後、フォトマスクを利用し露光、現像して赤色のカ
ラーフィルター16を形成させる。
【0006】その後、緑色と青色に対した前記過程を同
一に繰り返して緑色および青色のカラーフィルター17
および18を形成させる。
【0007】一般的な感光性着色樹脂組成物は結合用樹
脂、顔料、分散剤、光重合性モノマー、光重合開示剤、
希釈溶剤及び添加剤で構成される。このような感光性着
色樹脂組成物は次のような手続により製造される。
【0008】とりあえず、結合用樹脂及び顔料を分散剤
と混合して顔料成分を樹脂中に充分に分散させる。その
後、ここにこのような光重合性モノマーと光重合開示剤
らを合わせる。前記混合物を適当な濃度の溶剤に希釈す
ると感光性樹脂組成物が得られる。
【0009】前記方法により液晶表示パネルを製造する
場合、着色樹脂組成物を基板の全面に塗布するので基板
の不要な部分にまで着色樹脂組成物が使用されることに
なり、材料の利用率が非常に低い。また、カラーフィル
ター形成用の感光性着色樹脂組成物での感光剤及び結合
用樹脂が占める比率が50%以上となるので顔料の比率
は低くなる。
【0010】一方、保護膜はカラーフィルターとITO
電極層との間に形成させることが一般的である。このよ
うな保護膜の形成前後、基板の全面を平坦化させる研磨
工程を経るべきである。前記のように通常的な液晶表示
パネルの製造方法は複雑なだけでなく、この方法により
製造された液晶表示パネルは色再現範囲が低く、色特性
が低下する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は別の研
磨工程が無くても優秀な平坦度を有するカラーフィルタ
ーを利用することにより色再現性が高く色特性が向上さ
れた液晶表示パネルを提供することにある。
【0012】本発明の他の目的は前記液晶表示パネルを
製造する方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、多数の溝を有する透明基板と、前記透明基
板の溝に各々形成された第1色、第2色及び第3色のカ
ラーフィルターと、前記カラーフィルター上に形成され
た保護膜と、前記保護膜の上部に形成された電極層を具
備することを特徴とする液晶表示パネルを提供する。
【0014】本発明の他の目的は、多数の溝を有する透
明基板と、前記透明基板の溝に各々形成されたブラック
マトリックスと第1色、第2色及び第3色のカラーフィ
ルターよりなるカラーフィルター層と、前記カラーフィ
ルター層上に形成された保護膜と、前記保護膜の上部に
形成された電極層を具備することを特徴とする液晶表示
パネルにより達成される。
【0015】前記透明基板内の蝕刻の深さは透明基板の
厚さの1/5以下であることが望ましい。そしてこの条
件下では透明基板上にヘーズが生じなく、カラーフィル
ターの透過率及び色特性が優秀である。
【0016】本発明の他の目的はまた(a−1)透明基
板上にフォトレジスト層を形成して所定部位を露光、現
像してフォトレジストパターンを形成し、このフォトレ
ジストパターンを用いて透明基板を蝕刻して複数の溝を
形成する段階と、(b−1)フォトレジストを除去した
後、前記溝に第1色の着色樹脂組成物を付加して第1色
のカラーフィルターを形成する段階と、(c−1)第2
色と第3色に対した前記a−1及びb−1段階を繰返し
て第2色及び第3色のカラーフィルターを各々形成する
段階と、(d−1)前記カラーフィルター上に保護膜と
電極層を順次的に形成する段階を含むことを特徴とする
液晶表示パネルの製造方法により達成される。
【0017】本発明の他の目的はまた(a−2)透明基
板上にフォトレジストを塗布して所定部位を露光、現像
してフォトレジストパターンを形成し、このフォトレジ
ストパターンを用いて透明基板を蝕刻して溝を形成する
段階と、(b−2)前記溝に第1色の着色樹脂組成物を
付加して第1色のカラーフィルターを形成する段階と、
(c−2)前記第1色のカラーフィルターが形成された
透明基板の第1色カラーフィルター部分を除く所定部位
を露光、現像してフォトレジストパターンを形成し、こ
のフォトレジストパターンを用いて透明基板を蝕刻して
溝を形成し、第2色の着色樹脂組成物を付加して第2色
のカラーフィルターを形成する段階と、(d−2)前記
第1色及び第2色のカラーフィルターが形成された透明
基板の第1色及び第2色カラーフィルター部分を除く所
定部位を露光、現像してフォトレジストパターンを形成
し、このフォトレジストパターンを用いて透明基板を蝕
刻して溝を形成し、第3色の着色樹脂組成物を付加して
第3色のカラーフィルターを形成する段階と、(e−
2)透明基板上部のカラーフィルターとフォトレジスト
パターンを除去する段階と、(f−2)前記第1色、第
2色及び第3色のカラーフィルターが形成された透明基
板の上部に保護膜と電極層を順次的に形成する段階を含
むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法により達
成される。
【0018】本発明の他の目的はまた(a−3)透明基
板をペースト状の蝕刻剤を用いて蝕刻することにより透
明基板内に複数の溝を形成する段階と、(b−3)前記
溝の中一部の溝に第1色の着色樹脂組成物を付加し、残
り溝にはフォトレジストを付加した後、露光現像して第
1色のカラーフィルターを形成する段階と、(c−3)
第2色と第3色に対した前記段階b−3を繰返して第2
色及び第3色のカラーフィルターを順次的に形成する段
階と、(d−3)前記第1色、第2色及び第3色カラー
フィルターが形成された透明基板の上部に保護膜と電極
層を順次的に形成する段階を含むことを特徴とする液晶
表示パネルの製造方法により達成される。 本発明の他
の目的はまた(a−4)透明基板をペースト状の蝕刻剤
を利用して蝕刻することにより透明基板内に複数の溝を
形成する段階と、(b−4)前記複数の溝に第1色の着
色樹脂組成物を付加した後、フォトマスクを利用して露
光、現像して第1色のカラーフィルターを形成する段階
と、(c−4)第2色と第3色に対した前記b−4段階
を繰返して第2色及び第3色のカラーフィルターを順次
的に形成する段階と、(d−4)前記第1色、第2色及
び第3色カラーフィルターが形成された透明基板の上部
に保護膜と電極層を順次的に形成する段階を含むことを
特徴とする液晶表示パネルの製造方法により達成され
る。
【0019】前記フォトレジスト層の厚さは1〜1.5
μm であることが望ましい。
【0020】前記溝に着色樹脂組成物を付加する場合、
ドクターブレード法(doctor bladecoater)を利用す
る。そして前記透明基板を蝕刻する場合、フッ酸と塩酸
の混合溶液のような蝕刻液を使用して蝕刻したりサンド
ブラスチング法を利用して蝕刻する。ここで、サンドブ
ラスチング法は基板に一定の圧力の砂、アルミナ等のよ
うな微粒子を噴射することにより蝕刻する方法である。
【0021】
【発明の実施の形態】図2及び図3は本発明による液晶
表示パネルの構造を各々示したものである。図2を参照
すれば、透明基板21′内に形成された溝内に第1色、
第2色及び第3色のカラーフィルター26′、27′及
び28′が各々形成されている。この際前記カラーフィ
ルターの上面は透明基板21′の表面と同じ高さで形成
されている。
【0022】前記カラーフィルター26′、27′及び
28′の上部には保護膜23′と電極層24′が順次的
に形成されている。
【0023】前記のような構造を有する液晶表示パネル
でのブラックマトリックス(図示せず)は反対電極層の
形成された他の基板上に形成されている。
【0024】図3に示された液晶表示パネルは図2に示
された液晶表示パネルとは異なってブラックマトリック
ス25が各カラーフィルターの間に形成され、それらの
上部には保護膜23と電極層24が順次的に形成されて
いる。
【0025】図4A〜C、図5A〜Cはフォトリソグラ
フィ法を用いて本発明の望ましい一実施の形態による液
晶表示パネルの製造方法を示した図面である。この方法
ではフォトリソグラフィ法を用いて透明基板内に溝を形
成し、形成された溝に着色樹脂組成物を付加してカラー
フィルターを形成する。
【0026】透明基板21上にフォトレジスト層9を形
成する。この際フォトレジスト塗布層の厚さは1〜1.
5μm であることが望ましい。そのフォトレジスト層9
の所定部位を露光、現像してフォトレジストパターンを
形成させる(図4A)。
【0027】前記フォトレジストパターン及びフッ酸と
塩酸との混合蝕刻溶液を利用して前記透明基板21を蝕
刻して溝を形成する(図4B)。この際、蝕刻の深さは
使用される蝕刻溶液のフッ酸と塩酸の比率、蝕刻時間等
により変わる。蝕刻の深さは透明基板の厚さの1/5以
下であることが望ましい。
【0028】透明基板21上部のフォトレジストパター
ンを完全に除去する。その後、第1色として例えば赤色
の着色樹脂組成物10をドクターブレード31を用いて
形成された溝に付加して赤色のカラーフィルター26を
形成する(図4C、図5A)。第2色として例えば緑色
の着色樹脂組成物32と第3色として例えば青色の着色
樹脂組成物33を使用して前記過程を繰返し、緑色のカ
ラーフィルター27及び青色のカラーフィルター28を
各々形成させる(図5A〜C)。その後、前記カラーフ
ィルター形成時のように、透明基板内に形成されたカラ
ーフィルターの間にブラックマトリックスを形成してカ
ラーフィルター層を形成する。
【0029】前記赤色、緑色、青色のカラーフィルター
上に保護膜とITO電極層を順次的に形成させると図2
の液晶表示パネルが完成される。
【0030】図6A〜C、図7A〜Cは本発明の望まし
い他の実施の形態による液晶表示パネルの製造方法を示
した図面である。この方法ではカラーフィルターの形成
前後、フォトレジストを除去して再び塗布する繰返し過
程を経なく、一回塗布されたフォトレジスト層が続けて
利用される。まず、透明基板21上にフォトレジスト9
を塗布する。フォトレジスト9の所定部位を露光、現像
してパターンを形成させる(図6A)。この際、形成さ
れたパターン及びフッ酸と塩酸との混合溶液を利用して
透明基板21を蝕刻して複数の溝を形成する(図6
B)。
【0031】前記溝にドクターブレード31を利用して
第1色として例えば赤色の着色樹脂組成物10を付加し
て赤色のカラーフィルター26を形成する(図6C、図
7A)。
【0032】次いで、前記赤色のカラーフィルターが形
成された透明基板21のフォトレジスト層の所定部位を
露光、現像して透明基板に複数の溝を形成した後、第2
色として例えば緑色の着色樹脂組成物32を付加して緑
色のカラーフィルター27を形成する(図7A〜B)。
第3色として例えば青色の着色樹脂組成物33を使用
して、前記のような過程を繰返して青色のカラーフィル
ター28を形成する(図7B)。
【0033】透明基板21の表面上部のカラーフィルタ
ーとフォトレジストパターンを完全に除去してカラーフ
ィルター26、27及び28を形成する(図7C)。そ
の後、前記カラーフィルターの形成時のように透明基板
内に形成されたカラーフィルターの間にブラックマトリ
ックスを形成してカラーフィルター層を形成する。
【0034】前記カラーフィルター層上に保護膜を形成
した後、その上部にITO電極層を形成させて液晶表示
パネルを完成する。
【0035】図8A〜C、図9A〜Cは本発明の望まし
いさらに他の実施の形態による液晶表示パネルの製造方
法を示す図面であって、ここでは印刷法が利用される。
【0036】まず、スクリーン印刷またはオフセット印
刷等の印刷法を用いて透明基板21の内部に複数の溝を
形成する。即ち、ペースト状態の蝕刻材料19を利用し
て透明基板を蝕刻させる。蝕刻後洗浄すれば透明基板1
の内部に複数の溝が形成される(図8A〜C)。
【0037】前記複数の溝の中、一部に第1色として例
えば赤色の着色樹脂組成物10を付加し、残り溝にはフ
ォトレジスト59を付加する(図9A)。これを露光、
現像して赤色のカラーフィルター26を形成する。着色
樹脂組成物またはフォトレジストを溝に付加する場合、
ドクターブレード31を利用する。
【0038】前記溝の中、一部に第2色として例えば緑
色の着色樹脂組成物32を付加し、残り溝にはフォトレ
ジスト59を付加する(図9B)。前記緑色の着色樹脂
組成物32を付加し、残り溝にはフォトレジスト59を
付加した透明基板21を赤色のカラーフィルターの形成
時のように露光、現像して緑色のカラーフィルター27
を形成する。残り溝に第3色として例えば青色の着色樹
脂組成物を付加して青色のカラーフィルター28を形成
する(図9C)。この製造方法は前記でわかるように非
常に簡便な方法であるので液晶表示パネルの大量生産が
できる。
【0039】図10A〜C、図11A〜C、図12A〜
Cは本発明の望ましいさらに他の実施の形態による液晶
表示パネルの製造方法を示す図面であって、ここでは印
刷法が利用される。前記方法のように蝕刻ペースト19
を使用して複数の溝を形成する(図10A〜C)。
【0040】前記全ての溝に第1色として例えば赤色の
着色樹脂組成物10を付加する(図11A)。マスクを
利用して露光、現像し、赤色のカラーフィルター26を
形成する(図11B〜C)。前記溝に第2色として例え
ば緑色の着色樹脂組成物32を付加する(図12A)。
マスクを用いて露光、現像して緑色のカラーフィルター
27を形成する(図12B)。
【0041】その後、前記過程を繰返して青色のカラー
フィルター28を形成する(図12C)。
【0042】なお、上記の赤色、緑色、青色の形成順序
は本発明の一例を示したに過ぎず、その形成順序を変更
することを何等規制するものではない。
【0043】以下、本発明を実施例に基づき詳しく説明
するが、本発明が必ずしもこれに限定されることではな
い。
【0044】
【実施例】
(第1実施例)透明基板上に約1.2μm の厚さのフォ
トレジスト層を形成した。フォトレジスト層の所定部位
を露光、現像してパターンを形成した。その後、フッ酸
と塩酸との混合溶液を利用して透明基板を蝕刻し、約
0.6μm の深さを有する複数の溝を形成した。
【0045】透明基板上部のフォトレジストを除去し
た。その後、形成された溝に赤色の着色樹脂組成物を付
加して赤色のカラーフィルターを形成した。この際、赤
色の着色樹脂組成物は赤色顔料のリオトロゲンレッド
(liotrogen red )GD(日本東洋インキ社)、結合用樹
脂のアクリル樹脂、光重合性モノマーのペンタエリトリ
トールテトラアクリル酸及び分散剤のフタロシアニジン
銅誘導体を含んだ。
【0046】緑色と青色に対した前記過程を同一に繰返
して緑色及び青色のカラーフィルターを形成した。この
際、緑色の顔料としてはイオノールグリンYS(ionolg
rin:日本東洋インキ社)を、青色顔料としてはイオノ
ールブルES(ionolbul:日本東洋インキ社)を使用し
た。
【0047】前記カラーフィルターの間にブラックマト
リックスパターンを作ってカラーフィルター層を形成し
た。カラーフィルター層の上部に保護膜を形成した後、
前記保護膜の上部にITO電極層を順次的に形成した。
【0048】(第2実施例)スクリーン印刷方法を用い
て透明基板を蝕刻して約0.6μm の深さを有する複数
の溝を形成した。この際、蝕刻材料としては塩酸とフッ
酸のペースト混合物を利用した。前記溝に赤色顔料のリ
オトロゲンレッド(liotrogen red )GD(日本東洋イン
キ社)、アクリル樹脂、光重合性モノマーのペンタエリ
トリトールテトラアクリル酸、分散剤のフタロシアニジ
ン銅誘導体を含む赤色の着色樹脂組成物を付加し、マス
クを利用して露光、現像して赤色のカラーフィルターを
形成した。
【0049】緑色と青色に対した前記過程を繰返して緑
色及び青色のカラーフィルターを順次的に形成した。
【0050】この際、緑色の顔料としてはイオノールグ
リンYS(ionolgrin :日本東洋インキ社)を、青色顔
料としてはイオノールブルES(ionolbul:日本東洋イ
ンキ社)を使用した。 前記カラーフィルターの間にブ
ラックマトリックスパターンを形成してカラーフィルタ
ー層を作る。次いで前記カラーフィルター層の上部に保
護膜とITO電極層を順次的に形成した。
【0051】(比較例)一般的な方法を使用して透明基
板基板上にブラックマトリックスとカラーフィルターよ
りなるカラーフィルター層を形成した。この際、使用し
た着色樹脂組成物は顔料に対したアクリル樹脂、光重合
性モノマー、分散剤の含量が少ないことを除いては実施
例と同一に使用した。
【0052】前記第1実施例及び比較例により製造され
た液晶表示パネルでのカラーフィルター層の平坦度と材
料の利用率を測定した。ここで、カラーフィルター層の
平坦度はカラーフィルター層の厚さの偏差を意味する。
【0053】その測定結果、比較例により製造されたカ
ラーフィルター層の平坦度は約0.1μm であり、材料
の利用率が約10%であることに比べ、第1実施例によ
り製造されたカラーフィルター層の平坦度は0.01〜
0.02μm であり、材料の利用率は約90%であっ
た。前記でわかるように、第1実施例と比較例の場合は
材料の利用率で多くの差を示す。即ち、比較例の場合は
各色相の着色樹脂組成物を基板の全面に塗布してカラー
フィルター層を形成させ、実施例の場合はドクターブレ
ード法を利用して各色相の着色樹脂組成物を透明基板内
の溝に選択的に付加してカラーフィルター層を形成す
る。従って、第1実施例により製造されたカラーフィル
ター層の材料利用率が比較例の場合より大きい。
【0054】また、第1、2実施例の着色樹脂組成物は
比較例の場合より顔料に対した結合用樹脂または感光剤
の比率が著しく低いことがわかる。その結果、実施例の
場合が比較例の場合より液晶表示パネルの色再現性及び
色特性がさらに向上された。
【0055】
【発明の効果】本発明によれば、透明基板内に第1色、
第2色及び第3色のカラーフィルターを形成することに
より材料の利用率とカラーフィルター層の平坦度の特性
が向上される。またカラーフィルター層の形成時使用さ
れる着色樹脂組成物で顔料に対した感光剤や結合用樹脂
の比率が著しく小さいので色再現性及び色特性の改善が
される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来の液晶表示パネルの構造を示した図面で
ある。
【図2】 本発明による液晶表示パネルの構造を示した
図面である。
【図3】 本発明による液晶表示パネルの構造を示した
図面である。
【図4】 本発明の望ましい一実施の形態による液晶表
示パネルの製造過程を段階的に示す図面である。
【図5】 本発明の望ましい一実施の形態による液晶表
示パネルの製造過程を段階的に示す図面である。
【図6】 本発明の望ましいさらに他の実施の形態によ
る液晶表示パネルの製造過程を段階的に示す図面であ
る。
【図7】 本発明の望ましいさらに他の実施の形態によ
る液晶表示パネルの製造過程を段階的に示す図面であ
る。
【図8】 本発明の望ましいさらに他の実施の形態によ
る液晶表示パネルの製造過程を段階的に示す図面であ
る。
【図9】 本発明の望ましいさらに他の実施の形態によ
る液晶表示パネルの製造過程を段階的に示す図面であ
る。
【図10】 本発明の望ましいさらに他の実施の形態に
よる液晶表示パネルの製造過程を段階的に示す図面であ
る。
【図11】 本発明の望ましいさらに他の実施の形態に
よる液晶表示パネルの製造過程を段階的に示す図面であ
る。
【図12】 本発明の望ましいさらに他の実施の形態に
よる液晶表示パネルの製造過程を段階的に示す図面であ
る。
【符号の説明】
9…フォトレジスト層、 10…着色樹脂組成物、 11…基板、 13…保護膜、 14…ITO電極層、 15…ブラックマトリックス、 16…赤色(R)カラーフィルター、 17…緑色(G)カラーフィルター、 18…青色(B)カラーフィルター、 19…蝕刻材料、 21…透明基板、 23…保護膜、 24…ITO電極層、 25…ブラックマトリックス、 26…赤色のカラーフィルター、 27…緑色のカラーフィルター、 28…青色のカラーフィルター、 31…ドクターブレード、 32…緑色の着色樹脂組成物、 33…青色の着色樹脂組成物、 59…フォトレジスト、 21′…透明基板、 23′…保護膜、 24′…電極層、 26′…第1色のカラーフィルター、 27′…第2色のカラーフィルター、 28′…第3色のカラーフィルター。

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多数の溝を有する透明基板と、 前記透明基板の溝に各々形成された赤色、緑色及び青色
    のカラーフィルターと、 前記カラーフィルター上に形
    成された保護膜と、 前記保護膜の上部に形成された電極層を具備することを
    特徴とする液晶表示パネル。
  2. 【請求項2】 前記カラーフィルターの上面が透明基板
    の表面と同じ高さで形成されることを特徴とする請求項
    1に記載の液晶表示パネル。
  3. 【請求項3】 前記透明基板内に形成されたカラーフィ
    ルターの深さが前記透明基板の厚さの1/5以下である
    ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。
  4. 【請求項4】 多数の溝を有する透明基板と、 前記透明基板の溝に各々形成されたブラックマトリック
    スと赤色、緑色及び青色のカラーフィルターよりなるカ
    ラーフィルター層と、 前記カラーフィルター層上に形成された保護膜と、 前記保護膜の上部に形成された電極層を具備することを
    特徴とする液晶表示パネル。
  5. 【請求項5】 前記カラーフィルター層の上面が透明基
    板の表面と同じ高さで形成されることを特徴とする請求
    項4に記載の液晶表示パネル。
  6. 【請求項6】 前記透明基板内に形成されたカラーフィ
    ルター層の深さが前記透明基板の厚さの1/5以下であ
    ることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示パネル。
  7. 【請求項7】 (a−1)透明基板上にフォトレジスト
    層を形成して所定部位を露光、現像してフォトレジスト
    パターンを形成し、このフォトレジストパターンを用い
    て透明基板を蝕刻して複数の溝を形成する段階と、 (b−1)前記フォトレジストを除去した後、前記溝に
    第1の着色樹脂組成物を付加して第1色のカラーフィル
    ターを形成する段階と、 (c−1)前記透明基板上にフォトレジスト層を形成し
    て所定部位を露光、現像してフォトレジストパターンを
    形成し、このフォトレジストパターンを用いて前記透明
    基板を蝕刻して、前記第1色のカラーフィルターを形成
    した部分以外の所定部位に複数の溝を形成する段階と、 (d−1)前記フォトレジストを除去した後、前記溝に
    第2の着色樹脂組成物を付加して第2色のカラーフィル
    ターを形成する段階と、 (e−1)前記透明基板上にフォトレジスト層を形成し
    て所定部位を露光、現像してフォトレジストパターンを
    形成し、このフォトレジストパターンを用いて前記透明
    基板を蝕刻して、前記第1色および第2色のカラーフィ
    ルターを形成した部分以外の所定部位に複数の溝を形成
    する段階と、 (f−1)前記フォトレジストを除去した後、前記溝に
    第3の着色樹脂組成物を付加して第3色のカラーフィル
    ターを形成する段階と, (g−1)前記第1色、第2色及び第3色のカラーフィ
    ルターを含む前記透明基板上に保護膜と電極層を順次的
    に形成する段階とを含むことを特徴とする液晶表示パネ
    ルの製造方法。
  8. 【請求項8】 前記フォトレジスト層の厚さが1〜1.
    5μmであることを特徴とする請求項7に記載の液晶表
    示パネルの製造方法。
  9. 【請求項9】 前記透明基板内の蝕刻の深さが透明基板
    の厚さの1/5以下であることを特徴とする請求項7に
    記載の液晶表示パネルの製造方法。
  10. 【請求項10】 前記溝に第1色、第2色及び第3色の
    着色樹脂組成物を付加する各段階では、ドクターブレー
    ド法が利用されることを特徴とする請求項7に記載の液
    晶表示パネルの製造方法。
  11. 【請求項11】 前記透明基板を蝕刻して溝を形成する
    各段階で、前記透明基板がフッ酸と塩酸との混合溶液を
    利用して蝕刻されることを特徴とする請求項7に記載の
    液晶表示パネルの製造方法。
  12. 【請求項12】 前記透明基板を蝕刻して溝を形成する
    各段階で、前記透明基板がサンドブラスチング法を利用
    して蝕刻されることを特徴とする請求項7に記載の液晶
    表示パネルの製造方法。
  13. 【請求項13】 (a−2)透明基板上にフォトレジス
    トを塗布して所定部位を露光、現像してフォトレジスト
    パターンを形成し、このフォトレジストパターンを用い
    て透明基板を蝕刻して溝を形成する段階と、 (b−2)前記溝のうち所定の部位に第1色の着色樹脂
    組成物を付加して第1色のカラーフィルターを形成する
    段階と、 (c−2)前記第1色のカラーフィルターを含む前記透
    明基板上の所定部位を露光、現像してフォトレジストパ
    ターンを形成し、このフォトレジストパターンを用いて
    前記にて形成された第1色のカラーフィルターを除く部
    分を蝕刻して溝を形成し、第2色の着色樹脂組成物を付
    加して第2色のカラーフィルターを形成する段階と、 (d−2)前記第1色及び第2色のカラーフィルターを
    含む前記透明基板上の所定部位を露光、現像してフォト
    レジストパターンを形成し、このフォトレジストパター
    ンを用いて前記第1色及び第2色のカラーフィルターを
    除く部分を蝕刻して溝を形成し、第3色の着色樹脂組成
    物を付加して第3色のカラーフィルターを形成する段階
    と、 (e−2)透明基板上部のカラーフィルターとフォトレ
    ジストパターンを除去する段階と、 (f−2)前記第1色、第2色、第3色を含む透明基板
    の上部に保護膜と電極層を順次的に形成する段階を含む
    ことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
  14. 【請求項14】 前記フォトレジスト層の厚さが1〜
    1.5μm であることを特徴とする請求項13に記載の
    液晶表示パネルの製造方法。
  15. 【請求項15】 前記透明基板内の蝕刻の深さが透明基
    板の厚さの1/5以下であることを特徴とする請求項1
    3に記載の液晶表示パネルの製造方法。
  16. 【請求項16】 溝に着色樹脂組成物を付加する前記b
    −2、c−2及びd−2段階でドクターブレード法が利
    用されることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示
    パネルの製造方法。
  17. 【請求項17】 透明基板を蝕刻して溝を形成する前記
    a−2、c−2及びd−2段階でフッ酸と塩酸との混合
    溶液が利用されることを特徴とする請求項13に記載の
    液晶表示パネルの製造方法。
  18. 【請求項18】 透明基板を蝕刻して溝を形成する前記
    a−2、c−2及びd−2段階でサンドブラスチング法
    を利用することを特徴とする請求項13に記載の液晶表
    示パネルの製造方法。
  19. 【請求項19】 (a−3)透明基板をペースト状の蝕
    刻剤を用いて蝕刻することにより透明基板内に複数の溝
    を形成する段階と、 (b−3)前記溝のうち所定部位の溝に第1色の着色樹
    脂組成物を付加し、残り溝にはフォトレジストを付加し
    た後、露光現像して第1色のカラーフィルターを形成す
    る段階と、 (c−3)前記溝のうち第1色のカラーフ
    ィルター部分を除く所定部位の溝に第2色の着色樹脂組
    成物を付加し、残り溝にはフォトレジストを付加した
    後、露光現像して第2色のカラーフィルターを形成する
    段階と、 (d−3)前記溝のうち第1色と第2色のカラーフィル
    ター部分を除く所定部位の溝に第3色の着色樹脂組成物
    を付加し、露光現像して第3色のカラーフィルターを形
    成する段階と、 (e−3)前記第1色、第2色及び第3色のカラーフィ
    ルターを含む前記透明基板上の上部に保護膜と電極層を
    順次的に形成する段階を含むことを特徴とする液晶表示
    パネルの製造方法。
  20. 【請求項20】 透明基板を蝕刻して溝を形成する前記
    a−3段階でフッ酸と塩酸の混合物が利用されることを
    特徴とする請求項19に記載の液晶表示パネルの製造方
    法。
  21. 【請求項21】 着色樹脂組成物またはフォトレジスト
    を溝に付加する前記b−3、c−3、d−3段階でドク
    ターブレード法が利用されることを特徴とする請求項1
    9に記載の液晶表示パネルの製造方法。
  22. 【請求項22】 前記透明基板内の蝕刻の深さが透明基
    板の厚さの1/5以下であることを特徴とする請求項1
    9に記載の液晶表示パネルの製造方法。
  23. 【請求項23】 (a−4)透明基板をペースト状の蝕
    刻剤を利用して蝕刻することにより透明基板内に複数の
    溝を形成する段階と、 (b−4)前記複数の全ての溝に第1色の着色樹脂組成
    物を付加した後、フォトマスクを利用して露光、現像し
    て第1色のカラーフィルターを形成する段階と、 (c
    −4)前記複数の溝のうち第1色のカラーフィルター部
    分を除く全ての溝に第2色の着色樹脂組成物を付加した
    後、フォトマスクを利用して露光、現像して第2色のカ
    ラーフィルターを形成する段階と、 (d−4)前記複数の溝のうち第1色と第2色のカラー
    フィルター部分を除く全ての部位に第3色の着色樹脂組
    成物を付加した後、フォトマスクを利用して露光、現像
    して第3色のカラーフィルターを形成する段階と、 (e−4)前記第1色、第2色及び第3色のカラーフィ
    ルターを含む前記透明基板上の上部に保護膜と電極層を
    順次的に形成する段階とを含むことを特徴とする液晶表
    示パネルの製造方法。
  24. 【請求項24】 前記透明基板を蝕刻して溝を形成する
    前記a−4段階で蝕刻剤としてフッ酸と塩酸の混合物が
    利用されることを特徴とする請求項23に記載の液晶表
    示パネルの製造方法。
  25. 【請求項25】 溝に着色樹脂組成物を溝に付加する前
    記b−4、c−4、d−4段階でドクターブレード法が
    利用されることを特徴とする請求項23に記載の液晶表
    示パネルの製造方法。
  26. 【請求項26】 前記透明基板内の蝕刻の深さが透明基
    板の厚さの1/5以下であることを特徴とする請求項2
    3に記載の液晶表示パネルの製造方法。
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