JPH0915886A - 電子写真用感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真用感光体の製造方法Info
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- JPH0915886A JPH0915886A JP16105895A JP16105895A JPH0915886A JP H0915886 A JPH0915886 A JP H0915886A JP 16105895 A JP16105895 A JP 16105895A JP 16105895 A JP16105895 A JP 16105895A JP H0915886 A JPH0915886 A JP H0915886A
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- Japan
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- forming
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- anodized film
- layer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 陽極酸化皮膜の耐熱性を向上させる。
【構成】 本発明は、アルミニウム基体上に陽極酸化皮
膜を形成し、この陽極酸化皮膜上に光導電層を形成す
る、電子写真用感光体の製造方法を改良したものであ
る。すなわち、前記陽極酸化皮膜を形成した前記アルミ
ニウム基体を、前記光導電層を形成する前に絶対湿度0.
005Kg/Kg(DA)の環境下に放置することを特徴としてい
る。
膜を形成し、この陽極酸化皮膜上に光導電層を形成す
る、電子写真用感光体の製造方法を改良したものであ
る。すなわち、前記陽極酸化皮膜を形成した前記アルミ
ニウム基体を、前記光導電層を形成する前に絶対湿度0.
005Kg/Kg(DA)の環境下に放置することを特徴としてい
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複写機，プリンタ，フ
ァクシミリ等の電子写真技術を利用した装置に用いられ
る電子写真用感光体の製造方法に関する。
ァクシミリ等の電子写真技術を利用した装置に用いられ
る電子写真用感光体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の電子写真用感光体の製造方法とし
て、アルミニウム基体上に陽極酸化皮膜を形成し、この
陽極酸化皮膜上に光導電層を形成する方法が知られてい
る。陽極酸化皮膜は、帯電位低下防止，光導電層の密着
性向上，洗浄の容易化等を主な目的とするものである。
て、アルミニウム基体上に陽極酸化皮膜を形成し、この
陽極酸化皮膜上に光導電層を形成する方法が知られてい
る。陽極酸化皮膜は、帯電位低下防止，光導電層の密着
性向上，洗浄の容易化等を主な目的とするものである。
【０００３】また、近年、光導電層として有機材料が広
く用いられている。その理由は、有機材料が、材料コス
ト及び製造コストがともに低く、しかも無害であるため
廃棄も容易である等の利点を有するからである。この有
機材料は、ディップコート法，リングコート法等によ
り、塗料として陽極酸化皮膜上に塗布される。このと
き、光導電層を安定かつ均一に形成するためには、塗料
の分散性及び溶解性が良好である必要がある。その実現
のために、塗料に様々な溶剤が使用されており、特に高
沸点溶剤の使用が検討されている。高沸点溶剤を使用し
た場合は、溶剤成分を揮発させるために、当然ながら高
温での乾燥工程が必要となる。
く用いられている。その理由は、有機材料が、材料コス
ト及び製造コストがともに低く、しかも無害であるため
廃棄も容易である等の利点を有するからである。この有
機材料は、ディップコート法，リングコート法等によ
り、塗料として陽極酸化皮膜上に塗布される。このと
き、光導電層を安定かつ均一に形成するためには、塗料
の分散性及び溶解性が良好である必要がある。その実現
のために、塗料に様々な溶剤が使用されており、特に高
沸点溶剤の使用が検討されている。高沸点溶剤を使用し
た場合は、溶剤成分を揮発させるために、当然ながら高
温での乾燥工程が必要となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、陽極酸
化皮膜は、耐熱性に劣るという欠点がある。そのため、
陽極酸化皮膜を高温にさらすと、表面にクラックが入
り、その結果、光導電層を形成する際の塗工ムラ，絶縁
破壊強度の低下，光導電層へのクラックの成長等の問題
を引き起こす。
化皮膜は、耐熱性に劣るという欠点がある。そのため、
陽極酸化皮膜を高温にさらすと、表面にクラックが入
り、その結果、光導電層を形成する際の塗工ムラ，絶縁
破壊強度の低下，光導電層へのクラックの成長等の問題
を引き起こす。
【０００５】したがって、陽極酸化皮膜を高温にさらす
ことができないため、高沸点溶剤の使用が制限されてい
た。しかも、電子写真用感光体の乾燥工程では、高温に
できないことにより、乾燥に要する時間が長くなってい
た。
ことができないため、高沸点溶剤の使用が制限されてい
た。しかも、電子写真用感光体の乾燥工程では、高温に
できないことにより、乾燥に要する時間が長くなってい
た。
【０００６】
【発明の目的】そこで、本発明の目的は、陽極酸化皮膜
の耐熱性を向上させることにより、高沸点溶剤の使用及
び乾燥時間の短縮を可能とする電子写真用感光体の製造
方法を提供することにある。
の耐熱性を向上させることにより、高沸点溶剤の使用及
び乾燥時間の短縮を可能とする電子写真用感光体の製造
方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたものであり、アルミニウム基体上
に陽極酸化皮膜を形成し、この陽極酸化皮膜上に光導電
層を形成する電子写真用感光体の製造方法を改良したも
のである。すなわち、前記陽極酸化皮膜を形成した前記
アルミニウム基体を、前記光導電層を形成する前に絶対
湿度0.005Kg/Kg(DA)の環境下に放置することを特徴とす
るものである。
成するためになされたものであり、アルミニウム基体上
に陽極酸化皮膜を形成し、この陽極酸化皮膜上に光導電
層を形成する電子写真用感光体の製造方法を改良したも
のである。すなわち、前記陽極酸化皮膜を形成した前記
アルミニウム基体を、前記光導電層を形成する前に絶対
湿度0.005Kg/Kg(DA)の環境下に放置することを特徴とす
るものである。
【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】アルミニウム基体の材料は、純Ａｌ系の他
にAl-Mg-Si系，Al-Mn 系等のアルミニウム合金も使用で
きる。アルミニウム基体は、陽極酸化処理を施す前に、
アルキレン等の有機溶剤や界面活性剤，乳化脱脂法等で
脱脂処理し、さらにエッチングすることが好ましい。
にAl-Mg-Si系，Al-Mn 系等のアルミニウム合金も使用で
きる。アルミニウム基体は、陽極酸化処理を施す前に、
アルキレン等の有機溶剤や界面活性剤，乳化脱脂法等で
脱脂処理し、さらにエッチングすることが好ましい。
【００１０】陽極酸化皮膜は、公知の方法、例えば硫
酸，しゅう酸，クロム酸，ホウ酸等の酸性浴中で陽極酸
化処理することによって形成できるが、硫酸中での陽極
酸化が好ましい。硫酸中での陽極酸化処理の場合、硫酸
濃度は100 〜200g/l，アルミニウムイオン濃度は１〜10
g/l ，液温は20℃前後，電解電圧は約20V で行うのが望
ましいが、これに限られるものではない。
酸，しゅう酸，クロム酸，ホウ酸等の酸性浴中で陽極酸
化処理することによって形成できるが、硫酸中での陽極
酸化が好ましい。硫酸中での陽極酸化処理の場合、硫酸
濃度は100 〜200g/l，アルミニウムイオン濃度は１〜10
g/l ，液温は20℃前後，電解電圧は約20V で行うのが望
ましいが、これに限られるものではない。
【００１１】形成された陽極酸化皮膜は純粋沸騰水中煮
沸処理等で封孔処理を施すが、主成分として酢酸ニッケ
ルを含有する水溶液中に浸漬する封孔処理が望ましい。
酢酸ニッケル水溶液を用いる場合、濃度は５〜10g/l ，
処理温度は80〜95℃，またpHは５〜６の範囲内で使用す
るのが好ましい。このようにして形成された陽極酸化皮
膜は、必要に応じて純水による洗浄等の措置が取られた
後、乾燥が行われる。
沸処理等で封孔処理を施すが、主成分として酢酸ニッケ
ルを含有する水溶液中に浸漬する封孔処理が望ましい。
酢酸ニッケル水溶液を用いる場合、濃度は５〜10g/l ，
処理温度は80〜95℃，またpHは５〜６の範囲内で使用す
るのが好ましい。このようにして形成された陽極酸化皮
膜は、必要に応じて純水による洗浄等の措置が取られた
後、乾燥が行われる。
【００１２】次に、この陽極酸化皮膜上に光導電層を設
けるが、封孔処理から光導電層形成までこの陽極酸化皮
膜を放置する場合、絶対湿度0.005Kg/Kg(DA)以下の環境
下に、24時間以上放置することが好ましい。
けるが、封孔処理から光導電層形成までこの陽極酸化皮
膜を放置する場合、絶対湿度0.005Kg/Kg(DA)以下の環境
下に、24時間以上放置することが好ましい。
【００１３】そして、この光導電層には、電荷発生層と
電荷移動層、場合によってはさらに保護層を積層した複
数の層より構成されたもの、あるいは、電荷発生層の
み、または電荷発生層中に電荷移動材料を混合したよう
な単一層で形成されるもの等がある。
電荷移動層、場合によってはさらに保護層を積層した複
数の層より構成されたもの、あるいは、電荷発生層の
み、または電荷発生層中に電荷移動材料を混合したよう
な単一層で形成されるもの等がある。
【００１４】また、陽極酸化皮膜と光導電層の間に、各
種の中間層を設けることもできる。中間層は、ポリアミ
ド，ポリビニルアルコール，ポリウレタン，ポリアクリ
ル酸，エポシキ樹脂，またはこれらの樹脂に導電性微粒
子を分散させたものにより形成できる。これらの中間層
は、単層でも、２層以上に積層されたものでも良い。こ
の中間層の膜厚は0.1 〜20μｍであり、好ましくは0.2
〜10μｍが適当である。
種の中間層を設けることもできる。中間層は、ポリアミ
ド，ポリビニルアルコール，ポリウレタン，ポリアクリ
ル酸，エポシキ樹脂，またはこれらの樹脂に導電性微粒
子を分散させたものにより形成できる。これらの中間層
は、単層でも、２層以上に積層されたものでも良い。こ
の中間層の膜厚は0.1 〜20μｍであり、好ましくは0.2
〜10μｍが適当である。
【００１５】電荷発生層は、電荷発生材料を樹脂に分散
した樹脂層、あるいは、さらにこの樹脂層に電荷移動材
料を混合したものなどで構成される。電荷発生材料とし
ては、各種フタロシアニン顔料，アゾ顔料，ジスアゾ顔
料，インジゴ顔料，キナクリドン顔料等の公知の材料が
用いられる。また、これらの電荷発生材料は、１種また
は２種以上組み合わせて使うこともできる。電荷発生層
を形成する樹脂としては、ポリ塩化ビニル，ポリ酸化ビ
ニル，ポリエステル、塩化ビニル−酸化ビニル共重合
体，ポリビニルブチラール，ポリスチレン，ポリカーボ
ネート，アクリル樹脂，フェノール樹脂等が用いられ
る。これらの樹脂は単独、または混合して用いられる。
これらの樹脂により電荷発生層を形成する際に用いられ
る塗布液の溶剤としては、トルエン，塩化メチレン，モ
ノクロルベンゼン，メチルアルコール，エチルアルコー
ル，酢酸エチル，テトラヒドロフラン，シクロヘキサン
等がある。これらの溶剤も単独、または混合して用いら
れる。電荷発生層の膜厚は、電荷移動層を積層して用い
る場合には0.05〜５μｍ、好ましくは0.1 〜２μｍ程度
が適当である。電荷発生層単独で用いる場合には、10〜
30μｍ、好ましくは15〜20μｍが適当である。
した樹脂層、あるいは、さらにこの樹脂層に電荷移動材
料を混合したものなどで構成される。電荷発生材料とし
ては、各種フタロシアニン顔料，アゾ顔料，ジスアゾ顔
料，インジゴ顔料，キナクリドン顔料等の公知の材料が
用いられる。また、これらの電荷発生材料は、１種また
は２種以上組み合わせて使うこともできる。電荷発生層
を形成する樹脂としては、ポリ塩化ビニル，ポリ酸化ビ
ニル，ポリエステル、塩化ビニル−酸化ビニル共重合
体，ポリビニルブチラール，ポリスチレン，ポリカーボ
ネート，アクリル樹脂，フェノール樹脂等が用いられ
る。これらの樹脂は単独、または混合して用いられる。
これらの樹脂により電荷発生層を形成する際に用いられ
る塗布液の溶剤としては、トルエン，塩化メチレン，モ
ノクロルベンゼン，メチルアルコール，エチルアルコー
ル，酢酸エチル，テトラヒドロフラン，シクロヘキサン
等がある。これらの溶剤も単独、または混合して用いら
れる。電荷発生層の膜厚は、電荷移動層を積層して用い
る場合には0.05〜５μｍ、好ましくは0.1 〜２μｍ程度
が適当である。電荷発生層単独で用いる場合には、10〜
30μｍ、好ましくは15〜20μｍが適当である。
【００１６】電荷発生層を形成する塗布液を製造する際
に、電荷発生材料を塗布液中に分散させる方法として
は、ボールミル，サンドミル，ホモミキサ−，ディスパ
ーザ−，マイクロナイザー、超音波等の公知の方法が利
用できる。
に、電荷発生材料を塗布液中に分散させる方法として
は、ボールミル，サンドミル，ホモミキサ−，ディスパ
ーザ−，マイクロナイザー、超音波等の公知の方法が利
用できる。
【００１７】電荷移動層は、電荷移動材料を樹脂に相溶
させて形成される。電荷移動材料は電子移動物質と正孔
移動物質がある。
させて形成される。電荷移動材料は電子移動物質と正孔
移動物質がある。
【００１８】電子移動物質としては、クロルアニル、ブ
ロモアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フロオレノ
ン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン
等の電子吸引性物質やこれらを高分子化したもの等があ
る。
ロモアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フロオレノ
ン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン
等の電子吸引性物質やこれらを高分子化したもの等があ
る。
【００１９】正孔移動物質としては、ピレン、Ｎ−エチ
ルカルバゾール、Ｎ−イソプロピルカルバゾール、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルヒドラジノ−３−メチリデン−９
−エチルカルバゾール、Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラジノ
−３−メチリデン−９−エチルカルバゾール、Ｎ，Ｎ−
ジフェニルヒドラジノ−３−メチリデン−１０−エチル
フェノチアジン、ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド
−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、ｐ−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド−Ｎ−α−ナフチル−Ｎ−フェニルヒ
ドラゾン等のヒドラゾン類、２，５−ビス（ｐ−ジエチ
ルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、
１−フェニル−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−
５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−
［キノリル（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリ
ル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリ
ン、１−［ピリジル（３）］−３−（ｐ−ジエチルアミ
ノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピ
ラゾリン等ノピラゾリン類、トリアリールメタン化合
物、オキサジアゾール系化合物、チアゾール系化合物、
トリフェニルアミン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等
があり、これら公知の電荷移動材料を１種または２種以
上組み合わせて用いることができる。電荷移動層の樹脂
としては、ポリスチレン、ケトン樹脂、フェノール樹
脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリルアミド、
ポリアミド等が用いられる。これらの樹脂は単独、また
は混合して用いられる。また、これら樹脂に通常用いら
れる各種添加剤、例えば、紫外線吸収剤や酸化防止剤等
を適宜添加することができる。これらの樹脂により電荷
移動層を形成する際に塗布液の溶剤としては、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサン、トルエン、
ジクロルエタン、塩化メチレン、モノクロルベンゼン等
が使用できる。これらの溶剤も単独、または混合して使
用できる。電荷移動層の膜厚は５〜40μｍ、好ましくは
15〜25μｍ程度が適当である。
ルカルバゾール、Ｎ−イソプロピルカルバゾール、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルヒドラジノ−３−メチリデン−９
−エチルカルバゾール、Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラジノ
−３−メチリデン−９−エチルカルバゾール、Ｎ，Ｎ−
ジフェニルヒドラジノ−３−メチリデン−１０−エチル
フェノチアジン、ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド
−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、ｐ−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド−Ｎ−α−ナフチル−Ｎ−フェニルヒ
ドラゾン等のヒドラゾン類、２，５−ビス（ｐ−ジエチ
ルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、
１−フェニル−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−
５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−
［キノリル（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリ
ル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリ
ン、１−［ピリジル（３）］−３−（ｐ−ジエチルアミ
ノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピ
ラゾリン等ノピラゾリン類、トリアリールメタン化合
物、オキサジアゾール系化合物、チアゾール系化合物、
トリフェニルアミン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等
があり、これら公知の電荷移動材料を１種または２種以
上組み合わせて用いることができる。電荷移動層の樹脂
としては、ポリスチレン、ケトン樹脂、フェノール樹
脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリルアミド、
ポリアミド等が用いられる。これらの樹脂は単独、また
は混合して用いられる。また、これら樹脂に通常用いら
れる各種添加剤、例えば、紫外線吸収剤や酸化防止剤等
を適宜添加することができる。これらの樹脂により電荷
移動層を形成する際に塗布液の溶剤としては、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサン、トルエン、
ジクロルエタン、塩化メチレン、モノクロルベンゼン等
が使用できる。これらの溶剤も単独、または混合して使
用できる。電荷移動層の膜厚は５〜40μｍ、好ましくは
15〜25μｍ程度が適当である。
【００２０】塗布液を用いて感光層を形成する場合の塗
布方法は、スピンコーター、アプリケーター、スプレー
コーター、バーコーター、浸漬コーター、ドクターブレ
ード等の公知の手法が用いられる。塗布された感光層は
熱風、赤外線などにより加熱して乾燥させる。
布方法は、スピンコーター、アプリケーター、スプレー
コーター、バーコーター、浸漬コーター、ドクターブレ
ード等の公知の手法が用いられる。塗布された感光層は
熱風、赤外線などにより加熱して乾燥させる。
【００２１】
〔実施例１〕
【００２２】A1-Si-Mg系のアルミニウム合金からなる直
径80mm、肉厚1.25mmの鏡面仕上げした円筒状のパイプを
有機溶剤で脱脂洗浄し、エッチングを行った。そして、
水洗後、電解質溶液として150g/lの硫酸を用い、液温を
20℃に維持しながら、直流電圧20V で15分間陽極酸化を
行い平均膜厚７μｍの陽極酸化皮膜を形成した。
径80mm、肉厚1.25mmの鏡面仕上げした円筒状のパイプを
有機溶剤で脱脂洗浄し、エッチングを行った。そして、
水洗後、電解質溶液として150g/lの硫酸を用い、液温を
20℃に維持しながら、直流電圧20V で15分間陽極酸化を
行い平均膜厚７μｍの陽極酸化皮膜を形成した。
【００２３】その後、陽極酸化皮膜を形成し水洗したア
ルミニウム基体を酢酸ニッケルを主成分とする封孔剤の
6g/l、90℃の水溶液に５分間浸漬し、封孔処理を行い、
純水で洗浄し、最後に乾燥を行った。
ルミニウム基体を酢酸ニッケルを主成分とする封孔剤の
6g/l、90℃の水溶液に５分間浸漬し、封孔処理を行い、
純水で洗浄し、最後に乾燥を行った。
【００２４】そして、絶対温度0.002Kg/Kg(DA)の環境下
に24時間放置した。
に24時間放置した。
【００２５】一方、チタニルフタロシアニン２部（重量
部、以下同様）、ポリビニルブチラール２部をテトラヒ
ドロフラン100 部と共にボールミルで24時間分散した。
部、以下同様）、ポリビニルブチラール２部をテトラヒ
ドロフラン100 部と共にボールミルで24時間分散した。
【００２６】この分散液に、先の放置後の陽極酸化皮膜
を設けたアルミニウム基体を浸漬途工した後、加熱乾燥
して約0.2 μｍの電荷発生層を形成した。次に、下記構
造式（化１）で示される電荷移動物質20部とポリカーボ
ネート樹脂（三菱瓦斯化学製，商品名「Ｚ−２００」）
20部を塩化メチレン100 部に溶解した塗布液を電荷発生
層上に浸漬途工した後、加熱乾燥して約20μｍの電荷移
動層を形成して電子写真用感光体を作製した。このよう
にして得られたドラムを感光体Ａとする。
を設けたアルミニウム基体を浸漬途工した後、加熱乾燥
して約0.2 μｍの電荷発生層を形成した。次に、下記構
造式（化１）で示される電荷移動物質20部とポリカーボ
ネート樹脂（三菱瓦斯化学製，商品名「Ｚ−２００」）
20部を塩化メチレン100 部に溶解した塗布液を電荷発生
層上に浸漬途工した後、加熱乾燥して約20μｍの電荷移
動層を形成して電子写真用感光体を作製した。このよう
にして得られたドラムを感光体Ａとする。
【化１】
【００２７】〔実施例２、３〕
【００２８】陽極酸化皮膜付きアルミニウム基体を絶対
湿度0.002Kg/Kg(DA)の環境下に72時間および200 時間放
置した以外は実施例１と同様に作製したドラムをそれぞ
れ感光体Ｂ、Ｃとする。
湿度0.002Kg/Kg(DA)の環境下に72時間および200 時間放
置した以外は実施例１と同様に作製したドラムをそれぞ
れ感光体Ｂ、Ｃとする。
【００２９】〔実施例４、５、６〕
【００３０】陽極酸化皮膜付きアルミニウム基体を絶対
湿度0.004Kg/Kg(DA)の環境下に24時間、72時間および20
0 時間放置した以外は実施例１と同様に作製したドラム
をそれぞれ感光体Ｄ、Ｅ、およびＦとする。
湿度0.004Kg/Kg(DA)の環境下に24時間、72時間および20
0 時間放置した以外は実施例１と同様に作製したドラム
をそれぞれ感光体Ｄ、Ｅ、およびＦとする。
【００３１】〔比較例１、２、３〕
【００３２】陽極酸化皮膜付きアルミニウム基体を絶対
湿度0.006Kg/Kg(DA)の環境下に24時間、72時間および20
0 時間放置した以外は実施例１と同様に作製したドラム
をそれぞれ感光体Ｇ、Ｈ、およびＩとする。
湿度0.006Kg/Kg(DA)の環境下に24時間、72時間および20
0 時間放置した以外は実施例１と同様に作製したドラム
をそれぞれ感光体Ｇ、Ｈ、およびＩとする。
【００３３】上記感光体Ａ〜Ｉのクラックの観察を行っ
た。また、ＮＥＣ製ページプリンタに搭載して３５℃、
８０％ＲＨの環境下で印字を行った。その結果を図１に
示す。
た。また、ＮＥＣ製ページプリンタに搭載して３５℃、
８０％ＲＨの環境下で印字を行った。その結果を図１に
示す。
【００３４】感光体Ａ〜Ｆは、クラックの発生は無く、
印字も良好であった。これに対して、感光体Ｈ〜Ｉは、
無数のクラックが発生し、途工ムラによる黒スジが発生
した。総合的には、感光体Ａ〜Ｆについて良好な結果が
得られた。
印字も良好であった。これに対して、感光体Ｈ〜Ｉは、
無数のクラックが発生し、途工ムラによる黒スジが発生
した。総合的には、感光体Ａ〜Ｆについて良好な結果が
得られた。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る電子
写真用感光体の製造方法によれば、陽極酸化皮膜を形成
したアルミニウム基体を、光導電層を形成する前に絶対
湿度0.005Kg/Kg(DA)の環境下に放置することにより、陽
極酸化皮膜の耐熱性を向上できる。したがって、光導電
層を形成する際の塗料に高沸点溶剤を用いることができ
るので、塗料の分散性及び溶解性を向上でき、これによ
り光導電層を安定かつ均一に形成できる。また、電子写
真用感光体の乾燥を高温でできることにより、乾燥に要
する時間を短縮でき、これにより電子写真用感光体の製
造時間を短縮できる。
写真用感光体の製造方法によれば、陽極酸化皮膜を形成
したアルミニウム基体を、光導電層を形成する前に絶対
湿度0.005Kg/Kg(DA)の環境下に放置することにより、陽
極酸化皮膜の耐熱性を向上できる。したがって、光導電
層を形成する際の塗料に高沸点溶剤を用いることができ
るので、塗料の分散性及び溶解性を向上でき、これによ
り光導電層を安定かつ均一に形成できる。また、電子写
真用感光体の乾燥を高温でできることにより、乾燥に要
する時間を短縮でき、これにより電子写真用感光体の製
造時間を短縮できる。
【図１】実施例１〜６及び比較例１〜３における感光体
Ａ〜Ｉについての、評価結果を示す図表である。
Ａ〜Ｉについての、評価結果を示す図表である。
Claims (3)
- 【請求項１】 アルミニウム基体上に陽極酸化皮膜を形
成し、この陽極酸化皮膜上に光導電層を形成する電子写
真用感光体の製造方法において、 前記陽極酸化皮膜を形成した前記アルミニウム基体を、
前記光導電層を形成する前に絶対湿度0.005Kg/Kg(DA)以
下の環境下に放置することを特徴とする電子写真用感光
体の製造方法。 - 【請求項２】 アルミニウム基体上に陽極酸化皮膜を形
成し、この陽極酸化皮膜上に光導電層を形成する電子写
真用感光体の製造方法において、 前記陽極酸化皮膜を形成した前記アルミニウム基体を、
前記光導電層を形成する前に絶対湿度0.005Kg/Kg(DA)以
下の環境下に24時間以上放置することを特徴とする電子
写真用感光体の製造方法。 - 【請求項３】 アルミニウム基体上に陽極酸化皮膜を形
成し、この陽極酸化皮膜上に光導電層を形成する電子写
真用感光体の製造方法において、 前記陽極酸化皮膜を形成した前記アルミニウム基体を、
前記光導電層を形成する前に絶対湿度0.002 〜0.004Kg/
Kg(DA)の環境下に24〜200 時間放置することを特徴とす
る電子写真用感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16105895A JPH0915886A (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16105895A JPH0915886A (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0915886A true JPH0915886A (ja) | 1997-01-17 |
Family
ID=15727819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16105895A Pending JPH0915886A (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0915886A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000173301A (ja) * | 1998-12-10 | 2000-06-23 | Seiko Epson Corp | 圧電発光素子、表示装置およびそれらの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07319190A (ja) * | 1994-05-23 | 1995-12-08 | Kobe Steel Ltd | 感光体ドラムの保管方法 |
-
1995
- 1995-06-27 JP JP16105895A patent/JPH0915886A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07319190A (ja) * | 1994-05-23 | 1995-12-08 | Kobe Steel Ltd | 感光体ドラムの保管方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000173301A (ja) * | 1998-12-10 | 2000-06-23 | Seiko Epson Corp | 圧電発光素子、表示装置およびそれらの製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980310 |