JPH09139118A - 耐熱電線、耐熱絶縁材及び耐熱電線の使用方法、製造方法 - Google Patents
耐熱電線、耐熱絶縁材及び耐熱電線の使用方法、製造方法Info
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- JPH09139118A JPH09139118A JP7294234A JP29423495A JPH09139118A JP H09139118 A JPH09139118 A JP H09139118A JP 7294234 A JP7294234 A JP 7294234A JP 29423495 A JP29423495 A JP 29423495A JP H09139118 A JPH09139118 A JP H09139118A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＰＢＩ被膜電線等を改良することにより、Ｐ
ＢＩが本来有している耐熱特性等の優れた諸特性を十分
に発揮し得る耐熱電線、耐熱絶縁材、及びその使用方
法、製造方法を提供する。 【解決手段】 外径０．５ｍｍのニッケルクロム線１１
を用い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部になるように
調整されたワニス中に浸漬する方法でニッケルクロム線
１１に塗布し、線速２０ｍ／分・３５０℃で焼き付け
る。これを、８回繰返してＰＢＩ被覆ニッケルクロム線
を得る。これに、さらにオルガノポリシロキサンをベー
スポリマーとしたアルミナ含量２０％でトルエン分１５
％、キシレン分１５％、のアルミナ・ワニス中に浸漬す
る方法で前記ＰＢＩニッケルクロム線表面に塗布し、線
速１０ｍ／分・３５０℃で焼き付ける。これを、４回繰
返してアルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆
ニッケルクロム線１０を得る。
ＢＩが本来有している耐熱特性等の優れた諸特性を十分
に発揮し得る耐熱電線、耐熱絶縁材、及びその使用方
法、製造方法を提供する。 【解決手段】 外径０．５ｍｍのニッケルクロム線１１
を用い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部になるように
調整されたワニス中に浸漬する方法でニッケルクロム線
１１に塗布し、線速２０ｍ／分・３５０℃で焼き付け
る。これを、８回繰返してＰＢＩ被覆ニッケルクロム線
を得る。これに、さらにオルガノポリシロキサンをベー
スポリマーとしたアルミナ含量２０％でトルエン分１５
％、キシレン分１５％、のアルミナ・ワニス中に浸漬す
る方法で前記ＰＢＩニッケルクロム線表面に塗布し、線
速１０ｍ／分・３５０℃で焼き付ける。これを、４回繰
返してアルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆
ニッケルクロム線１０を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、耐熱性の要求さ
れるエナメル電線等に適用できる耐熱電線、耐熱絶縁材
及びその耐熱電線の使用方法に関する。
れるエナメル電線等に適用できる耐熱電線、耐熱絶縁材
及びその耐熱電線の使用方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】耐熱電線としては、ポリイミド被覆電
線、エナメル電線、高耐熱セメンティングエナメル線が
存在しているが、それぞれの耐熱温度は、前記ポリイミ
ド被覆電線が２５０度、エナメル電線が１５０〜２２０
度、高耐熱セメンティングエナメル線が２２０度であ
り、せいぜい２５０度が限界であった。
線、エナメル電線、高耐熱セメンティングエナメル線が
存在しているが、それぞれの耐熱温度は、前記ポリイミ
ド被覆電線が２５０度、エナメル電線が１５０〜２２０
度、高耐熱セメンティングエナメル線が２２０度であ
り、せいぜい２５０度が限界であった。
【０００３】このため、２５０度以上の温度に耐えられ
る耐熱特性に優れた耐熱電線が要望されていたが、本願
発明者は、優れた耐熱特性を有するポリベンゾイミダゾ
ール（以下、ＰＢＩと言う。）の重合体を裸電線又は絶
縁被覆電線に塗布し、これを焼成することによってＰＢ
Ｉ被膜を形成したＰＢＩ被膜電線を開発し、既に特許出
願を行っている（特願平４−１２４３４２）。
る耐熱特性に優れた耐熱電線が要望されていたが、本願
発明者は、優れた耐熱特性を有するポリベンゾイミダゾ
ール（以下、ＰＢＩと言う。）の重合体を裸電線又は絶
縁被覆電線に塗布し、これを焼成することによってＰＢ
Ｉ被膜を形成したＰＢＩ被膜電線を開発し、既に特許出
願を行っている（特願平４−１２４３４２）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記ＰＢＩ被膜電線
は、耐熱軟化温度が３５０度以上で非常に優れた耐熱特
性を有しているが、高温において部分的に空気酸化され
ることがあり、その使用環境によっては、耐熱特性、耐
電圧特性及び柔軟性等のその優れた諸特性を発揮できな
いことがあった。
は、耐熱軟化温度が３５０度以上で非常に優れた耐熱特
性を有しているが、高温において部分的に空気酸化され
ることがあり、その使用環境によっては、耐熱特性、耐
電圧特性及び柔軟性等のその優れた諸特性を発揮できな
いことがあった。
【０００５】そこで、この発明の課題は、上述したＰＢ
Ｉ被膜電線等を改良することにより、ＰＢＩが本来有し
ている耐熱特性等の優れた諸特性を十分に発揮し得る耐
熱電線、耐熱絶縁材、及びその使用方法、製造方法を提
供することにある。
Ｉ被膜電線等を改良することにより、ＰＢＩが本来有し
ている耐熱特性等の優れた諸特性を十分に発揮し得る耐
熱電線、耐熱絶縁材、及びその使用方法、製造方法を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、この発明は、裸電線又は絶縁被覆電線の外表面をポ
リベンゾイミダゾールの重合体によって形成される被膜
によって覆い、この被膜をさらにセラミック被膜によっ
て覆った耐熱電線、及びポリベンゾイミダゾールの重合
体によって形成される被膜をセラミック被膜によって覆
った耐熱絶縁材を提供するものである。
め、この発明は、裸電線又は絶縁被覆電線の外表面をポ
リベンゾイミダゾールの重合体によって形成される被膜
によって覆い、この被膜をさらにセラミック被膜によっ
て覆った耐熱電線、及びポリベンゾイミダゾールの重合
体によって形成される被膜をセラミック被膜によって覆
った耐熱絶縁材を提供するものである。
【０００７】前記ポリベンゾイミダゾールによって形成
される被膜は、前記化１で示され、前記セラミック被膜
は、前記化２で示されるものを使用することができる。
される被膜は、前記化１で示され、前記セラミック被膜
は、前記化２で示されるものを使用することができる。
【０００８】また、前記被膜は、ポリベンゾイミダゾー
ルの塩基性溶媒ワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に塗布
し、これを焼成することによって形成されるが、重合度
の低いポリベンゾイミダゾールについては、これを塩基
性溶媒に溶かしたポリベンゾイミダゾールワニスにラジ
カル重合開始剤を添加したものを裸電線又は絶縁被覆電
線に塗布し、これを焼成することによって形成すること
ができる。さらに、前記耐熱電線は、航空機用電線、高
電圧電線、通信電線、電気ヒータ電線として使用するこ
とができる。
ルの塩基性溶媒ワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に塗布
し、これを焼成することによって形成されるが、重合度
の低いポリベンゾイミダゾールについては、これを塩基
性溶媒に溶かしたポリベンゾイミダゾールワニスにラジ
カル重合開始剤を添加したものを裸電線又は絶縁被覆電
線に塗布し、これを焼成することによって形成すること
ができる。さらに、前記耐熱電線は、航空機用電線、高
電圧電線、通信電線、電気ヒータ電線として使用するこ
とができる。
【０００９】また、前記耐熱電線は、ポリベンゾイミダ
ゾールの塩基性溶媒ワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に
塗布した後、 これを焼成することによって、ポリベン
ゾイミダゾールの被膜を形成し、このポリベンゾイミダ
ゾール被膜表面をセラミック被膜によって覆うことによ
って製造することができるが、重合度の低いポリベンゾ
イミダゾールの重合体については、これを塩基性溶媒に
溶かしたポリベンゾイミダゾールワニスにラジカル重合
開始剤を添加し、ラジカル重合開始剤を含んだ前記ポリ
ベンゾイミダゾールワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に
塗布した後、前記裸電線又は絶縁被覆電線に塗布された
ポリベンゾイミダゾールワニスを焼成することによっ
て、前記裸電線又は絶縁被覆電線に熱架橋されたポリベ
ンゾイミダゾールの重合体の被膜を形成し、このポリベ
ンゾイミダゾール被膜表面をセラミック被膜によって覆
うことによって製造することができる。前記セラミック
被膜を形成する際には、シリコン系バインダーを用いる
ことが好ましい。
ゾールの塩基性溶媒ワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に
塗布した後、 これを焼成することによって、ポリベン
ゾイミダゾールの被膜を形成し、このポリベンゾイミダ
ゾール被膜表面をセラミック被膜によって覆うことによ
って製造することができるが、重合度の低いポリベンゾ
イミダゾールの重合体については、これを塩基性溶媒に
溶かしたポリベンゾイミダゾールワニスにラジカル重合
開始剤を添加し、ラジカル重合開始剤を含んだ前記ポリ
ベンゾイミダゾールワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に
塗布した後、前記裸電線又は絶縁被覆電線に塗布された
ポリベンゾイミダゾールワニスを焼成することによっ
て、前記裸電線又は絶縁被覆電線に熱架橋されたポリベ
ンゾイミダゾールの重合体の被膜を形成し、このポリベ
ンゾイミダゾール被膜表面をセラミック被膜によって覆
うことによって製造することができる。前記セラミック
被膜を形成する際には、シリコン系バインダーを用いる
ことが好ましい。
【００１０】なお、本願において使用しているセラミッ
ク被膜という用語は、全てがセラミック化したもののみ
ならず、表面側のみがセラミック化している金属被膜を
も含む広い概念である。
ク被膜という用語は、全てがセラミック化したもののみ
ならず、表面側のみがセラミック化している金属被膜を
も含む広い概念である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、実施の形態について図面を
参照して説明する。図１に示すように、この耐熱電線１
０は、導体である裸電線１１の外表面をＰＢＩの重合体
によって形成されたＰＢＩ被膜１２によって覆い、さら
にそのＰＢＩ被膜１２をセラミック被膜１３によって被
覆したものであり、前記ＰＢＩ被膜１２によって高い耐
熱性が付与されると共に前記セラミック被膜１３の存在
によって前記ＰＢＩ被膜１２が直接空気に触れることが
ないので、ＰＢＩ被膜１２が空気酸化されることもな
く、常時高い耐熱特性が維持される。
参照して説明する。図１に示すように、この耐熱電線１
０は、導体である裸電線１１の外表面をＰＢＩの重合体
によって形成されたＰＢＩ被膜１２によって覆い、さら
にそのＰＢＩ被膜１２をセラミック被膜１３によって被
覆したものであり、前記ＰＢＩ被膜１２によって高い耐
熱性が付与されると共に前記セラミック被膜１３の存在
によって前記ＰＢＩ被膜１２が直接空気に触れることが
ないので、ＰＢＩ被膜１２が空気酸化されることもな
く、常時高い耐熱特性が維持される。
【００１２】従って、このように構成された耐熱電線１
０は、高い耐熱性が要求される航空機用電線、高電圧電
線、通信電線、電気ヒータ電線として使用することがで
きる。
０は、高い耐熱性が要求される航空機用電線、高電圧電
線、通信電線、電気ヒータ電線として使用することがで
きる。
【００１３】この耐熱電線１０は、基本的に以下の方法
によって製造される。まず、ＰＢＩを所定の溶媒に溶か
してＰＢＩワニスを調整するが、このＰＢＩワニスの調
整に際して、ＰＢＩの重合度の低い場合は必要に応じて
ラジカル重合開始剤を添加しておく。前記ワニス溶媒と
しては、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、ジメチルフ
ォルムアミド（ＤＭＦ）、ピリジン等の塩基性溶媒やジ
メチルスルフォオキサイド（ＤＭＳＯ）等の水素結合遮
断溶媒が適宜使用され、そのワニス濃度は１％から８０
％まで適宜選択できるが、望ましくは５％から４０％が
適当と考えられる。また、前記ラジカル重合開始剤とし
ては、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、
ジ−ｔ−ブチロ過酸化フタレート、アゾビスイソブチロ
ニトリル、フェニルアゾアリルスルホン酸、Ｎ−ニトロ
ソ−Ｎ−アシル化合物などを使用することができる。
によって製造される。まず、ＰＢＩを所定の溶媒に溶か
してＰＢＩワニスを調整するが、このＰＢＩワニスの調
整に際して、ＰＢＩの重合度の低い場合は必要に応じて
ラジカル重合開始剤を添加しておく。前記ワニス溶媒と
しては、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、ジメチルフ
ォルムアミド（ＤＭＦ）、ピリジン等の塩基性溶媒やジ
メチルスルフォオキサイド（ＤＭＳＯ）等の水素結合遮
断溶媒が適宜使用され、そのワニス濃度は１％から８０
％まで適宜選択できるが、望ましくは５％から４０％が
適当と考えられる。また、前記ラジカル重合開始剤とし
ては、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、
ジ−ｔ−ブチロ過酸化フタレート、アゾビスイソブチロ
ニトリル、フェニルアゾアリルスルホン酸、Ｎ−ニトロ
ソ−Ｎ−アシル化合物などを使用することができる。
【００１４】このように、ＰＢＩワニスにラジカル重合
開始剤を添加するのは、ワニス溶媒として使用されるＤ
ＭＡ等に添加されている重合禁止剤を中和すると共にＰ
ＢＩ分子のスタッキングを起こすためであり、これによ
って、後述する焼付け処理に伴うＰＢＩの熱架橋反応が
促進され、十分な被膜強度を備えたＰＢＩ被膜が形成さ
れると考えられるからである。
開始剤を添加するのは、ワニス溶媒として使用されるＤ
ＭＡ等に添加されている重合禁止剤を中和すると共にＰ
ＢＩ分子のスタッキングを起こすためであり、これによ
って、後述する焼付け処理に伴うＰＢＩの熱架橋反応が
促進され、十分な被膜強度を備えたＰＢＩ被膜が形成さ
れると考えられるからである。
【００１５】次に、このＰＢＩワニスを裸電線１１の外
表面に塗布した後に、これを焼付ける。この焼付け処理
においては、一般にワニス塗布、焼付け、ワニス塗布の
繰り返しで行われ、具体的には、図３に示すように、焼
付け炉１、塗装部２、連続焼鈍炉３およびボビン４から
構成される装置が用いられる。この装置では、ボビン４
に巻き取られた電気導体や被覆電線等からなる線材５が
引き出され、まず連続焼鈍炉３により焼きなまし処理さ
れてから、塗装部２でワニスが塗布されるとともに、そ
のワニスが焼付け炉１によって焼き付けられる。さら
に、ワニスが焼き付けられた線材５が塗装部２および焼
付け炉１を繰り返し通って、上記したようにワニス塗
布、焼付けが繰り返し行われて、ＰＢＩ被膜が形成され
た電線が搬出部６から取り出される。
表面に塗布した後に、これを焼付ける。この焼付け処理
においては、一般にワニス塗布、焼付け、ワニス塗布の
繰り返しで行われ、具体的には、図３に示すように、焼
付け炉１、塗装部２、連続焼鈍炉３およびボビン４から
構成される装置が用いられる。この装置では、ボビン４
に巻き取られた電気導体や被覆電線等からなる線材５が
引き出され、まず連続焼鈍炉３により焼きなまし処理さ
れてから、塗装部２でワニスが塗布されるとともに、そ
のワニスが焼付け炉１によって焼き付けられる。さら
に、ワニスが焼き付けられた線材５が塗装部２および焼
付け炉１を繰り返し通って、上記したようにワニス塗
布、焼付けが繰り返し行われて、ＰＢＩ被膜が形成され
た電線が搬出部６から取り出される。
【００１６】また、裸電線１１として０．６ｍｍ以下の
細線が使用される場合には、その塗装炉として横形炉が
使用され、それ以上の太い線には竪形炉を使用するのが
一般的であり、本発明のＰＢＩの焼付け・被覆の場合に
も同様な考え方で横形炉や竪形炉を使用目的に合わせて
用いるようにすればよい。また、焼き付ける塗料の種
類、焼付け炉のタイプによって、塗布する回数、焼付け
温度、塗装速度などを適宜変更するようにすればよい。
細線が使用される場合には、その塗装炉として横形炉が
使用され、それ以上の太い線には竪形炉を使用するのが
一般的であり、本発明のＰＢＩの焼付け・被覆の場合に
も同様な考え方で横形炉や竪形炉を使用目的に合わせて
用いるようにすればよい。また、焼き付ける塗料の種
類、焼付け炉のタイプによって、塗布する回数、焼付け
温度、塗装速度などを適宜変更するようにすればよい。
【００１７】なお、塗布回数は１回から数１００回まで
適宜選択できるが、望ましくは２回から２０回が適当で
あり、焼付け温度は室温から１０００℃まで適宜選択で
きるが、望ましくは５００℃から８００℃が適当と考え
られる。
適宜選択できるが、望ましくは２回から２０回が適当で
あり、焼付け温度は室温から１０００℃まで適宜選択で
きるが、望ましくは５００℃から８００℃が適当と考え
られる。
【００１８】そして、このように外表面がＰＢＩ被膜１
２によって覆われた電線を、さらにセラミックスによっ
て被覆し、前記セラミック被膜１３を形成する。なお、
ここで使用されるセラミックスは、前記化２なる式で構
成される耐火性物質からなるものであり、一般的な工業
用耐火物としては、ＭがＡ１、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｓ
ｉ、Ｚｒ等であり、これらの単一または複合酸化物より
構成される。具体的には、ｋ＝１、ｌ＝１の場合、即
ち、ＭＯなる塩基性耐火物としては、マグネシア、ドロ
マイト、カルシア、酸化亜鉛等が、ｋ＝１、ｌ＝２の場
合、即ち、ＭＯ2なる酸性耐火物としては、ＳｉＯ2、酸
化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ等が、ｋ＝２、
ｌ＝３の場合、即ち、Ｍ2Ｏ3なる中性耐火物としては、
Ａｌ2Ｏ3やＣｒ2Ｏ3を主成分とするものが代表的で、ア
ルミナ・クロミア・スピネル耐火物などがそれぞれ挙げ
られる。なお、本発明において使用するセラミックス
は、これらの複合酸化物でもよく、天然物であるマイカ
ー等も含まれる。実際に行う場合には、それらの酸化物
は金属と一体化しており、その金属の表面のみが酸化さ
れている場合が多いと考えられるが、耐火物としての作
用には支障がないものと推定される。
２によって覆われた電線を、さらにセラミックスによっ
て被覆し、前記セラミック被膜１３を形成する。なお、
ここで使用されるセラミックスは、前記化２なる式で構
成される耐火性物質からなるものであり、一般的な工業
用耐火物としては、ＭがＡ１、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｓ
ｉ、Ｚｒ等であり、これらの単一または複合酸化物より
構成される。具体的には、ｋ＝１、ｌ＝１の場合、即
ち、ＭＯなる塩基性耐火物としては、マグネシア、ドロ
マイト、カルシア、酸化亜鉛等が、ｋ＝１、ｌ＝２の場
合、即ち、ＭＯ2なる酸性耐火物としては、ＳｉＯ2、酸
化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ等が、ｋ＝２、
ｌ＝３の場合、即ち、Ｍ2Ｏ3なる中性耐火物としては、
Ａｌ2Ｏ3やＣｒ2Ｏ3を主成分とするものが代表的で、ア
ルミナ・クロミア・スピネル耐火物などがそれぞれ挙げ
られる。なお、本発明において使用するセラミックス
は、これらの複合酸化物でもよく、天然物であるマイカ
ー等も含まれる。実際に行う場合には、それらの酸化物
は金属と一体化しており、その金属の表面のみが酸化さ
れている場合が多いと考えられるが、耐火物としての作
用には支障がないものと推定される。
【００１９】上述のごとく化２なる式で構成されるセラ
ミックスのパウダーペーストワニスは、用いたシリコン
バインダーがメチル基などの有機基を多量に含んだもの
でＰＢＩ層との密着性が改善されたものであり、かつセ
ラミックパウダーのセラミック粒子が鱗片状に改良され
たものである。ＰＢＩ被覆との密着性は改善（自己径Ｏ
Ｋ）されていたが、やはりそのままでは破壊電圧が１．
５ｋＶ（ＰＢＩ被覆のみで５．０ｋＶ前後）以上あがら
ないということであったが、測定時に端末メタライズ部
分を溶剤で剥がして測定した結果は３．４〜４．６ｋＶ
で大幅に改良された。チクソ剤をワニスに添加して部分
的に偏心が多かったことから、非ニュートン性を増や
し、ワニスの配向性を増すなどの工夫がされているもの
である。ワニスを薄める溶剤としては、キシレン、トル
エンなどが必要に応じて用いられる。
ミックスのパウダーペーストワニスは、用いたシリコン
バインダーがメチル基などの有機基を多量に含んだもの
でＰＢＩ層との密着性が改善されたものであり、かつセ
ラミックパウダーのセラミック粒子が鱗片状に改良され
たものである。ＰＢＩ被覆との密着性は改善（自己径Ｏ
Ｋ）されていたが、やはりそのままでは破壊電圧が１．
５ｋＶ（ＰＢＩ被覆のみで５．０ｋＶ前後）以上あがら
ないということであったが、測定時に端末メタライズ部
分を溶剤で剥がして測定した結果は３．４〜４．６ｋＶ
で大幅に改良された。チクソ剤をワニスに添加して部分
的に偏心が多かったことから、非ニュートン性を増や
し、ワニスの配向性を増すなどの工夫がされているもの
である。ワニスを薄める溶剤としては、キシレン、トル
エンなどが必要に応じて用いられる。
【００２０】シリコーンバインダーはシロキサン結合
（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）をポリマー骨格とし、ケイ酸原子に
有機基が結合したオルガノポリシロキサンをベースポリ
マーとするものであり、これに高融点のＭkＯlで表され
るセラミックスを分散して成るものである。これを焼き
付けることにより可とう性に富んだ焼成電線が得られ
る。
（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）をポリマー骨格とし、ケイ酸原子に
有機基が結合したオルガノポリシロキサンをベースポリ
マーとするものであり、これに高融点のＭkＯlで表され
るセラミックスを分散して成るものである。これを焼き
付けることにより可とう性に富んだ焼成電線が得られ
る。
【００２１】この焼成電線をコイル巻き加工等の加工を
施した後、４００℃以上に晒す事により、シリコンレジ
ンとセラミックスが完全に焼結され、焼結セラミック化
されることによって大きな耐熱性やヒートサイクル性、
対摩耗性を示すものである。
施した後、４００℃以上に晒す事により、シリコンレジ
ンとセラミックスが完全に焼結され、焼結セラミック化
されることによって大きな耐熱性やヒートサイクル性、
対摩耗性を示すものである。
【００２２】しかし、金属導体にこれらのシリコーンバ
インダーを用いたセラミック系のワニスは導体上に良く
のらず、いままでの技術はシリコーンバインダーと分散
セラミックスのコンパンドを押し出すことのみによって
可能となっていた。
インダーを用いたセラミック系のワニスは導体上に良く
のらず、いままでの技術はシリコーンバインダーと分散
セラミックスのコンパンドを押し出すことのみによって
可能となっていた。
【００２３】前記分散セラミックスは顔料としての要素
を持ち、シリコーン系塗料用着色顔料は黒色系で７００
℃以上で焼成するＣｒ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＭｎＯ2、Ｆｅ3Ｏ
4などの混合物や白色系の酸化チタン（ＴｉＯ2）、亜鉛
華（ＺｎＯ）、赤色系では焼成条件により、色が異なる
ベンガラ（Ｆｅ2Ｏ3）などがある。また、黄色系の耐
酸、耐アルカリに良好なチタンイエロー（ＴｉＯ・Ｎｉ
Ｏ・Ｓｂ2Ｏ3）があり、緑色系では耐熱・耐酸、耐アル
カリに良好な酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）や耐熱性に良好な
コバルトグリーン（ＣｏＯ・ＺｎＯ）がある。青色系で
は５００℃まで耐えれるコバルトブルー（ＣｏＯ・ｎＡ
ｌ2Ｏ3）、銀色系ではアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）などが代表
である。
を持ち、シリコーン系塗料用着色顔料は黒色系で７００
℃以上で焼成するＣｒ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＭｎＯ2、Ｆｅ3Ｏ
4などの混合物や白色系の酸化チタン（ＴｉＯ2）、亜鉛
華（ＺｎＯ）、赤色系では焼成条件により、色が異なる
ベンガラ（Ｆｅ2Ｏ3）などがある。また、黄色系の耐
酸、耐アルカリに良好なチタンイエロー（ＴｉＯ・Ｎｉ
Ｏ・Ｓｂ2Ｏ3）があり、緑色系では耐熱・耐酸、耐アル
カリに良好な酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）や耐熱性に良好な
コバルトグリーン（ＣｏＯ・ＺｎＯ）がある。青色系で
は５００℃まで耐えれるコバルトブルー（ＣｏＯ・ｎＡ
ｌ2Ｏ3）、銀色系ではアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）などが代表
である。
【００２４】また、前記セラミックスの被覆法として
は、ＰＶＤ法あるいはＣＶＤ法又は押し出し法などが考
えられるが、最も容易なのはコーティング焼付法と考え
られる。なお、セラミック塗料の電線導体や電線被覆上
への焼付けは、一般にエナメル塗料と同様に塗料塗布→
焼付け→塗布の繰り返しで行うが、本発明でも同様これ
らの繰り返しで行われる。
は、ＰＶＤ法あるいはＣＶＤ法又は押し出し法などが考
えられるが、最も容易なのはコーティング焼付法と考え
られる。なお、セラミック塗料の電線導体や電線被覆上
への焼付けは、一般にエナメル塗料と同様に塗料塗布→
焼付け→塗布の繰り返しで行うが、本発明でも同様これ
らの繰り返しで行われる。
【００２５】化２なる式で構成されるセラミック塗料
は、シリコンバインダー中にセラミック粒子を分散・懸
濁しておりシリコンバインダーがメチル基などの有機基
を多量に含んだものは導体との密着性が良好である。
は、シリコンバインダー中にセラミック粒子を分散・懸
濁しておりシリコンバインダーがメチル基などの有機基
を多量に含んだものは導体との密着性が良好である。
【００２６】セラミック塗料の焼き付けにおいても一般
と同様にその塗装炉については、０．６ｍｍ以下の細線
の場合は横形炉が使用され、それ以上の太い線の場合は
竪形炉を使用するのが一般的であるが、本発明のＰＢＩ
の焼付け・被覆の場合にも同様な考え方で横形炉や竪形
炉を使用目的にあわせて用いることができる。
と同様にその塗装炉については、０．６ｍｍ以下の細線
の場合は横形炉が使用され、それ以上の太い線の場合は
竪形炉を使用するのが一般的であるが、本発明のＰＢＩ
の焼付け・被覆の場合にも同様な考え方で横形炉や竪形
炉を使用目的にあわせて用いることができる。
【００２７】また、焼き付けるセラミック塗料の種類、
焼付け炉のタイプによって、塗布する回数、焼付け温
度、塗布速度などが異なるのもＰＢＩの焼付けの場合と
同様であり、本発明の場合一般的には塗布する回数は１
回から数百回まで適宜選択できるが、望ましくは２回か
ら２０回が適当と考えられる。
焼付け炉のタイプによって、塗布する回数、焼付け温
度、塗布速度などが異なるのもＰＢＩの焼付けの場合と
同様であり、本発明の場合一般的には塗布する回数は１
回から数百回まで適宜選択できるが、望ましくは２回か
ら２０回が適当と考えられる。
【００２８】また、焼付け温度は室温から１０００℃ま
で適宜選択できるが、望ましくは３５０℃から８００℃
が適当と考えられ、塗装速度（線速）も０．１ｍ／分か
ら１０００ｍ／分まで適宜選択できるが、望ましくは２
ｍ／分から２００ｍ／分が適当と考えられる。
で適宜選択できるが、望ましくは３５０℃から８００℃
が適当と考えられ、塗装速度（線速）も０．１ｍ／分か
ら１０００ｍ／分まで適宜選択できるが、望ましくは２
ｍ／分から２００ｍ／分が適当と考えられる。
【００２９】また、ワニスの溶媒は本発明の場合、シン
ナーに用いられるトルエン、キシレン、ヘキサン等の非
極性溶媒やジメチルスルフォオキサイド（ＤＭＳＯ）等
の水素結合遮断溶媒が適宜使用される。この場合のワニ
ス濃度は、１％から８０％まで適宜選択できるが、望ま
しくは５％から４０％が適当と考えられる。また、電線
の外観を良好にするためにセラミック塗料にチクソ剤な
どを加えることもある。
ナーに用いられるトルエン、キシレン、ヘキサン等の非
極性溶媒やジメチルスルフォオキサイド（ＤＭＳＯ）等
の水素結合遮断溶媒が適宜使用される。この場合のワニ
ス濃度は、１％から８０％まで適宜選択できるが、望ま
しくは５％から４０％が適当と考えられる。また、電線
の外観を良好にするためにセラミック塗料にチクソ剤な
どを加えることもある。
【００３０】一方、セラミックスの押し出し被覆の場
合、その押し出し条件はそれぞれのセラミック材料によ
って異なるが、アルミ系素地で行う場合は、例えば、ア
ルミナ微粉と、融剤（一例として、滑石３２．６％、カ
オリン４３．４％、長石２４．０％）とで素地を形成
し、その素地に対してアスファルト、合成ラック、ステ
アリン酸、パイン油、ナフサ、パイン・タール、グリセ
リン、ベークライトのような熱硬化型レジンを含有する
結合剤を用いる。
合、その押し出し条件はそれぞれのセラミック材料によ
って異なるが、アルミ系素地で行う場合は、例えば、ア
ルミナ微粉と、融剤（一例として、滑石３２．６％、カ
オリン４３．４％、長石２４．０％）とで素地を形成
し、その素地に対してアスファルト、合成ラック、ステ
アリン酸、パイン油、ナフサ、パイン・タール、グリセ
リン、ベークライトのような熱硬化型レジンを含有する
結合剤を用いる。
【００３１】具体的方法としては、まず、レジン、ラッ
ク、アルミナ粉末を秤量して１０分間混合し、これに前
記融剤を加えて５分間程度混合する。次に、ステアリン
酸、パイン油、ナフサ、およびグリセリンを加えて２０
分間程度混合し、秤量した調合物を１１８〜１２３℃に
加熱したシリンダに満たして水冷して４０℃で保った型
の中に９１０〜１２６０ｋｇ／ｃｍ2の圧力で射出す
る。最後に、鋳込んだ部分を３秒間加圧してから脱型、
高速グラインダーでバリの部分を削り取り、６５℃から
始め、５日間で３２０℃まであげて乾燥する。
ク、アルミナ粉末を秤量して１０分間混合し、これに前
記融剤を加えて５分間程度混合する。次に、ステアリン
酸、パイン油、ナフサ、およびグリセリンを加えて２０
分間程度混合し、秤量した調合物を１１８〜１２３℃に
加熱したシリンダに満たして水冷して４０℃で保った型
の中に９１０〜１２６０ｋｇ／ｃｍ2の圧力で射出す
る。最後に、鋳込んだ部分を３秒間加圧してから脱型、
高速グラインダーでバリの部分を削り取り、６５℃から
始め、５日間で３２０℃まであげて乾燥する。
【００３２】なお、レジンとしては熱可塑性のポリビニ
ールブチラールやポリプロピレンなどが一般的に用いら
れる。また、溶剤にはメチルエチルケトン、エチルアル
コール、ｎ−ブチルアルコールなどが用いられ、可塑剤
にはフタル酸ジｎ−ブチルなどが用いられ、分散剤とし
ては動物性油を用いる。これらの使用量は目的とする原
料粉末の種類や粒度などによって変わってくるが、調合
割合の一例としては、素地１００に対して結合剤として
のレジン５〜１５％、溶剤４０〜６０％、可塑剤約１０
％、動作性油約１％で、粉末とこれらを混合して泥漿と
し、射出成形温度１３０〜１６０℃、圧力２００〜６０
０ｋｇ／ｃｍ2、型の温度を４０〜６０℃とするのが適
当である。
ールブチラールやポリプロピレンなどが一般的に用いら
れる。また、溶剤にはメチルエチルケトン、エチルアル
コール、ｎ−ブチルアルコールなどが用いられ、可塑剤
にはフタル酸ジｎ−ブチルなどが用いられ、分散剤とし
ては動物性油を用いる。これらの使用量は目的とする原
料粉末の種類や粒度などによって変わってくるが、調合
割合の一例としては、素地１００に対して結合剤として
のレジン５〜１５％、溶剤４０〜６０％、可塑剤約１０
％、動作性油約１％で、粉末とこれらを混合して泥漿と
し、射出成形温度１３０〜１６０℃、圧力２００〜６０
０ｋｇ／ｃｍ2、型の温度を４０〜６０℃とするのが適
当である。
【００３３】また、押し出し速度（線速）は、１ｍ／分
から１０００ｍ／分まで適宜選択できるが、望ましくは
１０ｍ／分から２００ｍ／分が適当と考えられ、押し出
し温度も常温から３５０℃まで適宜選択できると考えら
れる。
から１０００ｍ／分まで適宜選択できるが、望ましくは
１０ｍ／分から２００ｍ／分が適当と考えられ、押し出
し温度も常温から３５０℃まで適宜選択できると考えら
れる。
【００３４】以下、この発明に基づく実験例を示す。 （実験例１）外径０．５ｍｍのニッケルクロム線を用
い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部になるように調整
されたワニス中に浸漬する方法でニッケルクロム線に塗
布し、線速２０ｍ／分・３５０℃で焼き付ける。これ
を、８回繰返してＰＢＩ被覆ニッケルクロム線を得る。
これに、さらにオルガノポリシロキサンをベースポリマ
ーとしたアルミナ含量２０％でトルエン分１５％、キシ
レン分１５％のアルミナ・ワニス中に浸漬する方法で前
記ＰＢＩニッケルクロム線表面に塗布し、線速１０ｍ／
分・３５０℃で焼き付ける。これを、４回繰返してアル
ミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケルク
ロム線を得る。
い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部になるように調整
されたワニス中に浸漬する方法でニッケルクロム線に塗
布し、線速２０ｍ／分・３５０℃で焼き付ける。これ
を、８回繰返してＰＢＩ被覆ニッケルクロム線を得る。
これに、さらにオルガノポリシロキサンをベースポリマ
ーとしたアルミナ含量２０％でトルエン分１５％、キシ
レン分１５％のアルミナ・ワニス中に浸漬する方法で前
記ＰＢＩニッケルクロム線表面に塗布し、線速１０ｍ／
分・３５０℃で焼き付ける。これを、４回繰返してアル
ミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケルク
ロム線を得る。
【００３５】（実験例２）外径０．５ｍｍのニッケルク
ロム線を用い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部になる
ように調整されたワニス中に浸漬する方法でニッケルク
ロム線に塗布し、線速２０ｍ／分・３５０℃で焼き付け
る。これを、８回繰返してＰＢＩ被覆ニッケルクロム線
を得る。次に、アルミナ微粉８５．４％と、融剤（滑石
３２．６％、カオリン４３．４％、長石２４．０％）１
４．６％とで素地を形成し、その素地に対してアスファ
ルト、合成ラック、ステアリン酸、パイン油、ナフサ、
パイン、タール、グリセリン、ベークライトのような熱
硬化型レジンを含有する結合剤を加え、これを、押し出
し速度（線速）１０ｍ／分、２００℃で前記ＰＢＩ被覆
ニッケルクロム線に押出被覆し、助剤を蒸発除去した後
４００℃以上で焼成、冷却してアルミナ／ＰＢＩ被覆ニ
ッケルクロム線を得る。
ロム線を用い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部になる
ように調整されたワニス中に浸漬する方法でニッケルク
ロム線に塗布し、線速２０ｍ／分・３５０℃で焼き付け
る。これを、８回繰返してＰＢＩ被覆ニッケルクロム線
を得る。次に、アルミナ微粉８５．４％と、融剤（滑石
３２．６％、カオリン４３．４％、長石２４．０％）１
４．６％とで素地を形成し、その素地に対してアスファ
ルト、合成ラック、ステアリン酸、パイン油、ナフサ、
パイン、タール、グリセリン、ベークライトのような熱
硬化型レジンを含有する結合剤を加え、これを、押し出
し速度（線速）１０ｍ／分、２００℃で前記ＰＢＩ被覆
ニッケルクロム線に押出被覆し、助剤を蒸発除去した後
４００℃以上で焼成、冷却してアルミナ／ＰＢＩ被覆ニ
ッケルクロム線を得る。
【００３６】（実験例３）外径０．５ｍｍの銅線を用
い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部にＡＩＢＮが０．
１％になるように調整されたワニス中に浸漬する方法で
銅線表面に塗布し、線速５０ｍ／分・６００℃で焼き付
ける。これを、８回繰返してＰＢＩ被覆銅線を得る。こ
れを、アルミナ・ワニス中に浸漬する方法でＰＢＩ無酸
素銅線表面に塗布し、線速１０ｍ／分・４００℃で焼き
付ける。これを、３回繰返してアルミナ−オルガノポリ
シロキサン／ＰＢＩ被覆銅線を得る。
い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部にＡＩＢＮが０．
１％になるように調整されたワニス中に浸漬する方法で
銅線表面に塗布し、線速５０ｍ／分・６００℃で焼き付
ける。これを、８回繰返してＰＢＩ被覆銅線を得る。こ
れを、アルミナ・ワニス中に浸漬する方法でＰＢＩ無酸
素銅線表面に塗布し、線速１０ｍ／分・４００℃で焼き
付ける。これを、３回繰返してアルミナ−オルガノポリ
シロキサン／ＰＢＩ被覆銅線を得る。
【００３７】ここで使用するアルミナワニスは、一部金
属アルミニウムが混在するが、アルミナをシリコーンバ
インダーに分散したものである。詳細には、シロキサン
結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）をポリマー骨格とし、ケイ酸原
子に有機基が結合したオルガノポリシロキサンをベース
ポリマーとして、このベースポリマーに高融点のＭkＯl
で表されるセラミックスを分散して成るものである。な
お、ここでは、アルミナ含量２０％でトルエン分１５
％、キシレン分１５％のものを使用した。
属アルミニウムが混在するが、アルミナをシリコーンバ
インダーに分散したものである。詳細には、シロキサン
結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）をポリマー骨格とし、ケイ酸原
子に有機基が結合したオルガノポリシロキサンをベース
ポリマーとして、このベースポリマーに高融点のＭkＯl
で表されるセラミックスを分散して成るものである。な
お、ここでは、アルミナ含量２０％でトルエン分１５
％、キシレン分１５％のものを使用した。
【００３８】（実験例４）外径０．５ｍｍのニッケルメ
ッキ銅線を用い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部にＡ
ＩＢＮが０．１％になるように調整されたワニス中に浸
漬する方法でニッケルメッキ銅線表面に塗布し、線速５
０ｍ／分・６００℃で焼き付ける。これを、８回繰返し
てＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線を得る。次に、アルミ
ナ微粉８５．４％と、融剤（滑石３２．６％、カオリン
４３．４％、長石２４．０％）１４．６％とで素地を形
成し、この素地に対してアスファルト、合成ラック、ス
テアリン酸、パイン油、ナフサ、パイン、タール、グリ
セリン、ベークライトのような熱硬化型レジンを含有す
る結合剤を加え、これを、押し出し速度（線速）１０ｍ
／分、２００℃で前記ＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線に
押出被覆し、助剤を蒸発除去した後４００℃以上で焼
成、冷却してアルミナ／ＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線
を得る。
ッキ銅線を用い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ７０部にＡ
ＩＢＮが０．１％になるように調整されたワニス中に浸
漬する方法でニッケルメッキ銅線表面に塗布し、線速５
０ｍ／分・６００℃で焼き付ける。これを、８回繰返し
てＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線を得る。次に、アルミ
ナ微粉８５．４％と、融剤（滑石３２．６％、カオリン
４３．４％、長石２４．０％）１４．６％とで素地を形
成し、この素地に対してアスファルト、合成ラック、ス
テアリン酸、パイン油、ナフサ、パイン、タール、グリ
セリン、ベークライトのような熱硬化型レジンを含有す
る結合剤を加え、これを、押し出し速度（線速）１０ｍ
／分、２００℃で前記ＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線に
押出被覆し、助剤を蒸発除去した後４００℃以上で焼
成、冷却してアルミナ／ＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線
を得る。
【００３９】（実験例５）外径０．５ｍｍのニッケルメ
ッキ銅線を用い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ６０部・Ｄ
ＭＳＯ１０部にＡＩＢＮが０．１％になるように調整さ
れたワニス中に浸漬する方法でニッケルメッキ銅線表面
に塗布し、線速２０ｍ／分・６００℃で焼き付ける。こ
れを、８回繰返してＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線を得
る。次に、アルミナ微粉８５．４％と、融剤（滑石３
２．６％、カオリン４３．４％、長石２４．０％）１
４．６％で素地を形成し、この素地に対してアスファル
ト、合成ラック、ステアリン酸、パイン油、ナフサ、パ
イン、タール、グリセリン、ベークライトのような熱硬
化型レジンを含有する結合剤を加え、これを、押し出し
速度（線速）２０ｍ／分、３００℃で前記ＰＢＩ被覆ニ
ッケルメッキ銅線に押出被覆し、助剤を蒸発除去した後
４００℃以上で焼成、冷却してアルミナ／ＰＢＩ被覆ニ
ッケルメッキ銅線を得る。
ッキ銅線を用い、ＰＢＩ３０部と溶媒ＤＭＡ６０部・Ｄ
ＭＳＯ１０部にＡＩＢＮが０．１％になるように調整さ
れたワニス中に浸漬する方法でニッケルメッキ銅線表面
に塗布し、線速２０ｍ／分・６００℃で焼き付ける。こ
れを、８回繰返してＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線を得
る。次に、アルミナ微粉８５．４％と、融剤（滑石３
２．６％、カオリン４３．４％、長石２４．０％）１
４．６％で素地を形成し、この素地に対してアスファル
ト、合成ラック、ステアリン酸、パイン油、ナフサ、パ
イン、タール、グリセリン、ベークライトのような熱硬
化型レジンを含有する結合剤を加え、これを、押し出し
速度（線速）２０ｍ／分、３００℃で前記ＰＢＩ被覆ニ
ッケルメッキ銅線に押出被覆し、助剤を蒸発除去した後
４００℃以上で焼成、冷却してアルミナ／ＰＢＩ被覆ニ
ッケルメッキ銅線を得る。
【００４０】（実験例６）外径０．３６ｍｍの無酸素銅
線を用い、ＰＢＩ２０部と溶媒ＤＭＡ８０部からなるワ
ニス中に浸漬する方法で無酸素銅線表面に塗布し、線速
１０ｍ／分・５００℃で焼き付ける。これを、１０回繰
返してＰＢＩ被覆無酸素銅線を得る。これをアルミナ・
ワニス中に浸漬する方法でＰＢＩ無酸素銅線表面に塗布
し、線速１０ｍ／分・４００℃で焼き付ける。これを、
３回繰返してアルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢ
Ｉ被覆無酸素銅線を得る。
線を用い、ＰＢＩ２０部と溶媒ＤＭＡ８０部からなるワ
ニス中に浸漬する方法で無酸素銅線表面に塗布し、線速
１０ｍ／分・５００℃で焼き付ける。これを、１０回繰
返してＰＢＩ被覆無酸素銅線を得る。これをアルミナ・
ワニス中に浸漬する方法でＰＢＩ無酸素銅線表面に塗布
し、線速１０ｍ／分・４００℃で焼き付ける。これを、
３回繰返してアルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢ
Ｉ被覆無酸素銅線を得る。
【００４１】ここで使用するアルミナワニスは、一部金
属アルミニウムが混在するがアルミナをシリコーンバイ
ンダーに分散したものである。詳細には、シロキサン結
合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）をポリマー骨格とし、ケイ酸原子
に有機基が結合したオルガノポリシロキサンをベースポ
リマーとして、このベースポリマーに高融点のＭkＯｌ
で現されるセラミックスを分散して成るものである。な
お、ここでは、アルミナ含量２０％でトルエン分１５
％、キシレン分１５％のものを使用した。
属アルミニウムが混在するがアルミナをシリコーンバイ
ンダーに分散したものである。詳細には、シロキサン結
合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）をポリマー骨格とし、ケイ酸原子
に有機基が結合したオルガノポリシロキサンをベースポ
リマーとして、このベースポリマーに高融点のＭkＯｌ
で現されるセラミックスを分散して成るものである。な
お、ここでは、アルミナ含量２０％でトルエン分１５
％、キシレン分１５％のものを使用した。
【００４２】（実験例７）外径１．５ｍｍのニッケルメ
ッキ銅線を用い、ＰＢＩ５５部と溶媒ＤＭＡ４５部から
なるワニス中に浸漬する方法でニッケルメッキ銅線表面
に塗布し、線速６０ｍ／分で７００℃の条件で焼き付け
る。これを、２０回繰返してＰＢＩ被覆電線を得る。そ
して、オルガノポリシロキサンをベースポリマーとした
酸化スズ含量２０％でトルエン分２０％、キシレン分２
０％の酸化スズワニス中に浸漬する方法で前記ＰＢＩニ
ッケルメッキ銅線表面に塗布し、線速１５ｍ／分・４５
０℃で焼き付ける。これを、４回繰返して酸化スズ−オ
ルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線
を得る。
ッキ銅線を用い、ＰＢＩ５５部と溶媒ＤＭＡ４５部から
なるワニス中に浸漬する方法でニッケルメッキ銅線表面
に塗布し、線速６０ｍ／分で７００℃の条件で焼き付け
る。これを、２０回繰返してＰＢＩ被覆電線を得る。そ
して、オルガノポリシロキサンをベースポリマーとした
酸化スズ含量２０％でトルエン分２０％、キシレン分２
０％の酸化スズワニス中に浸漬する方法で前記ＰＢＩニ
ッケルメッキ銅線表面に塗布し、線速１５ｍ／分・４５
０℃で焼き付ける。これを、４回繰返して酸化スズ−オ
ルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケルメッキ銅線
を得る。
【００４３】（実験例８）外径２．５ｍｍのニッケルメ
ッキ銅線を用い、ＰＢＩ６５部と溶媒ＤＭＡ３５部から
なるワニス中に浸漬する方法でニッケルメッキ銅線表面
に塗布し、線速３０ｍ／分で６００℃の条件で焼き付け
る。これを、１５回繰返してＰＢＩ被覆ニッケル・メッ
キ銅線を得る。そして、オルガノポリシロキサンをベー
スポリマーとしたアルミナ含量２０％でトルエン分１５
％、キシレン分１５％のアルミナ・ワニス中に浸漬する
方法で前記ＰＢＩニッケルメッキ銅線表面に塗布し、線
速１０ｍ／分・３５０℃で焼き付ける。これを、３回繰
返してアルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆
ニッケルメッキ銅電線を得る。
ッキ銅線を用い、ＰＢＩ６５部と溶媒ＤＭＡ３５部から
なるワニス中に浸漬する方法でニッケルメッキ銅線表面
に塗布し、線速３０ｍ／分で６００℃の条件で焼き付け
る。これを、１５回繰返してＰＢＩ被覆ニッケル・メッ
キ銅線を得る。そして、オルガノポリシロキサンをベー
スポリマーとしたアルミナ含量２０％でトルエン分１５
％、キシレン分１５％のアルミナ・ワニス中に浸漬する
方法で前記ＰＢＩニッケルメッキ銅線表面に塗布し、線
速１０ｍ／分・３５０℃で焼き付ける。これを、３回繰
返してアルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆
ニッケルメッキ銅電線を得る。
【００４４】（実験例９）外径１．５ｍｍのニッケル銅
合金線を用い、ＰＢＩ５５部と溶媒ＤＭＡ４５部からな
るワニス中に浸漬する方法でニッケル銅合金線表面に塗
布し、線速３０ｍ／分で５００℃の条件で焼き付ける。
これを、２０回繰返してＰＢＩ被覆ニッケル銅合金線を
得る。そして、オルガノポリシロキサンをベースポリマ
ーとした酸化銀含量１８％でトルエン分１５％、キシレ
ン分１０％の酸化銀中に浸漬する方法で前記ＰＢＩニッ
ケルメッキ銅合金線表面に塗布し、線速１７ｍ／分・４
５０℃で焼き付ける。これを、４回繰返して酸化銀−オ
ルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケル銅合金線が
出来る。
合金線を用い、ＰＢＩ５５部と溶媒ＤＭＡ４５部からな
るワニス中に浸漬する方法でニッケル銅合金線表面に塗
布し、線速３０ｍ／分で５００℃の条件で焼き付ける。
これを、２０回繰返してＰＢＩ被覆ニッケル銅合金線を
得る。そして、オルガノポリシロキサンをベースポリマ
ーとした酸化銀含量１８％でトルエン分１５％、キシレ
ン分１０％の酸化銀中に浸漬する方法で前記ＰＢＩニッ
ケルメッキ銅合金線表面に塗布し、線速１７ｍ／分・４
５０℃で焼き付ける。これを、４回繰返して酸化銀−オ
ルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケル銅合金線が
出来る。
【００４５】（実験例１０）外径０．３６ｍｍの無酸素
導線を用い、これにエチレン−テトラフルオロエチレン
共重合体（ＥＴＦＥ）を、押出速度（線速）１５ｍ／
分、押出温度３３０℃で押出して、ＥＴＦＥ被覆無酸素
導線を得る。そして、ＰＢＩ２０部と溶媒ＤＭＡ８０部
からなるワニス中に浸漬する方法で、ＥＴＦＥ被覆表面
に塗布し、線速１０ｍ／分で５００℃の条件で焼き付け
る。これを、１０回繰返してＰＢＩ／ＥＴＦＥ被覆無酸
素導線を得る。これを、アルミナ・ワニス中に浸漬する
方法でＰＢＩ／ＥＴＦＥ被覆無酸素銅線表面に塗布し、
線速１０ｍ／分・４００℃で焼き付ける。これを、３回
繰返してアルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ／
ＥＴＦＥ被覆銅線を得る。
導線を用い、これにエチレン−テトラフルオロエチレン
共重合体（ＥＴＦＥ）を、押出速度（線速）１５ｍ／
分、押出温度３３０℃で押出して、ＥＴＦＥ被覆無酸素
導線を得る。そして、ＰＢＩ２０部と溶媒ＤＭＡ８０部
からなるワニス中に浸漬する方法で、ＥＴＦＥ被覆表面
に塗布し、線速１０ｍ／分で５００℃の条件で焼き付け
る。これを、１０回繰返してＰＢＩ／ＥＴＦＥ被覆無酸
素導線を得る。これを、アルミナ・ワニス中に浸漬する
方法でＰＢＩ／ＥＴＦＥ被覆無酸素銅線表面に塗布し、
線速１０ｍ／分・４００℃で焼き付ける。これを、３回
繰返してアルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ／
ＥＴＦＥ被覆銅線を得る。
【００４６】ここで使用するアルミナワニスは、一部金
属アルミニウムが混在するが、アルミナをシリコーンバ
インダーに分散したものである。詳細には、シロキサン
結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）をポリマー骨格とし、ケイ酸原
子に有機基が結合したオルガノポリシロキサンをベース
ポリマーとして、このベースポリマーに高融点のＭｋＯ
lで表されるセラミックスを分散して成るものである。
なお、ここでは、アルミナ含量２０％で トルエン分１
５％、キシレン分１５％のものを使用した。
属アルミニウムが混在するが、アルミナをシリコーンバ
インダーに分散したものである。詳細には、シロキサン
結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）をポリマー骨格とし、ケイ酸原
子に有機基が結合したオルガノポリシロキサンをベース
ポリマーとして、このベースポリマーに高融点のＭｋＯ
lで表されるセラミックスを分散して成るものである。
なお、ここでは、アルミナ含量２０％で トルエン分１
５％、キシレン分１５％のものを使用した。
【００４７】なお、このアルミナ−オルガノポリシロキ
サン／ＰＢＩ／ＥＴＦＥ被覆銅線は、常用３５０℃以上
の超耐熱性を有し、かつ優秀な耐熱絶縁破壊性を有する
ものである。
サン／ＰＢＩ／ＥＴＦＥ被覆銅線は、常用３５０℃以上
の超耐熱性を有し、かつ優秀な耐熱絶縁破壊性を有する
ものである。
【００４８】上記各実験例の評価サンプルについての一
般特性を下表に示す。
般特性を下表に示す。
【００４９】
【表１】
【００５０】
【表２】
【００５１】
【表３】
【００５２】
【表４】
【００５３】以上の表１ないし表４から分かるように、
上記各実験例は、いずれも超耐熱性を有し、かつ優秀な
耐絶縁破壊性を有するものであることが分かる。
上記各実験例は、いずれも超耐熱性を有し、かつ優秀な
耐絶縁破壊性を有するものであることが分かる。
【００５４】また、実験例１で示したアルミナ−オルガ
ノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケルクロム線につい
ては、アルミナ−オルガノポリシロキサンを被覆してい
ない通常のＰＢＩ被覆ニッケルクロム線と共に空気中に
おける３００℃／２４時間の老化試験を行った。
ノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケルクロム線につい
ては、アルミナ−オルガノポリシロキサンを被覆してい
ない通常のＰＢＩ被覆ニッケルクロム線と共に空気中に
おける３００℃／２４時間の老化試験を行った。
【００５５】試験結果は、表５に示すように、通常のＰ
ＢＩ被覆ニッケルクロム線は、その絶縁破壊（ＫＶ）初
期２．１が１．９に低下していた。しかし、実験例１の
アルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケ
ルクロム線は、アルミナ−オルガノポリシロキサン層は
劣化していたもののアルミナ−オルガノポリシロキサン
層をはがしたＰＢＩ層の絶縁破壊（ＫＶ）は、初期２．
２がそのまま維持され、劣化していないことが確認され
た。なお、実験例２ないし実験例１０についても、同様
の結果が得られた。
ＢＩ被覆ニッケルクロム線は、その絶縁破壊（ＫＶ）初
期２．１が１．９に低下していた。しかし、実験例１の
アルミナ−オルガノポリシロキサン／ＰＢＩ被覆ニッケ
ルクロム線は、アルミナ−オルガノポリシロキサン層は
劣化していたもののアルミナ−オルガノポリシロキサン
層をはがしたＰＢＩ層の絶縁破壊（ＫＶ）は、初期２．
２がそのまま維持され、劣化していないことが確認され
た。なお、実験例２ないし実験例１０についても、同様
の結果が得られた。
【００５６】
【表５】
【００５７】なお、上記実施の形態では、裸電線１１に
ＰＢＩ被膜１２を形成し、さらにその上にセラミックス
を被覆することによってセラミック被膜１３を形成した
ものであるが、例えば、図２に示すように、芯線２２が
絶縁被覆層２３によって覆われた絶縁被覆電線２１にＰ
ＢＩ被膜２４を形成し、これをさらにセラミックスによ
って形成されたセラミック被膜２５によって被覆するも
のであってもよい。
ＰＢＩ被膜１２を形成し、さらにその上にセラミックス
を被覆することによってセラミック被膜１３を形成した
ものであるが、例えば、図２に示すように、芯線２２が
絶縁被覆層２３によって覆われた絶縁被覆電線２１にＰ
ＢＩ被膜２４を形成し、これをさらにセラミックスによ
って形成されたセラミック被膜２５によって被覆するも
のであってもよい。
【００５８】また、前記実施の形態では、上記ＰＢＩ被
膜１２及びセラミック被膜１３を裸電線又は絶縁被覆電
線に形成した耐熱電線を示しているが、このような電線
に限らず、ＰＢＩ被膜の上にセラミック被膜を形成した
一般の耐熱絶縁材として、使用することもできる。
膜１２及びセラミック被膜１３を裸電線又は絶縁被覆電
線に形成した耐熱電線を示しているが、このような電線
に限らず、ＰＢＩ被膜の上にセラミック被膜を形成した
一般の耐熱絶縁材として、使用することもできる。
【００５９】
【発明の効果】以上のように、この発明の耐熱電線及び
耐熱絶縁材は、ＰＢＩの重合体によって形成される被膜
がセラミック被膜によって覆われているので、かかる耐
熱電線及び耐熱絶縁材を劣悪な環境で使用した場合で
も、ＰＢＩ被膜が直接空気に接触することがなく、ＰＢ
Ｉが本来有している耐熱特性等の優れた諸特性がそのま
ま維持される。
耐熱絶縁材は、ＰＢＩの重合体によって形成される被膜
がセラミック被膜によって覆われているので、かかる耐
熱電線及び耐熱絶縁材を劣悪な環境で使用した場合で
も、ＰＢＩ被膜が直接空気に接触することがなく、ＰＢ
Ｉが本来有している耐熱特性等の優れた諸特性がそのま
ま維持される。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明にかかる一実施形態を示す断面図であ
る。
る。
【図２】他の実施形態を示す断面図である。
【図３】同上の製造装置を示す概略図である。
【符号の説明】 １０、２０ 耐熱電線 １１ 裸電線 １２、２４ ＰＢＩ被膜 １３、２５ セラミック被膜 ２１ 絶縁被覆電線
Claims (15)
- 【請求項１】 裸電線又は絶縁被覆電線の外表面をポリ
ベンゾイミダゾールの重合体によって形成される被膜に
よって覆い、この被膜をさらにセラミック被膜によって
覆った耐熱電線。 - 【請求項２】 ポリベンゾイミダゾールの重合体によっ
て形成される被膜をセラミック被膜によって覆った耐熱
絶縁材。 - 【請求項３】 前記ポリベンゾイミダゾールの重合体に
よって形成される被膜が、 【化１】 で示され、 前記セラミック被膜が、 【化２】 で示される請求項１記載の耐熱電線。 - 【請求項４】 前記ポリベンゾイミダゾールの重合体に
よって形成される被膜が、前記化１で示され、 前記セラミック被膜が、前記化２で示される請求項２記
載の耐熱絶縁材。 - 【請求項５】 前記被膜は、ポリベンゾイミダゾールの
塩基性溶媒ワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に塗布し、
これを焼成することによって形成される請求項１記載の
耐熱電線。 - 【請求項６】 前記被膜は、ポリベンゾイミダゾールの
塩基性溶媒ワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に塗布し、
これを焼成することによって形成され、この被膜が、シ
リコン系バインダーによるセラミック被膜によって被覆
されている請求項１記載の耐熱電線。 - 【請求項７】 前記被膜は、重合度の低いポリベンゾイ
ミダゾールを塩基性溶媒に溶かしたポリベンゾイミダゾ
ールワニスにラジカル重合開始剤を添加したものを裸電
線又は絶縁被覆電線に塗布し、これを焼成することによ
って形成される請求項１記載の耐熱電線。 - 【請求項８】 前記被膜は、重合度の低いポリベンゾイ
ミダゾールを塩基性溶媒に溶かしたポリベンゾイミダゾ
ールワニスにラジカル重合開始剤を添加したものを焼成
することによって形成される請求項２記載の耐熱絶縁
材。 - 【請求項９】 請求項１記載の耐熱電線を航空機用電線
として使用する方法。 - 【請求項１０】 請求項１記載の耐熱電線を高電圧電線
として使用する方法。 - 【請求項１１】 請求項１記載の耐熱電線を通信電線と
して使用する方法。 - 【請求項１２】 請求項１記載の耐熱電線を電気ヒータ
電線として使用する方法。 - 【請求項１３】 ポリベンゾイミダゾールの塩基性溶媒
ワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に塗布した後、 これを焼成することによって、ポリベンゾイミダゾール
の被膜を形成し、 このポリベンゾイミダゾール被膜表面をセラミック被膜
によって覆うようにした耐熱電線の製造方法。 - 【請求項１４】 前記セラミック被膜を形成する際、シ
リコン系バインダーを用いた請求項１３記載の耐熱電線
の製造方法。 - 【請求項１５】 重合度の低いポリベンゾイミダゾール
の重合体を塩基性溶媒に溶かしたポリベンゾイミダゾー
ルワニスにラジカル重合開始剤を添加し、 ラジカル重合開始剤を含んだ前記ポリベンゾイミダゾー
ルワニスを裸電線又は絶縁被覆電線に塗布した後、 前記裸電線又は絶縁被覆電線に塗布されたポリベンゾイ
ミダゾールワニスを焼成することによって、前記裸電線
又は絶縁被覆電線に熱架橋されたポリベンゾイミダゾー
ルの重合体の被膜を形成し、 このポリベンゾイミダゾール被膜表面をセラミック被膜
によって覆うようにした耐熱電線の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29423495A JP3289581B2 (ja) | 1995-11-13 | 1995-11-13 | 耐熱電線及び耐熱電線の製造方法 |
| US08/747,540 US5834117A (en) | 1995-11-13 | 1996-11-12 | Heat-resistant electrical wire comprising a benzimidazole-based polymer coating |
| EP96402418A EP0773557B1 (en) | 1995-11-13 | 1996-11-13 | Heat-resistant electrical wire comprising a benzimidazole-based polymer coating |
| DE69607104T DE69607104T2 (de) | 1995-11-13 | 1996-11-13 | Wärmebeständiger, leitfähiger Draht mit einer Benzimidazolpolymer enthaltenden Beschichtung |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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ID=17805087
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| EP (1) | EP0773557B1 (ja) |
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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| TW516043B (en) * | 1998-12-19 | 2003-01-01 | Tai I Electric Wire & Amp Cabl | High temperature resistant colored enamel wires |
| US6541588B1 (en) * | 1999-01-29 | 2003-04-01 | 3M Innovative Properties Company | Tetrafluoroethylene/hexafluoropropylene copolymers with higher drawability |
| TW412754B (en) * | 1999-02-12 | 2000-11-21 | Tai I Electric Wire & Cable Co | Anti-inrush varnished wire |
| US6875927B2 (en) * | 2002-03-08 | 2005-04-05 | Applied Materials, Inc. | High temperature DC chucking and RF biasing cable with high voltage isolation for biasable electrostatic chuck applications |
| ITPD20020112A1 (it) * | 2002-05-03 | 2003-11-03 | Leonardantonio Franchini | Elemento riscaldante in ceramica conglobante resistenza termoelettrica |
| JP4539487B2 (ja) * | 2005-08-05 | 2010-09-08 | 株式会社Ｉｈｉ | 電動機付過給機 |
| JP4591828B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2010-12-01 | 株式会社Ｉｈｉ | 電動機付過給機 |
| DE602006020239D1 (de) * | 2006-01-24 | 2011-04-07 | Ihi Corp | Motorbetriebene Aufladung |
| DE602006008264D1 (de) | 2006-01-26 | 2009-09-17 | Ihi Corp | Turbo-Auflader |
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| US7700215B2 (en) * | 2006-04-19 | 2010-04-20 | Delphi Technologies, Inc. | Clad current carrier for a solid oxide fuel cell stack |
| JP4671177B2 (ja) * | 2006-06-02 | 2011-04-13 | 株式会社Ｉｈｉ | 電動過給機 |
| JP4753033B2 (ja) * | 2006-06-02 | 2011-08-17 | 株式会社Ｉｈｉ | 電動過給機 |
| JP4941782B2 (ja) | 2006-08-18 | 2012-05-30 | 株式会社Ｉｈｉ | 電動過給機 |
| WO2008020512A1 (fr) * | 2006-08-18 | 2008-02-21 | Ihi Corporation | Compresseur volumétrique électrique |
| US20150262731A1 (en) * | 2014-03-12 | 2015-09-17 | Merry Electronics (Suzhou) Co., Ltd. | Method of making copper-clad graphene conducting wire |
| GB2613409A (en) * | 2021-11-30 | 2023-06-07 | Airbus Operations Ltd | Cable structure for use in aircraft wheel brakes |
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|---|---|---|---|---|
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| US5468557A (en) * | 1989-01-12 | 1995-11-21 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Ceramic insulated electrical conductor wire and method for manufacturing such a wire |
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- 1995-11-13 JP JP29423495A patent/JP3289581B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1996
- 1996-11-12 US US08/747,540 patent/US5834117A/en not_active Expired - Fee Related
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- 1996-11-13 DE DE69607104T patent/DE69607104T2/de not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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