JPH09120505A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ギャップデプス精度を向上させるとともに、
円筒研削に要する時間を一定にして効率の良い安定した
磁気記録媒体摺動面を高い生産性をもって形成し、歩留
り及び信頼性の高い磁気ヘッドの製造方法を提供する。 【解決手段】 スライサーを用いて磁気コア半体ブロッ
ク３３の中央部に長手方向に沿ってデプス規制溝３４を
削設して予めギャップデプスを規制し、作製された磁気
コアブロック３７に円筒研削を施す際に突出部３８，３
９を研削除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ビデオテープレコ
ーダや磁気ディスク装置等に好適な磁気ヘッドの製造方
法に関し、特に、非磁性基板に成膜された金属磁性薄膜
により閉磁路が形成されてなる磁気ヘッドの製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】ビデオテープレコーダ（ＶＴＲ）や磁気
ディスク装置等の磁気記録再生装置の磁気ヘッドとして
は、フェライトよりなる磁気コアの磁気ギャップ形成面
に金属磁性薄膜を成膜した、いわゆるメタル・イン・ギ
ャップ型磁気ヘッドや、一対の非磁性材料よりなる基板
で金属磁性薄膜を挟み込んだ形の、いわゆるラミネート
型磁気ヘッド等が使用されており、高画質化、デジタル
化等に対応し、高周波域で良好な電磁変換特性を示すこ
とが考慮されている。

【０００３】具体的に、ラミネート型の磁気ヘッドにお
いては、一対の磁気コア半体がギャップ膜を介して突き
合わせられ接合一体化されて磁気ギャップを有する磁気
コアが形成されている。

【０００４】各磁気コア半体は、非磁性材料からなるガ
ード部材にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ等よりなる金属磁性薄膜が
狭持されてなるものであり、この金属磁性薄膜の端部が
突き合わせられることにより閉磁路が形成されることに
なる。このとき、磁気ギャップのトラック幅は上記ガー
ド部材が非磁性材料よりなることから上記金属磁性薄膜
の膜厚によって規制される。

【０００５】この場合、上記金属磁性薄膜の代わりに、
当該金属磁性薄膜と酸化物膜或は窒化物膜等の絶縁膜と
が交互に多層積層されてなる多層膜を成膜することが好
適である。

【０００６】また、各磁気コア半体の突合せ面には、磁
気ギャップのデプスを規制するとともに磁気コイルを形
成するための線材を巻回する巻線溝がそれぞれ形成さ
れ、当該巻線溝の上部には融着ガラスが充填されてい
る。

【０００７】上記磁気ヘッドを製造するに際しては、先
ず、それぞれ一主面に金属磁性薄膜１１１が成膜されて
なる複数の短冊状の非磁性基板を当該一主面にて接合一
体化した後に、図１７に示すように、非磁性基板に所定
のアジマス角をもって切断加工を施して磁気コア半体ブ
ロック１０１を切り出す。

【０００８】続いて、図１８に示すように、磁気コア半
体ブロック１０１に長手方向に沿って巻線溝１１２を２
本形成し、図１９に示すように、当該磁気コア半体ブロ
ック１０１をその中央部にて長手方向に沿って２分割し
て一対の磁気コア半体ブロック１０２，１０３を作製す
る。

【０００９】そして、図２０に示すように、各磁気コア
半体ブロック１０２，１０３の一主面に磁気ギャップを
構成するためのギャップ膜１１３をスパッタ等の手法に
より成膜した後に、図２１に示すように、各磁気コア半
体ブロック１０２，１０３を金属磁性薄膜１１１が相対
向するように各ギャップ膜１１３にて突き合わせ、この
状態で巻線溝１１２に棒状のガラス材を挿入して加熱
し、溶融ガラスにより両者を接合一体化して磁気コアブ
ロック１０４を作製する。

【００１０】次いで、図２２に示すように、磁気コアブ
ロック１０４の上面に研磨テープ（ラッピング・テー
プ）を用いて円筒研削を施して所定の曲率をもつ磁気記
録媒体摺動面ａを形成した後に、図２３及び図２４に示
すように、カップ砥石等を用いてギャップデプスを規定
するためのデプス加工を施して磁気記録媒体摺動面ａの
一部ｂ（図２４中、斜線で示す。）を研削除去する。

【００１１】続いて、磁気コイルをなす線材を巻回する
ためのガイド溝を長手方向に沿って形成し、磁気記録媒
体に対する当り幅を確保するための当り幅加工を施した
後、当該磁気コアブロック１０４に切断加工を施して所
定のチップ幅に各ヘッドチップを切り出す。

【００１２】この磁気ヘッドは、上記金属磁性薄膜の膜
厚がすなわち磁気ギャップのトラック幅となるものであ
ることから、この金属磁性薄膜の膜厚を制御することに
より簡単に狭トラック化が図れること、構造的に疑似ギ
ャップが発生しないこと、また金属磁性薄膜と酸化物膜
或は窒化物膜を交互に積層した多層膜を成膜することに
より渦電流損失を回避することが可能となる等、種々の
利点を有している。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近時におけ
る磁気記録の高密度化や記録再生装置の小型化の要請に
伴って磁気テープの総厚を薄くする等の工夫が必要とな
り、したがって、磁気ヘッドには磁気テープとの良好な
当りを確保するために、当該磁気ヘッドの磁気記録媒体
摺動面ａを高精度に所定の曲率に規制することが必須で
ある。

【００１４】この磁気記録媒体摺動面ａを形成する際に
は、上述のようにラッピング・テープを用いて研磨を施
しているが、このラッピング・テープを用いた研磨にお
いては、機械研削を用いた場合と異なり形成される磁気
記録媒体摺動面ａの曲面形状が当該ラッピング・テープ
の剛性に大きく依存し、最終的にはこのラッピング・テ
ープと磁気記録媒体摺動面ａが形成される磁気コアブロ
ックの上面との間の接触状態によって決定される一様な
形状となる。

【００１５】このラッピング・テープを用いた研磨にお
いては、磁気ヘッドの電磁変換特性と当該磁気ヘッドの
寿命との兼ね合いからギャップデプスが決定されるため
に、ラッピングを施す前のギャップデプス精度（加工上
がりのギャップデプス精度）によりラッピング時間が決
まることになる。

【００１６】すなわち、加工上がりのギャップデプスが
小さい場合には、ラッピング時間が短くなって磁気記録
媒体摺動面ａが所定の最終形状とならずに過渡的な一様
でない形状となり、また加工上がりのギャップデプスが
大きい場合には、最終的な一様な形状をもつ磁気記録媒
体摺動面ａが形成ものの、ラッピング時間が極めて長く
なって生産性の点で大きな問題がある。

【００１７】したがって、高精度な磁気記録媒体摺動面
ａの曲面形状を高い生産性をもって形成するには加工上
がりのギャップデプス精度を向上させることが重要であ
るが、現在のところ、十分なギャップデプス精度を効率
よく形成する方法は案出されていない現状にある。

【００１８】そこで本発明は、上述の従来の磁気ヘッド
の有する欠点を解消すべく提案されたものであって、ギ
ャップデプス精度を向上させるとともに、円筒研削に要
する時間を一定にして効率の良い安定した磁気記録媒体
摺動面を高い生産性をもって形成し、歩留り及び信頼性
の高い磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とす
る。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明の対象とするもの
は、一対の磁気コア半体がギャップ膜を介して接合され
て磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドの製造方法
である。

【００２０】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、一対の
磁気コア半体ブロックを接合一体化して磁気コアブロッ
クを作製する工程と、磁気コアブロックの上面に円筒研
削を施して所定の曲率をもつ磁気記録媒体摺動面を形成
する工程と、磁気コアブロックに切断加工を施して各ヘ
ッドチップ毎に切り出す工程とを有し、磁気コア半体ブ
ロックを切り出した後に、当該各磁気コア半体ブロック
に巻線溝及びこの巻線溝と略々平行なデプス規制溝を形
成して予めギャップデプスを規制するとともに、上記円
筒研削の際に当該デプス規制溝を形成したことにより磁
気コアブロックの上面両端部に形成された突出部を研削
除去するものである。

【００２１】この場合、１枚の磁気コア半体ブロックの
中央部に長手方向に沿ってギャップデプスを規制するデ
プス規制溝を形成し、当該磁気コア半体ブロックを長手
方向に沿って２分割することにより一対の磁気コア半体
ブロックを作製することが好適である。

【００２２】本発明において、製造する磁気ヘッドとし
ては、一対の非磁性保護板により金属磁性薄膜を狭持し
てなる磁気コア半体同士が、前記金属磁性薄膜の端面同
士を対向させてギャップ膜を介して接合されて磁気ギャ
ップが形成されてなる磁気ヘッドを主な対象とする。

【００２３】このとき、それぞれ一主面に金属磁性薄膜
が成膜されてなる複数の短冊状の非磁性基板を積層して
接合一体化する工程と、接合一体化された非磁性基板に
切断加工を施して磁気コア半体ブロックを切り出す工程
とを経ることにより磁気コア半体ブロックを作製するこ
とが好適である。

【００２４】この場合、上記金属磁性薄膜として、金属
磁性薄膜と絶縁膜とが交互に積層されてなる多層膜を成
膜することが好適である。

【００２５】このとき、多層膜の構成要素である金属磁
性薄膜の材料としては、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｎｉ
−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ，
及びこれらの合金にＣｏ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔ
ａ，Ｒｕ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｎ，Ｃ，Ｏのうちから１種或は
数種を添加した結晶質材料や、Ｃｏを主としてＺｒ，Ｔ
ａ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｒｕのうち
から１種或は数種を添加したアモルファス材料、Ｃｏ，
Ｆｅを主としてＮｉ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｍｏ，
Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｃｕ，Ｓｎ，Ｒ
ｕ，Ｂのうちから１種或は数種とＮ，Ｃ，Ｏのうちから
１種或は数種を添加した多結晶質材料等のうちから選ば
れたものを用いることが好適である。

【００２６】また、多層膜の構成要素である絶縁膜の材
料としては、酸化物或は窒化物、例えばＳｉ０₂ ，Ａｌ
₂ Ｏ₃ ，或はＳｉ₃ Ｎ₄ 等のうちから選ばれた１種を用
いることが好ましい。

【００２７】このように、本発明に係る磁気ヘッドの製
造方法においては、磁気コア半体ブロックを切り出した
後に、当該各磁気コア半体ブロックに巻線溝及びこの巻
線溝と略々平行なデプス規制溝が形成されて予めギャッ
プデプスが規制される。したがって、円筒研削の際に当
該デプス規制溝を形成したことにより磁気コアブロック
の上面両端部に形成された突出部を研削除去することに
より、上記円筒研削時に一定時間をもってこれら各突出
部を研磨除去することによりギャップデプスが高精度に
規定されるとともに、磁気記録媒体摺動面が所望の曲面
形状に形成されることになる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した磁気ヘッ
ドの製造方法の具体的な実施の形態について、図面を用
いて詳細に説明する。

【００２９】本実施の形態において作製される磁気ヘッ
ドは、一対の非磁性材料よりなる保護板で金属磁性薄膜
を挟み込んだかたちの、いわゆるラミネート型の磁気ヘ
ッドである。

【００３０】この磁気ヘッドにおいては、図１に示すよ
うに、一対の磁気コア半体１１，１２がギャップ膜１３
を介して突き合わせられ接合一体化されて磁気ギャップ
ｇを有する磁気コア１が形成されている。

【００３１】各磁気コア半体１１，１２は、非磁性材料
からなるガード部材である一対の保護板２１，２２にＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ等よりなる多層膜１４が狭持されてなる
ものであり、この多層膜１４の端部が突き合わせられる
ことにより閉磁路が形成されることになる。このとき、
磁気ギャップｇのトラック幅は保護板２１，２２が非磁
性材料よりなることから多層膜１４の膜厚によって規制
される。

【００３２】この多層膜１４は、図２に示すように、金
属磁性薄膜２３と酸化物膜或は窒化物膜等の絶縁膜２４
とが交互に多層積層されるとともに、最上層及び最下層
に接合膜２５が成膜されてなるものである。金属磁性薄
膜２３の材料としては、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉの他に，Ｆｅ
−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ−
Ｇｅ，及びこれらの合金にＣｏ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｍ
ｏ，Ｔａ，Ｒｕ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｎ，Ｃ，Ｏのうちから１
種或は数種を添加した結晶質材料や、Ｃｏを主としてＺ
ｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｒｕ
のうちから１種或は数種を添加したアモルファス材料、
Ｃｏ，Ｆｅを主としてＮｉ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｈｆ，
Ｍｏ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｃｕ，Ｓ
ｎ，Ｒｕ，Ｂのうちから１種或は数種とＮ，Ｃ，Ｏのう
ちから１種或は数種を添加した多結晶質材料等のうちか
ら選ばれたものを用いることが好適である。さらに、絶
縁膜２４の材料としては、Ｓｉ０₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，或は
Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等のうちから選ばれた１種を用いることが好
ましい。

【００３３】また、各磁気コア半体１１，１２の突合せ
面には、磁気ギャップｇのデプスを規制するとともに磁
気コイルを形成するための線材を巻回する巻線溝１５及
びガイド溝１６がそれぞれ形成され、当該巻線溝１５の
上部には融着ガラス１７が充填されている。

【００３４】上記磁気ヘッドを製造するに際しては、先
ず、図３に示すように、両面に鏡面加工が施されたＫ₂
ＴｉＯ₃ 等よりなる複数の短冊状の非磁性基板３１を用
意し、この非磁性基板３１の各一主面にスパッタ等の真
空薄膜形成技術により最下層に融着ガラス薄膜或はＡ
ｕ，Ａｇ，Ｐｄ等の接合膜２５を成膜した後に、金属磁
性薄膜２３と酸化物膜或は窒化物膜等の絶縁膜２４とを
交互にそれぞれ２〜５μｍ（ここでは４．９μｍ）及び
０．１〜０．３μｍ（ここでは０．２μｍの膜厚に積層
成膜し、最上層に接合膜２５を成膜して図４に示すよう
な多層膜１４を形成する。

【００３５】次いで、図５に示すように、複数の非磁性
基板３１を整列させて加圧固定した状態で熱処理を施し
て接合一体化させ非磁性基板ブロック３２を作製する。
なお、接合膜２５と金属磁性薄膜２３との密着力を向上
させるために、当該接合膜２５の下地膜としてＣｒ等を
成膜することが好ましい。

【００３６】続いて、非磁性基板ブロック３２に所定の
アジマス角θをもって例えば図６の各破線に沿って切断
加工を施して、図７及び図８（図７中、円Ｃ内を示す
図）に示すように磁気コア半体ブロック３３を切り出
す。このとき、非磁性基板ブロック３２の垂直方向と多
層膜１４とのなす角度がアジマス角θとなる。

【００３７】次いで、図９に示すように、スライサーを
用いて磁気コア半体ブロック３３に長手方向に沿って巻
線溝１５を２本形成した後に、図１０に示すように、同
様にスライサーを用いて磁気コア半体ブロック３３の中
央部に長手方向に沿ってギャップデプスを予め規制する
デプス規制溝３４を形成する。

【００３８】そして、図１１に示すように、磁気コア半
体ブロック３３を長手方向に沿って２分割することによ
り一対の磁気コア半体ブロック３５，３６を作製する。
このとき、各磁気コア半体ブロック３５，３６の一端部
にそれぞれデプス規制溝３４が形成されていることにな
る。

【００３９】続いて、各磁気コア半体ブロック３５，３
６の巻線溝１５及びデプス規制溝３４が形成された一主
面に鏡面加工を施す。そして、図１２に示すように、こ
の鏡面加工が施された研磨面にギャップ膜１３として融
着用ガラス膜、或はＡｕ，Ａｇ，Ｐｄ等（ここではＣｒ
を材料とした下地膜を介したＡｕ膜）を材料としてスパ
ッタ等により成膜する。

【００４０】その後、図１３に示すように、各磁気コア
半体ブロック３３，３４をそれぞれの多層膜１４が相対
向するように突き合わせ、ガラス融着法或は低温金属接
合法により両者を接合一体化させて磁気コアブロック３
７を作製する。このとき、デプス規制溝３４が形成され
たことにより磁気コアブロック３７の上面両端部にそれ
ぞれ突出部３８，３９が形成されることになる。なお、
この場合の熱処理時に巻線溝１５に挿入した棒状のガラ
ス材を溶融させて充填させる。

【００４１】次に、図１４に示すように、磁気コアブロ
ック３５の上面に研磨テープ（ラッピング・テープ）を
用いて円筒研削を施して所定の曲率をもつ磁気記録媒体
摺動面ａを形成する。このとき、図１５に示す突出部３
８，３９が研削除去されることになる。

【００４２】次いで、図１６に示すように、磁気コイル
をなす線材を巻回するためのガイド溝１６を長手方向に
沿って形成し、磁気記録媒体に対する当り幅を確保する
ための当り幅溝を形成した後に、当該磁気コアブロック
３５に切断加工を施して所定のチップ幅に各ヘッドチッ
プ４１を切り出す。

【００４３】このように、本実施の形態に係る磁気ヘッ
ドの製造方法においては、磁気コア半体ブロック３３を
切り出した後に、当該各磁気コア半体ブロック３３に巻
線溝１５及びこの巻線溝１５と略々平行なデプス規制溝
３４が形成されて予めギャップデプスが規制される。し
たがって、円筒研削の際にデプス規制溝３４を形成した
ことにより磁気コアブロック３７の上面両端部に形成さ
れた突出部３８，３９を研削除去することにより、上記
円筒研削時に一定時間をもってこれら各突出部３８，３
９を研磨除去することによりギャップデプスが高精度に
規定されるとともに、磁気記録媒体摺動面ａが所望の曲
面形状に形成されることになる。

【００４４】ここで、１つの実験例について説明する。
この実験は、本実施の形態に示した磁気ヘッドを製造す
るに際して、製造された磁気ヘッドのギャップデプスの
ばらつきについて、比較例として掲げるデプス規制溝３
４を形成することなしに製造された従来の磁気ヘッドと
の比較に基づいて調べたものである。

【００４５】この実験においては、本実施の形態の磁気
ヘッドをサンプルＡ、従来の磁気ヘッドをサンプルＢと
し、１つの磁気コアブロック内におけるギャップデプス
のばらつきの幅と、各磁気コアブロック間におけるギャ
ップデプスのばらつきの幅の双方について各サンプル毎
に調べた。

【００４６】実験結果を以下に示す。

【００４７】１）１ブロック内のばらつき サンプルＡ：１μｍ以内 サンプルＢ：約３μｍ ２）１ブロック内のばらつき サンプルＡ：２μｍ以内 サンプルＢ：約５μｍ このように、サンプルＢの場合では、円筒研削によって
生じるばらつきに加えて、加工時において磁気コアブロ
ックの傾きや設置位置のばらつき等が生じることに対し
て、サンプルＡの場合では、例えば酸化物磁性材料より
なる各磁気コア半体が金属磁性薄膜及びギャップ膜を介
して接合一体化されてなる、いわゆるメタル・イン・ギ
ャップ型の磁気ヘッド（ＭＩＧヘッド）におけるトラッ
ク幅規制溝等の高精度な機械加工と等価な精度が得られ
ることが分かる。

【００４８】したがって、本実施の形態における磁気ヘ
ッドの製造方法によれば、円筒研削に要する時間を一定
にして効率の良い安定した磁気記録媒体摺動面ａを高い
生産性をもって形成し、歩留り及び信頼性の高い磁気ヘ
ッドを製造することが可能となる。

【００４９】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、円筒研削に要する時間を一定にして効率の良い安定
した磁気記録媒体摺動面を高い生産性をもって形成し、
歩留り及び信頼性の高い磁気ヘッドを製造することが可
能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態における磁気ヘッドを模式的に示
す斜視図である。

【図２】金属磁性薄膜と絶縁層とからなる多層膜を模式
的に示す平面図である。

【図３】両面に鏡面加工が施された複数の短冊状の非磁
性基板を模式的に示す斜視図である。

【図４】非磁性基板に金属磁性薄膜と絶縁膜とからなる
多層膜が成膜された様子を模式的に示す斜視図である。

【図５】複数の非磁性基板が接合一体化されて非磁性基
板ブロックが作製された様子を模式的に示す斜視図であ
る。

【図６】非磁性基板ブロックから磁気コア半体ブロック
が切り出される様子を模式的に示す斜視図である。

【図７】切り出された磁気コア半体ブロックを模式的に
示す斜視図である。

【図８】図７中の楕円Ｃ内に示す多層膜の近傍の様子を
模式的に示す斜視図である。

【図９】磁気コア半体ブロックに２本の巻線溝が形成さ
れた様子を模式的に示す斜視図である。

【図１０】磁気コア半体ブロックの中央部に長手方向に
沿ってデプス規制溝が形成された様子を模式的に示す斜
視図である。

【図１１】磁気コア半体ブロックが長手方向に沿って２
分割されて一対の磁気コア半体ブロックが作製された様
子を模式的に示す斜視図である。

【図１２】各磁気コア半体ブロックの巻線溝及びデプス
規制溝が形成された一主面にギャップ膜が成膜された様
子を模式的に示す斜視図である。

【図１３】各磁気コア半体ブロックが突き合わされて磁
気コアブロックが作製された様子を模式的に示す斜視図
である。

【図１４】磁気コアブロックの上面に円筒研削が施され
て磁気記録媒体摺動面が形成された様子を模式的に示す
斜視図である。

【図１５】円筒研削により研削除去される突出部の近傍
の様子を模式的に示す正面図である。

【図１６】磁気コアブロックにガイド溝が形成された後
に、磁気コアブロックから各ヘッドチップが切り出され
る様子を模式的に示す斜視図である。

【図１７】従来の磁気ヘッドの製造時において、切り出
された磁気コア半体ブロックを模式的に示す斜視図であ
る。

【図１８】磁気コア半体ブロックに２本の巻線溝が形成
された様子を模式的に示す斜視図である。

【図１９】磁気コア半体ブロックがその中央部にて２分
割されて一対の磁気コア半体ブロックが作製された様子
を模式的に示す斜視図である。

【図２０】各磁気コア半体ブロックの一主面にギャップ
膜が成膜された様子を模式的に示す斜視図である。

【図２１】一対の磁気コア半体ブロックが接合一体化さ
れて磁気コアブロックが作製された様子を模式的に示す
斜視図である。

【図２２】磁気コアブロックの上面に円筒研削が施され
て磁気記録媒体摺動面が形成された様子を模式的に示す
斜視図である。

【図２３】磁気コアブロックにデプス加工が施された様
子を模式的に示す斜視図である。

【図２４】デプス加工により研削除去される部分の近傍
の様子を模式的に示す正面図である。

【符号の説明】

１ 磁気コア １１，１２ 磁気コア半体 １４ 多層膜 ２１，２２ 保護板 ２３ 金属磁性薄膜 ２４ 絶縁膜 ３１ 非磁性基板 ３３ 磁気コア半体ブロック ３４ デプス規制溝 ３５，３６ 一対の磁気コア半体ブロック ３７ 磁気コアブロック ３８，３９ 突出部 ４１ ヘッドチップ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一対の磁気コア半体がギャップ膜を介し
   て接合されて磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッド
   を製造するに際して、 一対の磁気コア半体ブロックを接合一体化して磁気コア
   ブロックを作製する工程と、 磁気コアブロックの上面に円筒研削を施して所定の曲率
   をもつ磁気記録媒体摺動面を形成する工程と、 磁気コアブロックに切断加工を施して各ヘッドチップ毎
   に切り出す工程とを有し、 磁気コア半体ブロックを切り出した後に、当該各磁気コ
   ア半体ブロックに巻線溝及びこの巻線溝と略々平行なデ
   プス規制溝を形成して予めギャップデプスを規制すると
   ともに、上記円筒研削の際に当該デプス規制溝を形成し
   たことにより磁気コアブロックの上面両端部に形成され
   た突出部を研削除去することを特徴とする磁気ヘッドの
   製造方法。
2. 【請求項２】 一対の非磁性保護板により金属磁性薄膜
   を狭持してなる磁気コア半体同士が、前記金属磁性薄膜
   の端面同士を対向させてギャップ膜を介して接合されて
   磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドを製造するに
   際して、 それぞれ一主面に金属磁性薄膜が成膜されてなる複数の
   短冊状の非磁性基板を積層して接合一体化する工程と、 接合一体化された非磁性基板に切断加工を施して磁気コ
   ア半体ブロックを切り出す工程とを有することを特徴と
   する請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】 金属磁性薄膜として、金属磁性薄膜と絶
   縁膜とが交互に積層されてなる多層膜を成膜することを
   特徴とする請求項２記載の磁気ヘッドの製造方法。
4. 【請求項４】 １枚の磁気コア半体ブロックの中央部に
   長手方向に沿ってギャップデプスを規制するデプス規制
   溝を形成し、当該磁気コア半体ブロックを長手方向に沿
   って２分割することにより一対の磁気コア半体ブロック
   を作製することを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド
   の製造方法。