JPH06318311A - 垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH06318311A JPH06318311A JP10697393A JP10697393A JPH06318311A JP H06318311 A JPH06318311 A JP H06318311A JP 10697393 A JP10697393 A JP 10697393A JP 10697393 A JP10697393 A JP 10697393A JP H06318311 A JPH06318311 A JP H06318311A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方
法に関し、記録・再生効率が良く、且つ製造歩留り良く
製造できる垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を実現
することを目的とする。 【構成】 軟磁性膜２２を保護膜２３を介して挟んで接
着した非磁性基板２０，２５を、平行に切断して形成し
たバー状のヘッド形成用基板２６を、その軟磁性膜２２
が垂直になるようにして耐熱性樹脂２７で固定台２８に
固定し、その上にコイル２９、中心磁極ヨーク３０、絶
縁膜３１を順次形成し、該絶縁膜３１を中心磁極ヨーク
３０が露出するまで研磨し、更にリターンヨーク形成用
の溝３２を形成した後軟磁性膜でリターンヨーク３３を
形成後、固定台２８より取り外し、その取り外した面を
研磨して媒体対向面を形成するように構成する。
法に関し、記録・再生効率が良く、且つ製造歩留り良く
製造できる垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を実現
することを目的とする。 【構成】 軟磁性膜２２を保護膜２３を介して挟んで接
着した非磁性基板２０，２５を、平行に切断して形成し
たバー状のヘッド形成用基板２６を、その軟磁性膜２２
が垂直になるようにして耐熱性樹脂２７で固定台２８に
固定し、その上にコイル２９、中心磁極ヨーク３０、絶
縁膜３１を順次形成し、該絶縁膜３１を中心磁極ヨーク
３０が露出するまで研磨し、更にリターンヨーク形成用
の溝３２を形成した後軟磁性膜でリターンヨーク３３を
形成後、固定台２８より取り外し、その取り外した面を
研磨して媒体対向面を形成するように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は垂直薄膜磁気ヘッド及び
その製造方法に関する。詳しくは磁気ディスク装置、或
いは磁気テープ装置等に用いられるプレーナ型の垂直薄
膜磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
その製造方法に関する。詳しくは磁気ディスク装置、或
いは磁気テープ装置等に用いられるプレーナ型の垂直薄
膜磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
【０００２】近年、磁気ディスク装置にあっては、小型
化、大容量化が急速に進められ、従来の水平磁気記録方
式に比べて遙かに高密度記録が可能な垂直磁気記録方式
のプレーナ型薄膜磁気ヘッドが提案されているが、更に
記録・再生効率の良い垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法が
必要とされている。
化、大容量化が急速に進められ、従来の水平磁気記録方
式に比べて遙かに高密度記録が可能な垂直磁気記録方式
のプレーナ型薄膜磁気ヘッドが提案されているが、更に
記録・再生効率の良い垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法が
必要とされている。
【０００３】
【従来の技術】従来のプレーナー型垂直薄膜磁気ヘッド
の製造方法を図５に示す。この製造方法は、先ず図５
（ａ）の如く、所定のトラック幅で０．３μｍの膜厚の
センダスト（Ａｌ−Ｓｉ−Ｆｅ）等の軟磁性膜からなる
主磁極１を例えばＡｌ2 Ｏ3 ＴｉＣ或いはセラミック等
からなる２枚の非磁性基板２，２′間に挟んでガラス又
は硬化性樹脂等からなる接着材層３により接着し、一体
化した非磁性基板４の上面に、ＳｉＯ2 からなる層間絶
縁層５を介して該主磁極１を中心としたＣｕめっき膜か
らなる薄膜コイル６をマスクめっき法により形成した
後、図５（ｂ）に示すように該薄膜コイル６の中心に１
０μｍの膜厚のＮｉ−Ｆｅ膜からなる中心磁極ヨーク７
とリターンヨーク８をマスクめっき法等により形成す
る。
の製造方法を図５に示す。この製造方法は、先ず図５
（ａ）の如く、所定のトラック幅で０．３μｍの膜厚の
センダスト（Ａｌ−Ｓｉ−Ｆｅ）等の軟磁性膜からなる
主磁極１を例えばＡｌ2 Ｏ3 ＴｉＣ或いはセラミック等
からなる２枚の非磁性基板２，２′間に挟んでガラス又
は硬化性樹脂等からなる接着材層３により接着し、一体
化した非磁性基板４の上面に、ＳｉＯ2 からなる層間絶
縁層５を介して該主磁極１を中心としたＣｕめっき膜か
らなる薄膜コイル６をマスクめっき法により形成した
後、図５（ｂ）に示すように該薄膜コイル６の中心に１
０μｍの膜厚のＮｉ−Ｆｅ膜からなる中心磁極ヨーク７
とリターンヨーク８をマスクめっき法等により形成す
る。
【０００４】次に図５（ｃ）に示すように、スパッタリ
ング法によりＡｌ2 Ｏ3 膜９を成膜した後、該膜９をＮ
ｉ−Ｆｅリターンヨーク８が露出するまで平面研磨す
る。次に図５（ｄ）に示すように前記平面研磨した面に
接着剤１０を用いてフェライト部材１１を接着し、次い
で非磁性基板４側を所定の厚さ（Ａ−Ａ線で示す）まで
研磨して媒体対向面１２を形成し完成する。
ング法によりＡｌ2 Ｏ3 膜９を成膜した後、該膜９をＮ
ｉ−Ｆｅリターンヨーク８が露出するまで平面研磨す
る。次に図５（ｄ）に示すように前記平面研磨した面に
接着剤１０を用いてフェライト部材１１を接着し、次い
で非磁性基板４側を所定の厚さ（Ａ−Ａ線で示す）まで
研磨して媒体対向面１２を形成し完成する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来、垂直磁気記録で
は、図６に示すように効率向上のため、記録媒体１３と
して軟磁性膜１４上に記録層１５を設けた二層構造の媒
体が用いられている。またヘッド１６側には磁束のリタ
ーンヨーク１７を設けることが行なわれている。このリ
ターンヨーク１７と主磁極１８および媒体１３の軟磁性
膜１４を通る磁路の磁気抵抗が小さい方が効率は良い。
ところが図５で説明した従来の製造方法によるプレーナ
ー型垂直薄膜磁気ヘッドでは、フェライト部材１１がリ
ターンヨークの一部になっているが、該フェライト部材
１１と中心磁極ヨーク７及びリターンヨーク８との間は
接着剤１０を用いて接着しているため、ある程度の磁気
的な空隙が生じる。この空隙が効率を低下させるという
問題があった。また、磁気ヘッドの製造には、磁気特性
改善等のために高温にさらされる場合があり、またメッ
キ治具などにより力学的な力が加えられることがある。
このため従来例では基板接着部に使用している接着剤が
軟化し、主磁極近傍に位置ずれが生じ歩留りが低下する
という問題があった。
は、図６に示すように効率向上のため、記録媒体１３と
して軟磁性膜１４上に記録層１５を設けた二層構造の媒
体が用いられている。またヘッド１６側には磁束のリタ
ーンヨーク１７を設けることが行なわれている。このリ
ターンヨーク１７と主磁極１８および媒体１３の軟磁性
膜１４を通る磁路の磁気抵抗が小さい方が効率は良い。
ところが図５で説明した従来の製造方法によるプレーナ
ー型垂直薄膜磁気ヘッドでは、フェライト部材１１がリ
ターンヨークの一部になっているが、該フェライト部材
１１と中心磁極ヨーク７及びリターンヨーク８との間は
接着剤１０を用いて接着しているため、ある程度の磁気
的な空隙が生じる。この空隙が効率を低下させるという
問題があった。また、磁気ヘッドの製造には、磁気特性
改善等のために高温にさらされる場合があり、またメッ
キ治具などにより力学的な力が加えられることがある。
このため従来例では基板接着部に使用している接着剤が
軟化し、主磁極近傍に位置ずれが生じ歩留りが低下する
という問題があった。
【０００６】本発明は、記録・再生効率の良いプレーナ
型、垂直薄膜磁気ヘッドを製造歩留り良く製造できる垂
直薄膜磁気ヘッドの製造方法を実現しようとする。
型、垂直薄膜磁気ヘッドを製造歩留り良く製造できる垂
直薄膜磁気ヘッドの製造方法を実現しようとする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の垂直薄膜磁気ヘ
ッドの第１の製造方法に於いては、ウェハ状の非磁性基
板２０の上に保護膜２１、軟磁性膜２２、保護膜２３を
順次形成し、その上に第２の非磁性基板２５を接着して
ヘッド形成用ブロックを形成する工程、前記ヘッド形成
用ブロックを平行に切断して複数のバー状のヘッド形成
用基板２６を形成する工程、前記ヘッド形成用基板２６
を、その軟磁性膜２２が垂直となるように並べ耐熱性樹
脂２７を用いて固定台２８の上に接着する工程、前記ヘ
ッド形成用基板２６の上に、軟磁性膜２２を中心とする
コイル２９をＣｕ膜で形成する工程、前記コイル２９の
中心で且つ軟磁性膜２２に磁気的に接続する中心磁極ヨ
ーク３０を軟磁性材を用いて形成する工程、前記ヘッド
形成用基板２６の上に絶縁膜３１を形成した後、該絶縁
膜３１を中心磁極ヨーク３０が露出するまで研磨する工
程、前記コイル２９の両側で且つ軟磁性膜２２に平行に
リターンヨーク用の溝３２を絶縁膜３１からヘッド形成
用基板２６にかけて形成する工程、前記絶縁膜３１の上
にリターンヨーク３３となる軟磁性膜３３′を形成後、
その上面を平滑になるまで研磨する工程、前記耐熱性樹
脂２７を溶解して固定台２８を除去し、その除去した面
を溝３２の中のリターンヨーク３３が露出するまで研磨
し、その後個々のヘッドに切断分離する工程、の諸工程
より成ることを特徴とする。
ッドの第１の製造方法に於いては、ウェハ状の非磁性基
板２０の上に保護膜２１、軟磁性膜２２、保護膜２３を
順次形成し、その上に第２の非磁性基板２５を接着して
ヘッド形成用ブロックを形成する工程、前記ヘッド形成
用ブロックを平行に切断して複数のバー状のヘッド形成
用基板２６を形成する工程、前記ヘッド形成用基板２６
を、その軟磁性膜２２が垂直となるように並べ耐熱性樹
脂２７を用いて固定台２８の上に接着する工程、前記ヘ
ッド形成用基板２６の上に、軟磁性膜２２を中心とする
コイル２９をＣｕ膜で形成する工程、前記コイル２９の
中心で且つ軟磁性膜２２に磁気的に接続する中心磁極ヨ
ーク３０を軟磁性材を用いて形成する工程、前記ヘッド
形成用基板２６の上に絶縁膜３１を形成した後、該絶縁
膜３１を中心磁極ヨーク３０が露出するまで研磨する工
程、前記コイル２９の両側で且つ軟磁性膜２２に平行に
リターンヨーク用の溝３２を絶縁膜３１からヘッド形成
用基板２６にかけて形成する工程、前記絶縁膜３１の上
にリターンヨーク３３となる軟磁性膜３３′を形成後、
その上面を平滑になるまで研磨する工程、前記耐熱性樹
脂２７を溶解して固定台２８を除去し、その除去した面
を溝３２の中のリターンヨーク３３が露出するまで研磨
し、その後個々のヘッドに切断分離する工程、の諸工程
より成ることを特徴とする。
【０００８】また、本発明の垂直薄膜磁気ヘッドの第２
の製造方法に於いては、ウェハ状の非磁性基板２０の上
に保護膜２３、軟磁性膜２２、保護膜２３を順次形成
し、その上に第２の非磁性基板２５を接着してヘッド形
成用ブロックを形成する工程、前記ヘッド形成用ブロッ
クを平行に切断して複数のバー状のヘッド形成用基板２
６を形成する工程、前記ヘッド形成用基板２６を、その
軟磁性膜２２が垂直となるように並べ耐熱性樹脂２７を
用いて固定台２８の上に接着する工程、前記ヘッド形成
用基板２６の上に、軟磁性膜２２を中心とするコイル２
９をＣｕ膜で形成する工程、前記コイル２９を形成した
ヘッド形成用基板２６の上に絶縁膜３１を形成した後、
該絶縁膜３１を研磨して平坦化する工程、前記絶縁膜３
１及びヘッド形成用基板２６に中心磁極ヨーク形成用の
溝３４及びリターンヨーク形成用の溝３５を形成する工
程、前記絶縁膜３１の上に中心磁極ヨーク及びリターン
ヨークとなる軟磁性膜３３′を形成後、その上面を平滑
になるまで研磨する工程、前記耐熱性樹脂２７を溶解し
て固定台２８を除去し、その除去した面を溝３５の中の
リターンヨーク３３が露出するまで研磨し、その後、個
々のヘッドに切断分離する工程、の諸工程より成ること
を特徴とする。
の製造方法に於いては、ウェハ状の非磁性基板２０の上
に保護膜２３、軟磁性膜２２、保護膜２３を順次形成
し、その上に第２の非磁性基板２５を接着してヘッド形
成用ブロックを形成する工程、前記ヘッド形成用ブロッ
クを平行に切断して複数のバー状のヘッド形成用基板２
６を形成する工程、前記ヘッド形成用基板２６を、その
軟磁性膜２２が垂直となるように並べ耐熱性樹脂２７を
用いて固定台２８の上に接着する工程、前記ヘッド形成
用基板２６の上に、軟磁性膜２２を中心とするコイル２
９をＣｕ膜で形成する工程、前記コイル２９を形成した
ヘッド形成用基板２６の上に絶縁膜３１を形成した後、
該絶縁膜３１を研磨して平坦化する工程、前記絶縁膜３
１及びヘッド形成用基板２６に中心磁極ヨーク形成用の
溝３４及びリターンヨーク形成用の溝３５を形成する工
程、前記絶縁膜３１の上に中心磁極ヨーク及びリターン
ヨークとなる軟磁性膜３３′を形成後、その上面を平滑
になるまで研磨する工程、前記耐熱性樹脂２７を溶解し
て固定台２８を除去し、その除去した面を溝３５の中の
リターンヨーク３３が露出するまで研磨し、その後、個
々のヘッドに切断分離する工程、の諸工程より成ること
を特徴とする。
【０００９】また、本発明の垂直薄膜磁気ヘッドに於い
ては、前記第１又は第２の垂直薄膜磁気ヘッドの製造方
法により製造されたことを特徴とする。
ては、前記第１又は第２の垂直薄膜磁気ヘッドの製造方
法により製造されたことを特徴とする。
【００１０】この構成を採ることに依り、記録・再生効
率の良いプレーナー型垂直薄膜磁気ヘッドを歩留り良く
製造できる垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法が得られる。
率の良いプレーナー型垂直薄膜磁気ヘッドを歩留り良く
製造できる垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法が得られる。
【００１１】
【作用】本発明では、図１及び図２に示すように、主磁
極となる軟磁性膜２２を非磁性基板２０，２５で挟み込
んだ構造のヘッド形成用基板２６を用い、該基板２６上
にコイル２９、中心磁極ヨーク３０、絶縁膜３１を形成
し、該絶縁膜３１及び基板２６にリターンヨーク形成用
の溝３２を形成後、軟磁性材３３′を用いてリターンヨ
ーク３３を形成する。また、磁気ヘッドの製造プロセス
時に接着層が軟化しても良いように、固定台２８の上に
耐熱性の樹脂で固定するとともに、主磁極近傍から接着
層を遠ざけ、仮に多少位置ずれが起っても不良とならな
いようにする。
極となる軟磁性膜２２を非磁性基板２０，２５で挟み込
んだ構造のヘッド形成用基板２６を用い、該基板２６上
にコイル２９、中心磁極ヨーク３０、絶縁膜３１を形成
し、該絶縁膜３１及び基板２６にリターンヨーク形成用
の溝３２を形成後、軟磁性材３３′を用いてリターンヨ
ーク３３を形成する。また、磁気ヘッドの製造プロセス
時に接着層が軟化しても良いように、固定台２８の上に
耐熱性の樹脂で固定するとともに、主磁極近傍から接着
層を遠ざけ、仮に多少位置ずれが起っても不良とならな
いようにする。
【００１２】上記手段を用いることにより、中心磁極ヨ
ーク３０とリターンヨーク３３の間に接着層を必要とし
ないため、効率の向上が図れる。また位置ずれによる歩
留り低下も防ぐことができる。
ーク３０とリターンヨーク３３の間に接着層を必要とし
ないため、効率の向上が図れる。また位置ずれによる歩
留り低下も防ぐことができる。
【００１３】
【実施例】図１及び図２は本発明の垂直薄膜磁気ヘッド
の製造方法の第１の実施例を示す図である。本実施例は
先ず、図１の（ａ）図に示すようにＡｌ2 Ｏ3 ／ＴｉＣ
などのウェハ状の第１の非磁性基板２０の上に、プラズ
マＣＶＤ法により厚さ５０μｍ程度のＤＬＣ（Ｄｉａｍ
ｏｎｄ−Ｌｉｋｅ−Ｃａｒｂｏｎ）などの材料を用いた
第１の保護膜２１を形成し、その上にセンダスト（Ａｌ
−Ｓｉ−Ｆｅ）等を用いて厚さ０．３μｍの軟磁性膜２
２を形成し、さらにその上に前記第１の保護膜２１と同
様な保護膜２３を形成する。この上に接着剤２４を用い
て第１の非磁性基板２０と同様な非磁性基板２５を接着
する。これによってヘッド形成用ブロックが形成され
る。
の製造方法の第１の実施例を示す図である。本実施例は
先ず、図１の（ａ）図に示すようにＡｌ2 Ｏ3 ／ＴｉＣ
などのウェハ状の第１の非磁性基板２０の上に、プラズ
マＣＶＤ法により厚さ５０μｍ程度のＤＬＣ（Ｄｉａｍ
ｏｎｄ−Ｌｉｋｅ−Ｃａｒｂｏｎ）などの材料を用いた
第１の保護膜２１を形成し、その上にセンダスト（Ａｌ
−Ｓｉ−Ｆｅ）等を用いて厚さ０．３μｍの軟磁性膜２
２を形成し、さらにその上に前記第１の保護膜２１と同
様な保護膜２３を形成する。この上に接着剤２４を用い
て第１の非磁性基板２０と同様な非磁性基板２５を接着
する。これによってヘッド形成用ブロックが形成され
る。
【００１４】次に図１（ｂ）に示すように前記ヘッド形
成用ブロックを平行に切断して複数のバー状のヘッド形
成用基板２６を形成し、このヘッド形成用基板２６を、
図１（ｃ）に示すように、その軟磁性膜２２が垂直とな
るように横に並べる。そして加熱時に接着剤２４が軟化
しても位置ずれがないように、例えばレジスト等の耐熱
性樹脂２７を用いて固定台２８の上に固定する。
成用ブロックを平行に切断して複数のバー状のヘッド形
成用基板２６を形成し、このヘッド形成用基板２６を、
図１（ｃ）に示すように、その軟磁性膜２２が垂直とな
るように横に並べる。そして加熱時に接着剤２４が軟化
しても位置ずれがないように、例えばレジスト等の耐熱
性樹脂２７を用いて固定台２８の上に固定する。
【００１５】次に図１（ｄ）に示すように、ヘッド形成
用基板２６の上に軟磁性膜２２を中心として電解メッキ
法によりＣｕ膜のコイル２９を形成する。次いで図２
（ａ）に示すように、コイル２９の中心で且つ軟磁性膜
２２に磁気的に接続するようにＮｉＦｅの中心磁極ヨー
ク３０を電解メッキ法で厚さ１０μｍに形成する。次
に、その上に図２（ｂ）に示すようにスパッタ法でＡｌ
2 Ｏ3 絶縁膜３１を厚さ１５μｍ形成した後、該絶縁膜
３１を磁極ヨーク３０が露出するまで研磨して平坦化す
る。
用基板２６の上に軟磁性膜２２を中心として電解メッキ
法によりＣｕ膜のコイル２９を形成する。次いで図２
（ａ）に示すように、コイル２９の中心で且つ軟磁性膜
２２に磁気的に接続するようにＮｉＦｅの中心磁極ヨー
ク３０を電解メッキ法で厚さ１０μｍに形成する。次
に、その上に図２（ｂ）に示すようにスパッタ法でＡｌ
2 Ｏ3 絶縁膜３１を厚さ１５μｍ形成した後、該絶縁膜
３１を磁極ヨーク３０が露出するまで研磨して平坦化す
る。
【００１６】次に図２（ｃ）に示すようにリターンヨー
クを形成するための溝３２を所定の深さに機械加工等で
形成する。次いで図２（ｄ）に示すようにリターンヨー
ク３３となる軟磁性膜３３′をＮｉＦｅの電解メッキ法
により形成した後、その上面が平坦になるまで（Ａ−
Ａ′線で示す）研磨する。次いで接着剤２７を有機溶剤
で溶解してヘッド形成用基板２６から固定台２８を除去
し、その除去した面をリターンヨーク３３が露出するま
で（Ｂ−Ｂ′線で示す）研磨し、最後にＣ−Ｃ′線及び
Ｄ−Ｄ′線から切断して個々のヘッドに分離して図２
（ｅ）の如く完成する。
クを形成するための溝３２を所定の深さに機械加工等で
形成する。次いで図２（ｄ）に示すようにリターンヨー
ク３３となる軟磁性膜３３′をＮｉＦｅの電解メッキ法
により形成した後、その上面が平坦になるまで（Ａ−
Ａ′線で示す）研磨する。次いで接着剤２７を有機溶剤
で溶解してヘッド形成用基板２６から固定台２８を除去
し、その除去した面をリターンヨーク３３が露出するま
で（Ｂ−Ｂ′線で示す）研磨し、最後にＣ−Ｃ′線及び
Ｄ−Ｄ′線から切断して個々のヘッドに分離して図２
（ｅ）の如く完成する。
【００１７】本実施例の製造方法によれば、図１（ｃ）
の如く、軟磁性膜２２を挟んで接着して一体化した非磁
性基板から切り出されたヘッド形成用基板２６を耐熱性
樹脂２７で固定台２８に接着固定するため、以後の工程
で熱あるいはストレスが加わっても、あるいは２枚の非
磁性基板２０，２５を接着した接着剤２４が軟化しても
２枚の非磁性基板２０，２５が互いにずれ動くことはな
い。また本実施例の製造方法で製造された垂直薄膜磁気
ヘッドは、中心磁極ヨーク３０とリターンヨーク３３と
の間が直接磁気的に接続されており、図５の従来例で説
明した様な接着剤層がないため磁気抵抗が少なくなり、
記録・再生効率が向上される。
の如く、軟磁性膜２２を挟んで接着して一体化した非磁
性基板から切り出されたヘッド形成用基板２６を耐熱性
樹脂２７で固定台２８に接着固定するため、以後の工程
で熱あるいはストレスが加わっても、あるいは２枚の非
磁性基板２０，２５を接着した接着剤２４が軟化しても
２枚の非磁性基板２０，２５が互いにずれ動くことはな
い。また本実施例の製造方法で製造された垂直薄膜磁気
ヘッドは、中心磁極ヨーク３０とリターンヨーク３３と
の間が直接磁気的に接続されており、図５の従来例で説
明した様な接着剤層がないため磁気抵抗が少なくなり、
記録・再生効率が向上される。
【００１８】図３は本発明の垂直薄膜磁気ヘッドの製造
方法の第２の実施例を示す図である。本実施例は、第１
の実施例で説明した図１（ａ）から（ｄ）までの工程は
同様である。本実施例は、図１（ｄ）工程の後、図３
（ａ）に示すようにコイル２９が形成されたヘッド形成
用基板２６の上面にスパッタ法によりＡｌ2 Ｏ3 絶縁膜
３１を厚さ１０μｍ程度成膜する。次いで図３（ｂ）に
示すように、軟磁性膜２２の上に中心磁極ヨークを形成
するための溝３４と、リターンヨークを形成するための
溝３５とを形成する。
方法の第２の実施例を示す図である。本実施例は、第１
の実施例で説明した図１（ａ）から（ｄ）までの工程は
同様である。本実施例は、図１（ｄ）工程の後、図３
（ａ）に示すようにコイル２９が形成されたヘッド形成
用基板２６の上面にスパッタ法によりＡｌ2 Ｏ3 絶縁膜
３１を厚さ１０μｍ程度成膜する。次いで図３（ｂ）に
示すように、軟磁性膜２２の上に中心磁極ヨークを形成
するための溝３４と、リターンヨークを形成するための
溝３５とを形成する。
【００１９】次に図３（ｃ）に示すように、電解メッキ
法でＮｉＦｅの軟磁性膜３３′を厚さ２５μｍ程度に形
成した後、上面が平坦になるまで（Ａ−Ａ′線で示す）
５μｍ程度研磨する。次いで図３（ｄ）に示すように、
固定に利用した樹脂２７を有機溶剤などで溶解し固定台
２８を除去し、除去した面を所定の厚さになるまで（Ｂ
−Ｂ′線で示す）研磨し、最後にＣ−Ｃ′線及びＤ−
Ｄ′線から切断し個々のヘッドに分離し、図３（ｅ）の
如く完成する。
法でＮｉＦｅの軟磁性膜３３′を厚さ２５μｍ程度に形
成した後、上面が平坦になるまで（Ａ−Ａ′線で示す）
５μｍ程度研磨する。次いで図３（ｄ）に示すように、
固定に利用した樹脂２７を有機溶剤などで溶解し固定台
２８を除去し、除去した面を所定の厚さになるまで（Ｂ
−Ｂ′線で示す）研磨し、最後にＣ−Ｃ′線及びＤ−
Ｄ′線から切断し個々のヘッドに分離し、図３（ｅ）の
如く完成する。
【００２０】本実施例の製造方法によれば、ヘッド形成
用の基板２６を耐熱性樹脂２７で固定台２８に接着固定
するため、前実施例と全く同様な効果を有する。また本
実施例の製造方法で製造された垂直薄膜磁気ヘッドも中
心磁極ヨークとリターンヨークが一体に形成されるため
従来に比して磁気抵抗が小さくなり、記録・再生効率が
向上される。
用の基板２６を耐熱性樹脂２７で固定台２８に接着固定
するため、前実施例と全く同様な効果を有する。また本
実施例の製造方法で製造された垂直薄膜磁気ヘッドも中
心磁極ヨークとリターンヨークが一体に形成されるため
従来に比して磁気抵抗が小さくなり、記録・再生効率が
向上される。
【００２１】図４は本発明の垂直薄膜磁気ヘッドの製造
方法の第１又は第２の実施例方法で製造された磁気ヘッ
ドの他の例を示す図である。本実施例は、コンタクトヘ
ッドとして使用する場合であり、媒体との接触を良くす
るため、図２（ｅ）又は図３（ｅ）に示す状態から主磁
極である軟磁性膜２２の周辺の保護膜２１，２３部分を
接触面３６となるように残して、その周囲をイオンミリ
ング又は機械加工により除去したものである。このよう
に構成された本実施例は記録・再生効率の良い接触型の
垂直薄膜磁気ヘッドとなる。
方法の第１又は第２の実施例方法で製造された磁気ヘッ
ドの他の例を示す図である。本実施例は、コンタクトヘ
ッドとして使用する場合であり、媒体との接触を良くす
るため、図２（ｅ）又は図３（ｅ）に示す状態から主磁
極である軟磁性膜２２の周辺の保護膜２１，２３部分を
接触面３６となるように残して、その周囲をイオンミリ
ング又は機械加工により除去したものである。このよう
に構成された本実施例は記録・再生効率の良い接触型の
垂直薄膜磁気ヘッドとなる。
【００２２】
【発明の効果】本発明に依れば、中心磁極ヨークとリタ
ーンヨークの間の磁気的空隙を無くすことができるた
め、ヘッドの記録・再生効率が向上する。また保護膜を
厚くつけて主磁極近傍から接着層を遠ざけることと、耐
熱樹脂などによる加工時の固定とによって、接着層の両
サイドの位置ずれによる歩留り低下を防ぐことができ
る。さらにコンタクトヘッドでは媒体の接着面には接着
層がないため、接触状態に悪影響を与えないばかりか、
ＤＬＣなどの保護膜だけで構成されているため、耐磨耗
に優れている。
ーンヨークの間の磁気的空隙を無くすことができるた
め、ヘッドの記録・再生効率が向上する。また保護膜を
厚くつけて主磁極近傍から接着層を遠ざけることと、耐
熱樹脂などによる加工時の固定とによって、接着層の両
サイドの位置ずれによる歩留り低下を防ぐことができ
る。さらにコンタクトヘッドでは媒体の接着面には接着
層がないため、接触状態に悪影響を与えないばかりか、
ＤＬＣなどの保護膜だけで構成されているため、耐磨耗
に優れている。
【図１】本発明の垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法の第１
の実施例を示す図である。
の実施例を示す図である。
【図２】本発明の垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法の第１
の実施例を示す図である。
の実施例を示す図である。
【図３】本発明の垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法の第２
の実施例を示す図である。
の実施例を示す図である。
【図４】本発明の垂直薄膜磁気ヘッドの他の実施例を示
す図である。
す図である。
【図５】従来のプレーナー型垂直薄膜磁気ヘッドの製造
方法を示す図である。
方法を示す図である。
【図６】垂直磁気記録方式の原理図である。
【符号の説明】 ２０，２５…非磁性基板 ２１，２３…保護膜 ２２…軟磁性膜 ２４…接着剤 ２６…ヘッド形成用基板 ２７…耐熱性樹脂 ２８…固定台 ２９…コイル ３０…中心磁極ヨーク ３１…絶縁膜 ３２，３４，３５…溝 ３３…リターンヨーク
Claims (3)
- 【請求項１】 ａ．ウェハ状の非磁性基板（２０）の上
に保護膜（２１）、軟磁性膜（２２）、保護膜（２３）
を順次形成し、その上に第２の非磁性基板（２５）を接
着してヘッド形成用ブロックを形成する工程、 ｂ．前記ヘッド形成用ブロックを平行に切断して複数の
バー状のヘッド形成用基板（２６）を形成する工程、 ｃ．前記ヘッド形成用基板（２６）を、その軟磁性膜
（２２）が垂直となるように並べ耐熱性樹脂（２７）を
用いて固定台（２８）の上に接着する工程、 ｄ．前記ヘッド形成用基板（２６）の上に、軟磁性膜
（２２）を中心とするコイル（２９）をＣｕ膜で形成す
る工程、 ｅ．前記コイル（２９）の中心で且つ軟磁性膜（２２）
に磁気的に接続する中心磁極ヨーク（３０）を軟磁性材
を用いて形成する工程、 ｆ．前記ヘッド形成用基板（２６）の上に絶縁膜（３
１）を形成した後、該絶縁膜（３１）を中心磁極ヨーク
（３０）が露出するまで研磨する工程、 ｇ．前記コイル（２９）の両側で且つ軟磁性膜（２２）
に平行にリターンヨーク用の溝（３２）を絶縁膜（３
１）からヘッド形成用基板（２６）にかけて形成する工
程、 ｈ．前記絶縁膜（３１）の上にリターンヨーク（３３）
となる軟磁性膜（３３′）を形成後、その上面を平滑に
なるまで研磨する工程、 ｉ．前記耐熱性樹脂（２７）を溶解して固定台（２８）
を除去し、その除去した面を溝（３２）の中のリターン
ヨーク（３３）が露出するまで研磨し、その後、個々の
ヘッドに切断分離する工程、の諸工程より成ることを特
徴とする垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 ａ．ウェハ状の非磁性基板（２０）の上
に保護膜（２３）、軟磁性膜（２２）、保護膜（２３）
を順次形成し、その上に第２の非磁性基板（２５）を接
着してヘッド形成用ブロックを形成する工程、 ｂ．前記ヘッド形成用ブロックを平行に切断して複数の
バー状のヘッド形成用基板（２６）を形成する工程、 ｃ．前記ヘッド形成用基板（２６）を、その軟磁性膜
（２２）が垂直となるように並べ耐熱性樹脂（２７）を
用いて固定台（２８）の上に接着する工程、 ｄ．前記ヘッド形成用基板（２６）の上に、軟磁性膜
（２２）を中心とするコイル（２９）をＣｕ膜で形成す
る工程、 ｅ．前記コイル（２９）を形成したヘッド形成用基板
（２６）の上に絶縁膜（３１）を形成した後、該絶縁膜
（３１）を研磨して平坦化する工程、 ｆ．前記絶縁膜（３１）及びヘッド形成用基板（２６）
に中心磁極ヨーク形成用の溝（３４）及びリターンヨー
ク形成用の溝（３５）を形成する工程、 ｇ．前記絶縁膜（３１）の上に中心磁極ヨーク及びリタ
ーンヨークとなる軟磁性膜（３３′）を形成後、その上
面を平滑になるまで研磨する工程、 ｈ．前記耐熱性樹脂（２７）を溶解して固定台（２８）
を除去し、その除去した面を溝（３５）の中のリターン
ヨーク（３３）が露出するまで研磨し、その後、個々の
ヘッドに切断分離する工程、の諸工程より成ることを特
徴とする垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２の垂直薄膜磁気ヘッドの
製造方法により製造されたことを特徴とする垂直薄膜磁
気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10697393A JPH06318311A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10697393A JPH06318311A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06318311A true JPH06318311A (ja) | 1994-11-15 |
Family
ID=14447245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10697393A Withdrawn JPH06318311A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 垂直薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06318311A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1087381A2 (en) * | 1999-09-24 | 2001-03-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head, fabrication method therefor and perpendicular magnetic storage device |
| US8082658B2 (en) | 2008-02-25 | 2011-12-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Controlled lapping for an ABS damascene process |
-
1993
- 1993-05-07 JP JP10697393A patent/JPH06318311A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1087381A2 (en) * | 1999-09-24 | 2001-03-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head, fabrication method therefor and perpendicular magnetic storage device |
| EP1087381A3 (en) * | 1999-09-24 | 2003-11-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head, fabrication method therefor and perpendicular magnetic storage device |
| US8082658B2 (en) | 2008-02-25 | 2011-12-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Controlled lapping for an ABS damascene process |
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