JPH06309625A - 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドとその製造方法Info
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- JPH06309625A JPH06309625A JP9568893A JP9568893A JPH06309625A JP H06309625 A JPH06309625 A JP H06309625A JP 9568893 A JP9568893 A JP 9568893A JP 9568893 A JP9568893 A JP 9568893A JP H06309625 A JPH06309625 A JP H06309625A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ディスクなどの磁気記録媒体に垂直記録
する接触型の薄膜磁気ヘッドとその製造方法に関し、磁
気記録媒体との接触摺動面の耐磨耗性を向上することを
目的とする。 【構成】 主磁極先端部5aの回りは、アモルファスカー
ボンなどの耐磨耗性絶縁層６でなる、磁気記録媒体との
接触摺動面を備えて構成し、その耐磨耗性絶縁層はプラ
ズマＣＶＤ法による成膜工程で形成するように構成す
る。
する接触型の薄膜磁気ヘッドとその製造方法に関し、磁
気記録媒体との接触摺動面の耐磨耗性を向上することを
目的とする。 【構成】 主磁極先端部5aの回りは、アモルファスカー
ボンなどの耐磨耗性絶縁層６でなる、磁気記録媒体との
接触摺動面を備えて構成し、その耐磨耗性絶縁層はプラ
ズマＣＶＤ法による成膜工程で形成するように構成す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスクなどの磁
気記録媒体に垂直記録する接触型の薄膜磁気ヘッドとそ
の製造方法に関する。
気記録媒体に垂直記録する接触型の薄膜磁気ヘッドとそ
の製造方法に関する。
【０００２】磁気記録を高密度に行う場合、水平記録方
式より垂直記録方式の方が原理的に有利で、その優位性
を発揮させるためには垂直記録磁気ヘッドを、その磁気
記録媒体の対向面を媒体表面に接触摺動させて記録・再
生する必要があり、その接触摺動面の耐磨耗性の向上が
強く要望されている。
式より垂直記録方式の方が原理的に有利で、その優位性
を発揮させるためには垂直記録磁気ヘッドを、その磁気
記録媒体の対向面を媒体表面に接触摺動させて記録・再
生する必要があり、その接触摺動面の耐磨耗性の向上が
強く要望されている。
【０００３】
【従来の技術】図６は従来の薄膜磁気ヘッドの断面模式
図を示す。図示するように、薄膜磁気ヘッドは、閉磁路
の一部分でリターンヨーク11となる多数個取り可能な大
きさのフェライトなどの磁性体基板（図はその一部を示
す）と、磁性体基板（リターンヨーク）11の主磁極形成
領域に研削加工により凹部11a に面一に充填した低融点
ガラスなどの非磁性絶縁膜12と、その上にアルミナある
いは熱硬化性樹脂などの非磁性絶縁膜13を介し渦巻状の
積層コイル14と、更にその表面に主磁極先端部15a は非
磁性絶縁膜13面上に、また後端部は積層コイル14の中心
を貫通しリターンヨーク11に磁気結合するように延在し
た主磁極15と、更に主磁極15及び積層コイル14の露出面
を被覆し絶縁保護膜となるアモルファスカーボンなどの
耐磨耗性絶縁層16とで構成されている。
図を示す。図示するように、薄膜磁気ヘッドは、閉磁路
の一部分でリターンヨーク11となる多数個取り可能な大
きさのフェライトなどの磁性体基板（図はその一部を示
す）と、磁性体基板（リターンヨーク）11の主磁極形成
領域に研削加工により凹部11a に面一に充填した低融点
ガラスなどの非磁性絶縁膜12と、その上にアルミナある
いは熱硬化性樹脂などの非磁性絶縁膜13を介し渦巻状の
積層コイル14と、更にその表面に主磁極先端部15a は非
磁性絶縁膜13面上に、また後端部は積層コイル14の中心
を貫通しリターンヨーク11に磁気結合するように延在し
た主磁極15と、更に主磁極15及び積層コイル14の露出面
を被覆し絶縁保護膜となるアモルファスカーボンなどの
耐磨耗性絶縁層16とで構成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな上記薄膜磁気ヘッドによれば、主磁極先端部15a 回
りの磁気記録媒体との摺動面が、磁性体基板（リターン
ヨーク）と主磁極との間はアルミナとか樹脂材などの硬
度の低い絶縁層で、主磁極表面側は高硬度のアモルファ
スカーボンなどの耐磨耗性絶縁層で混在形成されている
ため、磁気記録媒体に接触摺動すると、硬度の高い材質
に比べて軟らかい主磁極やアルミナ、樹脂材などの材質
は磨滅が進み易いことから摺動面が片減りする傾向があ
り、主磁極の異常磨耗や損傷などを生じ易く記録・再生
特性が劣化し、耐磨耗性に乏しく寿命が短いといった問
題があった。
うな上記薄膜磁気ヘッドによれば、主磁極先端部15a 回
りの磁気記録媒体との摺動面が、磁性体基板（リターン
ヨーク）と主磁極との間はアルミナとか樹脂材などの硬
度の低い絶縁層で、主磁極表面側は高硬度のアモルファ
スカーボンなどの耐磨耗性絶縁層で混在形成されている
ため、磁気記録媒体に接触摺動すると、硬度の高い材質
に比べて軟らかい主磁極やアルミナ、樹脂材などの材質
は磨滅が進み易いことから摺動面が片減りする傾向があ
り、主磁極の異常磨耗や損傷などを生じ易く記録・再生
特性が劣化し、耐磨耗性に乏しく寿命が短いといった問
題があった。
【０００５】上記問題点に鑑み、本発明は磁気記録媒体
との接触摺動面の耐磨耗性を向上できる薄膜磁気ヘッド
とその製造方法を提供することを目的とする。
との接触摺動面の耐磨耗性を向上できる薄膜磁気ヘッド
とその製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいては、主磁極はその
回りにプラズマＣＶＤ法による成膜工程で形成したアモ
ルファスカーボンなどの耐磨耗性絶縁層でなる、磁気記
録媒体との接触面を備え構成する。
に、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいては、主磁極はその
回りにプラズマＣＶＤ法による成膜工程で形成したアモ
ルファスカーボンなどの耐磨耗性絶縁層でなる、磁気記
録媒体との接触面を備え構成する。
【０００７】
【作用】磁気記録媒体との接触摺動面を異なる硬度の材
質で構成するのでなく、できるだけ同じ硬度で、しかも
アモルファスカーボンのような高硬度の耐磨耗性絶縁体
で構成することにより、接触摺動面の磨滅は一様に進み
易く片減りや損傷を軽減することができる。
質で構成するのでなく、できるだけ同じ硬度で、しかも
アモルファスカーボンのような高硬度の耐磨耗性絶縁体
で構成することにより、接触摺動面の磨滅は一様に進み
易く片減りや損傷を軽減することができる。
【０００８】
【実施例】以下、図面に示した実施例に基づいて本発明
の要旨を詳細に説明する。図１の(a) 図は第１の実施例
の薄膜磁気ヘッドの断面模式図、図１の(b) 図は(a) 図
の主磁極形成面から見た模式図を示す。
の要旨を詳細に説明する。図１の(a) 図は第１の実施例
の薄膜磁気ヘッドの断面模式図、図１の(b) 図は(a) 図
の主磁極形成面から見た模式図を示す。
【０００９】図示するように本発明の薄膜磁気ヘッドは
電磁誘導型ヘッドであって、閉磁路の一部分でリターン
ヨーク１になる多数個取り可能な大きさのフェライトな
どの磁性体基板（図はその一部を示す）と、この磁性体
基板（リターンヨーク）１の主磁極形成領域に研削加工
により穿設した凹部1aに面一に充填した低融点ガラスな
どの非磁性絶縁膜２と、その上にレジスト膜などの非磁
性絶縁膜３を介し銅で成膜した渦巻状の積層コイル４
と、更にレジスト膜などの非磁性絶縁膜３を介したその
表面に先端部は非磁性絶縁膜３内に、また後端部は積層
コイル４中心を貫通しリターンヨーク１に磁気結合する
ように延在形成したパーマロイでなる主磁極５（この主
磁極５は図１の(b) 図に示すように野球のホームベース
形をしている）と、更に主磁極５及び積層コイル４の露
出面を被覆した絶縁保護膜となるアモルファスカーボン
などの高硬度の耐磨耗性絶縁層６とで構成する。
電磁誘導型ヘッドであって、閉磁路の一部分でリターン
ヨーク１になる多数個取り可能な大きさのフェライトな
どの磁性体基板（図はその一部を示す）と、この磁性体
基板（リターンヨーク）１の主磁極形成領域に研削加工
により穿設した凹部1aに面一に充填した低融点ガラスな
どの非磁性絶縁膜２と、その上にレジスト膜などの非磁
性絶縁膜３を介し銅で成膜した渦巻状の積層コイル４
と、更にレジスト膜などの非磁性絶縁膜３を介したその
表面に先端部は非磁性絶縁膜３内に、また後端部は積層
コイル４中心を貫通しリターンヨーク１に磁気結合する
ように延在形成したパーマロイでなる主磁極５（この主
磁極５は図１の(b) 図に示すように野球のホームベース
形をしている）と、更に主磁極５及び積層コイル４の露
出面を被覆した絶縁保護膜となるアモルファスカーボン
などの高硬度の耐磨耗性絶縁層６とで構成する。
【００１０】これにより、薄膜磁気ヘッドは主磁極先端
部5aを面一に露出した耐磨耗性絶縁層６からなる磁気記
録媒体との接触摺動面を備えた形になる。この薄膜磁気
ヘッドの製造方法を図２(a) 乃至(d) 及び図３(a) 乃至
(c) の製造工程順に示す断面模式図に基づき説明する。
部5aを面一に露出した耐磨耗性絶縁層６からなる磁気記
録媒体との接触摺動面を備えた形になる。この薄膜磁気
ヘッドの製造方法を図２(a) 乃至(d) 及び図３(a) 乃至
(c) の製造工程順に示す断面模式図に基づき説明する。
【００１１】図２の(a) 図において、磁性体基板でなる
リターンヨーク１は、主磁極形成領域に研削加工により
穿設した凹部1aに棒状チップの低融点ガラスなどの非磁
性絶縁膜２を加熱溶融により充填し平坦に研削する。
リターンヨーク１は、主磁極形成領域に研削加工により
穿設した凹部1aに棒状チップの低融点ガラスなどの非磁
性絶縁膜２を加熱溶融により充填し平坦に研削する。
【００１２】つぎの図２の(b) 図において、その上にフ
ォトリソグラフィ技術によりレジスト膜（あるいはアル
ミナ膜やシリコン酸化膜）などの非磁性絶縁膜３と共に
渦巻状の２層でなる積層コイル４を形成する。積層コイ
ル４は銅からなりめっき法によりコイル形成領域に成膜
する。コイル部分を挟む非磁性絶縁膜（レジスト膜）３
を残してその他の部分をエッチング除去する。
ォトリソグラフィ技術によりレジスト膜（あるいはアル
ミナ膜やシリコン酸化膜）などの非磁性絶縁膜３と共に
渦巻状の２層でなる積層コイル４を形成する。積層コイ
ル４は銅からなりめっき法によりコイル形成領域に成膜
する。コイル部分を挟む非磁性絶縁膜（レジスト膜）３
を残してその他の部分をエッチング除去する。
【００１３】更に図２の(c) 図において、基板全面に耐
磨耗性絶縁層６、即ち高硬度のアモルファスカーボンを
プラズマＣＶＤ法によって、積層コイル４とレジスト膜
３の全膜厚15μｍより厚い20μｍで成膜し、その表面を
図２の(d) 図のように、平坦にラップ研磨する。このと
き、積層コイル４のレジスト膜３の上もアモルファスカ
ーボン層６が残る程度に平面研磨する。
磨耗性絶縁層６、即ち高硬度のアモルファスカーボンを
プラズマＣＶＤ法によって、積層コイル４とレジスト膜
３の全膜厚15μｍより厚い20μｍで成膜し、その表面を
図２の(d) 図のように、平坦にラップ研磨する。このと
き、積層コイル４のレジスト膜３の上もアモルファスカ
ーボン層６が残る程度に平面研磨する。
【００１４】更に図３の(a) 図において、アモルファス
カーボン層６の表面にフォトリソグラフィ技術によりパ
ーマロイ（あるいはコバルト・ジルコニウム・ニオブ）
などでなる主磁極５を、その先端部（厚さ 0.4μｍ）は
凹部1aの非磁性絶縁膜２の上方に、また後端部（厚さ３
μｍ）は積層コイル４の中心部に主磁極５の成膜前にイ
オンミリングにより孔を形成しその孔を貫通しリターン
ヨーク１に磁気結合するように延在・形成する。
カーボン層６の表面にフォトリソグラフィ技術によりパ
ーマロイ（あるいはコバルト・ジルコニウム・ニオブ）
などでなる主磁極５を、その先端部（厚さ 0.4μｍ）は
凹部1aの非磁性絶縁膜２の上方に、また後端部（厚さ３
μｍ）は積層コイル４の中心部に主磁極５の成膜前にイ
オンミリングにより孔を形成しその孔を貫通しリターン
ヨーク１に磁気結合するように延在・形成する。
【００１５】そうして図３の(b) 図において、更に主磁
極５及び積層コイル４の露出面をプラズマＣＶＤ法によ
って耐磨耗性絶縁層６、即ち同じ材料のアモルファスカ
ーボン層で厚さ15μｍに被覆する。これによって主磁極
先端部5a回りの磁気記録媒体との接触摺動面は耐磨耗性
絶縁層６で形成した面となる。
極５及び積層コイル４の露出面をプラズマＣＶＤ法によ
って耐磨耗性絶縁層６、即ち同じ材料のアモルファスカ
ーボン層で厚さ15μｍに被覆する。これによって主磁極
先端部5a回りの磁気記録媒体との接触摺動面は耐磨耗性
絶縁層６で形成した面となる。
【００１６】最後に図３の(c) 図において、薄膜磁気ヘ
ッド単位に図３の(b) 図のＡ−Ａ線及びＢ−Ｂ線でスラ
イスし、さらにその直角方向にスライスして個片に分割
し、その外形を所定形状に研削加工することにより、磁
気記録媒体との接触摺動面に主磁極先端部5aが露出した
多数の薄膜磁気ヘッドが完成する。
ッド単位に図３の(b) 図のＡ−Ａ線及びＢ−Ｂ線でスラ
イスし、さらにその直角方向にスライスして個片に分割
し、その外形を所定形状に研削加工することにより、磁
気記録媒体との接触摺動面に主磁極先端部5aが露出した
多数の薄膜磁気ヘッドが完成する。
【００１７】このように第１の実施例の薄膜磁気ヘッド
を構成することにより、主磁極の回りの磁気記録媒体と
の接触摺動面全面に高硬度の耐磨耗性絶縁層だけが露出
することになり、磁気記録媒体に接触摺動しても片減り
することなく安定に摺動し、接触摺動面の異常磨耗や損
傷を軽減し耐磨耗性を向上することができる。
を構成することにより、主磁極の回りの磁気記録媒体と
の接触摺動面全面に高硬度の耐磨耗性絶縁層だけが露出
することになり、磁気記録媒体に接触摺動しても片減り
することなく安定に摺動し、接触摺動面の異常磨耗や損
傷を軽減し耐磨耗性を向上することができる。
【００１８】なお、図１に示すように、リターンヨー
ク、非磁性絶縁材の磁気記録媒体との２点鎖線で示す対
向面は耐磨耗性絶縁層に比べて硬度が低いため、磁気記
録媒体に接触しないように深さ約10μｍだけ研削し接触
摺動面から控えておくのが望ましい。それにより主磁極
摺動面の磨耗が進行しても接触摺動面積の増加は一定と
なることから更に安定した摺動特性を得ることができ
る。
ク、非磁性絶縁材の磁気記録媒体との２点鎖線で示す対
向面は耐磨耗性絶縁層に比べて硬度が低いため、磁気記
録媒体に接触しないように深さ約10μｍだけ研削し接触
摺動面から控えておくのが望ましい。それにより主磁極
摺動面の磨耗が進行しても接触摺動面積の増加は一定と
なることから更に安定した摺動特性を得ることができ
る。
【００１９】つぎの図４の断面模式図は第２の実施例で
電磁誘導型と磁気抵抗効果型の複合型薄膜磁気ヘッドで
あって、記録・再生一体ヘッドである。この複合型薄膜
磁気ヘッドは、リターンヨーク１上に先ず、磁気抵抗効
果素子部分を備える。即ち、リターンヨーク１の凹部1a
の非磁性絶縁膜（低融点ガラス）２上に厚さ10μｍの耐
磨耗性絶縁層（アモルファスカーボン）６を成膜し、そ
の上にパーマロイでなるフラックスガイド７を、その先
端部を接触摺動面に面一に露出し、フラックスガイド７
の後端に一部が重なる形でパーマロイでなる磁気抵抗効
果素子９（センス電流を流すための接続端子は図示省略
してある）を成膜し、その上にアルミナなどの厚さ 0.2
μｍの非磁性絶縁膜８を介しさらに厚さ１μｍの耐磨耗
性絶縁層（アモルファスカーボン）６を成膜する。
電磁誘導型と磁気抵抗効果型の複合型薄膜磁気ヘッドで
あって、記録・再生一体ヘッドである。この複合型薄膜
磁気ヘッドは、リターンヨーク１上に先ず、磁気抵抗効
果素子部分を備える。即ち、リターンヨーク１の凹部1a
の非磁性絶縁膜（低融点ガラス）２上に厚さ10μｍの耐
磨耗性絶縁層（アモルファスカーボン）６を成膜し、そ
の上にパーマロイでなるフラックスガイド７を、その先
端部を接触摺動面に面一に露出し、フラックスガイド７
の後端に一部が重なる形でパーマロイでなる磁気抵抗効
果素子９（センス電流を流すための接続端子は図示省略
してある）を成膜し、その上にアルミナなどの厚さ 0.2
μｍの非磁性絶縁膜８を介しさらに厚さ１μｍの耐磨耗
性絶縁層（アモルファスカーボン）６を成膜する。
【００２０】そうして、この磁気抵抗効果素子部分の上
に、第１の実施例と同じ工程順で電磁誘導部分、即ち積
層コイル４と主磁極５と絶縁保護膜となる耐磨耗性絶縁
層（アモルファスカーボン）６とを成膜する。
に、第１の実施例と同じ工程順で電磁誘導部分、即ち積
層コイル４と主磁極５と絶縁保護膜となる耐磨耗性絶縁
層（アモルファスカーボン）６とを成膜する。
【００２１】このように第２の実施例の薄膜磁気ヘッド
を構成することにより、主磁極及びフラックスガイドの
各先端部回りの磁気記録媒体との接触摺動面全面が高硬
度の耐磨耗性絶縁層で形成されることとなり、第１の実
施例と同様に耐磨耗性を向上することができる。
を構成することにより、主磁極及びフラックスガイドの
各先端部回りの磁気記録媒体との接触摺動面全面が高硬
度の耐磨耗性絶縁層で形成されることとなり、第１の実
施例と同様に耐磨耗性を向上することができる。
【００２２】なお、もしこの第２の実施例を再生専用の
薄膜磁気ヘッドとする場合には、図示しないが、電磁誘
導部分を省略し、フラックスガイド及び磁気抵抗効果素
子の表面を厚さ20μｍの耐磨耗性絶縁層（アモルファス
カーボン）を成膜するだけで簡単に実現できる。また、
ここでは垂直記録用の複合型薄膜磁気ヘッドの例を説明
したが、磁性基板を AI2O3・TiC などの非磁性絶縁膜
に、主磁極をリング型の薄膜磁気ヘッドに置き換えれ
ば、水平記録用の複合型薄膜磁気ヘッドとして用いるこ
とが可能なことは言うまでもない。
薄膜磁気ヘッドとする場合には、図示しないが、電磁誘
導部分を省略し、フラックスガイド及び磁気抵抗効果素
子の表面を厚さ20μｍの耐磨耗性絶縁層（アモルファス
カーボン）を成膜するだけで簡単に実現できる。また、
ここでは垂直記録用の複合型薄膜磁気ヘッドの例を説明
したが、磁性基板を AI2O3・TiC などの非磁性絶縁膜
に、主磁極をリング型の薄膜磁気ヘッドに置き換えれ
ば、水平記録用の複合型薄膜磁気ヘッドとして用いるこ
とが可能なことは言うまでもない。
【００２３】つぎの図５の断面模式図は、さらに第３の
実施例の電磁誘導型の薄膜磁気ヘッドで第１の実施例と
同じ構造であるが、この場合のリターンヨーク１は、主
磁極後端部5bに磁気結合して閉磁路を形成するリターン
ヨーク1-1 部分と、このリターンヨーク1-1 の外側に第
１の非磁性絶縁膜21を介して覆い込み磁気的に分離する
リターンヨーク1-2 とで構成する点が異なる。
実施例の電磁誘導型の薄膜磁気ヘッドで第１の実施例と
同じ構造であるが、この場合のリターンヨーク１は、主
磁極後端部5bに磁気結合して閉磁路を形成するリターン
ヨーク1-1 部分と、このリターンヨーク1-1 の外側に第
１の非磁性絶縁膜21を介して覆い込み磁気的に分離する
リターンヨーク1-2 とで構成する点が異なる。
【００２４】この第１の非磁性絶縁膜21は、第１の実施
例で穿設した凹部1aより大きな凹部1a-1を研削穿設し、
その中に棒状チップの低融点ガラスを加熱溶融により充
填し形成する。さらに、この低融点ガラス（第１の非磁
性絶縁膜21）の一部を残して再度、研削により凹部1a-2
を形成し、その凹部1a-2に磁性体、例えばコバルト・ジ
ルコニウム・ニオブ(CoZrNb)をスパッタ法により成膜
し、凹部1a-1以外の膜は研磨で除去し、さらにこの凹部
1a-2より小さな凹部1aを研削により形成し、その凹部1a
に再度、棒状チップの低融点ガラス（第２の非磁性絶縁
膜22で図１の第１の実施例の非磁性絶縁膜２に相当す
る）を加熱溶融により充填し、その表面を平坦に研削す
る。そうして、その後の積層コイル４、主磁極５、絶縁
保護膜となる耐磨耗性絶縁層（アモルファスカーボン）
６の形成は第１の実施例と同じ工程順で形成する。な
お、このような構造は、第２の実施例の複合型薄膜磁気
ヘッドに適用してよいことは言うまでもない。
例で穿設した凹部1aより大きな凹部1a-1を研削穿設し、
その中に棒状チップの低融点ガラスを加熱溶融により充
填し形成する。さらに、この低融点ガラス（第１の非磁
性絶縁膜21）の一部を残して再度、研削により凹部1a-2
を形成し、その凹部1a-2に磁性体、例えばコバルト・ジ
ルコニウム・ニオブ(CoZrNb)をスパッタ法により成膜
し、凹部1a-1以外の膜は研磨で除去し、さらにこの凹部
1a-2より小さな凹部1aを研削により形成し、その凹部1a
に再度、棒状チップの低融点ガラス（第２の非磁性絶縁
膜22で図１の第１の実施例の非磁性絶縁膜２に相当す
る）を加熱溶融により充填し、その表面を平坦に研削す
る。そうして、その後の積層コイル４、主磁極５、絶縁
保護膜となる耐磨耗性絶縁層（アモルファスカーボン）
６の形成は第１の実施例と同じ工程順で形成する。な
お、このような構造は、第２の実施例の複合型薄膜磁気
ヘッドに適用してよいことは言うまでもない。
【００２５】このように、第３の実施例の薄膜磁気ヘッ
ドのリターンヨークは、主磁極後端部に磁気結合して閉
磁路を形成するリターンヨーク1-1 部分とこのリターン
ヨーク1-1 の外側を第１の非磁性絶縁膜21を介して覆い
込み磁気的に分離するリターンヨーク1-2 とで構成する
ことにより、ヘッド回りに存在する磁気ディスク回転用
モータ、磁気ヘッド位置決めモータから漏れる磁場によ
る記録情報の減磁、消磁によるデータ消滅を防止するこ
とができる。
ドのリターンヨークは、主磁極後端部に磁気結合して閉
磁路を形成するリターンヨーク1-1 部分とこのリターン
ヨーク1-1 の外側を第１の非磁性絶縁膜21を介して覆い
込み磁気的に分離するリターンヨーク1-2 とで構成する
ことにより、ヘッド回りに存在する磁気ディスク回転用
モータ、磁気ヘッド位置決めモータから漏れる磁場によ
る記録情報の減磁、消磁によるデータ消滅を防止するこ
とができる。
【００２６】
【発明の効果】以上、詳述したように本発明によれば、
片減りなどの異常磨耗や損傷などを軽減して耐磨耗性を
向上し長寿命化と記録・再生特性を改善することがで
き、記録・再生情報の信頼度を向上することができると
いった産業上極めて有用な効果を発揮する。
片減りなどの異常磨耗や損傷などを軽減して耐磨耗性を
向上し長寿命化と記録・再生特性を改善することがで
き、記録・再生情報の信頼度を向上することができると
いった産業上極めて有用な効果を発揮する。
【図１】 本発明による第１の実施例の断面模式図
【図２】 図１薄膜磁気ヘッドの製造を工程順に示す断
面模式図（その一）
面模式図（その一）
【図３】 図１薄膜磁気ヘッドの製造を工程順に示す断
面模式図（その二）
面模式図（その二）
【図４】 本発明による第２の実施例の断面模式図
【図５】 本発明による第３の実施例の断面模式図
【図６】 従来技術による断面模式図
１,1-1,1-2はリターンヨーク（磁性体基板)(フェライ
ト） ２は非磁性絶縁膜（低融点ガラス） ３は非磁性絶縁膜（レジスト膜） ４は積層コイル ５は主磁極（パーマロイ） 5aは主磁極先端部 5bは主磁極後端部 ６は耐磨耗性絶縁層（アモルファスカーボン） ７はフラックスガイド（パーマロイ） ８は非磁性絶縁膜（アルミナ） ９は磁気抵抗効果素子 21は第１の非磁性絶縁膜（低融点ガラス）
ト） ２は非磁性絶縁膜（低融点ガラス） ３は非磁性絶縁膜（レジスト膜） ４は積層コイル ５は主磁極（パーマロイ） 5aは主磁極先端部 5bは主磁極後端部 ６は耐磨耗性絶縁層（アモルファスカーボン） ７はフラックスガイド（パーマロイ） ８は非磁性絶縁膜（アルミナ） ９は磁気抵抗効果素子 21は第１の非磁性絶縁膜（低融点ガラス）
Claims (6)
- 【請求項１】 磁性体基板でなるリターンヨーク(1)
と、該リターンヨーク(1) 上に非磁性絶縁膜(2) と共に
成膜した薄膜積層コイル(4) 及び該コイル(4)の中心を
貫通し前記リターンヨーク(1) に磁気結合した主磁極
(5) とからなる垂直磁気記録型薄膜磁気ヘッドにおい
て、 前記主磁極先端部(5a)の回りに耐磨耗性絶縁層(6) でな
る、磁気記録媒体との接触摺動面を備えてなることを特
徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 請求項１記載の耐磨耗性絶縁層(6) は、
アモルファスカーボンでなることを特徴とする薄膜磁気
ヘッド。 - 【請求項３】 磁性体基板でなるリターンヨーク(1) の
上に非磁性絶縁膜(3) と共に積層コイル(4) をフォトリ
ソグラフィ技術により形成する工程と、その上に耐磨耗
性絶縁層(6) をプラズマＣＶＤ法により形成し平面加工
する工程と、その上に主磁極(5) をフォトリソグラフィ
技術により形成する工程と、更にその上に耐磨耗性絶縁
層(6) をプラズマＣＶＤ法により形成する工程とによ
り、主磁極先端部(5a)回りに耐磨耗性絶縁層(6) でな
る、磁気記録媒体との接触摺動面を形成することを特徴
とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】 請求項１記載のリターンヨーク(1) と薄
膜積層コイル(4) との間に非磁性絶縁膜(8) と共に成膜
したフラックスガイド(7) と該ガイド(7) の後端に磁気
抵抗効果素子(9) とを備え、かつ該ガイド(7) 先端部回
りに耐磨耗性絶縁層(6) でなる、磁気記録媒体との接触
摺動面を備えてなることを特徴とする複合型の請求項１
記載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項５】 前記耐磨耗性絶縁層(6) でなる接触摺動
面以外の磁気記録媒体との対向面は、該接触摺動面から
後退していることを特徴とする請求項１または４記載の
薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項６】 前記リターンヨーク(1) は、主磁極後端
部(5b)に磁気結合して閉磁路を形成するリターンヨーク
(1-1) 部分と、該リターンヨーク(1-1) の外側に第１の
非磁性絶縁膜(21)を介して覆い込み磁気的に分離するリ
ターンヨーク(1-2) とからなることを特徴とする請求項
1,4,5 の何れか１つに記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09568893A JP3672580B2 (ja) | 1993-04-22 | 1993-04-22 | 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09568893A JP3672580B2 (ja) | 1993-04-22 | 1993-04-22 | 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06309625A true JPH06309625A (ja) | 1994-11-04 |
| JP3672580B2 JP3672580B2 (ja) | 2005-07-20 |
Family
ID=14144435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09568893A Expired - Fee Related JP3672580B2 (ja) | 1993-04-22 | 1993-04-22 | 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3672580B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998012696A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Hitachi, Ltd. | Coulisseau de tete magnetique et son procede de production |
| KR100373672B1 (ko) * | 1999-09-24 | 2003-02-26 | 가부시끼가이샤 도시바 | 자기 헤드, 그 제조 방법 및 수직 자기 기록 장치 |
| US6728065B2 (en) * | 2001-03-29 | 2004-04-27 | Seagate Technology Llc | Single pole magnetic recording head for perpendicular magnetic recording |
| CN100336105C (zh) * | 2002-08-02 | 2007-09-05 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 磁记录盘片驱动器 |
| US7724474B2 (en) | 2005-08-09 | 2010-05-25 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head comprising contact pad including portions of closure and substrate and magnetic recording apparatus comprising the head |
| US7764466B2 (en) | 2005-11-17 | 2010-07-27 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head with closure and manufacturing method of the head |
| JP2020195224A (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | 日本精工株式会社 | 発電ユニット及び発電ユニットの製造方法 |
-
1993
- 1993-04-22 JP JP09568893A patent/JP3672580B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998012696A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Hitachi, Ltd. | Coulisseau de tete magnetique et son procede de production |
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| US6728065B2 (en) * | 2001-03-29 | 2004-04-27 | Seagate Technology Llc | Single pole magnetic recording head for perpendicular magnetic recording |
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| US7724474B2 (en) | 2005-08-09 | 2010-05-25 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head comprising contact pad including portions of closure and substrate and magnetic recording apparatus comprising the head |
| US7764466B2 (en) | 2005-11-17 | 2010-07-27 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head with closure and manufacturing method of the head |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3672580B2 (ja) | 2005-07-20 |
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