JPH0911397A - 銅張積層板、及びその製造方法、並びにプリント基板、及びその製造方法 - Google Patents

銅張積層板、及びその製造方法、並びにプリント基板、及びその製造方法

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JPH0911397A
JPH0911397A JP7165131A JP16513195A JPH0911397A JP H0911397 A JPH0911397 A JP H0911397A JP 7165131 A JP7165131 A JP 7165131A JP 16513195 A JP16513195 A JP 16513195A JP H0911397 A JPH0911397 A JP H0911397A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明の目的は、導体粗化面が基材であるガラ
ス繊維と直接接触することを防止し、信号銅線の導体間
ピッチが小さくなっても、長期間導体間の電気絶縁性能
を失うことなく、絶縁寿命を保証できる銅張積層板を提
供するにある。 【構成】本発明では上記目的を達成するために、ガラス
繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミド樹脂、又はビスマ
レイミド樹脂が含浸されたプリプレグ3と、このプリプ
レグ3の片面、若しくは両面に張り付けられた銅箔4と
の間にガラス繊維1の基材を含まない絶縁層を設けたこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は銅張積層板、及びその製
造方法、並びにプリント基板、及びその製造方法に係
り、特に、パーソナルコンピューター,携帯電話,ビデ
オカメラ等の高密度配線用ファインピッチパターンを必
要とするものに好適な銅張積層板、及びその製造方法、
並びにプリント基板、及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の銅張積層板の断面構成の一例とし
て、特開平2−187332 号公報に開示されているものを図
10に示す。
【0003】該図に示すごとく、銅張積層板は、基材で
あるガラスクロスを形成するガラス繊維1と、形状固定
用絶縁材である樹脂2で形成されるプリプレグ3と、プ
リプレグ3の両面に張り付けられる銅箔4とを備え、こ
れらが加熱して成形されるものである。
【0004】上記した特開平2−187332 号公報には、銅
箔4の平坦性を改善する方法として、銅箔4に樹脂2を
塗布した後硬化し、ガラス布基材に熱硬化性樹脂を含浸
し、調整したプリプレグ3と積層硬化する方法が記載さ
れている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の銅張積層板では、ガラス繊維1が銅箔4との介
面に接している場合が存在する。このガラス繊維1が銅
箔4との介面に接している状態では、信号銅線のピッチ
が小さくなり、銅張積層板の銅箔がエッチングされて形
成される導体間隙が0.1mm 以下になると、図11に示
すごとく、導体4aと導体4b、及び導体4cと導体4
dのように、プリプレグ3表層のガラス繊維1近傍に2
本の導体4aと4b、及び導体4cと4dが並ぶ状態が
発生する。
【0006】この非常に小さな導体間隙で隣接するプリ
プレグ3との介面部を拡大したものを図12に示す。該
図から明らかなように、プリプレグ3表層のガラス繊維
1に対する導体4cと4dの導体粗化面8c、及び8d
はガラス繊維1と接触してしまう。
【0007】このような状態になると、ガラス繊維1に
沿って導体4c,4dの銅が溶けだし、結局、導体4c
と4d間が矯絡してしまう。その結果、導体4cと4d
間の電気絶縁性が失われ、導体4cと4dは正確な信号
を伝送することができなくなる。
【0008】導体間隙が大きい場合は、例えガラス繊維
1が銅箔4との介面に接している場合が存在していても
導体4cと4dの間隙が大きいため、導体4c、又は導
体4dの何れかはガラス繊維1と接触することはなく、
従来の技術では、上記の現象は発生せず全く問題にする
必要はなかったが、パーソナルコンピューター,携帯電
話,ビデオカメラ等の民生品が小型化し、導体間隙が
0.1mm 以下の微小間隙で使用される用途の出現によ
り、上記の問題点が生じるようになった。
【0009】本発明は上述の点に鑑みなされたもので、
その目的とするところは、導体粗化面が基材であるガラ
ス繊維と直接接触することを防止し、信号銅線の導体間
ピッチが小さくなっても、長期間導体間の電気絶縁性能
を失うことなく、絶縁寿命を保証できる銅張積層板、及
びその製造方法、並びにプリント基板、及びその製造方
法を提供するにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明はガラス繊維基材
にエポキシ樹脂,ポリイミド樹脂、又はビスマレイミド
樹脂が含浸されたプリプレグと、該プリプレグの片面、
若しくは両面に張り付けられた銅箔とを備え、それらが
加圧加熱処理して形成される銅張積層板において、前記
プリプレグと銅箔の間にガラス繊維基材を含まない絶縁
層が配置されている銅張積層板、ガラス繊維基材にエポ
キシ樹脂,ポリイミド樹脂、又はビスマレイミド樹脂を
含浸させたプリプレグの片面、若しくは両面に銅箔が張
り付けられ、その後加圧加熱処理して銅張積層板を製造
する方法において、前記プリプレグの片面、若しくは両
面に絶縁層を配置し、その絶縁層の表面に銅箔を張り付
け、その後加圧加熱処理する銅張積層板の製造方法、ガ
ラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミド樹脂、又はビ
スマレイミド樹脂が含浸されたプリプレグ、該プリプレ
グの片面、若しくは両面に張り付けられた銅箔が加圧加
熱処理されて製作される銅張積層板を備え、この銅張積
層板の銅箔がエッチングされて間隔が0.1mm 以下のパ
ターンになるよう導体が形成されているプリント基板に
おいて、前記プリプレグと銅箔の間にガラス繊維基材を
含まない絶縁層が配置されているプリント基板、ガラス
繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミド樹脂、又はビスマ
レイミド樹脂を含浸させたプリプレグの片面、若しくは
両面に銅箔が張り付けられ、その後加圧加熱処理して製
作される銅張積層板の前記銅箔をエッチングにより導体
間隔が0.1mm 以下のパターンになるように製作するプ
リント基板の製造方法において、前記プリプレグの片
面、若しくは両面にガラス繊維基材を含まない絶縁層を
配置し、その絶縁層の表面に銅箔を張り付け、その後加
圧加熱処理されて形成される銅張積層板を用いて製造さ
れるプリント基板の製造方法としたことを特徴とする。
【0011】前記絶縁層の具体的な手段としては、プリ
プレグ表面に樹脂を塗布し半硬化状にしたもの、或いは
プリプレグと銅箔との間に半硬化状樹脂フィルムを挿入
したり、プリプレグ表面に絶縁性接着剤を塗布するもの
がある。
【0012】
【作用】銅張積層板は、銅箔をガラス繊維で補強した樹
脂絶縁物に接着固定するため、その接着面に凹凸を付け
粗化している。この粗化面がガラス繊維の基材と接触す
ると、基材に沿って銅が溶出及び再析出し、銅箔をエッ
チング等して加工した配線導体間を導通状態にし、配線
導体の電気的独立性が失われる。
【0013】本発明の銅張積層板の如く、ガラス繊維基
材にエポキシ樹脂,ポリイミド樹脂、又はビスマレイミ
ド樹脂が含浸されたプリプレグと、このプリプレグの片
面、若しくは両面に張り付けられた銅箔との間にガラス
繊維基材を含まない絶縁層を設けることにより、導体粗
化面が基材と接触することが防止される。
【0014】その結果、基材に沿って銅が溶出するのを
防ぐことができ、銅張積層板の絶縁劣化寿命を長くする
ことができる。
【0015】
【実施例】以下、図示した実施例に基づいて本発明を説
明する。
【0016】図1は、本発明の銅張積層板の一実施例を
示すものである。該図に示すごとく、本実施例の銅張積
層板は、ガラス繊維1の基材にエポキシ,ポリイミド、
又はビスマレイミドからなる樹脂2が含浸されたプリプ
レグ3と、このプリプレグ3の片面、若しくは両面に張
り付けられた銅箔4とを備え、そのプリプレグ3と銅箔
4の間にガラス繊維基材を含まない絶縁層(図1の例で
は、半硬化樹脂5)が配置されて構成され、これはプリ
プレグ3の片面、若しくは両面に絶縁層(半硬化樹脂
5)を配置し、その絶縁層の表面に銅箔4を張り付け、
その後加圧加熱処理して形成される。
【0017】上記した銅張積層板の製造方法について、
図6を用いて説明する。図6に示すごとく、直径9μm
のモノフィラメント400本のガラス繊維1を布(クロ
ス)状に織った基材にエポキシ,ポリイミド、又はビス
マレイミドからなる樹脂2の入ったワニスタンク10で
樹脂含浸し、熱風式横型含浸乾燥機11を通してプリプ
レグ形成する。このプリプレグを再度基材に含浸した同
じエポキシ,ポリイミド、又はビスマレイミドからなる
樹脂2のワニスタンク10、及び熱風式横型含浸乾燥機
11を通し、片面約50μm厚みの半硬化樹脂5の絶縁
層を形成し、約1m角に切断する。
【0018】このようにして製作することにより、図7
に示す基材を含むプリプレグ3の表面に半硬化樹脂5の
層を設け、この半硬化樹脂5の表面に、接着側を粗化し
た厚さ18μmの銅箔4を張り付け、その後、ヒートプ
レスで加圧成形して銅張積層板が製造される。
【0019】次に、上記のように製造した銅張積層板
に、図2に示すように、ガラス繊維1の基材がプリプレ
グ3の表面に近い位置で、導体間隙が80μmになるよ
うに銅箔4部分をエッチングし、プリント基板を製造し
た。
【0020】このプリント基板の製造について、図8の
工程図を用いて説明する。図8(a)は、上記のように
製造した銅張積層板12で、これに図8(b)に示すご
とく、所定のパターンとなるように銅箔4上にエッチン
グレジスト13を施す。この状態でエッチング処理を行
うことにより、図8(c)のように、エッチングレジス
ト13が施されていない銅箔4がエッチングされる。最
後に、エッチングレジスト13を剥離することにより、
所定の導体パターンが形成されたプリント基板が製造さ
れる。
【0021】図9に本実施例で説明した銅張積層板の製
造工程と、その銅張積層板からプリント基板の製造工程
を示す。説明は上述したのでここでは省略する。
【0022】次に、上記の如く製造したプリント基板に
ついて、本発明の効果を確認するために絶縁劣化試験を
実施した。
【0023】試験条件は温湿度85℃/85%RH,エ
イジング電圧100Vで絶縁抵抗が10Ω に低下す
るまでの時間を寿命として判定した。
【0024】比較に用いた従来法の試料の製法は次に示
す一般的な方法である。即ち、直径9μmのモノフィラ
メント400本のガラス繊維1を布(クロス)状に織っ
た基材にエポキシ樹脂のワニスタンクで樹脂含浸し、熱
風式横型含浸乾燥機を通してプリプレグ3を形成し、約
1m角に切断する。
【0025】このようにして製作した試料の中からガラ
ス繊維1がプリプレグ3の表面にあるものを選択し、次
に、図12に示すように80μmになるように銅箔4部
分をエッチングし、導体4c、及び4dの導体粗化面8
c、及び8dがガラス繊維1と接触しているものを両者
の加速劣化試験結果の比較は図3に示すとおりである。
即ち、従来法で製作した試料は、500時間を少し過ぎ
たところで寿命(106Ω)に達したのに比べ、本発明の
ものが106Ω に達したのは2000時間以上で約4倍
寿命が長くなったことが判る。
【0026】図4は図1のプリプレグ3の表面に形成し
た半硬化樹脂5の変わりに、別に成形した半硬化樹脂フ
ィルム6を用いたもの、図5は図1のプリプレグ3の表
面に形成した半硬化樹脂5の変わりに接着剤7を用いた
ものであり、いずれの場合も加速劣化試験の結果、先の
図3と全く同様な効果が得られた。
【0027】
【発明の効果】以上説明した本発明の銅張積層板、及び
その製造方法、並びにプリント基板、及びその製造方法
によれば、ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミド
樹脂、又はビスマレイミド樹脂が含浸されたプリプレグ
と、このプリプレグの片面、若しくは両面に張り付けら
れた銅箔との間にガラス繊維基材を含まない絶縁層を設
けたものであるから、導体粗化面が基材と接触すること
が防止されるので、基材に沿って銅が溶出するのを防ぐ
ことができ、信号銅線の導体間ピッチが小さくなって
も、長期間導体間の電気絶縁性能を失うことなく、絶縁
寿命が保証できる等優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の銅張積層板の一実施例を示す断面図で
ある。
【図2】本発明の銅張積層板を加工して製作されたプリ
ント基板の例を示す断面図である。
【図3】本発明の銅張積層板と従来の銅張積層板との絶
縁劣化性能を比較した特性図である。
【図4】本発明の銅張積層板の他の実施例を示す断面図
である。
【図5】本発明の銅張積層板の更に他の実施例を示す断
面図である。
【図6】本発明に使用されるプリプレグの製造工程を示
す図である。
【図7】図6で製造されたプリプレグから本発明の銅張
積層板を製作する工程を示す断面図である。
【図8】銅張積層板からプリント基板を製作する工程を
示す工程図である。
【図9】本発明の銅張積層板の製造工程と、その銅張積
層板からプリント基板を製作する工程を示す工程図であ
る。
【図10】従来の銅張積層板を示す断面図である。
【図11】従来の銅張積層板の加工後の例を示す断面図
である。
【図12】従来の銅張積層板の加工後の例を示す拡大断
面図である。
【符号の説明】
1…ガラス繊維、2…樹脂、3…プリプレグ、4…銅
箔、4a,4b,4c,4d…導体、5…半硬状樹脂、
6…半硬化樹脂フィルム、7…接着剤、8c,8d…導
体粗化面、10…ワニスタンク、11…熱風式横型含浸
乾燥機、12…銅張積層板、13…エッチングレジス
ト。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/00 H05K 3/00 R

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミ
    ド樹脂、又はビスマレイミド樹脂が含浸されたプリプレ
    グと、該プリプレグの片面、若しくは両面に張り付けら
    れた銅箔とを備え、それらが加圧加熱処理して形成され
    る銅張積層板において、 前記プリプレグと銅箔の間にガラス繊維基材を含まない
    絶縁層が配置されていることを特徴とする銅張積層板。
  2. 【請求項2】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミ
    ド樹脂、又はビスマレイミド樹脂が含浸されたプリプレ
    グと、該プリプレグの片面、若しくは両面に張り付けら
    れた銅箔とを備え、それらが加圧加熱処理して形成され
    る銅張積層板において、 前記プリプレグと銅箔の間に樹脂が塗布され半硬化処理
    が施されるか、若しくはプリプレグと銅箔の間に半硬化
    樹脂フィルムが挿入されていることを特徴とする銅張積
    層板。
  3. 【請求項3】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミ
    ド樹脂、又はビスマレイミド樹脂が含浸されたプリプレ
    グと、該プリプレグの片面、若しくは両面に張り付けら
    れた銅箔とを備え、それらが加圧加熱処理して形成され
    る銅張積層板において、 前記プリプレグと銅箔の間にガラス繊維基材を含まない
    絶縁性接着剤が塗布されていることを特徴とする銅張積
    層板。
  4. 【請求項4】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミ
    ド樹脂、又はビスマレイミド樹脂を含浸させたプリプレ
    グの片面、若しくは両面に銅箔が張り付けられ、その後
    加圧加熱処理して銅張積層板を製造する方法において、 前記プリプレグの片面、若しくは両面に絶縁層を配置
    し、その絶縁層の表面に銅箔を張り付け、その後加圧加
    熱処理することを特徴とする銅張積層板の製造方法。
  5. 【請求項5】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミ
    ド樹脂、又はビスマレイミド樹脂を含浸させたプリプレ
    グの片面、若しくは両面に銅箔が張り付けられ、その後
    加圧加熱処理して銅張積層板を製造する方法において、 前記プリプレグの片面、若しくは両面に樹脂を塗布し半
    硬化処理を施すか、若しくは半硬化樹脂フィルムを配置
    し、その樹脂を塗布し半硬化処理を施したものか、若し
    くは半硬化樹脂フィルムの表面に銅箔を張り付け、その
    後加圧加熱処理することを特徴とする銅張積層板の製造
    方法。
  6. 【請求項6】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミ
    ド樹脂、又はビスマレイミド樹脂を含浸させたプリプレ
    グの片面、若しくは両面に銅箔が張り付けられ、その後
    加圧加熱処理して銅張積層板を製造する方法において、 前記プリプレグの片面、若しくは両面にガラス繊維基材
    を含まない絶縁性接着剤を塗布し、その絶縁性接着剤に
    銅箔を張り付け、その後加圧加熱処理することを特徴と
    する銅張積層板の製造方法。
  7. 【請求項7】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミ
    ド樹脂、又はビスマレイミド樹脂が含浸されたプリプレ
    グ、該プリプレグの片面、若しくは両面に張り付けられ
    た銅箔が加圧加熱処理されて製作される銅張積層板を備
    え、この銅張積層板の銅箔がエッチングされて間隔が
    0.1mm 以下のパターンになるよう導体が形成されてい
    るプリント基板において、 前記プリプレグと銅箔の間にガラス繊維基材を含まない
    絶縁層が配置されていることを特徴とするプリント基
    板。
  8. 【請求項8】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミ
    ド樹脂、又はビスマレイミド樹脂が含浸されたプリプレ
    グ、該プリプレグの片面、若しくは両面に張り付けられ
    た銅箔が加圧加熱処理されて製作される銅張積層板を備
    え、この銅張積層板の銅箔がエッチングされて間隔が
    0.1mm 以下のパターンになるよう導体が形成されてい
    るプリント基板において、 前記プリプレグと銅箔の間に樹脂が塗布され半硬化処理
    が施されるか、若しくはプリプレグと銅箔の間に半硬化
    樹脂フィルムが挿入されていることを特徴とするプリン
    ト基板。
  9. 【請求項9】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイミ
    ド樹脂、又はビスマレイミド樹脂が含浸されたプリプレ
    グ、該プリプレグの片面、若しくは両面に張り付けられ
    た銅箔が加圧加熱処理されて製作される銅張積層板を備
    え、この銅張積層板の銅箔がエッチングされて間隔が
    0.1mm 以下のパターンになるよう導体が形成されてい
    るプリント基板において、 前記プリプレグと銅箔の間にガラス繊維基材を含まない
    絶縁性接着剤が塗布されていることを特徴とするプリン
    ト基板。
  10. 【請求項10】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイ
    ミド樹脂、又はビスマレイミド樹脂を含浸させたプリプ
    レグの片面、若しくは両面に銅箔が張り付けられ、その
    後加圧加熱処理して製作される銅張積層板の前記銅箔を
    エッチングにより導体間隔が0.1mm 以下のパターンに
    なるように製作するプリント基板の製造方法において、 前記プリプレグの片面、若しくは両面にガラス繊維基材
    を含まない絶縁層を配置し、その絶縁層の表面に銅箔を
    張り付け、その後加圧加熱処理されて形成される銅張積
    層板を用いて製造されることを特徴とするプリント基板
    の製造方法。
  11. 【請求項11】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイ
    ミド樹脂、又はビスマレイミド樹脂を含浸させたプリプ
    レグの片面、若しくは両面に銅箔が張り付けられ、その
    後加圧加熱処理して製作される銅張積層板の前記銅箔を
    エッチングにより導体間隔が0.1mm 以下のパターンに
    なるように製作するプリント基板の製造方法において、 前記プリプレグの片面、若しくは両面に樹脂を塗布し半
    硬化処理を施すか、若しくは半硬化樹脂フィルムを挿入
    し、その樹脂を塗布し半硬化処理を施されたものか、若
    しくは半硬化樹脂フィルムの表面に銅箔を張り付け、そ
    の後加圧加熱処理されて形成される銅張積層板を用いて
    製造されることを特徴とするプリント基板の製造方法。
  12. 【請求項12】ガラス繊維基材にエポキシ樹脂,ポリイ
    ミド樹脂、又はビスマレイミド樹脂を含浸させたプリプ
    レグの片面、若しくは両面に銅箔が張り付けられ、その
    後加圧加熱処理して製作される銅張積層板の前記銅箔を
    エッチングにより導体間隔が0.1mm 以下のパターンに
    なるように製作するプリント基板の製造方法において、 前記プリプレグの片面、若しくは両面にガラス繊維基材
    を含まない絶縁性接着剤を塗布し、その絶縁性接着剤に
    銅箔を張り付け、その後加圧加熱処理されて形成される
    銅張積層板を用いて製造されることを特徴とするプリン
    ト基板の製造方法。
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