JPH0875432A - 切断ライン測定装置 - Google Patents

切断ライン測定装置

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JPH0875432A
JPH0875432A JP7076472A JP7647295A JPH0875432A JP H0875432 A JPH0875432 A JP H0875432A JP 7076472 A JP7076472 A JP 7076472A JP 7647295 A JP7647295 A JP 7647295A JP H0875432 A JPH0875432 A JP H0875432A
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tracing
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line
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JP7076472A
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Koichi Suda
紘一 須田
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Seiko Seiki KK
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Seiko Seiki KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 切断ラインの輪郭追跡の誤りを高い確率で検
出でき、切断幅等の測定に好適な切断ライン測定装置を
提供する。 【構成】 切断ライン2の両側2a,2bから輪郭追跡
を実行する。一方側2aからの輪郭追跡は第1の基点P
1を基に、また他方側2bからの輪郭追跡は第2の基点
P2を基に行なう。輪郭追跡の正誤を判定は一方側2a
からの輪郭追跡結果と他方側2bからの輪郭追跡結果と
に基づき実行する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体ウエハー等の切
断ラインを測定する切断ライン測定装置に関し、特に切
断ラインの輪郭追跡の誤りを高い確率で検出でき、切断
幅等の測定に好適なものである。
【0002】
【従来の技術】図9に示す如くダイシング装置により半
導体ウエハWをストリート1の中央で切断して個々のチ
ップに分離する場合には、指定本数を切断するごとに正
常に切断されているか否かの検査が自動的に行われ、そ
の検査項目は通常以下の3項目に大別されている。
【0003】切断幅 切断幅の検査は切断ライン2の幅が指定寸法内に入って
いるか否かをチェックする。
【0004】中心ずれ 中心ずれの検査はストリート1の中心線を基準線O−O
とし、この基準線O−Oに対し切断ライン2の中心線O
1 −O1 がどの程度ずれているかをチェックする。なお
当該ずれ量が指定値より大きい場合には検査終了後の次
の切断に備えて当該ずれ量に基づき切断位置を補正す
る。
【0005】チッピング チッピングは切断ライン2の縁の欠けを意味し、チッピ
ングの検査は切断ライン2の縁の欠け量が指定値以下で
あるか否かをチェックする。
【0006】以上のような各種の検査を行う切断ライン
検査装置はCCDカメラおよびマイクロコンピュータ等
から構成され、これらの機器により次のような処理が行
われる。
【0007】(a)図10に示す如く切断ライン2の周
辺がCCDカメラにより撮像され、切断ライン2の測定
範囲I−IIが設定される。
【0008】(b)CCDカメラから出力される上記測
定範囲I−II内の画像信号が画像データとして画像メ
モリに取り込まれる。このように画像メモリに取り込ま
れた画像データは輝度を表す8ビット程度のグレイレベ
ル(例えば0から255の値を採用し、黒を0に、白を
255に設定したもの)として、かつCRT画面の画素
と1対1の関係を有して記憶される。
【0009】(c)次に、画像メモリ内に取り込まれた
画像データがしきい値を基準に2値化され、白または黒
の2値画像データに変換される。この際、しきい値はC
RT画面上で切断ライン2が黒となり、その周辺のスト
リート1は白となるように設定される。このため2値化
後はCRT画面上では切断ライン2は黒画素の集合体に
より、また切断ライン2周辺のストリート1は白画素の
集合体により表示され、切断ライン2とストリート1に
明暗がつけられる。
【0010】(d)その後、切断ライン2の輪郭追跡が
行われるが、この際、ダイシング装置の稼働率低下を防
止する等の観点から、輪郭追跡は3×3正方格子を利用
した厳密な輪郭追跡に比し、比較的簡単かつ短時間に結
果が得られるアルゴリズムに基づき行われる。
【0011】すなわち、輪郭追跡はストリート1の中心
線である基準線O−O上を基点Pとし、この基点Pから
白画素を探して矢印イで示すように垂直上方へ進行し、
その途中で白画素に出会った場合には矢印ロで示すよう
に水平方向に進行する。
【0012】そして、水平方向への進行先が白画素であ
る場合は矢印ハで示す如く進行方向を垂直下方に変え、
かつ黒画素に出会うまで下降するが、水平方向への進行
先が白画素でなく黒画素である場合には進行方向を垂直
上方に変え、かつ白画素に出会うまで上昇する。
【0013】このようにして切断ライン2の上縁側輪郭
が追跡され、この追跡結果から基準線O−Oに対する輪
郭の最大値、最小値及び平均値を測定でき、また切断ラ
イン2の下縁側輪郭も上記と同様なアルゴリズムに基づ
き追跡できる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、3×3
正方格子を利用した厳密な輪郭追跡と異なり、上記のよ
うな従来の輪郭追跡は切断ラインの片側より白黒判定を
行いつつ輪郭を追跡するだけの比較的簡単なものである
ことから、次のような不具合が生じる。
【0015】1.図11に示す如く切断ライン2がスト
リート1の中心線から大きくずれている、あるいはチッ
ピングが大きいため切断ライン2が配線パターン3に接
している場合には、2値化すると切断ライン2と配線パ
ターン3がその接触部分でつながることから、図中矢印
で示すように輪郭の追跡が当該接触部分より誤って配線
パターン3の方へ移行し、その後配線パターン3の輪郭
に沿って進行するという不具合が生じる。この場合には
正確な切断ライン2の輪郭が分からず、切断幅、中心ず
れ、あるいはチッピング等について誤測定を招く。
【0016】2.図12に示す如くストリート1にテス
トパターン4が表示され、しかも2値化するとテストパ
ターン4と切断ライン2の区別がつかない場合には、図
中矢印で示すようにテストパターン4の一部を切断ライ
ン2の輪郭として誤って追跡してしまい、この場合にも
正確な切断ライン2の輪郭が分からず、切断幅等につい
て誤測定を招く。
【0017】3.完全に切断しないハーフカットの場合
によく起こる現象、すなわち切断ライン2の底が光線の
影響で部分的に光っている場合には、2値化したとき図
13に示す如く黒の切断ライン2中に白斑点5が生じる
が、この白斑点5が測定範囲I−IIのラインI上に存
在すると、図中矢印で示すように白斑点5を切断ライン
2の縁と間違えて輪郭追跡が進行し、この場合にも正確
な切断ライン2の輪郭が分からず、切断幅等について誤
測定を招く。
【0018】この発明は上述の事情に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは切断ラインの輪郭追跡の
誤りを高い確率で検出でき、切断幅等の測定に好適な切
断ライン測定装置を提供することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明は半導体ウエハー等のストリー
トに沿った切断ラインを撮像する撮像手段と、上記切断
ラインの測定範囲を設定する範囲設定手段と、上記撮像
手段から出力される上記測定範囲内の画像信号を画像デ
ータとして画像メモリに取り込むデータ取込手段と、上
記画像メモリ内に取り込まれた画像データを2値画像デ
ータに変換する2値化手段と、上記2値画像データを基
に切断ラインの一方側から他方側に向かって切断ライン
の輪郭を追跡する第1の輪郭追跡手段と、上記2値画像
データを基に切断ラインの他方側から一方側に向かって
切断ラインの輪郭を追跡する第2の輪郭追跡手段と、上
記第1の輪郭追跡手段による追跡結果と第2の輪郭追跡
手段による追跡結果とに基づき輪郭追跡の正誤を判定す
る判定手段とを備えることを特徴とする。
【0020】請求項2記載の発明は測定範囲を定めるラ
イン上に、輪郭を追跡するための基点を設定したことを
特徴とする。
【0021】請求項3記載の発明は測定範囲を定めるラ
インの内側に、輪郭を追跡するための基点を設定したこ
とを特徴とする。
【0022】請求項4記載の発明は切断ラインが、半導
体ウエハー等のストリートの内側に位置し、かつこのス
トリートに沿って切断されてなり、上記ストリートの中
心線を基準線とし、この基準線上に、輪郭を追跡するた
めの基点を設定したことを特徴とする。
【0023】請求項5記載の発明は切断ラインが、半導
体ウエハー等のストリートの内側に位置し、かつこのス
トリートに沿って切断されてなり、上記ストリートの中
心線を基準線とし、この基準線より離れた位置に、輪郭
を追跡するための基点を設定したことを特徴とする。
【0024】請求項6記載の発明は基準線より離れた位
置が、ストリートの内側であることを特徴とする。
【0025】請求項7記載の発明は基準線より離れた位
置が、ストリートの内側で、かつ切断ラインの外側であ
ることを特徴とする。
【0026】
【作用】この発明によると、切断ラインについて両側か
ら輪郭の追跡が行なわれるとともに、その両追跡結果に
基づき輪郭追跡の正誤が判定されるので、高い確率で輪
郭追跡の異常を発見することが可能となる。
【0027】
【実施例】以下、この発明に係る切断ライン測定装置の
実施例について図1ないし図8を基に詳細に説明する。
【0028】この切断ライン装置は図1に示す如く顕微
鏡付きCCDカメラ100、記憶装置101およびマイ
クロコンピュータ102を備える。
【0029】CCDカメラ100は半導体ウエハWの切
断ライン2を撮像し、このCCDカメラ100からの画
像信号はA/D変換器103を介して記憶装置101に
送出される。
【0030】マイクロコンピュータ102は範囲設定機
能、データ取込機能、2値化機能、第1および第2の輪
郭追跡機能、並びに判定機能を備える。
【0031】範囲設定機能は切断ライン2の測定範囲I
−IIを設定するものであり、測定範囲I−IIの幅は
適宜必要な大きさに変更することができる。
【0032】データ取込機能は記憶装置101に対しデ
ータ取込指令を出力し、またこの指令を受けた記憶装置
101はCCDカメラ100側から出力される測定範囲
I−II内の画像信号を画像データとして画像メモリ1
01aに取り込む。
【0033】なお、画像メモリ101aに取り込まれた
画像データは輝度を表す8ビット程度のグレイレベル
(例えば0から255の値を採用し、黒を0に、白を2
55に設定したもの)として、かつ図示しないCRT画
面の画素と1対1の関係を有して記憶される。
【0034】2値化機能は画像メモリ101a内に取り
込まれた画像データを白または黒の2値画像データに変
換するものであり、一定のしきい値を基準に白または黒
の2値化を行う。
【0035】なお、しきい値はCRT画面上で切断ライ
ン2が黒となり、その周辺のストリート1は白となるよ
うに設定されている。このため2値化後、CRT画面上
では切断ライン2は黒画素の集合体により、また切断ラ
イン2周辺のストリート1は白画素の集合体により表示
され、切断ライン2とストリート1に明暗がつけられ
る。
【0036】図2ないし図7に示すように、第1の輪郭
追跡機能は2値画像データを基に切断ラインの一方側2
aから他方側2bに向かって切断ライン2の輪郭を追跡
するものであり、また第2の輪郭追跡機能は2値画像デ
ータを基に切断ラインの他方側2bから一方側2aに向
かって切断ライン2の輪郭を追跡するものである。
【0037】つまり、第1の輪郭追跡機能と第2の輪郭
追跡機能では追跡開始の基点が異なり、第1の輪郭追跡
機能では切断ラインの一方側2aを基点(以下「第1の
基点P1」という。)とし、第2の輪郭追跡機能では切
断ラインの他方側2bを基点(以下「第2の基点P2」
という。)とする。
【0038】第1の基点P1は測定範囲I−IIの左端
を定めるラインI上と基準線O−Oとの交点に、また第
2の基点P2は測定範囲I−IIの右端を定めるライン
IIと基準線O−Oとの交点に設けられている。すなわ
ち第1および第2の基点P1,P2はともに測定範囲I
−IIを定めるラインI,II上に設定されている。
【0039】第1および第2の輪郭追跡機能とも、輪郭
追跡は従来例と同様に白黒判定を行いながら輪郭を追跡
する比較的簡単なアルゴリズムに基づき行われるため、
その詳細説明は省略する。
【0040】判定機能は第1の輪郭追跡機能による追跡
結果と第2の輪郭追跡機能による追跡結果とに基づき輪
郭追跡の正誤を判定する。
【0041】なお、CCDカメラ100はダイシング装
置200のブレード201と一体にY軸方向へ移動で
き、また半導体ウエハWはチャックテーブル202上に
設置され、かつスライド機構203を介してチャックテ
ーブル202と一体にX軸方向へ移動できるように構成
されている。
【0042】次に、上記の如く構成された切断ライン測
定装置の動作について図2ないし図4を用いて説明す
る。
【0043】なお、CCDカメラ100から出力される
測定範囲I−II内の画像信号が画像データとして画像
メモリ101aに取り込まれること、取り込まれた画像
データはしきい値を基準に白または黒の2値画像データ
に変換されること、およびCRT画面上では切断ライン
2は黒画素の集合体により、また切断ライン2周辺のス
トリート1は白画素の集合体により表示されることは従
来と同様なため、その詳細説明は省略する。
【0044】この切断ライン測定装置によれば、2値化
後に第1および第2の輪郭追跡機能が作動し、これによ
り切断ラインの一方側2aから他方側2bへの輪郭追
跡、およびこれとは逆に切断ラインの他方側2bから一
方側2aへの輪郭追跡、すなわち切断ラインの両側2
a,2bからそれぞれ輪郭追跡が行われる。この際、切
断ライン一方側2aからの輪郭追跡は第1の基点P1を
基に行なわれ、また切断ライン他方側2bからの輪郭追
跡は第2の基点P2を基に行なわれる。
【0045】次に、判定機能が作動し、第1の輪郭追跡
機能による追跡結果と第2の輪郭追跡機能による追跡結
果とに基づき輪郭追跡の正誤判定がなされる。
【0046】輪郭追跡の正誤判定については次の3つの
場合に分けて説明する。
【0047】なお、ここでは第1の輪郭追跡機能による
輪郭追跡が始まる点を第1の追跡開始点A1 、終了する
点を第1の追跡終了点B1 とし、また第2の輪郭追跡機
能による輪郭追跡が始まる点を第2の追跡開始点A2
終了する点を第2の追跡終了点B2 とする。
【0048】(A)切断ラインと配線パターンが接触す
る場合(図2参照) この場合、切断ライン両側2a,2bからの輪郭追跡が
正しければ式(1)の関係が成り立つ筈である。 A1 =B2 ,A2 =B1 …(1)
【0049】しかし、切断ライン2と配線パターン3が
接触する場合には、2値化すると切断ライン2と配線パ
ターン3がその接触部Cでつながるため、輪郭追跡が当
該接触部分より誤って配線パターン3の方へ移行し、そ
の後配線パターン3の輪郭に沿って進行する。
【0050】つまり、切断ライン一方側2aからの輪郭
追跡は第1の基点P1、第1の追跡開始点A1 、接触部
C、第1の追跡終了点B1 を通過するものとなり、また
切断ライン他方側2bからの輪郭追跡は第2の基点P
2、第2の追跡開始点A2 、接触部C、第2の追跡終了
点B2 を通過するものとなる。
【0051】このため、第1の追跡開始点A1 と第2の
追跡終了点B2 、および第2の追跡開始点A2 と第1の
追跡終了点B1 はともに一致せず、式(1)の関係は成
立しないことから、輪郭追跡が異常であることが分か
る。
【0052】このように輪郭追跡の正誤判定は式(1)
の関係が成立するか否かに基づき行われ、この関係が成
立しない場合には輪郭追跡が異常であると判断する。
【0053】(B)ストリートにテストパターンがある
場合(図3参照) この場合も上記と同様な考え方から第1の追跡開始点A
1 と第2の追跡終了点B2 、および第2の追跡開始点A
2 と第1の追跡終了点B1 が一致しないときには、輪郭
追跡が異常であると判断する。
【0054】しかし、上記のような一致するか否かの判
断にあっては追跡開始点A1 ,A2と追跡終了点B1
2 のみを問題とするものであるため、その両点間の途
中における輪郭追跡の誤り、例えば矢印ホまたは矢印ヘ
で示すようにテストパターン4の一部を切断ライン2の
輪郭として誤って追跡したことは発見できない。
【0055】このような輪郭追跡の誤りを発見するた
め、ここでは切断ライン一方側2aからの輪郭追跡と切
断ライン他方側2bからの輪郭追跡とを比較し、両者の
追跡途中経路が異なるか否かを調べ、途中経路が異なる
場合には輪郭追跡が異常であると判断する。このような
判断は次のように行う。
【0056】すなわち、切断ライン両側2a,2bから
の輪郭追跡データをすべてデータメモリに書き込む。こ
の輪郭追跡データは基準線O−Oから切断ライン2の輪
郭までの距離を表すものとする。
【0057】その後、切断ライン一方側2aからの輪郭
追跡データと切断ライン他方側2bからの輪郭追跡デー
タとを対比し、一致しない部分がある場合には追跡途中
の経路が異なるため輪郭追跡が異常であると判断する。
【0058】但し、輪郭追跡が正常な場合でも、チッピ
ングのオーバーハングなどにより輪郭追跡データが一致
しない場合もあり得るため、ある程度の輪郭追跡データ
の不一致は許容する。例えば、差が3ピクセル以内で長
さが5ピクセル以内は許容する。
【0059】したがって、輪郭追跡が異常であるとの判
断は輪郭追跡データの一致度が一定の許容範囲を越える
場合に行なわれる。
【0060】このような判断手法でもテストパターンの
種類によっては輪郭追跡が異常であるか否かを識別でき
ないこともあり得るが、通常は比較的複雑なテストパタ
ーンが書かれていることが多いため、この判断手法によ
ると輪郭追跡が異常であることを高い確率で検出でき
る。
【0061】(C)切断ラインの底が部分的に光ってい
る場合(図4参照) 切断ライン2の底が光線の影響で部分的に光っている場
合には2値化したとき図4に示す如く黒の切断ライン2
中に白斑点5が生じ、この白斑点5は測定範囲I−II
のラインI,II上に存在することもある。
【0062】このとき、第1および第2の基点P1,P
2が上記の如く測定範囲I−IIのラインI,II上に
設定されていたのでは白斑点5の部分を切断ライン2の
縁と間違えるという不具合が生じる。
【0063】そこで、この場合には測定範囲I−IIの
内側に基点P1′,P2′を設定するとともに、内側基
点P1′,P2′を基に切断ラインの両側2a,2bか
ら輪郭追跡を行なうものとする。
【0064】このように測定範囲I−IIの内側に基点
P1′,P2′を設定した場合、切断ライン一方側2a
からの輪郭追跡については、矢印ヘで示すように基点P
1′より白斑点5を避けつつ第1の追跡開始点A1 に一
旦戻り、その後第1の追跡開始点A1 から行うことがで
き、また、切断ライン他方側2bからの輪郭追跡につい
ては、矢印トで示すように基点P2′より白斑点5を避
けながら第2の追跡開始点A2 に一旦戻り、その後第2
の追跡開始点A2 から行うことができる。
【0065】上記のような内側基点P1′,P2′を採
用したことによって、誤測定はかなり改善されたが、こ
れでもまだ誤測定が生じることもある。
【0066】つまり、上記白斑点5が筋状に長く続き、
これが図5ないし図7に示すような白線6となる場合も
ある。このような白線6が存在するとき、上記と同様な
内側基点P1′,P2′からの追跡を行ったのでは、内
側基点P1′,P2′上に白線6が位置することから、
白線6を切断ライン2の縁と誤認し、白線6に沿って追
跡が進行してしまい、切断ライン2の縁に到達できない
点で誤測定となる。
【0067】そこで、このような誤測定を回避するに
は、図5ないし図7に示す如く基準線O−O上でなく、
基準線O−Oより離れた位置に基点P1″,P2″を設
定し、この基点P1″,P2″を基に切断ラインの輪郭
追跡を行なうものとする。
【0068】なお、基点P1″,P2″はストリート1
の内側で、かつ切断ライン2の外側、すなわち切断され
ずに残されているストリート1の切断残部1a内に設け
るのが好ましい。
【0069】このよう基準線O−Oより離れた位置に基
点P1″,P2″を設定した場合には、基点P1″,P
2″が白画素のときは図5に示すように基点P1″,P
2″からストリート1の中心線(基準線O−O)に向か
って追跡が進行し、また基点P1″,P2″が黒画素の
場合は図6に示す如く基点P1″,P2″から基準線O
−O(ストリート1の中心線)に向うのでなく、基準線
O−Oより離れる方向に向かって追跡が進行する。
【0070】たとえば、基準線O−Oより離れた位置に
基点P1″を設定した場合の輪郭追跡は次のように行わ
れる。
【0071】基点P1″が白画素のときは、図5矢印
チで示すように基点P1″からストリート1の中心線
(基準線O−O)に向かって垂直下方に、黒画素に出会
うまで進行する。
【0072】この際、図5に示す例では最初に出会う画
素が切断ライン2の縁を構成する黒画素であるため、黒
画素との出会いは切断ライン2の縁への到達であり、到
達後は追跡開始点A1 側に向かって水平方向に進行す
る。
【0073】その後、進行先が白画素のときは垂直下方
に、また黒画素のときは水平方向に進行し、このように
して切断ライン2の縁に沿って進行しながら追跡開始点
1に一旦戻り、そして追跡開始点A1 から輪郭追跡を
行う。
【0074】基点P1″が黒画素のときは、図6矢印
リで示す如く基点P1″から基準線O−Oの垂直上方
に、すなわち基準線O−Oより離れる方向に、白画素に
出会うまで進行する。
【0075】この際、図6に示す例では最初に出会う画
素が切断ライン2の縁を構成する白画素であるため、白
画素との出会いは切断ライン2の縁への到達であり、到
達後は追跡開始点A1 側に向かって水平方向に進行す
る。
【0076】その後、切断ライン2の縁に沿って進行し
ながら追跡開始点A1 に一旦戻り、第1の追跡開始点A
1 から輪郭追跡を行うことは上記と同様である。
【0077】このように、基点P1″から追跡開始点A
1 に戻る追跡は、基点P1″が切断ライン2の外側(切
断残部1a)にある場合のみならず、切断ライン2の中
にあるときにも行える。
【0078】なお、切断加工時にシリコンの切粉(シリ
コンダスト)が発生した場合は純水での洗浄を行うが、
これだけではシリコンダストが完全に除去されず、切断
ライン2の外側にシリコンダストが付着して残る場合も
あり、シリコンダストが僅かでも残っていると、2値化
したとき図7に示す如く切断ライン2の外側である白の
切断残部1a中に黒斑点7が生じることもある。
【0079】このような黒斑点7が基点P1″の下方に
あるときの追跡は図7矢印ヌで示す如く進行する。すな
わち基点P1″から基準線O−Oに向かって垂直下方に
進行して黒斑点7に到達すると、その後は黒斑点7の周
囲を一部縁取るように進行し、これにより黒斑点7を避
けながら切断ライン2の縁に到達する。
【0080】また、基点P1″が黒斑点7中に位置する
ときの追跡は図7矢印ネで示す如く進行する。すなわち
基点P1″から垂直上方に進行して黒斑点7の周囲に達
すると、その後は黒斑点7の周囲を一部縁取るように進
行し、これにより黒斑点7から離脱して切断ライン2の
縁に到達する。
【0081】以上のように、基準線O−Oより離れた位
置に基点P1″,P2″を設定した場合には、切断ライ
ン2外側より追跡が可能となることから、切断ライン2
中に白線6が存在するときでも、この白線6を切断ライ
ン2の縁と誤認することがなく、この種の誤認による誤
測定を防止できる。
【0082】上記実施例の切断ライン測定装置は、いず
れも切断ラインについて両側から輪郭の追跡を行うとと
もに、その両追跡結果を基に輪郭追跡の正誤を判定する
ものである。このため輪郭追跡の正誤を判定が両追跡結
果に基づきなされることから、高い確率で輪郭追跡の異
常を発見することが可能となり、切断幅等の誤測定を防
止できる。
【0083】しかも、この実施例装置は、切断ラインの
両側から行なわれる輪郭追跡が白黒判定を行いつつ輪郭
を追跡するだけの比較的簡単なものであるため、輪郭追
跡の正誤が分るまでの処理時間が短く、ダイシング装置
の稼働率低下を防止するのに好適である。
【0084】なお、図8に示すように基準線O−Oから
基点P1″,P2″までの距離h1,h2 については、
ストリートの幅Lとの関係から式(2)(3)に示す如
く設定することができる。 h1 <(1/2)L …(2) h2 <(1/2)L …(3)
【0085】測定範囲I−IIの内側に基点P1′,P
2′を設定すること、および基準線O−Oより離れた位
置に基点P1″,P2″を設定することは前述の(C)
の場合のみならず(A)および(B)の場合にも適用す
ることができる。
【0086】
【発明の効果】この発明に係る切断ライン測定装置にあ
っては、切断ラインについて両側から輪郭の追跡を行う
とともに、その両追跡結果を基に輪郭追跡の正誤を判定
するものである。このため輪郭追跡の正誤を判定が両追
跡結果に基づきなされることから、高い確率で輪郭追跡
の異常を発見することが可能となり、切断幅等の誤測定
を防止できる。請求項2ないし7記載の発明についても
上記と同様な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る切断ライン測定装置の実施例の
説明図。
【図2】この発明における輪郭追跡動作の説明図。
【図3】この発明における輪郭追跡動作の説明図。
【図4】この発明における輪郭追跡動作の説明図。
【図5】この発明における輪郭追跡動作の説明図。
【図6】この発明における輪郭追跡動作の説明図。
【図7】この発明における輪郭追跡動作の説明図。
【図8】この発明における輪郭追跡動作の説明図。
【図9】半導体ウエハの平面図。
【図10】従来の輪郭追跡動作の説明図。
【図11】従来の輪郭追跡動作の説明図。
【図12】従来の輪郭追跡動作の説明図。
【図13】従来の輪郭追跡動作の説明図。
【符号の説明】
1 ストリート 2 切断ライン 100 CCDカメラ(撮像手段) 101a 画像メモリ P1,P1′P1″,P2,P2′,P2″ 基点 102 マイクロコンピュータ(範囲設定手段、データ
取込手段、2値化手段、第1および第2の輪郭追跡手
段、判定手段) I−II 測定範囲 O−O 基準線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G06T 9/20 H01L 21/301 H01L 21/78 C

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハー等の切断ラインを撮像す
    る撮像手段と、 上記切断ラインの測定範囲を設定する範囲設定手段と、 上記撮像手段から出力される上記測定範囲内の画像信号
    を画像データとして画像メモリに取り込むデータ取込手
    段と、 上記画像メモリ内に取り込まれた画像データを2値画像
    データに変換する2値化手段と、 上記2値画像データを基に切断ラインの一方側から他方
    側に向かって切断ラインの輪郭を追跡する第1の輪郭追
    跡手段と、 上記2値画像データを基に切断ラインの他方側から一方
    側に向かって切断ラインの輪郭を追跡する第2の輪郭追
    跡手段と、 上記第1の輪郭追跡手段による追跡結果と第2の輪郭追
    跡手段による追跡結果とに基づき輪郭追跡の正誤を判定
    する判定手段とを備えることを特徴とする切断ライン測
    定装置。
  2. 【請求項2】 測定範囲を定めるライン上に、輪郭を追
    跡するための基点を設定したことを特徴とする請求項1
    記載の切断ライン測定装置。
  3. 【請求項3】 測定範囲を定めるラインの内側に、輪郭
    を追跡するための基点を設定したことを特徴とする請求
    項1記載の切断ライン測定装置。
  4. 【請求項4】 切断ラインが、半導体ウエハー等のスト
    リートの内側に位置し、かつこのストリートに沿って切
    断されてなり、 上記ストリートの中心線を基準線とし、この基準線上
    に、輪郭を追跡するための基点を設定したことを特徴と
    する請求項1記載の切断ライン測定装置。
  5. 【請求項5】 切断ラインが、半導体ウエハー等のスト
    リートの内側に位置し、かつこのストリートに沿って切
    断されてなり、 上記ストリートの中心線を基準線とし、この基準線より
    離れた位置に、輪郭を追跡するための基点を設定したこ
    とを特徴とする請求項1記載の切断ライン測定装置。
  6. 【請求項6】 基準線より離れた位置が、ストリートの
    内側であることを特徴とする請求項5記載の切断ライン
    測定装置。
  7. 【請求項7】 基準線より離れた位置が、ストリートの
    内側で、かつ切断ラインの外側であることを特徴とする
    請求項5記載の切断ライン測定装置。
JP7076472A 1994-07-08 1995-03-31 切断ライン測定装置 Withdrawn JPH0875432A (ja)

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JP7076472A JPH0875432A (ja) 1994-07-08 1995-03-31 切断ライン測定装置
US08/499,160 US5710825A (en) 1995-03-31 1995-07-07 Cutting line measuring apparatus

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JP6-157722 1994-07-08
JP15772294 1994-07-08
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10288585A (ja) * 1997-04-13 1998-10-27 Inspectech Ltd 切断部を分析するための方法と装置
KR100699247B1 (ko) * 2006-11-21 2007-03-28 주식회사 고려반도체시스템 웨이퍼 레이저 쏘잉 장치의 파라미터변환방법 및 그 장치
JP2009074952A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Nec Electronics Corp 外観検査方法
JP2013157385A (ja) * 2012-01-27 2013-08-15 Semiconductor Components Industries Llc 半導体装置及びその自動外観検査方法
CN116995030A (zh) * 2023-09-27 2023-11-03 武汉华工激光工程有限责任公司 一种晶圆残片全自动切割方法及装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10288585A (ja) * 1997-04-13 1998-10-27 Inspectech Ltd 切断部を分析するための方法と装置
KR100699247B1 (ko) * 2006-11-21 2007-03-28 주식회사 고려반도체시스템 웨이퍼 레이저 쏘잉 장치의 파라미터변환방법 및 그 장치
JP2009074952A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Nec Electronics Corp 外観検査方法
JP2013157385A (ja) * 2012-01-27 2013-08-15 Semiconductor Components Industries Llc 半導体装置及びその自動外観検査方法
CN116995030A (zh) * 2023-09-27 2023-11-03 武汉华工激光工程有限责任公司 一种晶圆残片全自动切割方法及装置
CN116995030B (zh) * 2023-09-27 2023-12-29 武汉华工激光工程有限责任公司 一种晶圆残片全自动切割方法及装置

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