JPH087266A - 磁気ディスクのテクスチャ加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 コンタクトロール３で加圧される目荒し用テ
ープ４を用いた磁気ディスクのテクスチャ加工装置にお
いて、テープリールユニット５とコンタクトロールユニ
ット６とを分離し、揺動駆動手段７にてコンタクトロー
ルユニット６のみをオシレーションさせるようにする。
更に、テクスチャ加工動作中に目荒し用テープ４がテー
プリールユニット５から一時的に分離される一時分離手
段８を設ける。 【効果】 多様なオシレーション条件によるテクスチャ
加工の最適化を容易に実現し得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、磁気ディスクの製造
プロセスのテクスチャ加工工程で用いられる磁気ディス
クのテクスチャ加工装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、磁気ディスクの製造プロセス工
程の一つにテクスチャ加工工程と称されるものがある。
これは、例えば図８及び図９に示すように、回転支承さ
れる磁気ディスク基板（磁性膜成膜前）１００の表裏面
を一対のコンタクトロール１０１，１０２で押圧し、磁
気ディスク基板１００とコンタクトロール１０１，１０
２との間に目荒し用テープ（例えばスラリ研磨剤付きの
テープあるいは布製テープ等）１０３を介在移動させる
と共に、上記コンタクトロール１０１，１０２を上記磁
気ディスク基板１００の面方向に沿って揺動させ、磁気
ディスク基板１００の表裏面を目荒し（テクスチャ）１
０４するようにしたものである。

【０００３】このようなテクスチャ加工を施すと、磁気
ディスクと磁気ヘッドとの間に空気を巻き込み、磁気ヘ
ッドを浮上させるため、磁気ディスクと磁気ヘッドとの
密着を防止することが可能になるほか、テクスチャ加工
による表面粗さを小さく抑える（表面粗さの均一化）こ
とにより、磁気ヘッドの浮上量を小さくし、もって、記
録密度を高密度化することが可能になる。

【０００４】ところで、従来のテクスチャ加工装置とし
ては、図１０に示すように、一つのテクスチャヘッド１
１１に目荒し用テープ１０３の繰り出しテープリール１
１２、巻き取りテープリール１１３及びコンタクトロー
ル１０１，１０２を夫々設け、前記テクスチャヘッド１
１１をモータ及びカム機構からなる揺動駆動機構１１４
にて磁気ディスク基板１００の径方向に沿って揺動させ
るようにしたものが用いられていた（例えば実公平４−
３７７０４号公報）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のテクスチャ加工装置にあっては、テクスチャ
ヘッド１１１はテープリール部とコンタクトロール部と
を一体的に設けたものであるため、そのテクスチャヘッ
ド１１１の全体重量は例えば３０〜４０Ｋｇ程度になっ
てしまう。従って、揺動駆動機構１１４にて前記テクス
チャヘッド１１１を揺動させるにしても、もともとテク
スチャヘッド１１１の全体重量が大きいことから、オシ
レーション周波数を充分に高めることができず、その
分、多様なオシレーション条件によるテクスチャ加工の
最適化を実現し難いという技術的課題が見い出された。

【０００６】この発明は、以上の技術的課題を解決する
ために為されたものであって、多様なオシレーション条
件によるテクスチャ加工の最適化を容易に実現し得る磁
気ディスクのテクスチャ加工装置を提供するものであ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】すなわち、この発明は、
図１（ａ）に示すように、磁気ディスク基板１を回転支
承するディスク支持手段２と、磁気ディスク基板１面を
押圧し且つ磁気ディスク基板１の径方向に沿って揺動す
るコンタクトロール３と、磁気ディスク基板１面とコン
タクトロール３との間に介在されて磁気ディスク基板１
面に接触する目荒し用テープ４とを備え、磁気ディスク
基板１の表面を目荒しする磁気ディスクのテクスチャ加
工装置において、磁気ディスク基板１に対して固定配置
され、前記目荒し用テープ４の供給及び回収機構を有す
るテープリールユニット５と、少なくとも前記コンタク
トロール３及び目荒し用テープ４の案内機構を有し、前
記テープリールユニット５と別個独立に配置されると共
に揺動駆動手段７にて磁気ディスク基板１の径方向に沿
って揺動支持されるコンタクトロールユニット６とを備
えたことを特徴とする。

【０００８】このような技術的手段において、本願発明
は、磁気ディスク基板１の片面（表面あるいは裏面）あ
るいは両面にテクスチャ加工を施すものを対象とする。
また、ディスク支持手段２としては、磁気ディスク基板
１を所定の姿勢に保持して回転自在に支持するものであ
れば適宜選定して差し支えないが、磁気ディスク基板１
の表面あるいは裏面あるいは両面を最大限有効利用しよ
うとした場合には、磁気ディスク基板１のチャック孔内
縁をチャック保持することが必要である。このとき、上
記磁気ディスク基板１のチャック保持姿勢を正規に保つ
という観点からすれば、チャック保持時において、磁気
ディスク基板１の姿勢が規制されるガイドを用いること
が望ましく、特に、磁気ディスク基板１の表面に傷が形
成される事態を確実に回避するという観点からすれば、
エアブローガイド等の非接触ガイドを用いることが望ま
しい。

【０００９】また、コンタクトロール３は例えば磁気デ
ィスク基板１の両面をテクスチャ加工するのであれば一
対必要であるが、磁気ディスク基板１の片面をテクスチ
ャ加工するのであれば加工面に対向した箇所に一つ設け
るようにすればよい。また、コンタクトロール３につい
ては磁気ディスク基板１面に押圧する加圧機構が必要で
あり、押圧力の低圧化、高精度制御、調整のし易さを考
慮すれば、この加圧機構としては、リンク機構を介して
押圧するようにし、コンタクトロール３の支持アームに
てこの原理を応用し、押圧支点にある程度大きな加圧力
を与えたとしても、コンタクトロール３には低コンタク
ト圧を作用させるようにしたものが好ましい。

【００１０】また、目荒し用テープ４としては、それ自
体の材質が目荒しを可能とする程度の表面粗さを持つ例
えば布製テープであってもよいし、テープ素材そのもの
には目荒しを可能とする程度の表面粗さはなく、例えば
スラリ研磨剤を別に供給するようにして目荒しを可能に
するようにしたもの等適宜選定して差し支えない。

【００１１】また、テープリールユニット５について
は、目荒し用テープ４を供給、回収し得る機構を備えて
いればよく、また、磁気ディスク基板１のセット位置に
対してテープリールユニット５の位置を移動設定し得る
ように設計してもよいし、あるいは、テープリールユニ
ット５を予め所定位置に固定しておき、磁気ディスク基
板１を所定のセット位置に移動設定するようにしてもよ
い。

【００１２】また、コンタクトロールユニット６につい
ては、少なくとも、磁気ディスク基板１との間に目荒し
用テープ４を介在させたコンタクトロール３を備えてい
ればよいが、テクスチャ加工時には、コンタクトロール
ユニット６が揺動駆動手段７にて揺動し、目荒し用テー
プ４の供給性が不安定になる虞れがあるため、目荒し用
テープ４を安定供給するという観点からすれば、例えば
図１（ｂ）に示すように、コンタクトロールユニット６
には、テクスチャ加工動作中に目荒し用テープ４がテー
プリールユニット５から一時的に分離される一時分離手
段８を設けることが好ましい。この一時分離手段８とし
ては、例えば目荒し用テープ４の一端を拘束保持するテ
ープクランプ手段９と、このテープクランプ手段９によ
るテープクランプ動作時にて目荒し用テープ４を繰り出
すテープ繰り出し手段１０と、このテープ繰り出し手段
１０によるテープ繰り出し動作時にて目荒し用テープ４
に一定の張力を付与するテープ引張手段１１とを備えた
ものが用いられる。

【００１３】また、上記揺動駆動手段７については、コ
ンタクトロールユニット６を所定のオシレーション周波
数で揺動させるものであれば適宜選定して差し支えな
く、例えばモータとカム機構やリンク機構を用いたり、
あるいは、リニアモータ機構を用いる等適宜選定するこ
とができる。このとき、揺動駆動手段７としてリニアモ
ータ機構を用いるようにすれば、揺動幅やオシレーショ
ン周波数等をオシレーション条件として操作パネル上で
入力することにより、多様なオシレーション条件に容易
に対応することが可能である。

【００１４】

【作用】上述したような技術的手段によれば、テープリ
ールユニット５は目荒し用テープ４の供給及び回収機構
を有するものであり、磁気ディスク基板１に対して固定
配置されている。一方、コンタクトロールユニット６は
少なくともコンタクトロール３及び目荒し用テープ４の
案内機構を有するものであり、テープリールユニット５
と別個独立に配置され、しかも、揺動駆動手段７にて磁
気ディスク基板１の径方向に沿って揺動支持される。従
って、テープリールユニット５と無関係に、コンタクト
ロールユニット６のみが磁気ディスク基板１の径方向に
沿って揺動し、コンタクトロールユニット６のコンタク
トロール３に追従移動する目荒し用テープ４にて磁気デ
ィスク基板１の表面を目荒しする。

【００１５】特に、コンタクトロールユニット６にテク
スチャ加工動作中に目荒し用テープ４がテープリールユ
ニット５から一時的に分離される一時分離手段８を設け
るようにすれば、テープリールユニット５と無関係に、
コンタクトロールユニット６側で目荒し用テープ４が安
定的に供給される。

【００１６】

【実施例】以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの
発明を詳細に説明する。図２はこの発明が適用された磁
気ディスクのテクスチャ加工設備の一実施例を示す。同
図において、符号２０は磁気ディスク基板、２１はテク
スチャ加工対象となる多数の磁気ディスク基板２０を収
容する収容ボックス、２２は収容ボックス２１内の磁気
ディスク基板２０をローディングし、ディスク保持テー
ブル２３のディスクセット位置ａにて磁気ディスク基板
２０をアンローディングしてディスク保持テーブル２３
に磁気ディスク基板２０をセットするディスクガイドユ
ニットである。

【００１７】この実施例において、上記ディスク保持テ
ーブル２３は９０度角度間隔の４つのインデックス位置
を間欠移動させるものであり、夫々のインデックス位置
には磁気ディスク基板２０のチャック孔をチャックする
スピンドル（図示せず）が設けられ、更に、インデック
ス位置の一つであるディスクセット位置ａには磁気ディ
スク基板２０チャック時において磁気ディスク基板２０
を正規姿勢に保つ姿勢ガイド（図示せず）を備えてい
る。また、上記ディスク保持テーブル２３の上記ディス
クセット位置ａに隣接するインデックス位置は第一テク
スチャ加工ステージｂ、第二テクスチャ加工ステージｄ
であり、夫々のテクスチャ加工ステージｂ，ｄにはテク
スチャ加工装置３０が設置されている。更に、上記ディ
スクセット位置ａから１８０度変位したインデックス位
置は洗浄ステージｃであり、図示外の洗浄装置が設置さ
れている。

【００１８】次に、この実施例に係るテクスチャ加工装
置３０の詳細を図３に示す。同図において、テクスチャ
加工装置３０はテクスチャヘッド３１を有し、このテク
スチャヘッド３１は、第一のガイドレール３２に沿って
加工位置と待機位置との間で進退移動するテープリール
ユニット３３と、このテープリールユニット３３とは別
個独立に分離され、第二のガイドレール３４に沿って加
工位置と待機位置との間で進退移動するコンタクトロー
ルユニット３５とを備えている。

【００１９】この実施例に係るテープリールユニット３
３は、例えばスラリ研磨剤付きテープ等の目荒し用テー
プ３６を繰り出す繰り出しテープリール３７と、目荒し
用テープ３６を巻き取る巻き取りテープリール３８とを
ユニットベース３９上に二組設置したものである。尚、
この実施例においては、加工条件に応じて、繰り出しテ
ープリール３７及び巻き取りテープリール３８の位置関
係、回転方向を逆にすることにより目荒し用テープ３６
の送り方向を逆転させることも可能である。

【００２０】一方、この実施例に係るコンタクトロール
ユニット３５は、ディスク保持テーブル２３に保持され
た磁気ディスク基板２０の表面及び裏面を押圧する一対
のコンタクトロール４１，４２をユニットベース４０に
設ける他、夫々のコンタクトロール４１，４２に対して
目荒し用テープ（以後この実施例中ではテープと称す
る）３６が適宜掛け回されるテープ案内機構４３、更に
は、テクスチャ加工動作時においてテープ３６がテープ
リールユニット３３と一時的に分離されるテープ一時分
離機構４４を備えている。

【００２１】より具体的に述べると、上記テープ一時分
離機構４４は、図３及び図６に示すように、繰り出しテ
ープリール３７から繰り出されたテープ３６が巻き付け
保持されるテープ繰り出しロール５１と、巻き取りテー
プリール３８手前に配置されて図６中点線のように動作
しテープ３６の一端が拘束保持されるテープクランプ５
２と、このテープクランプ５２によるテープ３６のクラ
ンプ動作時においてテープ繰り出しロール５１によるテ
ープ３６の繰り出し動作が実行されている時点で図６中
点線のように動作し目荒し用テープ３６に一定の張力が
与えられるテンションロール５３とを備えている。

【００２２】更に、テープ案内機構４３は、繰り出しテ
ープリール３７から繰り出されたテープ３６をテープ繰
り出しロール５１に巻き付けるための一対の案内ロール
５４，５５と、テープ繰り出しロール５１からのテープ
３６をコンタクトロール４１あるいは４２に掛け渡した
後にテンションロール５３へ導くための案内ロール５６
とで構成されている。

【００２３】また、この実施例に係るコンタクトロール
ユニット３５はオシレーション機構６０にて磁気ディス
ク基板２０の径方向に沿って揺動するようになってい
る。この実施例では、上記オシレーション機構６０とし
ては、図３〜図５に示すように、例えばテープリールユ
ニット３３に図示外のブラケットで固定される駆動モー
タ６１と、この駆動モータ６１のシャフトに固着される
円板状カム６２と、この円板状カム６２のモータシャフ
トから偏心した位置に突設される係合ピン６３と、上記
コンタクトロールユニット３５のユニットベース４０の
背面側に固着される係合ブロック６４と、この係合ブロ
ック６４に対し磁気ディスク基板２０の径方向に直交す
る方向に沿って開設され且つ上記係合ピン６３が摺動自
在に係合するスリット溝６５とを備え、駆動モータ６１
の回転運動を係合ブロック６５の直線方向（磁気ディス
ク基板２０の径方向に沿う方向）運動に変換するように
したものが用いられる。

【００２４】次に、この実施例に係るテクスチャ加工装
置の作動について説明する。今、テクスチャ加工ステー
ジｂ，ｄにおいて、テクスチャ加工装置３０は加工位置
まで進出した後に、オシレーション機構６０にてコンタ
クトロールユニット３５を磁気ディスク基板２０の径方
向に沿って揺動させ、コンタクトロール４１，４２に掛
け渡されたテープ３６にて磁気ディスク基板２０の表面
及び裏面を目荒らしする。

【００２５】このとき、上記コンタクトロールユニット
３５は約１５〜２０Ｋｇの重量であり、オシレーション
周波数ｆ＝２０Ｈｚでオシレーションを行うことがで
き、良好なテクスチャパターンを得ることができた。こ
れに対し、図１０の従来タイプを用いて同様なテクスチ
ャ加工を行ったところ、従来のテクスチャヘッド１１１
は約３０〜４０Ｋｇの重量であり、オシレーション周波
数ｆ＝５Ｈｚ程度でしかオシレーションを実現できない
ことが確認された。

【００２６】また、この実施例にあっては、テープ一時
分離機構４４は、図６に示すように、テープクランプ５
２にてテープ３６の一端を拘束保持し、この状態で、テ
ープ繰り出しロール５１にてテープ３６を繰り出すと共
に、テンションロール５３にてテープ３６の張力を一定
に保つようにしているので、コンタクトロールユニット
３５のみが揺動したとしても、コンタクトロール４１，
４２と磁気ディスク基板２０との間にテープ３６は安定
的に供給されることになり、その分、テープ３６の供給
性が不安定になってテクスチャ加工品質が損なわれる懸
念はない。

【００２７】更にまた、この実施例に係るコンタクトロ
ール４１，４２の加圧機構７０を図７に示す。同図にお
いて、各コンタクトロール４１，４２には夫々支持アー
ム７１が設けられ、夫々の支持アーム７１はコンタクト
ロール４１，４２の加圧方向に沿う摺動レール７２，７
３に摺動自在に係合するスライダ７４，７５にピン７
６，７７支持されており、コンタクトロール４１，４２
から離れた側の一方のピン７７支持点は支持アーム７１
の軸方向に沿った長孔に遊嵌している。そして、上記コ
ンタクトロール４１，４２に接近した側のピン７６支持
点には押圧用エアシリンダ７８，７９による加圧力が作
用するようになっており、また、コンタクトロール４
１，４２から離れた側のピン７７支持点には押圧用エア
シリンダ７８’，７９’による加圧力が作用するように
なっており、押圧用エアシリンダ７８，７８’及び７
９，７９’の押圧力の差圧とモーメント力によりコンタ
クトロール４１，４２に対し支持アーム７１を介して加
工圧が伝えられる。一方、この加工圧制御とは別個にコ
ンタクトロール４１，４２の開閉動作を制御するところ
の開閉用エアシリンダ８０が配置され、所定のカム面が
形成されたカムブロックを用いてコンタクトロール４
１，４２の開閉動作が制御される。

【００２８】このような加圧機構７０によれば、押圧用
エアシリンダ７８，７９，７８’，７９’を作動させ、
開閉用エアシリンダ８０にてコンタクトロール４１，４
２を閉じると、てこの原理により、ピン７６支持点の作
用力とピン７７支持点の作用力とがコンタクトロール４
１，４２に案分されることになるため、押圧用エアシリ
ンダ７８，７９，７８’，７９’の圧力をある程度大き
いレベルで制御したとしても、てこの比率に基づいて、
コンタクトロール４１，４２の押圧力は低コンタクト圧
で調整される。

【００２９】

【発明の効果】以上説明してきたように、この発明によ
れば、テープリールユニットとコンタクトロールユニッ
トとを分離し、コンタクトロールユニットのみをオシレ
ーションさせるようにしたので、従来に比べてオシレー
ションの対象重量を軽減できる分、多様なオシレーショ
ン条件によるテクスチャ加工の最適化を容易に実現する
ことができる。また、テクスチャ加工動作中に目荒し用
テープがテープリールユニットから一時的に分離される
一時分離手段を設けるようにすれば、コンタクトロール
ユニットがオシレーションする際にテープの供給性が損
なわれる懸念はなく、常時安定して目荒し用テープを供
給することができ、テクスチャの加工精度の均一性を良
好に保つことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 （ａ）はこの発明に係る磁気ディスクのテク
スチャ加工装置の構成を示す説明図、（ｂ）はこの発明
で用いられる一時分離手段の構成例を示す説明図であ
る。

【図２】 この発明が適用された磁気ディスクのテクス
チャ加工設備の一実施例を示す説明図である。

【図３】 実施例に係るテクスチャ加工装置の詳細を示
す斜視図である。

【図４】 その側面概略図である。

【図５】 図５中Ｖ方向から見た矢視図である。

【図６】 実施例に係るテクスチャ加工装置の一時分離
機構例を示す説明図である。

【図７】 実施例に係るコンタクトロールの加圧機構の
具体例を示す説明図である。

【図８】 従来の磁気ディスクのテクスチャ加工方式の
概要を示す説明図である。

【図９】 図８中ＩＸ方向から見た矢視図である。

【図１０】 従来における磁気ディスクのテクスチャ加
工装置の一例を示す説明図である。

【符号の説明】

１…磁気ディスク基板，２…ディスク支持手段，３…コ
ンタクトロール，４…目荒し用テープ，５…テープリー
ルユニット，６…コンタクトロールユニット，７…揺動
駆動手段，８…一時分離手段，９…テープクランプ手
段，１０…テープ繰り出し手段，１１…テープ引張手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅野 幸弘 山形県米沢市中央４−１−21 コ−ピアス 米沢201 (72)発明者 千田 昌平 山形県米沢市中央４−１−21 コーピアス 米沢511

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気ディスク基板（１）を回転支承する
   ディスク支持手段（２）と、磁気ディスク基板（１）面
   を押圧し且つ磁気ディスク基板（１）の径方向に沿って
   揺動するコンタクトロール（３）と、磁気ディスク基板
   （１）面とコンタクトロール（３）との間に介在されて
   磁気ディスク基板（１）面に接触する目荒し用テープ
   （４）とを備え、磁気ディスク基板（１）の表面を目荒
   しする磁気ディスクのテクスチャ加工装置において、磁
   気ディスク基板（１）に対して固定配置され、前記目荒
   し用テープ（４）の供給及び回収機構を有するテープリ
   ールユニット（５）と、少なくとも前記コンタクトロー
   ル（３）及び目荒し用テープ（４）の案内機構を有し、
   前記テープリールユニット（５）と別個独立に配置され
   ると共に揺動駆動手段（７）にて磁気ディスク基板
   （１）の径方向に沿って揺動支持されるコンタクトロー
   ルユニット（６）とを備えていることを特徴とする磁気
   ディスクのテクスチャ加工装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のものにおいて、コンタク
   トロールユニット（６）は、テクスチャ加工動作中に目
   荒し用テープ（４）がテープリールユニット（５）から
   一時的に分離される一時分離手段（８）を有し、この一
   時分離手段（８）は、目荒し用テープ（４）の一端を拘
   束保持するテープクランプ手段（９）と、このテープク
   ランプ手段（９）によるテープクランプ動作時にて目荒
   し用テープ（４）を繰り出すテープ繰り出し手段（１
   ０）と、このテープ繰り出し手段（１０）によるテープ
   繰り出し動作時にて目荒し用テープ（４）に一定の張力
   を付与するテープ引張手段（１１）とを備えたことを特
   徴とする磁気ディスクのテクスチャ加工装置。