JPH087267A - 磁気ディスクのテクスチャ加工装置におけるコンタクトロ−ル加圧機構及びその制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 コンタクトロール３で加圧される目荒し用テ
ープ４を用いた磁気ディスクのテクスチャ加工装置にお
いて、コンタクトロール３の回転軸方向に沿って延びる
支持アーム５を設け、この支持アーム５に一対の支持点
Ｋ1,Ｋ2をコンタクトロール３の加圧方向に対して摺動
自在に設け、開閉用駆動手段８にてコンタクトロール３
を閉駆動した時点で上記支持アーム５の離れた２つの支
持点に対し加圧駆動手段９，９’にて加圧力を供給す
る。 【効果】 加圧点での必要制御圧を高くすることがで
き、しかも、磁気ディスクのサイズやテクスチャ加工時
の摩擦力に影響されることなく、コンタクトロールの磁
気ディスク基板面への加圧力を常時均一に保ち、もっ
て、コンタクトロールに対する低圧高精度加工を可能と
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、磁気ディスクの製造
プロセスのテクスチャ加工工程で用いられる磁気ディス
クのテクスチャ加工装置に係り、特に、磁気ディスク基
板面とコンタクトロールとの間に目荒し用テープを介在
させ、コンタクトロールを押圧しながら磁気ディスク基
板の径方向に沿って揺動させるタイプにおけるコンタク
トロール加圧機構及びその制御装置の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、磁気ディスクの製造プロセス工
程の一つにテクスチャ加工工程と称されるものがある。
これは、例えば図１６及び図１７に示すように、回転支
承される磁気ディスク基板（磁性膜成膜前）３００の表
裏面を一対のコンタクトロール３０１，３０２で押圧
し、磁気ディスク基板３００とコンタクトロール３０
１，３０２との間に目荒し用テープ（例えばスラリ研磨
剤付きのテープあるいは布製テープ等）３０３を介在移
動させると共に、上記コンタクトロール３０１，３０２
を上記磁気ディスク基板３００の面方向に沿って揺動さ
せ、磁気ディスク基板３００の表裏面を目荒し（テクス
チャ）３０４するようにしたものである。

【０００３】このようなテクスチャ加工を施すと、磁気
ディスクと磁気ヘッドとの間に空気を巻き込み、磁気ヘ
ッドを浮上させるため、磁気ディスクと磁気ヘッドとの
密着を防止することが可能になるほか、テクスチャ加工
による表面粗さを小さく抑える（表面粗さの均一化）こ
とにより、磁気ヘッドの浮上量を小さくし、もって、記
録密度を高密度化することが可能になる。

【０００４】ところで、従来のテクスチャ加工装置のコ
ンタクトロール加圧機構としては、例えば図１８に示す
ように、コンタクトロール３０１，３０２の回転中心３
１０に対して略Ｌ字状に屈曲形成された支持アーム３１
１，３１２にてコンタクトロール３０１，３０２を支持
し、上記コンタクトロール３０１，３０２の押圧方向３
１３に沿って摺動するスライダ３１４，３１５に対し上
記支持アーム３１１，３１２のコンタクトロール３０
１，３０２と平行なアーム部３１１ａ，３１２ａをピン
３１６，３１７で回転自在に軸着し、図示外の加圧駆動
用のエアシリンダで上記アーム部３１１ａ，３１２ａに
対し所定の加圧力を与えるようにしたものが提供されて
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のテクスチャ加工装置のコンタクトロール加圧
機構にあっては、加圧駆動用のエアシリンダの加圧方向
がコンタクトロール３０１，３０２の加圧方向に一致し
ているため、加圧駆動用のエアシリンダの加圧力がその
ままコンタクトロール３０１，３０２へ伝達されてしま
い、コンタクトロール３０１，３０２の加圧力を低圧に
する場合には、低圧用のエアシリンダを使用しなければ
ならず、その分、圧力制御を行い難いという技術的課題
がある。

【０００６】また、テクスチャ加工対象がサイズの小さ
な磁気ディスクの場合には、磁気ディスクのサイズに比
べて加圧駆動用のエアシリンダが大きいため、レイアウ
ト上、エアシリンダの加圧方向中心がコンタクトロール
３０１，３０２の加圧作用中心から偏位してしまい、コ
ンタクトロール３０１，３０２の磁気ディスク基板３０
０面に対する加圧力が不均一になり、テクスチャ加工が
不良になる懸念がある。

【０００７】更に、目荒し用テープ３０３が介在された
コンタクトロール３０１，３０２と磁気ディスク基板２
０との間には摩擦力が生ずるため、上記支持アーム３１
１，３１２には回転中心（ピン３１６，３１７）を中心
としたモーメントＭが作用し、その分、コンタクトロー
ル３０１，３０２が磁気ディスク基板３００面から傾斜
し易くなり、コンタクトロール３０１，３０２の磁気デ
ィスク基板３００面に対する加圧力が不均一になり、テ
クスチャ加工が不良になる懸念がある。

【０００８】この発明は、以上の技術的課題を解決する
ために為されたものであって、加圧点での必要制御圧を
高くすることができ、しかも、磁気ディスクのサイズや
テクスチャ加工時の摩擦力に影響されることなく、コン
タクトロールの磁気ディスク基板面への加圧力を常時均
一に保ち、もって、コンタクトロールに対する低圧高精
度加工を可能とした磁気ディスクのテクスチャ加工装置
におけるコンタクトロール加圧機構及びその制御装置を
提供するものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】すなわち、この発明は、
図１に示すように、磁気ディスク基板１を回転支承する
ディスク支持手段２と、磁気ディスク基板１面を押圧し
且つ磁気ディスク基板１の径方向に沿って揺動するコン
タクトロール３と、磁気ディスク基板１面とコンタクト
ロール３との間に介在されて磁気ディスク基板１面に接
触する目荒し用テープ４とを備え、磁気ディスク基板１
面を目荒しする磁気ディスクのテクスチャ加工装置を前
提とし、上記コンタクトロール３が回転自在に支持され
且つその回転軸方向に沿って延びる支持アーム５と、上
記コンタクトロール３の加圧方向に沿って進退自在に摺
動する摺動体６ａを有し、上記支持アーム５のコンタク
トロール３から離れた第一の連結部位Ｋ1が上記支持ア
ーム５の軸方向及び摺動体６ａの摺動方向に夫々直交す
る方向の回転中心をもって上記摺動体６ａに対して回動
可能に支持される第一の連結支持手段６と、上記コンタ
クトロール３の加圧方向に沿って進退自在に摺動する摺
動体７ａを有し、少なくとも上記支持アーム５の第一の
連結部位Ｋ1よりもコンタクトロール３から離れた第二
の連結部位Ｋ2が上記支持アーム５の軸方向及び摺動体
７ａの摺動方向に夫々直交する方向の回転中心にて上記
摺動体７ａに対して回動可能に支持される第二の連結支
持手段７と、上記コンタクトロール３をテクスチャ加工
位置と退避位置との間で開閉させるロール開閉駆動手段
８と、このロール開閉駆動手段８にて上記コンタクトロ
ール３がテクスチャ加工位置に設定された時点で、上記
第一の連結部位Ｋ1にコンタクトロール３の加圧方向と
平行な加圧力が供給される一方、上記第二の連結部位Ｋ
2にこれと対向する加圧力が供給される加圧駆動手段
９，９’とを備えたことを特徴とする磁気ディスクのテ
クスチャ加工装置におけるコンタクトロール加圧機構で
ある。

【００１０】このような技術的手段において、本願発明
は、磁気ディスク基板１の片面（表面あるいは裏面）あ
るいは両面にテクスチャ加工を施すものを対象とする。
また、ディスク支持手段２としては、磁気ディスク基板
１を所定の姿勢に保持して回転自在に支持するものであ
れば適宜選定して差し支えないが、磁気ディスク基板１
の表面あるいは裏面あるいは両面を最大限に有効利用し
ようとした場合には、磁気ディスク基板１のチャック孔
内縁をチャック保持することが必要である。このとき、
上記磁気ディスク基板１のチャック保持姿勢を正規に保
つという観点からすれば、チャック保持時において、磁
気ディスク基板１の姿勢が規制されるガイドを用いるこ
とが望ましく、特に、磁気ディスク基板１の表面に傷が
形成される事態を確実に回避するという観点からすれ
ば、エアブローガイド等の非接触ガイドを用いることが
望ましい。

【００１１】また、コンタクトロール３は例えば磁気デ
ィスク基板１の両面をテクスチャ加工するのであれば一
対必要であるが、磁気ディスク基板１の片面をテクスチ
ャ加工するのであれば加工面に対向した箇所に一つ設け
るようにすればよい。

【００１２】また、コンタクトロール３の揺動駆動手段
については、目荒し用テープ４の供給、回収機構が搭載
されたテープリールユニット及びコンタクトロール３が
搭載されたコンタクトロールユニットとが一体化された
もの前提を揺動させるようにしてもよいが、オシレーシ
ョン（揺動）周波数を高くするという観点からすれば、
上記テープリールユニットとコンタクトロールユニット
とを分離し、コンタクトロールユニットのみを揺動させ
るようにすることが好ましい。

【００１３】また、目荒し用テープ４としては、それ自
体の材質が目荒しを可能とする程度の表面粗さを持つ例
えば布製テープであってもよいし、テープ素材そのもの
には目荒しを可能とする程度の表面粗さはなく、例えば
スラリ研磨剤を別に供給するようにして目荒しを可能に
するようにしたもの等適宜選定して差し支えない。

【００１４】更に、上記コンタクトロール３の加圧機構
において、支持アーム５の第一の連結部位Ｋ1及び第二
の連結部位Ｋ2の位置関係については、第一の連結部位
Ｋ1及び第二の連結部位Ｋ2に作用する加圧駆動手段９，
９’による加圧力の案分比を考慮し、コンタクトロール
３による磁気ディスク基板１面へのコンタクト圧が最適
なものになるように、コンタクトロール３の押圧力作用
中心点及び第一の連結部位Ｋ1間の距離、第一の連結部
位Ｋ1及び第二の連結部位Ｋ2間の距離を適宜設定するこ
とが必要である。

【００１５】また、ロール開閉駆動手段８及び加圧駆動
手段９，９’については、駆動対象に対して適宜駆動力
を与えるものであれば適宜選定して差し支えないが、制
御のし易さを考慮すればエアシリンダ等のエアアクチュ
エータを用いることが好ましい。

【００１６】更に、コンタクトロール３開閉時におい
て、コンタクトロール３が磁気ディスク基板１面に傾い
た状態で接触したり離反したりすると、コンタクトロー
ル３開閉時の磁気ディスク基板１面への当接ムラに基づ
いてテクスチャ加工ムラが生じ易いという懸念があるた
め、コンタクトロール３開閉時の磁気ディスク基板１面
への当接、離反状態を均一にすることが好ましい。この
ようなコンタクトロール３開閉時の当接ムラを回避する
手段としては、例えば上記第一の連結支持手段６の摺動
体６ａと第二の連結支持手段７の摺動体７ａとの間に
は、コンタクトロール３開閉時に両者が固定され且つテ
クスチャ加工処理時に固定解除されるロック手段１０を
設けるようにすればよい。

【００１７】更に、上記コンタクトロール３のコンタク
ト圧は常時一定であることが好ましいが、コンタクトロ
ール３のコンタクト圧を一定に制御するには、加圧駆動
手段９の加圧レベルをフィードバック制御するようにす
ればよい。このとき、加圧駆動手段９，９’の制御のし
易さという観点からすれば、上記加圧駆動手段９，９’
としてエアアクチュエータを用い、このエア圧制御をそ
の他の動作制御と同時に行うことにより加工中の加工圧
を任意に制御し、更にまた、このエアアクチュエータの
エア圧が検出される圧力検出手段１１，１１’を設け、
この圧力検出手段１１，１１’からの検出圧力と目標圧
力との差分に応じてエアアクチュエータのエア圧が制御
される圧力制御手段１２，１２’を設けるようにするこ
とが好ましい。

【００１８】

【作用】上述したような技術的手段によれば、上記ロー
ル開閉駆動手段８の開閉駆動に応じてコンタクトロール
３を開閉し、磁気ディスク基板１のテクスチャ加工位置
若しくは退避位置にコンタクトロール３を配置する。
今、コンタクトロール３が磁気ディスク基板１のテクス
チャ加工位置に配置された状態において、上記加圧駆動
手段９が支持アーム５の第一の連結部位Ｋ1に所定の加
圧力Ｐを、第二の連結部位Ｋ2に所定の加圧力Ｐ’を供
給すると、第一の連結部位Ｋ1を支点とした「てこの原
理」によって、上記コンタクトロール３の押圧力作用中
心点及び第一の連結部位Ｋ1間の距離と、上記コンタク
トロール３の押圧力作用中心点及び第二の連結部位Ｋ2
間の距離との比に基づいて案分された加圧力ＰCがコン
タクトロール３に供給される。

【００１９】このとき、上記第一の連結部位Ｋ1，第二
の連結部位Ｋ2への加圧力Ｐ，Ｐ’がある程度高いとし
ても、コンタクトロール３の加圧力ＰCとして低コンタ
クト圧が容易に得られる。

【００２０】また、上記支持アーム５は第一の連結部位
Ｋ1及び第二の連結部位Ｋ2で支持アーム５の軸方向に直
交する方向に沿って摺動する摺動体６ａ，７ａに連結さ
れているので、例えば、磁気ディスク基板１の面振れに
応じてコンタクトロール３が傾いた場合には、上記支持
アーム５は第一の連結部位Ｋ1を支点として傾斜する
が、第二の連結部位Ｋ2には支持アーム５の傾斜を補正
する方向へ向かう反力が作用することになる。このた
め、コンタクトロール３は磁気ディスク基板１の面振れ
に追従して移動する。

【００２１】更に、上述したロック手段１０を用いたシ
ステムにあっては、コンタクトロール３開閉時におい
て、上記ロック手段１０が働くと、上記第一の連結支持
手段６の摺動体６ａと第二の連結支持手段７の摺動体７
ａとの間が固定されるので、上記支持アーム５の第一の
連結部位Ｋ1、第二の連結部位Ｋ2の相対位置関係が拘束
されることになり、上記支持アーム５が磁気ディスク基
板１面から傾斜することはなく、コンタクトロール３は
閉時には磁気ディスク基板１面に均等に接触し、また、
開時には磁気ディスク基板１面から同時に離反すること
になる。

【００２２】更にまた、上記加圧駆動手段９，９’がエ
アアクチュエータである場合において、上述した圧力検
出手段１１，１１’及び圧力制御手段１２，１２’から
なる圧力制御系を用いると、圧力検出手段１１，１１’
がエアアクチュエータのエア圧を常時検出し、圧力制御
手段１２，１２’が前記圧力検出手段１１，１１’から
の検出圧力と目標圧力との差分に応じてエアアクチュエ
ータのエア圧を常時監視制御する。

【００２３】

【実施例】以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの
発明を詳細に説明する。図２はこの発明が適用された磁
気ディスクのテクスチャ加工設備の一実施例を示す。同
図において、符号２０は磁気ディスク基板、２１はテク
スチャ加工対象となる多数の磁気ディスク基板２０を収
容する収容ボックス、２２は収容ボックス２１内の磁気
ディスク基板２０をローディングし、ディスク保持テー
ブル２３のディスクセットステージａにて磁気ディスク
基板２０をアンローディングしてディスク保持テーブル
２３に磁気ディスク基板２０をセットするディスクガイ
ドユニットである。

【００２４】この実施例において、上記ディスク保持テ
ーブル２３は９０度角度間隔の４つのインデックス位置
を間欠移動させるものであり、夫々のインデックス位置
には磁気ディスク基板２０の回転支持装置（図示せず）
が設けられている。また、上記ディスク保持テーブル２
３の上記ディスクセットステージａに隣接するインデッ
クス位置は第一テクスチャ加工ステージｂ、第二テクス
チャ加工ステージｄであり、夫々のテクスチャ加工ステ
ージｂ，ｄにはテクスチャ加工装置３０が設置されてい
る。更に、上記ディスクセットステージａから１８０度
変位したインデックス位置は洗浄ステージｃであり、図
示外の洗浄装置が設置されている。

【００２５】この実施例において、磁気ディスク基板２
０の回転支持装置４０を図３に示す。同図において、符
号４１は磁気ディスク基板２０を回転支持するスピンド
ルであり、このスピンドル４１は、例えば図３及び図４
に示すように、先端部近傍の周囲にフランジ状のチャッ
ク４３が形成され且つ軸方向に沿って一部にスリット４
４が形成された円筒状の外側軸部材４２と、この外側軸
部材４２の内側に進退自在に設けられて後退時に上記外
側軸部材４２の先端側にあるチャック４３を外側へ拡開
させる内側軸部材４５とで構成されており、磁気ディス
ク基板２０の中央に開設された円形状のチャック孔２５
内縁に拡開されたチャック４３を係止保持させることに
より、磁気ディスク基板２０を固定するようになってい
る。

【００２６】特に、この実施例では、上記ディスクセッ
トステージａに対応した箇所にのみ、磁気ディスク基板
２０の姿勢を規制する姿勢ガイド５１，６１がディスク
保持テーブル２３の回転とは無関係に前記回転支持装置
４０に対し付設されている。符号５１は磁気ディスク基
板２０の裏面側に設けられる磁気ディスク基板２０の姿
勢規制用のリアガイドである。このリアガイド５１は、
図５に示すように、例えばアルミニウム製の縦断面略逆
Ｕ字形状に形成されたもので、その内側空間部５２をス
ピンドル４１の収容部として機能させ、内側空間部５２
の下側開口５３の幅寸法ｓ1をスピンドル４１の一般部
外径ｓよりも大きく形成したものである。更に、上記磁
気ディスク基板２０の裏面側に対向するリアガイド５１
面はスピンドル４１の軸方向に直交する面として形成さ
れ、当該リアガイド５１面にはゴムライニング５４が施
されている。更にまた、上記リアガイド５１は、逆Ｌ字
状の支持ブラケット５５を介して第一の進退駆動用のＸ
方向（スピンドル４１の径方向に相当）エアシリンダ５
６及び第二の進退駆動用のＹ方向（スピンドル４１の軸
方向に相当）エアシリンダ５７に連結されており、Ｘ方
向エアシリンダ５６及びＹ方向エアシリンダ５７を共に
進出させることにより位置規制セット位置に設定され、
一方、Ｘ方向エアシリンダ５６及びＹ方向エアシリンダ
５７を共に後退させることによりスピンドル４１から離
間した退避位置に設定されるようになっている。

【００２７】また、符号６１は磁気ディスク基板２０の
表面側に設けられて上記リアガイド５１に対向配置され
るフロントガイドである。このフロントガイド６１は、
例えば図６に示すように、ガイド本体６６の表面にエア
供給源６２に連通接続されるエア溜め凹部６３を形成
し、このエア溜め凹部６３を塞ぐようにノズル板６７を
取り付け、このノズル板６７にはエア溜め凹部６３に連
通接続され且つ磁気ディスク基板２０表面のチャック孔
２５周囲にエア６４が均一に吹付けられる多数のノズル
部６５を開設してなるエア吹付けユニットにて構成され
る。更に、上記フロントガイド６１は例えば上記リアガ
イド５１と連結されており、リアガイド５１が位置規制
セット位置に設定された時点で磁気ディスク基板２０の
表面に近接離間した位置規制セット位置に設定され、Ｘ
方向エアシリンダ５６及びＹ方向エアシリンダ５７によ
りリアガイド５１と共にスピンドル４１から離間した退
避位置に設定されるようになっている。

【００２８】次に、この実施例に係るディスクセットス
テージａにおける回転支持装置４０の作動を図７に基づ
いて説明する。今、図２に仮想線で示すように、ディス
クガイドユニット２２がディスク保持テーブル２３のデ
ィスクセットステージａに磁気ディスク基板２０を搬送
し、図７に示すスピンドル４１のチャック４２部分に配
置する。このとき、上記リアガイド５１及びフロントガ
イド６１は、上記Ｘ方向エアシリンダ５６及びＹ方向エ
アシリンダ５７を進出させることにより位置規制セット
位置（図７中実線で示す）に設定される。

【００２９】この後、上記エア供給源６２から所定圧の
エア６４がフロントガイド６１へ供給され、フロントガ
イド６１のノズル部６５を通じて磁気ディスク基板２０
表面のチャック孔２５周囲を均一に押圧する。すると、
上記フロントガイド６１からのエア圧によって上記磁気
ディスク基板２０がリアガイド５１側へ押し付けられ、
磁気ディスク基板２０の裏面側がリアガイド５１のゴム
ライニング５４されたディスク当接面に密接配置され、
磁気ディスク基板２０は正規姿勢（ディスク当接面に沿
った規制面）に規制される。

【００３０】このとき、上記フロントガイド６１は磁気
ディスク基板２０と非接触であり、上記フロントガイド
５１から磁気ディスク基板２０に吹付けられるエア６４
は一定低圧である一方、上記リアガイド５１の磁気ディ
スク基板２０との接触部はゴムライニング５４で被覆さ
れているため、磁気ディスク基板２０のフロントガイド
６１及びリアガイド５１に対向する部位が傷つくことは
ない。

【００３１】この状態において、上記スピンドル４１の
先端のチャック４２が磁気ディスク基板２０のチャック
孔２５内縁を係止保持し、磁気ディスク基板２０は正規
姿勢に保持された状態でスピンドル４１に固定される。
このように磁気ディスク基板２０が上記スピンドル４１
に固定されると、上記Ｘ方向エアシリンダ５６及びＹ方
向エアシリンダ５７がリアガイド５１及びフロントガイ
ド６１を磁気ディスク基板２０から離間した退避位置に
退避させ、しかる後、図２に示すように、ディスク保持
テーブル２３が９０度だけ回転し、加工対象である磁気
ディスク基板２０をテクスチャ加工ステージｂへ搬送す
る。

【００３２】そして、テクスチャ加工ステージｂに搬入
された磁気ディスク基板２０はテクスチャ加工装置３０
にてテクスチャ加工が施される。この実施例におけるテ
クスチャ加工装置３０の詳細を図８に示す。同図におい
て、テクスチャ加工装置３０はテクスチャヘッド１３１
を有し、このテクスチャヘッド１３１は、第一のガイド
レール１３２に沿って加工位置と待機位置との間で進退
移動するテープリールユニット１３３と、このテープリ
ールユニット１３３とは別個独立に分離され、第二のガ
イドレール１３４に沿って加工位置と待機位置との間で
進退移動するコンタクトロールユニット１３５とを備え
ている。

【００３３】この実施例に係るテープリールユニット１
３３は、例えばスラリ研磨剤付きテープ等の目荒し用テ
ープ１３６を繰り出す繰り出しテープリール１３７と、
目荒し用テープ１３６を巻き取る巻き取りテープリール
１３８とをユニットベース１３９上に二組設置したもの
である。尚、この実施例においては、加工条件に応じ
て、繰り出しテープリール１３７及び巻き取りテープリ
ール１３８の位置関係、回転方向を逆にすることにより
目荒し用テープ１３６の送り方向を逆転させることも可
能である。

【００３４】一方、この実施例に係るコンタクトロール
ユニット１３５は、ディスク保持テーブル２３に保持さ
れた磁気ディスク基板２０の表面及び裏面を押圧する一
対のコンタクトロール１４１，１４２をユニットベース
１４０に設ける他、夫々のコンタクトロール１４１，１
４２に対して目荒し用テープ（以後この実施例中ではテ
ープと称する）１３６が適宜掛け回されるテープ案内機
構１４３、更には、テクスチャ加工動作時においてテー
プ１３６がテープリールユニット１３３と一時的に分離
されるテープ一時分離機構１４４を備えている。

【００３５】より具体的に述べると、上記テープ一時分
離機構１４４は、図８及び図１１に示すように、繰り出
しテープリール１３７から繰り出されたテープ１３６が
巻き付け保持されるテープ繰り出しロール１５１と、巻
き取りテープリール１３８手前に配置されて図１１中点
線のように動作しテープ１３６の一端が拘束保持される
テープクランプ１５２と、このテープクランプ１５２に
よるテープ１３６のクランプ動作時においてテープ繰り
出しロール１５１によるテープ１３６の繰り出し動作が
実行されている時点で図１１中点線のように動作し目荒
し用テープ１３６に一定の張力が与えられるテンション
ロール１５３とを備えている。

【００３６】更に、テープ案内機構１４３は、繰り出し
テープリール１３７から繰り出されたテープ１３６をテ
ープ繰り出しロール１５１に巻き付けるための一対の案
内ロール１５４，１５５と、テープ繰り出しロール１５
１からのテープ１３６をコンタクトロール１４１あるい
は１４２に掛け渡した後にテンションロール１５３へ導
くための案内ロール１５６とで構成されている。

【００３７】また、この実施例に係るコンタクトロール
ユニット１３５はオシレーション機構１６０にて磁気デ
ィスク基板２０の径方向に沿って揺動するようになって
いる。この実施例では、上記オシレーション機構１６０
としては、図８〜図１０に示すように、例えばテープリ
ールユニット１３３に図示外のブラケットで固定される
駆動モータ１６１と、この駆動モータ１６１のシャフト
に固着される円板状カム１６２と、この円板状カム１６
２のモータシャフトから偏心した位置に突設される係合
ピン１６３と、上記コンタクトロールユニット１３５の
ユニットベース１４０の背面側に固着される係合ブロッ
ク１６４と、この係合ブロック１６４に対し磁気ディス
ク基板２０の径方向に直交する方向に沿って開設され且
つ上記係合ピン１６３が摺動自在に係合するスリット溝
１６５とを備え、駆動モータ１６１の回転運動を係合ブ
ロック１６５の直線方向（磁気ディスク基板２０の径方
向に沿う方向）運動に変換するようにしたものが用いら
れる。

【００３８】次に、この実施例に係るテクスチャ加工装
置の作動について説明する。今、テクスチャ加工ステー
ジｂ，ｄにおいて、テクスチャ加工装置３０は加工位置
まで進出した後に、オシレーション機構１６０にてコン
タクトロールユニット１３５を磁気ディスク基板２０の
径方向に沿って揺動させ、コンタクトロール１４１，１
４２に掛け渡されたテープ１３６にて磁気ディスク基板
２０の表面及び裏面を目荒らしする。

【００３９】このとき、上記磁気ディスク基板２０のス
ピンドル４１に対する保持姿勢は上記姿勢ガイド（リア
ガイド５１，フロントガイド６１）にて正規姿勢に設定
されるため、磁気ディスク基板２０の面振れは１０μｍ
以下に抑えられ、図９の従来方式が１００μｍ以下程度
であったのに比べて大幅に改善されていることが理解さ
れる。このため、上記テクスチャ加工精度もより向上
し、磁気ディスク基板２０の表面及び裏面の目荒しの程
度がより均一なものに保たれる。

【００４０】また、この実施例において、上記リアガイ
ド５１はスピンドル４１と分離した状態で退避されてい
るので、テクスチャ加工処理時にスラリ等が飛散したと
しても、リアガイド５１のゴムライニング５４されたデ
ィスク当接面に付着する事態は有効に回避される。この
ため、ディスクセットステージａにてリアガイド５１の
ゴムライニングされたディスク当接面がスラリ等で汚
れ、磁気ディスク基板２０の姿勢規制精度が損なわれる
懸念は極めて少ない。

【００４１】更に、この実施例においては、上記リアガ
イド５１はスピンドル４１と分離した状態で支持ブラケ
ット５５に取付られるので、例えばスピンドル４１が挿
入されたままの円筒状リアガイドに比べて、リアガイド
５１の取付姿勢の調整が容易になる。また、異なるサイ
ズの磁気ディスク基板２０をテクスチャ加工するような
場合、すなわち、ジョブチェンジする場合には、部品の
交換作業だけで済むため、従来方式がリアガイド、フロ
ントガイド間の間隔の調整や押圧力を調整したりしなけ
ればならないのに比べて、ジョブチェンジが容易であ
る。

【００４２】また、上記コンタクトロールユニット１３
５は約１５〜２０Ｋｇの重量であり、オシレーション周
波数ｆ＝２０Ｈｚでオシレーションを行うことができ、
良好なテクスチャパターンを得ることができた。これに
対し、テープリールユニット１３３及びコンタクトロー
ルユニット１６５が一体化してなる比較例を用いて同様
なテクスチャ加工を行ったところ、比較例に係るテクス
チャヘッドは約３０〜４０Ｋｇの重量であり、オシレー
ション周波数ｆ＝５Ｈｚ程度でしかオシレーションを実
現できないことが確認された。

【００４３】また、この実施例にあっては、テープ一時
分離機構１４４は、図１１に示すように、テープクラン
プ１５２にてテープ１３６の一端を拘束保持し、この状
態で、テープ繰り出しロール１５１にてテープ１３６を
繰り出すと共に、テンションロール１５３にてテープ１
３６の張力を一定に保つようにしているので、コンタク
トロールユニット１３５のみが揺動したとしても、コン
タクトロール１４１，１４２と磁気ディスク基板２０と
の間にテープ１３６は安定的に供給されることになり、
その分、テープ１３６の供給性が不安定になってテクス
チャ加工品質が損なわれる懸念はない。

【００４４】尚、この実施例において、オシレーション
機構１６０としては例えばモータとカム機構やリンク機
構を用いたものが使用されているが、リニアモータ機構
等を用いるようにしてもよい。このとき、オシレーショ
ン機構１６０としてリニアモータ機構を用いるようにす
れば、揺動幅やオシレーション周波数等をオシレーショ
ン条件として操作パネル上で入力することにより、多様
なオシレーション条件に容易に対応することが可能であ
る。

【００４５】また、この実施例に係るコンタクトロール
１４１，１４２の加圧機構１７０の詳細を図１２に示
す。同図において、各コンタクトロール１４１，１４２
には夫々コンタクトロール１４１，１４２の回転軸方向
に沿って延びる支持アーム１７１が設けられ、夫々の支
持アーム１７１はコンタクトロール１４１，１４２の加
圧方向に沿う摺動レール１７２，１７３に摺動自在に係
合するスライダ１７４，１７５にピン１７６，１７７支
持されており、コンタクトロール１４１，１４２から離
れた側の一方のピン１７７支持点は支持アーム１７１の
軸方向に沿った長孔１７８に遊嵌している。

【００４６】そして、上記コンタクトロール１４１，１
４２に接近した側のピン１７６支持点の摺動方向に沿っ
たスライダ１７４部位には加圧用エアシリンダ１８１，
１８２による加圧力が作用するようになっており、ま
た、コンタクトロール１４１，１４２から離間した側の
ピン１７７支持点の摺動方向に沿ったスライダ１７５部
位には加圧用シリンダ１８３，１８４による加圧力が作
用するようになっている。

【００４７】また、上記一対のスライダ１７４間には、
磁気ディスク基板２０に対してコンタクトロール１４
１，１４２を開閉する開閉用エアシリンダ１８５が図示
外の固定部に設けられている。この実施例において、上
記開閉用エアシリンダ１８５はシリンダ本体１８６に対
して進退するピストンロッド１８７の先端部に断面二等
辺三角形状のカム面が形成されたカム部材１８８を設け
たもので、上記スライダ１７４の一部にはカム部材１８
８のカム面に当接する回転自在なベアリング状のカムフ
ォロア１８９が設けられ、開閉用エアシリンダ１８５は
そのピストンロッド１８７を進出させることにより、カ
ム部材１８８のカム面とスライダ１７４のカムフォロア
１８９とを係合させ、スライダ１７４を外側へ押し広げ
てコンタクトロール１４１，１４２を開放する。

【００４８】更に、上記各スライダ１７５には、コンタ
クトロール１４１，１４２開閉時に前後のスライダ１７
４，１７５を固定（ロック）するロック用エアシリンダ
１９１，１９２が設けられる。この実施例において、上
記ロック用エアシリンダ１９１，１９２はシリンダ本体
１９３に対して進退するピストンロッド１９４の先端に
ロックピン１９５を設ける一方、上記スライダ１７４に
はピストンロッド１９４進出時上記ロックピン１９５が
係止される係止溝１９６を形成したものである。尚、テ
クスチャ加工処理時には上記ロック用エアシリンダ１９
１，１９２はアンロック状態に設定される。

【００４９】次に、テクスチャ加工装置の作動をコンタ
クトロール加圧機構１７０を中心に説明する。図１３は
テクスチャ加工装置の全体処理過程を示すフローチャー
トである。同図において、先ず、「ヘッド前進出力」に
てテクスチャヘッド１３１が前進し、テクスチャヘッド
１３１がテクスチャ加工位置に到達した時点で停止する
（ＳＴ（ステップの略）１，２）。この段階において、
加圧用エアシリンダ１８１，１８２は弱い初期加圧力Ｐ
01で支持アーム１７１を内側へ向けて押圧しており、ま
た、加圧用湯亜シリンダ１８３，１８４は弱い初期加圧
力Ｐ02で支持アーム１７１を外側へ向けて押圧してお
り、「アーム閉出力」にて開閉用エアシリンダ１８５が
カム部材１８８を後退させると、支持アーム１７１が閉
動作を開始し、その閉端で停止する（ＳＴ３，４）。こ
のとき、上記ロック用エアシリンダ１９１，１９２はロ
ックピン１９５が係止溝１９６に係合したロック状態に
あるから、図１４（ｂ）に示すように、支持アーム１７
１のピン１７６，１７７の相互関係が拘束されることに
なり、支持アーム１７１は磁気ディスク基板２０面と平
行に閉じていき、コンタクトロール１４１，１４２は磁
気ディスク基板２０面を均一に押圧する。

【００５０】この後、「ピンＯＦＦ出力」にてロックピ
ン１９５がピンＯＦＦ端まで後退し、ロック用エアシリ
ンダ１９１，１９２がアンロック状態になる（ＳＴ５，
６）。そして、「コンタクト圧ＵＰ」にて上記加圧用エ
アシリンダ１８１，１８２の加圧力Ｐ１及び加圧用エア
シリンダ１８３，１８４の加圧力Ｐ2が上昇し、所定の
コンタクト圧の条件が得られた段階でポリッシングタイ
マがスタートし、タイムアップされるまでポリッシング
（テクスチャ加工）が行われる（ＳＴ７〜ＳＴ９）。

【００５１】この場合の加圧機構１７０の状態を図１４
（ｃ）に示す。同図において、上記加圧用エアシリンダ
１８１，１８２の加圧力Ｐ1及び加圧用エアシリンダ１
８３，１８４の加圧力Ｐ2は支持アーム１７１のピン１
７６を支点として「てこの原理」によりコンタクトロー
ル１４１，１４２に対し上記加圧力Ｐ1，Ｐ2の差圧Ｐ3
（Ｐ1−Ｐ2）が作用する。また、上記支持アーム１７１
はピン１７６及びピン１７７で支持アーム１７１の軸方
向に直交する方向に沿って摺動するスライダ１７４，１
７５に連結されているので、例えば、磁気ディスク基板
２０の面振れに応じてコンタクトロール１４１，１４２
が傾いた場合には、上記支持アーム１７１はピン１７６
を支点として傾斜するが、ピン１７７には支持アーム１
７１の傾斜を補正する方向へ向かう反力が作用すること
になる。このため、コンタクトロール１４１，１４２は
磁気ディスク基板２０の面振れに追従して移動する。

【００５２】この後、「コンタクト圧ＤＯＷＮ」にて上
記加圧用エアシリンダ１８１，１８２及び加圧用エアシ
リンダ１８３，１８４の加圧力Ｐ1,Ｐ2が下降し、上記
加圧用エアシリンダ１８１，１８２，１８３，１８４が
初期加圧力Ｐ01，Ｐ02に切換られ（ＳＴ１０）、この状
態で、「ピンＯＮ出力」にてロックピン１９５がピンＯ
Ｎ端まで進出し、ロック用エアシリンダ１９１，１９２
がロック状態になり（ＳＴ１１，１２）、この後、「ア
ーム開出力」にて開閉用エアシリンダ１８５がカム部材
１８８を進出させると、支持アーム１７１が開動作を開
始し、その開端で停止する（ＳＴ１３，１４）。このと
き、上記支持アーム１７１は上記ロック用エアシリンダ
１９１，１９２はロック状態にあるから、図１４（ａ）
に示すように、支持アーム１７１のピン１７６，１７７
の相互関係が拘束されることになり、支持アーム１７１
は磁気ディスク基板２０面と平行に開いていき、コンタ
クトロール１４１，１４２は磁気ディスク基板２０面に
対して傾くことなく同時に離反する。

【００５３】この後、「ヘッド後退出力」にてテクスチ
ャヘッド１３１が後退し、テクスチャヘッド１３１が退
避位置に到達した時点で停止する（ＳＴ１５，１６）。
そして、「インデックス出力」にてディスク保持テーブ
ル２３が図２に示すように９０度だけ回転し、インデッ
クス作業を完了する（ＳＴ１７，１８）。

【００５４】更に、この実施例で用いられるコンタクト
ロール加圧機構１７０の制御装置を図１５に示す。同図
において、加圧用エアシリンダ１８１，１８２，１８
３，１８４の圧力作用部には夫々圧力検出用のロードセ
ル２０１〜２０４が設けられ、このロードセル２０１〜
２０４からの圧力信号がコントロールユニット２００に
取り込まれている。一方、各エアシリンダ１８１〜１８
４はエアサーボバルブ２１１〜２１４にて駆動されるよ
うになっており、上記コントロールユニット２００はロ
ードセル２０１〜２０４からの圧力信号を常時監視し、
検出された圧力信号と目標信号（目標圧力に対応）との
差分に応じた制御信号を夫々のエアサーボアンプ２２１
〜２２４に供給し、各エアシリンダ１８１〜１８４から
のエア加圧力が夫々の規定値になるよう各エアサーボバ
ルブ２１１〜２１４の開度が調整されるようになってい
る。

【００５５】尚、図１５中、２３１はコンタクトロール
１４１，１４２の開閉用エアシリンダを制御するソレノ
イドバルブ、２３２，２３３はロック用エアシリンダ１
９１，１９２を制御するためのソレノイドバルブであ
る。

【００５６】

【発明の効果】以上説明してきたように、この発明によ
れば、コンタクトロールの回転軸方向に沿って延びる支
持アームを設けると共に、この支持アームに一対の支持
点をコンタクトロールの加圧方向に対して摺動自在に設
け、開閉用駆動手段にてコンタクトロールを閉駆動した
時点で、上記支持アームの離れた２つの支持点に対し加
圧駆動手段にて加圧力を供給するようにしたので、以下
のような基本的効果を奏する。

【００５７】すなわち、てこの原理により、支持アーム
へ作用する加圧力よりも低い加圧力をコンタクトロール
へ作用させることが可能になり、加圧駆動手段における
必要制御圧を高くできる分、圧力制御を容易に行いなが
ら、コンタクトロールの低コンタクト圧を容易に実現す
ることができる。

【００５８】また、磁気ディスク基板の面振れに応じて
上記コンタクトロールが傾動した場合には、支持アーム
はコンタクトロール寄りの支持点を中心として容易に傾
動するが、他の支持点には上記支持アームの傾動を補正
するような反力が作用することになるため、コンタクト
ロールを磁気ディスク基板の面振れに追従して確実に移
動させることができ、その分、テクスチャ加工精度を良
好に保つことができる。

【００５９】更に、サイズの小さな磁気ディスクであっ
ても加工対象とすることができ、しかも、コンタクトロ
ールと磁気ディスク基板との間の摩擦力に基づくコンタ
クトロールの傾動を回避することができるので、汎用性
を高めながら、コンタクトロールと磁気ディスク基板と
の間の摩擦力に基づくテクスチャ加工精度の低下を回避
することができる。

【００６０】また、コンタクトロール開閉時において、
支持アームの一対の支持点が支持される摺動体相互をロ
ック手段で拘束するようにすれば、コンタクトロール開
閉時に支持アームの傾動を規制することが可能になり、
コンタクトロールが傾動した状態で磁気ディスク基板面
に当接したり、あるいは、離反する事態を有効に回避す
ることができる。よって、磁気ディスク基板面に対する
コンタクトロールの当接ムラに基づくテクスチャパター
ンムラを確実に回避することができる。

【００６１】更に、加圧駆動手段としてエアアクチュエ
ータを用い、圧力検出手段にてエアアクチュエータのエ
ア圧を常時検出し、圧力制御手段にて前記圧力検出手段
からの検出圧力と目標圧力との差分に応じてエアアクチ
ュエータのエア圧を常時監視制御するようにすれば、、
各エアアクチュエータの動作状態を正確に把握でき、コ
ンタクトロールの加圧力を簡単且つ確実に制御すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明に係る磁気ディスクのテクスチャ加
工装置におけるコンタクトロール加圧機構及びその制御
装置の構成を示す説明図である。

【図２】 この発明が適用された磁気ディスクのテクス
チャ加工設備の一実施例を示す説明図である。

【図３】 実施例に係る磁気ディスク基板の回転支持装
置の一実施例を示す説明図である。

【図４】 実施例に係るスピンドルのチャック部構造の
一例を示す説明図である。

【図５】 実施例に係るリアガイドの図３中Ｖ−Ｖ線断
面図である。

【図６】 （ａ）は実施例に係るフロントガイドの内部
構造、（ｂ）はそのノズル部を正面から見た説明図であ
る。

【図７】 実施例に係る磁気ディスク基板の回転支持装
置の作動状態を示す説明図である。

【図８】 実施例に係るテクスチャ加工装置の詳細を示
す斜視図である。

【図９】 その側面概略図である。

【図１０】 図９中Ｘ方向から見た矢視図である。

【図１１】 実施例に係るテクスチャ加工装置の一時分
離機構例を示す説明図である。

【図１２】 実施例に係るコンタクトロールの加圧機構
の具体例を示す説明図である。

【図１３】 実施例に係るコンタクトロールの加圧機構
の動作状態を示すフローチャートである。

【図１４】 （ａ）はコンタクトロール開時の加圧機構
の状態を示す説明図、（ｂ）はコンタクトロール閉時の
加圧機構の状態を示す説明図、（ｃ）はテクスチャ加工
処理時のコンタクトロール加圧機構の状態を示す説明図
である。

【図１５】 実施例に係るコンタクトロール加圧機構の
制御装置の具体例を示す説明図である。

【図１６】 従来の磁気ディスクのテクスチャ加工方式
の概要を示す説明図である。

【図１７】 図１６中ＸＶＩＩ方向から見た矢視図であ
る。

【図１８】 従来における磁気ディスクのテクスチャ加
工装置のコンタクトロール加圧機構の一例を示す説明図
である。

【符号の説明】

１…磁気ディスク基板，２…ディスク支持手段，３…コ
ンタクトロール，４…目荒し用テープ，５…支持アー
ム，６…第一の連結支持手段，６ａ…摺動体，７…第二
の連結支持手段，７ａ…摺動体，８…ロール開閉駆動手
段，９，９’…加圧駆動手段，１０…ロック手段，１
１，１１’…圧力検出手段，１２，１２’…圧力制御手
段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅野 幸弘 山形県米沢市中央４−１−21 コ−ピアス 米沢201 (72)発明者 千田 昌平 山形県米沢市中央４−１−21 コーピアス 米沢511

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気ディスク基板（１）を回転支承する
   ディスク支持手段（２）と、磁気ディスク基板（１）面
   を押圧し且つ磁気ディスク基板（１）の径方向に沿って
   揺動するコンタクトロール（３）と、磁気ディスク基板
   （１）面とコンタクトロール（３）との間に介在されて
   磁気ディスク基板（１）面に接触する目荒し用テープ
   （４）とを備え、磁気ディスク基板（１）面を目荒しす
   る磁気ディスクのテクスチャ加工装置において、上記コ
   ンタクトロール（３）が回転自在に支持され且つその回
   転軸方向に沿って延びる支持アーム（５）と、上記コン
   タクトロール（３）の加圧方向に沿って進退自在に摺動
   する摺動体（６ａ）を有し、上記支持アーム（５）のコ
   ンタクトロール（３）から離れた第一の連結部位（Ｋ
   1）が上記支持アーム（５）の軸方向及び摺動体（６
   ａ）の摺動方向に夫々直交する方向の回転中心をもって
   上記摺動体（６ａ）に対して回動可能に支持される第一
   の連結支持手段（６）と、上記コンタクトロール（３）
   の加圧方向に沿って進退自在に摺動する摺動体（７ａ）
   を有し、少なくとも上記支持アーム（５）の第一の連結
   部位（Ｋ1）よりもコンタクトロール（３）から離れた
   第二の連結部位（Ｋ2）が上記支持アーム（５）の軸方
   向及び摺動体（７ａ）の摺動方向に夫々直交する方向の
   回転中心にて上記摺動体（７ａ）に対して回動可能に支
   持される第二の連結支持手段（７）と、上記コンタクト
   ロール（３）をテクスチャ加工位置と退避位置との間で
   開閉させるロール開閉駆動手段（８）と、このロール開
   閉駆動手段（８）にて上記コンタクトロール（３）がテ
   クスチャ加工位置に設定された時点で、上記第一の連結
   部位（Ｋ1）にコンタクトロール（３）の加圧方向と平
   行な加圧力が供給される一方、第二の連結部位（Ｋ2）
   にはこれと対向する加圧力が供給される加圧駆動手段
   （９，９’）とを備えたことを特徴とする磁気ディスク
   のテクスチャ加工装置におけるコンタクトロール加圧機
   構。
2. 【請求項２】 請求項１記載のものにおいて、上記第一
   の連結支持手段（６）の摺動体（６ａ）と第二の連結支
   持手段（７）の摺動体（７ａ）との間には、コンタクト
   ロール（３）開閉時に両者が固定され且つテクスチャ加
   工処理時に固定解除されるロック手段（１０）を設けた
   ことを特徴とする磁気ディスクのテクスチャ加工装置に
   おけるコンタクトロール加圧機構。
3. 【請求項３】 請求項１記載のものにおいて、上記加圧
   駆動手段（９，９’）がエアアクチュエータであり、こ
   のエアアクチュエータのエア圧が検出される圧力検出手
   段（１１）を設け、この圧力検出手段（１１）からの検
   出圧力と目標圧力との差分に応じてエアアクチュエータ
   のエア圧が制御される圧力制御手段（１２）を設けたこ
   とを特徴とする磁気ディスクのテクスチャ加工装置にお
   けるコンタクトロール加圧機構制御装置。