JPH087249A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH087249A JPH087249A JP16599794A JP16599794A JPH087249A JP H087249 A JPH087249 A JP H087249A JP 16599794 A JP16599794 A JP 16599794A JP 16599794 A JP16599794 A JP 16599794A JP H087249 A JPH087249 A JP H087249A
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- metal thin
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- layer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基体フィルム上に少なくとも1層の強磁性金
属薄膜層を設け、この強磁性金属薄膜層の表面に、深さ
がこの強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRaの5.5倍
以上で、深さ中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所
を、強磁性金属薄膜層表面1mm2 あたりの個数で20
00個より多く設けて、記録再生時における走行性を滑
らかにし、耐久性が良好で、ジッタの発生が効果的に抑
制された磁気記録媒体を得る。 【構成】 基体フィルム上に少なくとも1層の強磁性金
属薄膜層を設け、この強磁性金属薄膜層の表面に、深さ
がこの強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRaの5.5倍
以上で、深さ中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所
を、強磁性金属薄膜層表面1mm2 あたりの個数で20
00個より多く設けた磁気記録媒体
属薄膜層を設け、この強磁性金属薄膜層の表面に、深さ
がこの強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRaの5.5倍
以上で、深さ中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所
を、強磁性金属薄膜層表面1mm2 あたりの個数で20
00個より多く設けて、記録再生時における走行性を滑
らかにし、耐久性が良好で、ジッタの発生が効果的に抑
制された磁気記録媒体を得る。 【構成】 基体フィルム上に少なくとも1層の強磁性金
属薄膜層を設け、この強磁性金属薄膜層の表面に、深さ
がこの強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRaの5.5倍
以上で、深さ中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所
を、強磁性金属薄膜層表面1mm2 あたりの個数で20
00個より多く設けた磁気記録媒体
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は強磁性材からなる強磁
性金属薄膜層を磁気記録層とした磁気記録媒体に関し、
さらに詳しくは、磁気ヘッドやガイド部材と摺接しても
滑らかに走行して耐久性に優れ、ジッタの発生が効果的
に抑制された前記の磁気記録媒体に関する。
性金属薄膜層を磁気記録層とした磁気記録媒体に関し、
さらに詳しくは、磁気ヘッドやガイド部材と摺接しても
滑らかに走行して耐久性に優れ、ジッタの発生が効果的
に抑制された前記の磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁
気記録媒体は、通常、強磁性金属またはそれらの合金な
どの強磁性材を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプ
レ−ティングなどの方法により基体フィルム上に被着し
てつくられ、高密度記録に適した特性を有している。し
かしながら、反面磁気ヘッドやガイドポ−ル等の走行部
材と繰り返し摺接すると、強磁性金属薄膜層が摩耗や損
傷を受けやすく、耐久性に劣る。
気記録媒体は、通常、強磁性金属またはそれらの合金な
どの強磁性材を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプ
レ−ティングなどの方法により基体フィルム上に被着し
てつくられ、高密度記録に適した特性を有している。し
かしながら、反面磁気ヘッドやガイドポ−ル等の走行部
材と繰り返し摺接すると、強磁性金属薄膜層が摩耗や損
傷を受けやすく、耐久性に劣る。
【0003】このため、従来から、強磁性金属薄膜層上
に各種の潤滑剤を被着するなどして、強磁性金属薄膜層
の摩耗や損傷を抑制し、耐久性を改善することが行われ
ている。(特開昭60−10368号)
に各種の潤滑剤を被着するなどして、強磁性金属薄膜層
の摩耗や損傷を抑制し、耐久性を改善することが行われ
ている。(特開昭60−10368号)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、充分な耐久
性を得るため、強磁性金属薄膜層上に充分な量の潤滑剤
を被着させると、この潤滑剤によって強磁性金属薄膜層
と走行部材との間に吸着力が生じ、磁気記録媒体の走行
中に不安定なスティックスリップ運動が発生してしまう
という難点があり、このため、たとえば、ビデオテ−プ
レコ−ダ−ではジッタ(画像再生同期信号の変動)が増
加して、再生画像が波打ったり、縞状に歪んだり、小刻
みに揺れるなどの障害が発生する。
性を得るため、強磁性金属薄膜層上に充分な量の潤滑剤
を被着させると、この潤滑剤によって強磁性金属薄膜層
と走行部材との間に吸着力が生じ、磁気記録媒体の走行
中に不安定なスティックスリップ運動が発生してしまう
という難点があり、このため、たとえば、ビデオテ−プ
レコ−ダ−ではジッタ(画像再生同期信号の変動)が増
加して、再生画像が波打ったり、縞状に歪んだり、小刻
みに揺れるなどの障害が発生する。
【0005】この発明は、かかる問題を克服するため種
々検討を行った結果なされたもので、強磁性金属薄膜層
の性状の改善によって、磁気ヘッドやガイド部材と摺接
しても滑らかに走行し、ジッタの発生が効果的に抑制さ
れるようにしたものである。
々検討を行った結果なされたもので、強磁性金属薄膜層
の性状の改善によって、磁気ヘッドやガイド部材と摺接
しても滑らかに走行し、ジッタの発生が効果的に抑制さ
れるようにしたものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明は、基体フィル
ム上に少なくとも1層の強磁性金属薄膜層を設け、この
強磁性金属薄膜層の表面に、深さがこの強磁性金属薄膜
層の3次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、深さ中央部の
断面積が 0.8μm2 以上の凹所を、強磁性金属薄膜層表
面1mm2 あたりの個数で2000個より多く設けてお
り、また、この凹所を設けた強磁性金属薄膜層上に潤滑
剤を存在させている。
ム上に少なくとも1層の強磁性金属薄膜層を設け、この
強磁性金属薄膜層の表面に、深さがこの強磁性金属薄膜
層の3次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、深さ中央部の
断面積が 0.8μm2 以上の凹所を、強磁性金属薄膜層表
面1mm2 あたりの個数で2000個より多く設けてお
り、また、この凹所を設けた強磁性金属薄膜層上に潤滑
剤を存在させている。
【0007】
【作用】この発明の磁気記録媒体は、以上のように構成
されているため、磁性金属薄膜層上に潤滑剤を被着させ
ても、潤滑剤が凹所中に取り込まれて強磁性金属薄膜層
表面に適度に滲出し、磁気ヘッドやガイド部材と摺接す
ると滑らかに走行して、ジッタの発生が効果的に抑制さ
れる。
されているため、磁性金属薄膜層上に潤滑剤を被着させ
ても、潤滑剤が凹所中に取り込まれて強磁性金属薄膜層
表面に適度に滲出し、磁気ヘッドやガイド部材と摺接す
ると滑らかに走行して、ジッタの発生が効果的に抑制さ
れる。
【0008】以下、この発明の磁気記録媒体の強磁性金
属薄膜層を模式図で示した図1を参照しながら説明す
る。図1において、1は3次元形状の強磁性金属薄膜層
表面を図示したものであり、2はこの強磁性金属薄膜層
表面1の平均面であって、3は強磁性金属薄膜層表面1
に設けられた凹所である。
属薄膜層を模式図で示した図1を参照しながら説明す
る。図1において、1は3次元形状の強磁性金属薄膜層
表面を図示したものであり、2はこの強磁性金属薄膜層
表面1の平均面であって、3は強磁性金属薄膜層表面1
に設けられた凹所である。
【0009】この発明において、強磁性金属薄膜層表面
1の凹所3は、深さHをこの強磁性金属薄膜層表面1の
3次元表面粗さRaの 5.5倍以上とし、深さ中央部の平
均面2に並行な断面の断面積Sを 0.8μm2 以上にし
て、強磁性金属薄膜層表面1の面積1mm2 あたりの個
数で2000個より多く設けるのが好ましく、このよう
な凹所3が強磁性金属薄膜層表面1に形成されると、強
磁性金属薄膜層表面1上に潤滑剤を被着させたとき、こ
の凹所3が潤滑剤の溜りとなる。
1の凹所3は、深さHをこの強磁性金属薄膜層表面1の
3次元表面粗さRaの 5.5倍以上とし、深さ中央部の平
均面2に並行な断面の断面積Sを 0.8μm2 以上にし
て、強磁性金属薄膜層表面1の面積1mm2 あたりの個
数で2000個より多く設けるのが好ましく、このよう
な凹所3が強磁性金属薄膜層表面1に形成されると、強
磁性金属薄膜層表面1上に潤滑剤を被着させたとき、こ
の凹所3が潤滑剤の溜りとなる。
【0010】従って、この凹所3から走行部材との摺接
部分に適量の潤滑剤が継続的に補給されるようにコント
ロ−ルすることができ、強磁性金属薄膜層の耐久性が向
上されるとともに、ジッタの発生が抑制される。
部分に適量の潤滑剤が継続的に補給されるようにコント
ロ−ルすることができ、強磁性金属薄膜層の耐久性が向
上されるとともに、ジッタの発生が抑制される。
【0011】これに対し、凹所3の深さHが、強磁性金
属薄膜層表面1の3次元表面粗さRaの 5.5倍未満であ
ったり、凹所3の中央部の平均面2に並行な断面の断面
積Sが 0.8μm2 より小さかったりすると、潤滑剤のコ
ントロ−ルが充分に行えず、所期の効果が得られない。
属薄膜層表面1の3次元表面粗さRaの 5.5倍未満であ
ったり、凹所3の中央部の平均面2に並行な断面の断面
積Sが 0.8μm2 より小さかったりすると、潤滑剤のコ
ントロ−ルが充分に行えず、所期の効果が得られない。
【0012】さらに、このような凹所3は、強磁性金属
薄膜層表面1の面積1mm2 あたり2000個を超える
ように設けるのが好ましく、凹所の数が2000個以下
では、凹所3中に含まれる全潤滑剤量が少なすぎて、潤
滑剤のコントロ−ルが充分に行えず、所期の効果が得ら
れない。
薄膜層表面1の面積1mm2 あたり2000個を超える
ように設けるのが好ましく、凹所の数が2000個以下
では、凹所3中に含まれる全潤滑剤量が少なすぎて、潤
滑剤のコントロ−ルが充分に行えず、所期の効果が得ら
れない。
【0013】しかしながら、このような凹所3をあまり
多く設けすぎ、強磁性金属薄膜層表面1の面積1mm2
あたり20000個を超えるようにすると、記録再生信
号のノイズが増加したり、強磁性金属薄膜層にひび割れ
が生じ易くなるため、強磁性金属薄膜層表面1の面積1
mm2 あたり20000個以下となるようにするのが好
ましい。
多く設けすぎ、強磁性金属薄膜層表面1の面積1mm2
あたり20000個を超えるようにすると、記録再生信
号のノイズが増加したり、強磁性金属薄膜層にひび割れ
が生じ易くなるため、強磁性金属薄膜層表面1の面積1
mm2 あたり20000個以下となるようにするのが好
ましい。
【0014】このような凹所3の形成は、たとえば、所
定の凹凸面を塗布層でもって形成した転写フィルムを用
いて、強磁性金属薄膜層の表面にエンボス加工を施すな
どの方法で形成され、このエンボス加工は、図2に示す
ように、転写フィルム4の凹凸面と磁気記録媒体5の強
磁性金属薄膜層表面とが互いに接するように重ねて巻き
取り、巻き取った状態で所定時間加熱処理して行われ
る。
定の凹凸面を塗布層でもって形成した転写フィルムを用
いて、強磁性金属薄膜層の表面にエンボス加工を施すな
どの方法で形成され、このエンボス加工は、図2に示す
ように、転写フィルム4の凹凸面と磁気記録媒体5の強
磁性金属薄膜層表面とが互いに接するように重ねて巻き
取り、巻き取った状態で所定時間加熱処理して行われ
る。
【0015】このような凹所3によれば、磁気記録媒体
の強磁性金属薄膜層表面1の平滑性を損なうことなく、
磁気ヘッドやガイド部材と摺接しても滑らかに走行する
ようにして耐久性を充分に改善することができるため、
特に、3次元表面粗さRaが3nm以下の平滑な強磁性
金属薄膜層を有する高密度記録用磁気記録媒体に有効で
ある。
の強磁性金属薄膜層表面1の平滑性を損なうことなく、
磁気ヘッドやガイド部材と摺接しても滑らかに走行する
ようにして耐久性を充分に改善することができるため、
特に、3次元表面粗さRaが3nm以下の平滑な強磁性
金属薄膜層を有する高密度記録用磁気記録媒体に有効で
ある。
【0016】このような強磁性金属薄膜層は、強磁性材
を、真空蒸着、イオンプレ−ティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体フィルム上に被着する
などの方法で形成される。
を、真空蒸着、イオンプレ−ティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体フィルム上に被着する
などの方法で形成される。
【0017】真空蒸着等によって強磁性金属薄膜層を形
成する場合、使用される磁性材料としては、Co、N
i、Fe、Co−Ni、Co−Cr、Co−P、Co−
Ni−P、Fe−Ni、Fe−Coなど、一般に、強磁
性金属薄膜層を形成するとき使用される強磁性材がいず
れも使用され、これらの強磁性材で形成される強磁性金
属薄膜層は、厚さを0.03〜1μmの範囲内にするのが好
ましい。
成する場合、使用される磁性材料としては、Co、N
i、Fe、Co−Ni、Co−Cr、Co−P、Co−
Ni−P、Fe−Ni、Fe−Coなど、一般に、強磁
性金属薄膜層を形成するとき使用される強磁性材がいず
れも使用され、これらの強磁性材で形成される強磁性金
属薄膜層は、厚さを0.03〜1μmの範囲内にするのが好
ましい。
【0018】このようにして形成された強磁性金属薄膜
層表面1には潤滑剤を被着してもよく、潤滑剤を被着す
ると、凹所3が潤滑剤の溜りとなり、この凹所3から磁
気ヘッドと強磁性金属薄膜層表面1との摺接部分に潤滑
剤が効果的に補給されて、強磁性金属薄膜層表面1の摩
擦係数が充分に低減され、走行性が改善されて、耐久性
が充分に向上され、ジッタの発生が効果的に抑制され
る。
層表面1には潤滑剤を被着してもよく、潤滑剤を被着す
ると、凹所3が潤滑剤の溜りとなり、この凹所3から磁
気ヘッドと強磁性金属薄膜層表面1との摺接部分に潤滑
剤が効果的に補給されて、強磁性金属薄膜層表面1の摩
擦係数が充分に低減され、走行性が改善されて、耐久性
が充分に向上され、ジッタの発生が効果的に抑制され
る。
【0019】このような潤滑剤の被着は、潤滑剤溶液を
凹所3を有する強磁性金属薄膜層表面1に塗布または噴
霧するか、あるいは潤滑剤溶液中に強磁性金属薄膜層表
面1を浸漬して行われ、この他、基体フィルムの裏面に
バックコ−ト層を設けた場合は、バックコ−ト層中に潤
滑剤を含有させて強磁性金属薄膜層表面1に転移させる
方法でも行われる。
凹所3を有する強磁性金属薄膜層表面1に塗布または噴
霧するか、あるいは潤滑剤溶液中に強磁性金属薄膜層表
面1を浸漬して行われ、この他、基体フィルムの裏面に
バックコ−ト層を設けた場合は、バックコ−ト層中に潤
滑剤を含有させて強磁性金属薄膜層表面1に転移させる
方法でも行われる。
【0020】このように凹所3を有する強磁性金属薄膜
層表面1に被着する潤滑剤としては、炭化水素系潤滑
剤、脂肪族化合物、フッ素系潤滑剤、シリコ−ン系潤滑
剤など、従来から一般的に使用されているものがいずれ
も好適に使用され、炭化水素系潤滑剤としては、たとえ
ば、流動パラフィン、スクアラン、ワックス等が挙げら
れる。
層表面1に被着する潤滑剤としては、炭化水素系潤滑
剤、脂肪族化合物、フッ素系潤滑剤、シリコ−ン系潤滑
剤など、従来から一般的に使用されているものがいずれ
も好適に使用され、炭化水素系潤滑剤としては、たとえ
ば、流動パラフィン、スクアラン、ワックス等が挙げら
れる。
【0021】また、脂肪族化合物としては、たとえば、
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸等の脂肪酸、ステアリン酸−n−ブチル等が好適なも
のとして挙げられ、フッ素系潤滑剤としては、たとえ
ば、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、トリクロロフルオロエチレン、パ−フルオロポリエ
−テル、パ−フルオロアルキルポリエ−テル等が挙げら
れる。さらに、シリコ−ン系潤滑剤としては、たとえ
ば、シリコ−ンオイル、変性シリコ−ンオイル等が挙げ
られる。
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸等の脂肪酸、ステアリン酸−n−ブチル等が好適なも
のとして挙げられ、フッ素系潤滑剤としては、たとえ
ば、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、トリクロロフルオロエチレン、パ−フルオロポリエ
−テル、パ−フルオロアルキルポリエ−テル等が挙げら
れる。さらに、シリコ−ン系潤滑剤としては、たとえ
ば、シリコ−ンオイル、変性シリコ−ンオイル等が挙げ
られる。
【0022】さらに、基体フィルムの裏面には、必要に
応じてバックコ−ト層が形成され、このバックコ−ト層
は、カ−ボンブラック、炭酸カルシウムなどの非磁性粉
末を、結合剤樹脂、有機溶剤およびその他の必要成分と
ともに混合分散してバックコ−ト層用塗料を調製し、こ
のバックコ−ト層用塗料を表面に強磁性金属薄膜層を形
成した基体フィルムの裏面に塗布し、乾燥して形成され
る。
応じてバックコ−ト層が形成され、このバックコ−ト層
は、カ−ボンブラック、炭酸カルシウムなどの非磁性粉
末を、結合剤樹脂、有機溶剤およびその他の必要成分と
ともに混合分散してバックコ−ト層用塗料を調製し、こ
のバックコ−ト層用塗料を表面に強磁性金属薄膜層を形
成した基体フィルムの裏面に塗布し、乾燥して形成され
る。
【0023】ここで、バックコ−ト層の形成に使用され
る結合剤樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重
合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、繊維素系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、イソシアネ−
ト化合物など、従来、磁気記録媒体に一般に使用されて
いるものがいずれも使用される。
る結合剤樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重
合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、繊維素系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、イソシアネ−
ト化合物など、従来、磁気記録媒体に一般に使用されて
いるものがいずれも使用される。
【0024】また、有機溶剤としては、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ベンゼン、トル
エン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、
テトラヒドロフランなど、一般に磁気記録媒体に使用さ
れる有機溶剤が、単独または混合して用いられる。
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ベンゼン、トル
エン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、
テトラヒドロフランなど、一般に磁気記録媒体に使用さ
れる有機溶剤が、単独または混合して用いられる。
【0025】なお、バックコ−ト層用塗料中には、必要
に応じて、分散剤、潤滑剤なども添加使用される。
に応じて、分散剤、潤滑剤なども添加使用される。
【0026】このような強磁性金属薄膜層およびバック
コ−ト層を形成する基体フィルムとしては、ポリエステ
ル類、ポリオレフィン類、セルロ−ス誘導体、ビニル系
樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリカ−ボネ−ト
類などのプラスチック製フィルム、さらにアルミニウム
合金、チタン合金等からなる金属フィルムなどがいずれ
も好適なものとして使用される。
コ−ト層を形成する基体フィルムとしては、ポリエステ
ル類、ポリオレフィン類、セルロ−ス誘導体、ビニル系
樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリカ−ボネ−ト
類などのプラスチック製フィルム、さらにアルミニウム
合金、チタン合金等からなる金属フィルムなどがいずれ
も好適なものとして使用される。
【0027】
【実施例】次に、この発明の実施例について説明する。 実施例1 厚さが10μmで表面粗さが中心線平均粗さRaで 0.8
nmの二軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを
高周波スパッタリング装置に装填し、コバルト−クロム
合金(重量比8:2)を高周波スパッタリングして、二
軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの表面に、
厚さが 0.2μmで表面粗さが中心線平均粗さRaで 0.8
nmのコバルト−クロム合金からなる強磁性金属薄膜層
を形成した。
nmの二軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを
高周波スパッタリング装置に装填し、コバルト−クロム
合金(重量比8:2)を高周波スパッタリングして、二
軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの表面に、
厚さが 0.2μmで表面粗さが中心線平均粗さRaで 0.8
nmのコバルト−クロム合金からなる強磁性金属薄膜層
を形成した。
【0028】次いで、下記のバックコ−ト層組成物をボ
−ルミル中で96時間混合分散した後、さらに、三官能
性ポリイソシアネ−ト化合物15重量部を加え、撹拌し
てバックコ−ト層用塗料を調製した。
−ルミル中で96時間混合分散した後、さらに、三官能
性ポリイソシアネ−ト化合物15重量部を加え、撹拌し
てバックコ−ト層用塗料を調製した。
【0029】そして、このバックコ−ト層用塗料を、前
記の表面に強磁性金属薄膜層を形成した二軸配向ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムの裏面に、乾燥後の厚さ
が1.0μmとなるように塗布、乾燥してバックコ−ト層
を形成し、磁気記録媒体原反を作製した。
記の表面に強磁性金属薄膜層を形成した二軸配向ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムの裏面に、乾燥後の厚さ
が1.0μmとなるように塗布、乾燥してバックコ−ト層
を形成し、磁気記録媒体原反を作製した。
【0030】 バックコ−ト層組成物 カ−ボンブラック(東海カ−ボン社製、シ−スト5H、粒径 60 〃 20mμm) ベンガラ(粒径 0.8μm) 2.5 〃 炭酸カルシウム(粒径0.05μm) 30 〃 熱可塑性ポリウレタン樹脂 45 〃 ニトロセルロ−ス 40 〃 シクロヘキサノン 330 〃 トルエン 330 〃
【0031】一方、下記表1で示されるアルミナおよび
ベンガラを含む下記の転写フィルム塗布層組成物をボ−
ルミル中で96時間混合分散した後、さらに、三官能性
ポリイソシアネ−ト化合物15重量部を加え、撹拌して
塗布層用塗料を調製した。
ベンガラを含む下記の転写フィルム塗布層組成物をボ−
ルミル中で96時間混合分散した後、さらに、三官能性
ポリイソシアネ−ト化合物15重量部を加え、撹拌して
塗布層用塗料を調製した。
【0032】そして、この塗布層用塗料を厚さ35μm
の二軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの表面
に、乾燥厚が下記表1で示される塗膜厚となるように塗
布し、乾燥後した後、カレンダ処理を行い、各種のエン
ボス面を有する下記表1に示すNo.1〜No.4の転写フ
ィルムを作製した。
の二軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの表面
に、乾燥厚が下記表1で示される塗膜厚となるように塗
布し、乾燥後した後、カレンダ処理を行い、各種のエン
ボス面を有する下記表1に示すNo.1〜No.4の転写フ
ィルムを作製した。
【0033】 転写フィルム塗布層組成物 ベンガラ(粒径 0.3μm) 表1に示す重量部 アルミナ(粒径は表1に示す) 表1に示す 〃 水酸基含有塩化ビニル系樹脂 10 〃 熱可塑性ポリウレタン樹脂 7 〃 シクロヘキサノン 125 〃 トルエン 125 〃
【0034】
【0035】次いで、得られた磁気記録媒体原反と、フ
ィルムNo.1の転写フィルムとを、図2に示すように、
磁気記録媒体原反5の強磁性金属薄膜層表面と転写フィ
ルム4の凹凸面とが互いに接するように重ねて巻き取
り、巻き取った状態で、50℃の雰囲気中に240時間
放置し熱処理して、エンボス加工を行い、強磁性金属薄
膜層の表面に凹所を形成した。
ィルムNo.1の転写フィルムとを、図2に示すように、
磁気記録媒体原反5の強磁性金属薄膜層表面と転写フィ
ルム4の凹凸面とが互いに接するように重ねて巻き取
り、巻き取った状態で、50℃の雰囲気中に240時間
放置し熱処理して、エンボス加工を行い、強磁性金属薄
膜層の表面に凹所を形成した。
【0036】次ぎに、エンボス加工した後の磁気記録媒
体原反5を、転写フィルム4から分離して巻き出し、強
磁性金属薄膜層の表面にフッ素化オイル(イ−・アイ・
デュポン社製;クライトックス)の 0.2%フレオン溶液
を、マイクログラビアコ−タで塗布、乾燥して強磁性金
属薄膜層上にフッ素化オイルを被着した。しかる後、磁
気記録媒体原反を8mm幅に裁断して磁気テ−プを作製
した。
体原反5を、転写フィルム4から分離して巻き出し、強
磁性金属薄膜層の表面にフッ素化オイル(イ−・アイ・
デュポン社製;クライトックス)の 0.2%フレオン溶液
を、マイクログラビアコ−タで塗布、乾燥して強磁性金
属薄膜層上にフッ素化オイルを被着した。しかる後、磁
気記録媒体原反を8mm幅に裁断して磁気テ−プを作製
した。
【0037】実施例2 実施例1における強磁性金属薄膜層表面の潤滑剤の被着
処理において、フッ素化オイル(イ−・アイ・デュポン
社製;クライトックス)の 0.2%フレオン溶液に代え
て、パルミチン酸の 0.2%トルエン溶液を使用した以外
は、実施例1と同様にして潤滑剤の被着処理を行い、磁
気テ−プを作製した。
処理において、フッ素化オイル(イ−・アイ・デュポン
社製;クライトックス)の 0.2%フレオン溶液に代え
て、パルミチン酸の 0.2%トルエン溶液を使用した以外
は、実施例1と同様にして潤滑剤の被着処理を行い、磁
気テ−プを作製した。
【0038】実施例3 実施例1における強磁性金属薄膜層表面の潤滑剤の被着
処理において、フッ素化オイル(イ−・アイ・デュポン
社製;クライトックス)の 0.2%フレオン溶液に代え
て、ステアリン酸−n−ブチルの 0.2%トルエン溶液を
使用した以外は、実施例1と同様にして潤滑剤の被着処
理を行い、磁気テ−プを作製した。
処理において、フッ素化オイル(イ−・アイ・デュポン
社製;クライトックス)の 0.2%フレオン溶液に代え
て、ステアリン酸−n−ブチルの 0.2%トルエン溶液を
使用した以外は、実施例1と同様にして潤滑剤の被着処
理を行い、磁気テ−プを作製した。
【0039】実施例4 実施例1における強磁性金属薄膜層表面の潤滑剤の被着
処理において、フッ素化オイル(イ−・アイ・デュポン
社製;クライトックス)の 0.2%フレオン溶液に代え
て、シリコ−ンオイル(信越化学工業社製;KF96)
の 0.2%トルエン溶液を使用した以外は、実施例1と同
様にして潤滑剤の被着処理を行い、磁気テ−プを作製し
た。
処理において、フッ素化オイル(イ−・アイ・デュポン
社製;クライトックス)の 0.2%フレオン溶液に代え
て、シリコ−ンオイル(信越化学工業社製;KF96)
の 0.2%トルエン溶液を使用した以外は、実施例1と同
様にして潤滑剤の被着処理を行い、磁気テ−プを作製し
た。
【0040】実施例5 実施例1において、磁気記録媒体原反へのフッ素化オイ
ルの被着処理を省いた以外は、実施例1と同様にして磁
気記録媒体原反を作製し、磁気テ−プを作製した。
ルの被着処理を省いた以外は、実施例1と同様にして磁
気記録媒体原反を作製し、磁気テ−プを作製した。
【0041】比較例1 実施例1におけるエンボス加工において、フィルムNo.
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.2の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例1と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.2の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例1と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【0042】比較例2 実施例1におけるエンボス加工において、フィルムNo.
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.3の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例1と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.3の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例1と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【0043】比較例3 実施例1におけるエンボス加工において、フィルムNo.
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例1と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例1と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【0044】比較例4 実施例2におけるエンボス加工において、フィルムNo.
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例2と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例2と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【0045】比較例5 実施例3におけるエンボス加工において、フィルムNo.
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例3と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例3と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【0046】比較例6 実施例4におけるエンボス加工において、フィルムNo.
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例4と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例4と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【0047】比較例7 実施例5におけるエンボス加工において、フィルムNo.
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例5と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
1の転写フィルムに代えて、フィルムNo.4の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例5と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【0048】各実施例および比較例で得られた磁気テ−
プについて、強磁性金属薄膜層の3次元形状を下記の方
法で測定し、3次元表面粗さRa、凹所の深さH、凹所
中央部の断面積S、強磁性金属薄膜層表面の面積1mm
2 あたりの凹所の個数Nを求めた。
プについて、強磁性金属薄膜層の3次元形状を下記の方
法で測定し、3次元表面粗さRa、凹所の深さH、凹所
中央部の断面積S、強磁性金属薄膜層表面の面積1mm
2 あたりの凹所の個数Nを求めた。
【0049】さらに、各実施例および比較例で得られた
磁気テ−プを8ミリビデオ用カセットに巻き込んで、S
ONY社製;Hi8−VTR:TR−55に装着し、連
続して100回走行させた後、ジッタを測定した。
磁気テ−プを8ミリビデオ用カセットに巻き込んで、S
ONY社製;Hi8−VTR:TR−55に装着し、連
続して100回走行させた後、ジッタを測定した。
【0050】<強磁性金属薄膜層の3次元形状>米国特
許US4639139による光干渉式3次元表面形状測
定装置Hi−ResTOPO(米国WYKO社製)に、
VLX100対物ヘッド(米国WYKO社製)を取りつ
け、強磁性金属薄膜層表面70μm角の範囲を空間サン
プリング間隔 0.068μmで形状測定を行い、得られた形
状デ−タに、下記の傾斜補正、球面補正および円筒面補
正を行って、強磁性金属薄膜層の3次元形状を測定し
た。ここで、各補正を行った後の3次元形状で高さが0
に相当する平面を平均面と呼ぶ。
許US4639139による光干渉式3次元表面形状測
定装置Hi−ResTOPO(米国WYKO社製)に、
VLX100対物ヘッド(米国WYKO社製)を取りつ
け、強磁性金属薄膜層表面70μm角の範囲を空間サン
プリング間隔 0.068μmで形状測定を行い、得られた形
状デ−タに、下記の傾斜補正、球面補正および円筒面補
正を行って、強磁性金属薄膜層の3次元形状を測定し
た。ここで、各補正を行った後の3次元形状で高さが0
に相当する平面を平均面と呼ぶ。
【0051】傾斜補正 各座標における3次元デ−タとの高さ方向の偏差の2乗
平方根が最小となるよな平面を算出した後、3次元デ−
タの高さから平面の高さを除算する。
平方根が最小となるよな平面を算出した後、3次元デ−
タの高さから平面の高さを除算する。
【0052】球面補正 傾斜補正後の各座標における3次元形状デ−タとの高さ
方向の偏差の2乗平方根が最小となるような球面を算出
した後、3次元デ−タの高さから球面の高さを除算す
る。
方向の偏差の2乗平方根が最小となるような球面を算出
した後、3次元デ−タの高さから球面の高さを除算す
る。
【0053】円筒面補正 球面補正後の各座標における3次元形状デ−タとの高さ
方向の偏差の2乗平方根が最小となるような平均面に並
行な中心軸を持つ円筒面を算出した後、3次元デ−タの
高さから円筒面の高さを除算する。
方向の偏差の2乗平方根が最小となるような平均面に並
行な中心軸を持つ円筒面を算出した後、3次元デ−タの
高さから円筒面の高さを除算する。
【0054】<強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
>強磁性金属薄膜層表面の3次元形状の高さの相加平均
値を求め、次ぎに高さ全ポイントと相加平均値との平均
偏差を計算して、中心面平均粗さRaを求めた。
>強磁性金属薄膜層表面の3次元形状の高さの相加平均
値を求め、次ぎに高さ全ポイントと相加平均値との平均
偏差を計算して、中心面平均粗さRaを求めた。
【0055】<凹所の深さH>実施例例1〜5、比較例
3〜7で得られた磁気テ−プについては、強磁性金属薄
膜層表面の3次元形状から、図1に示した平均面2から
の凹所の深さを求め、この深さが強磁性金属薄膜層の3
次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積
が 0.8μm2 以上の凹所の深さの総和を、深さが強磁性
金属薄膜層の3次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所
中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所の数で割って平
均値として表した。
3〜7で得られた磁気テ−プについては、強磁性金属薄
膜層表面の3次元形状から、図1に示した平均面2から
の凹所の深さを求め、この深さが強磁性金属薄膜層の3
次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積
が 0.8μm2 以上の凹所の深さの総和を、深さが強磁性
金属薄膜層の3次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所
中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所の数で割って平
均値として表した。
【0056】なお、比較例1で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の4倍以上 5.5倍未満で、凹所中央部の断面積が 0.8μ
m2以上の凹所の深さの総和を、深さが強磁性金属薄膜
層の3次元表面粗さRaの4倍以上 5.5倍未満で、凹所
中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所の数で割って平
均値として表した。
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の4倍以上 5.5倍未満で、凹所中央部の断面積が 0.8μ
m2以上の凹所の深さの総和を、深さが強磁性金属薄膜
層の3次元表面粗さRaの4倍以上 5.5倍未満で、凹所
中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所の数で割って平
均値として表した。
【0057】また、比較例2で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.1μm2 以上
0.8μm2 未満の凹所の深さの総和を、深さが強磁性金
属薄膜層の3次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所中
央部の断面積が 0.1μm2 以上 0.8μm2 未満の凹所の
数で割って平均値として表した。
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.1μm2 以上
0.8μm2 未満の凹所の深さの総和を、深さが強磁性金
属薄膜層の3次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所中
央部の断面積が 0.1μm2 以上 0.8μm2 未満の凹所の
数で割って平均値として表した。
【0058】<凹所中央部の断面積S>実施例例1〜
5、比較例3〜7で得られた磁気テ−プについては、強
磁性金属薄膜層表面の3次元形状から、図1に示した凹
所の中央部における平均面2と平行な断面の断面積を求
め、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRaの
5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.8μm2 以上の
凹所の断面積の総和を、深さが強磁性金属薄膜層の3次
元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が
0.8μm2 以上の凹所の数で割って平均値として表し
た。
5、比較例3〜7で得られた磁気テ−プについては、強
磁性金属薄膜層表面の3次元形状から、図1に示した凹
所の中央部における平均面2と平行な断面の断面積を求
め、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRaの
5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.8μm2 以上の
凹所の断面積の総和を、深さが強磁性金属薄膜層の3次
元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が
0.8μm2 以上の凹所の数で割って平均値として表し
た。
【0059】なお、比較例1で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の4倍以上 5.5倍未満で、凹所中央部の断面積が 0.8μ
m2以上の凹所の断面積の総和を、深さが強磁性金属薄
膜層の3次元表面粗さRaの4倍以上 5.5倍未満で、凹
所中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所の数で割って
平均値として表した。
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の4倍以上 5.5倍未満で、凹所中央部の断面積が 0.8μ
m2以上の凹所の断面積の総和を、深さが強磁性金属薄
膜層の3次元表面粗さRaの4倍以上 5.5倍未満で、凹
所中央部の断面積が 0.8μm2 以上の凹所の数で割って
平均値として表した。
【0060】また、比較例2で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.1μm2 以上
0.8μm2 未満の凹所の断面積の総和を、深さが強磁性
金属薄膜層の3次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所
中央部の断面積が 0.1μm2 以上 0.8μm2 未満の凹所
の数で割って平均値として表した。
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.1μm2 以上
0.8μm2 未満の凹所の断面積の総和を、深さが強磁性
金属薄膜層の3次元表面粗さRaの 5.5倍以上で、凹所
中央部の断面積が 0.1μm2 以上 0.8μm2 未満の凹所
の数で割って平均値として表した。
【0061】<凹所の個数N>実施例例1〜5、比較例
3〜7で得られた磁気テ−プについては、強磁性金属薄
膜層表面の3次元形状から、70μm角の面内における
深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRaの 5.5倍
以上で、凹所中央部の断面積が 0.8μm以上の凹所の個
数を計数し、続けて強磁性金属薄膜層の異なる場所31
箇所について同様に凹所の個数を求め、計32回の計数
結果の総和を6.38倍することにより、1mm2 あたりの
凹所の個数を求めた。
3〜7で得られた磁気テ−プについては、強磁性金属薄
膜層表面の3次元形状から、70μm角の面内における
深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRaの 5.5倍
以上で、凹所中央部の断面積が 0.8μm以上の凹所の個
数を計数し、続けて強磁性金属薄膜層の異なる場所31
箇所について同様に凹所の個数を求め、計32回の計数
結果の総和を6.38倍することにより、1mm2 あたりの
凹所の個数を求めた。
【0062】なお、比較例1で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の4倍以上 5.5倍未満で、凹所中央部の断面積が 0.8μ
m2以上の凹所の個数を計数し、続けて強磁性金属薄膜
層の異なる場所31箇所について同様に凹所の個数を求
め、計32回の計数結果の総和を6.38倍することによ
り、1mm2 あたりの凹所の個数を求めた。
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の4倍以上 5.5倍未満で、凹所中央部の断面積が 0.8μ
m2以上の凹所の個数を計数し、続けて強磁性金属薄膜
層の異なる場所31箇所について同様に凹所の個数を求
め、計32回の計数結果の総和を6.38倍することによ
り、1mm2 あたりの凹所の個数を求めた。
【0063】また、比較例2で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.1μm2 以上
0.8μm2 未満の凹所の個数を計数し、続けて強磁性金
属薄膜層の異なる場所31箇所について同様に凹所の個
数を求め、計32回の計数結果の総和を6.38倍すること
により、1mm2 あたりの凹所の個数を求めた。下記表
2および表3はその結果である。
いては、深さが強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRa
の 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.1μm2 以上
0.8μm2 未満の凹所の個数を計数し、続けて強磁性金
属薄膜層の異なる場所31箇所について同様に凹所の個
数を求め、計32回の計数結果の総和を6.38倍すること
により、1mm2 あたりの凹所の個数を求めた。下記表
2および表3はその結果である。
【0064】
【0065】
【0066】
【発明の効果】上記表2および3から明らかなように、
この発明で得られた磁気テ−プ(実施例1〜5)は、比
較例1ないし7で得られた磁気テ−プに比し、いずれも
ジッタが格段に減少しており、このことからこの発明で
得られる磁気記録媒体は、磁気ヘッドやガイド部材と摺
接しても滑らかに走行して耐久性に優れ、記録再生時に
おけるジッタの発生を効果的に抑制できることがわか
る。
この発明で得られた磁気テ−プ(実施例1〜5)は、比
較例1ないし7で得られた磁気テ−プに比し、いずれも
ジッタが格段に減少しており、このことからこの発明で
得られる磁気記録媒体は、磁気ヘッドやガイド部材と摺
接しても滑らかに走行して耐久性に優れ、記録再生時に
おけるジッタの発生を効果的に抑制できることがわか
る。
【図1】この発明の磁気記録媒体の強磁性金属薄膜層表
面の模式図である。
面の模式図である。
【図2】磁気記録媒体原反と転写フィルムを重ねて巻き
取った状態の斜視図である。
取った状態の斜視図である。
1 強磁性金属薄膜層表面 2 平均面 3 凹所 5 磁気記録媒体 H 凹所の深さ S 凹所中央部の断面積
Claims (2)
- 【請求項1】 基体フィルム上に少なくとも1層の強磁
性金属薄膜層を設け、この強磁性金属薄膜層の表面に、
深さがこの強磁性金属薄膜層の3次元表面粗さRaの
5.5倍以上で、深さ中央部の断面積が 0.8μm2 以上の
凹所を、強磁性金属薄膜層表面1mm2 あたりの個数で
2000個より多く設けたことを特徴とする磁気記録媒
体 - 【請求項2】 強磁性金属薄膜層上にさらに潤滑剤を存
在させた請求項1記載の磁気記録媒体
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16599794A JPH087249A (ja) | 1994-06-24 | 1994-06-24 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16599794A JPH087249A (ja) | 1994-06-24 | 1994-06-24 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH087249A true JPH087249A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15822961
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16599794A Withdrawn JPH087249A (ja) | 1994-06-24 | 1994-06-24 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH087249A (ja) |
-
1994
- 1994-06-24 JP JP16599794A patent/JPH087249A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010904 |