JPH087249A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPH087249A
JPH087249A JP16599794A JP16599794A JPH087249A JP H087249 A JPH087249 A JP H087249A JP 16599794 A JP16599794 A JP 16599794A JP 16599794 A JP16599794 A JP 16599794A JP H087249 A JPH087249 A JP H087249A
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thin film
metal thin
ferromagnetic metal
film layer
layer
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JP16599794A
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Naoto Akaha
尚登 赤羽
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Maxell Ltd
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Hitachi Maxell Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 基体フィルム上に少なくとも１層の強磁性金
属薄膜層を設け、この強磁性金属薄膜層の表面に、深さ
がこの強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａの5.5倍
以上で、深さ中央部の断面積が 0.8μｍ2 以上の凹所
を、強磁性金属薄膜層表面１ｍｍ2 あたりの個数で２０
００個より多く設けて、記録再生時における走行性を滑
らかにし、耐久性が良好で、ジッタの発生が効果的に抑
制された磁気記録媒体を得る。 【構成】 基体フィルム上に少なくとも１層の強磁性金
属薄膜層を設け、この強磁性金属薄膜層の表面に、深さ
がこの強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａの5.5倍
以上で、深さ中央部の断面積が 0.8μｍ2 以上の凹所
を、強磁性金属薄膜層表面１ｍｍ2 あたりの個数で２０
００個より多く設けた磁気記録媒体

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は強磁性材からなる強磁
性金属薄膜層を磁気記録層とした磁気記録媒体に関し、
さらに詳しくは、磁気ヘッドやガイド部材と摺接しても
滑らかに走行して耐久性に優れ、ジッタの発生が効果的
に抑制された前記の磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁
気記録媒体は、通常、強磁性金属またはそれらの合金な
どの強磁性材を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプ
レ−ティングなどの方法により基体フィルム上に被着し
てつくられ、高密度記録に適した特性を有している。し
かしながら、反面磁気ヘッドやガイドポ−ル等の走行部
材と繰り返し摺接すると、強磁性金属薄膜層が摩耗や損
傷を受けやすく、耐久性に劣る。
【０００３】このため、従来から、強磁性金属薄膜層上
に各種の潤滑剤を被着するなどして、強磁性金属薄膜層
の摩耗や損傷を抑制し、耐久性を改善することが行われ
ている。（特開昭６０−１０３６８号）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、充分な耐久
性を得るため、強磁性金属薄膜層上に充分な量の潤滑剤
を被着させると、この潤滑剤によって強磁性金属薄膜層
と走行部材との間に吸着力が生じ、磁気記録媒体の走行
中に不安定なスティックスリップ運動が発生してしまう
という難点があり、このため、たとえば、ビデオテ−プ
レコ−ダ−ではジッタ（画像再生同期信号の変動）が増
加して、再生画像が波打ったり、縞状に歪んだり、小刻
みに揺れるなどの障害が発生する。
【０００５】この発明は、かかる問題を克服するため種
々検討を行った結果なされたもので、強磁性金属薄膜層
の性状の改善によって、磁気ヘッドやガイド部材と摺接
しても滑らかに走行し、ジッタの発生が効果的に抑制さ
れるようにしたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、基体フィル
ム上に少なくとも１層の強磁性金属薄膜層を設け、この
強磁性金属薄膜層の表面に、深さがこの強磁性金属薄膜
層の３次元表面粗さＲａの 5.5倍以上で、深さ中央部の
断面積が 0.8μｍ2 以上の凹所を、強磁性金属薄膜層表
面１ｍｍ2 あたりの個数で２０００個より多く設けてお
り、また、この凹所を設けた強磁性金属薄膜層上に潤滑
剤を存在させている。
【０００７】
【作用】この発明の磁気記録媒体は、以上のように構成
されているため、磁性金属薄膜層上に潤滑剤を被着させ
ても、潤滑剤が凹所中に取り込まれて強磁性金属薄膜層
表面に適度に滲出し、磁気ヘッドやガイド部材と摺接す
ると滑らかに走行して、ジッタの発生が効果的に抑制さ
れる。
【０００８】以下、この発明の磁気記録媒体の強磁性金
属薄膜層を模式図で示した図１を参照しながら説明す
る。図１において、１は３次元形状の強磁性金属薄膜層
表面を図示したものであり、２はこの強磁性金属薄膜層
表面１の平均面であって、３は強磁性金属薄膜層表面１
に設けられた凹所である。
【０００９】この発明において、強磁性金属薄膜層表面
１の凹所３は、深さＨをこの強磁性金属薄膜層表面１の
３次元表面粗さＲａの 5.5倍以上とし、深さ中央部の平
均面２に並行な断面の断面積Ｓを 0.8μｍ2 以上にし
て、強磁性金属薄膜層表面１の面積１ｍｍ2 あたりの個
数で２０００個より多く設けるのが好ましく、このよう
な凹所３が強磁性金属薄膜層表面１に形成されると、強
磁性金属薄膜層表面１上に潤滑剤を被着させたとき、こ
の凹所３が潤滑剤の溜りとなる。
【００１０】従って、この凹所３から走行部材との摺接
部分に適量の潤滑剤が継続的に補給されるようにコント
ロ−ルすることができ、強磁性金属薄膜層の耐久性が向
上されるとともに、ジッタの発生が抑制される。
【００１１】これに対し、凹所３の深さＨが、強磁性金
属薄膜層表面１の３次元表面粗さＲａの 5.5倍未満であ
ったり、凹所３の中央部の平均面２に並行な断面の断面
積Ｓが 0.8μｍ2 より小さかったりすると、潤滑剤のコ
ントロ−ルが充分に行えず、所期の効果が得られない。
【００１２】さらに、このような凹所３は、強磁性金属
薄膜層表面１の面積１ｍｍ2 あたり２０００個を超える
ように設けるのが好ましく、凹所の数が２０００個以下
では、凹所３中に含まれる全潤滑剤量が少なすぎて、潤
滑剤のコントロ−ルが充分に行えず、所期の効果が得ら
れない。
【００１３】しかしながら、このような凹所３をあまり
多く設けすぎ、強磁性金属薄膜層表面１の面積１ｍｍ2
あたり２００００個を超えるようにすると、記録再生信
号のノイズが増加したり、強磁性金属薄膜層にひび割れ
が生じ易くなるため、強磁性金属薄膜層表面１の面積１
ｍｍ2 あたり２００００個以下となるようにするのが好
ましい。
【００１４】このような凹所３の形成は、たとえば、所
定の凹凸面を塗布層でもって形成した転写フィルムを用
いて、強磁性金属薄膜層の表面にエンボス加工を施すな
どの方法で形成され、このエンボス加工は、図２に示す
ように、転写フィルム４の凹凸面と磁気記録媒体５の強
磁性金属薄膜層表面とが互いに接するように重ねて巻き
取り、巻き取った状態で所定時間加熱処理して行われ
る。
【００１５】このような凹所３によれば、磁気記録媒体
の強磁性金属薄膜層表面１の平滑性を損なうことなく、
磁気ヘッドやガイド部材と摺接しても滑らかに走行する
ようにして耐久性を充分に改善することができるため、
特に、３次元表面粗さＲａが３ｎｍ以下の平滑な強磁性
金属薄膜層を有する高密度記録用磁気記録媒体に有効で
ある。
【００１６】このような強磁性金属薄膜層は、強磁性材
を、真空蒸着、イオンプレ−ティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体フィルム上に被着する
などの方法で形成される。
【００１７】真空蒸着等によって強磁性金属薄膜層を形
成する場合、使用される磁性材料としては、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｐ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏなど、一般に、強磁
性金属薄膜層を形成するとき使用される強磁性材がいず
れも使用され、これらの強磁性材で形成される強磁性金
属薄膜層は、厚さを0.03〜１μｍの範囲内にするのが好
ましい。
【００１８】このようにして形成された強磁性金属薄膜
層表面１には潤滑剤を被着してもよく、潤滑剤を被着す
ると、凹所３が潤滑剤の溜りとなり、この凹所３から磁
気ヘッドと強磁性金属薄膜層表面１との摺接部分に潤滑
剤が効果的に補給されて、強磁性金属薄膜層表面１の摩
擦係数が充分に低減され、走行性が改善されて、耐久性
が充分に向上され、ジッタの発生が効果的に抑制され
る。
【００１９】このような潤滑剤の被着は、潤滑剤溶液を
凹所３を有する強磁性金属薄膜層表面１に塗布または噴
霧するか、あるいは潤滑剤溶液中に強磁性金属薄膜層表
面１を浸漬して行われ、この他、基体フィルムの裏面に
バックコ−ト層を設けた場合は、バックコ−ト層中に潤
滑剤を含有させて強磁性金属薄膜層表面１に転移させる
方法でも行われる。
【００２０】このように凹所３を有する強磁性金属薄膜
層表面１に被着する潤滑剤としては、炭化水素系潤滑
剤、脂肪族化合物、フッ素系潤滑剤、シリコ−ン系潤滑
剤など、従来から一般的に使用されているものがいずれ
も好適に使用され、炭化水素系潤滑剤としては、たとえ
ば、流動パラフィン、スクアラン、ワックス等が挙げら
れる。
【００２１】また、脂肪族化合物としては、たとえば、
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸等の脂肪酸、ステアリン酸−ｎ−ブチル等が好適なも
のとして挙げられ、フッ素系潤滑剤としては、たとえ
ば、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、トリクロロフルオロエチレン、パ−フルオロポリエ
−テル、パ−フルオロアルキルポリエ−テル等が挙げら
れる。さらに、シリコ−ン系潤滑剤としては、たとえ
ば、シリコ−ンオイル、変性シリコ−ンオイル等が挙げ
られる。
【００２２】さらに、基体フィルムの裏面には、必要に
応じてバックコ−ト層が形成され、このバックコ−ト層
は、カ−ボンブラック、炭酸カルシウムなどの非磁性粉
末を、結合剤樹脂、有機溶剤およびその他の必要成分と
ともに混合分散してバックコ−ト層用塗料を調製し、こ
のバックコ−ト層用塗料を表面に強磁性金属薄膜層を形
成した基体フィルムの裏面に塗布し、乾燥して形成され
る。
【００２３】ここで、バックコ−ト層の形成に使用され
る結合剤樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重
合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、繊維素系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、イソシアネ−
ト化合物など、従来、磁気記録媒体に一般に使用されて
いるものがいずれも使用される。
【００２４】また、有機溶剤としては、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ベンゼン、トル
エン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、
テトラヒドロフランなど、一般に磁気記録媒体に使用さ
れる有機溶剤が、単独または混合して用いられる。
【００２５】なお、バックコ−ト層用塗料中には、必要
に応じて、分散剤、潤滑剤なども添加使用される。
【００２６】このような強磁性金属薄膜層およびバック
コ−ト層を形成する基体フィルムとしては、ポリエステ
ル類、ポリオレフィン類、セルロ−ス誘導体、ビニル系
樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリカ−ボネ−ト
類などのプラスチック製フィルム、さらにアルミニウム
合金、チタン合金等からなる金属フィルムなどがいずれ
も好適なものとして使用される。
【００２７】
【実施例】次に、この発明の実施例について説明する。 実施例１ 厚さが１０μｍで表面粗さが中心線平均粗さＲａで 0.8
ｎｍの二軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを
高周波スパッタリング装置に装填し、コバルト−クロム
合金（重量比８：２）を高周波スパッタリングして、二
軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの表面に、
厚さが 0.2μｍで表面粗さが中心線平均粗さＲａで 0.8
ｎｍのコバルト−クロム合金からなる強磁性金属薄膜層
を形成した。
【００２８】次いで、下記のバックコ−ト層組成物をボ
−ルミル中で９６時間混合分散した後、さらに、三官能
性ポリイソシアネ−ト化合物１５重量部を加え、撹拌し
てバックコ−ト層用塗料を調製した。
【００２９】そして、このバックコ−ト層用塗料を、前
記の表面に強磁性金属薄膜層を形成した二軸配向ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムの裏面に、乾燥後の厚さ
が1.0μｍとなるように塗布、乾燥してバックコ−ト層
を形成し、磁気記録媒体原反を作製した。
【００３０】 バックコ−ト層組成物 カ−ボンブラック（東海カ−ボン社製、シ−スト５Ｈ、粒径 60 〃 ２０ｍμｍ） ベンガラ（粒径 0.8μｍ） 2.5 〃 炭酸カルシウム（粒径0.05μｍ） 30 〃 熱可塑性ポリウレタン樹脂 45 〃 ニトロセルロ−ス 40 〃 シクロヘキサノン 330 〃 トルエン 330 〃
【００３１】一方、下記表１で示されるアルミナおよび
ベンガラを含む下記の転写フィルム塗布層組成物をボ−
ルミル中で９６時間混合分散した後、さらに、三官能性
ポリイソシアネ−ト化合物１５重量部を加え、撹拌して
塗布層用塗料を調製した。
【００３２】そして、この塗布層用塗料を厚さ３５μｍ
の二軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの表面
に、乾燥厚が下記表１で示される塗膜厚となるように塗
布し、乾燥後した後、カレンダ処理を行い、各種のエン
ボス面を有する下記表１に示すＮo.１〜Ｎo.４の転写フ
ィルムを作製した。
【００３３】 転写フィルム塗布層組成物 ベンガラ（粒径 0.3μｍ） 表１に示す重量部 アルミナ（粒径は表１に示す） 表１に示す 〃 水酸基含有塩化ビニル系樹脂 10 〃 熱可塑性ポリウレタン樹脂 7 〃 シクロヘキサノン 125 〃 トルエン 125 〃
【００３４】
【００３５】次いで、得られた磁気記録媒体原反と、フ
ィルムＮo.１の転写フィルムとを、図２に示すように、
磁気記録媒体原反５の強磁性金属薄膜層表面と転写フィ
ルム４の凹凸面とが互いに接するように重ねて巻き取
り、巻き取った状態で、５０℃の雰囲気中に２４０時間
放置し熱処理して、エンボス加工を行い、強磁性金属薄
膜層の表面に凹所を形成した。
【００３６】次ぎに、エンボス加工した後の磁気記録媒
体原反５を、転写フィルム４から分離して巻き出し、強
磁性金属薄膜層の表面にフッ素化オイル（イ−・アイ・
デュポン社製；クライトックス）の 0.2％フレオン溶液
を、マイクログラビアコ−タで塗布、乾燥して強磁性金
属薄膜層上にフッ素化オイルを被着した。しかる後、磁
気記録媒体原反を８ｍｍ幅に裁断して磁気テ−プを作製
した。
【００３７】実施例２ 実施例１における強磁性金属薄膜層表面の潤滑剤の被着
処理において、フッ素化オイル（イ−・アイ・デュポン
社製；クライトックス）の 0.2％フレオン溶液に代え
て、パルミチン酸の 0.2％トルエン溶液を使用した以外
は、実施例１と同様にして潤滑剤の被着処理を行い、磁
気テ−プを作製した。
【００３８】実施例３ 実施例１における強磁性金属薄膜層表面の潤滑剤の被着
処理において、フッ素化オイル（イ−・アイ・デュポン
社製；クライトックス）の 0.2％フレオン溶液に代え
て、ステアリン酸−ｎ−ブチルの 0.2％トルエン溶液を
使用した以外は、実施例１と同様にして潤滑剤の被着処
理を行い、磁気テ−プを作製した。
【００３９】実施例４ 実施例１における強磁性金属薄膜層表面の潤滑剤の被着
処理において、フッ素化オイル（イ−・アイ・デュポン
社製；クライトックス）の 0.2％フレオン溶液に代え
て、シリコ−ンオイル（信越化学工業社製；ＫＦ９６）
の 0.2％トルエン溶液を使用した以外は、実施例１と同
様にして潤滑剤の被着処理を行い、磁気テ−プを作製し
た。
【００４０】実施例５ 実施例１において、磁気記録媒体原反へのフッ素化オイ
ルの被着処理を省いた以外は、実施例１と同様にして磁
気記録媒体原反を作製し、磁気テ−プを作製した。
【００４１】比較例１ 実施例１におけるエンボス加工において、フィルムＮo.
１の転写フィルムに代えて、フィルムＮo.２の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例１と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【００４２】比較例２ 実施例１におけるエンボス加工において、フィルムＮo.
１の転写フィルムに代えて、フィルムＮo.３の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例１と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【００４３】比較例３ 実施例１におけるエンボス加工において、フィルムＮo.
１の転写フィルムに代えて、フィルムＮo.４の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例１と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【００４４】比較例４ 実施例２におけるエンボス加工において、フィルムＮo.
１の転写フィルムに代えて、フィルムＮo.４の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例２と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【００４５】比較例５ 実施例３におけるエンボス加工において、フィルムＮo.
１の転写フィルムに代えて、フィルムＮo.４の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例３と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【００４６】比較例６ 実施例４におけるエンボス加工において、フィルムＮo.
１の転写フィルムに代えて、フィルムＮo.４の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例４と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【００４７】比較例７ 実施例５におけるエンボス加工において、フィルムＮo.
１の転写フィルムに代えて、フィルムＮo.４の転写フィ
ルムを使用した以外は、実施例５と同様にしてエンボス
加工を行い、磁気テ−プを作製した。
【００４８】各実施例および比較例で得られた磁気テ−
プについて、強磁性金属薄膜層の３次元形状を下記の方
法で測定し、３次元表面粗さＲａ、凹所の深さＨ、凹所
中央部の断面積Ｓ、強磁性金属薄膜層表面の面積１ｍｍ
2 あたりの凹所の個数Ｎを求めた。
【００４９】さらに、各実施例および比較例で得られた
磁気テ−プを８ミリビデオ用カセットに巻き込んで、Ｓ
ＯＮＹ社製；Ｈｉ８−ＶＴＲ：ＴＲ−５５に装着し、連
続して１００回走行させた後、ジッタを測定した。
【００５０】＜強磁性金属薄膜層の３次元形状＞米国特
許ＵＳ４６３９１３９による光干渉式３次元表面形状測
定装置Ｈｉ−ＲｅｓＴＯＰＯ（米国ＷＹＫＯ社製）に、
ＶＬＸ１００対物ヘッド（米国ＷＹＫＯ社製）を取りつ
け、強磁性金属薄膜層表面７０μｍ角の範囲を空間サン
プリング間隔 0.068μｍで形状測定を行い、得られた形
状デ−タに、下記の傾斜補正、球面補正および円筒面補
正を行って、強磁性金属薄膜層の３次元形状を測定し
た。ここで、各補正を行った後の３次元形状で高さが０
に相当する平面を平均面と呼ぶ。
【００５１】傾斜補正 各座標における３次元デ−タとの高さ方向の偏差の２乗
平方根が最小となるよな平面を算出した後、３次元デ−
タの高さから平面の高さを除算する。
【００５２】球面補正 傾斜補正後の各座標における３次元形状デ−タとの高さ
方向の偏差の２乗平方根が最小となるような球面を算出
した後、３次元デ−タの高さから球面の高さを除算す
る。
【００５３】円筒面補正 球面補正後の各座標における３次元形状デ−タとの高さ
方向の偏差の２乗平方根が最小となるような平均面に並
行な中心軸を持つ円筒面を算出した後、３次元デ−タの
高さから円筒面の高さを除算する。
【００５４】＜強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａ
＞強磁性金属薄膜層表面の３次元形状の高さの相加平均
値を求め、次ぎに高さ全ポイントと相加平均値との平均
偏差を計算して、中心面平均粗さＲａを求めた。
【００５５】＜凹所の深さＨ＞実施例例１〜５、比較例
３〜７で得られた磁気テ−プについては、強磁性金属薄
膜層表面の３次元形状から、図１に示した平均面２から
の凹所の深さを求め、この深さが強磁性金属薄膜層の３
次元表面粗さＲａの 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積
が 0.8μｍ2 以上の凹所の深さの総和を、深さが強磁性
金属薄膜層の３次元表面粗さＲａの 5.5倍以上で、凹所
中央部の断面積が 0.8μｍ2 以上の凹所の数で割って平
均値として表した。
【００５６】なお、比較例１で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａ
の４倍以上 5.5倍未満で、凹所中央部の断面積が 0.8μ
ｍ2以上の凹所の深さの総和を、深さが強磁性金属薄膜
層の３次元表面粗さＲａの４倍以上 5.5倍未満で、凹所
中央部の断面積が 0.8μｍ2 以上の凹所の数で割って平
均値として表した。
【００５７】また、比較例２で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａ
の 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.1μｍ2 以上
0.8μｍ2 未満の凹所の深さの総和を、深さが強磁性金
属薄膜層の３次元表面粗さＲａの 5.5倍以上で、凹所中
央部の断面積が 0.1μｍ2 以上 0.8μｍ2 未満の凹所の
数で割って平均値として表した。
【００５８】＜凹所中央部の断面積Ｓ＞実施例例１〜
５、比較例３〜７で得られた磁気テ−プについては、強
磁性金属薄膜層表面の３次元形状から、図１に示した凹
所の中央部における平均面２と平行な断面の断面積を求
め、深さが強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａの
5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.8μｍ2 以上の
凹所の断面積の総和を、深さが強磁性金属薄膜層の３次
元表面粗さＲａの 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が
0.8μｍ2 以上の凹所の数で割って平均値として表し
た。
【００５９】なお、比較例１で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａ
の４倍以上 5.5倍未満で、凹所中央部の断面積が 0.8μ
ｍ2以上の凹所の断面積の総和を、深さが強磁性金属薄
膜層の３次元表面粗さＲａの４倍以上 5.5倍未満で、凹
所中央部の断面積が 0.8μｍ2 以上の凹所の数で割って
平均値として表した。
【００６０】また、比較例２で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａ
の 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.1μｍ2 以上
0.8μｍ2 未満の凹所の断面積の総和を、深さが強磁性
金属薄膜層の３次元表面粗さＲａの 5.5倍以上で、凹所
中央部の断面積が 0.1μｍ2 以上 0.8μｍ2 未満の凹所
の数で割って平均値として表した。
【００６１】＜凹所の個数Ｎ＞実施例例１〜５、比較例
３〜７で得られた磁気テ−プについては、強磁性金属薄
膜層表面の３次元形状から、７０μｍ角の面内における
深さが強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａの 5.5倍
以上で、凹所中央部の断面積が 0.8μｍ以上の凹所の個
数を計数し、続けて強磁性金属薄膜層の異なる場所３１
箇所について同様に凹所の個数を求め、計３２回の計数
結果の総和を6.38倍することにより、１ｍｍ2 あたりの
凹所の個数を求めた。
【００６２】なお、比較例１で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａ
の４倍以上 5.5倍未満で、凹所中央部の断面積が 0.8μ
ｍ2以上の凹所の個数を計数し、続けて強磁性金属薄膜
層の異なる場所３１箇所について同様に凹所の個数を求
め、計３２回の計数結果の総和を6.38倍することによ
り、１ｍｍ2 あたりの凹所の個数を求めた。
【００６３】また、比較例２で得られた磁気テ−プにつ
いては、深さが強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａ
の 5.5倍以上で、凹所中央部の断面積が 0.1μｍ2 以上
0.8μｍ2 未満の凹所の個数を計数し、続けて強磁性金
属薄膜層の異なる場所３１箇所について同様に凹所の個
数を求め、計３２回の計数結果の総和を6.38倍すること
により、１ｍｍ2 あたりの凹所の個数を求めた。下記表
２および表３はその結果である。
【００６４】
【００６５】
【００６６】
【発明の効果】上記表２および３から明らかなように、
この発明で得られた磁気テ−プ（実施例１〜５）は、比
較例１ないし７で得られた磁気テ−プに比し、いずれも
ジッタが格段に減少しており、このことからこの発明で
得られる磁気記録媒体は、磁気ヘッドやガイド部材と摺
接しても滑らかに走行して耐久性に優れ、記録再生時に
おけるジッタの発生を効果的に抑制できることがわか
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の磁気記録媒体の強磁性金属薄膜層表
面の模式図である。
【図２】磁気記録媒体原反と転写フィルムを重ねて巻き
取った状態の斜視図である。
【符号の説明】
１ 強磁性金属薄膜層表面 ２ 平均面 ３ 凹所 ５ 磁気記録媒体 Ｈ 凹所の深さ Ｓ 凹所中央部の断面積

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基体フィルム上に少なくとも１層の強磁
    性金属薄膜層を設け、この強磁性金属薄膜層の表面に、
    深さがこの強磁性金属薄膜層の３次元表面粗さＲａの
    5.5倍以上で、深さ中央部の断面積が 0.8μｍ2 以上の
    凹所を、強磁性金属薄膜層表面１ｍｍ2 あたりの個数で
    ２０００個より多く設けたことを特徴とする磁気記録媒
    体
  2. 【請求項２】 強磁性金属薄膜層上にさらに潤滑剤を存
    在させた請求項１記載の磁気記録媒体
JP16599794A 1994-06-24 1994-06-24 磁気記録媒体 Withdrawn JPH087249A (ja)

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