JPH0863711A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH0863711A JPH0863711A JP20210894A JP20210894A JPH0863711A JP H0863711 A JPH0863711 A JP H0863711A JP 20210894 A JP20210894 A JP 20210894A JP 20210894 A JP20210894 A JP 20210894A JP H0863711 A JPH0863711 A JP H0863711A
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- film magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヘッド素子ブロックの変形を抑えることによ
り各薄膜磁気ヘッド素子のギャップデプスのばらつきを
抑え、ヘッド出力の安定化，寸法精度の向上，歩留りの
向上を図る。 【構成】 ウエハーよりヘッド素子ブロック１１を切り
出すに際して、所定間隔で横一列となるように複数行形
成した薄膜磁気ヘッド素子２のうち、媒体対向面が互い
に向き合ったヘッド素子群３，４を１ブロックとなるよ
うに切断する。
り各薄膜磁気ヘッド素子のギャップデプスのばらつきを
抑え、ヘッド出力の安定化，寸法精度の向上，歩留りの
向上を図る。 【構成】 ウエハーよりヘッド素子ブロック１１を切り
出すに際して、所定間隔で横一列となるように複数行形
成した薄膜磁気ヘッド素子２のうち、媒体対向面が互い
に向き合ったヘッド素子群３，４を１ブロックとなるよ
うに切断する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばハードディスク
等の如き磁気記録媒体に対して記録・再生を行う薄膜磁
気ヘッドの製造方法に関する。
等の如き磁気記録媒体に対して記録・再生を行う薄膜磁
気ヘッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ハードディスク駆動装置に搭載
される磁気ヘッドは、図９に示すように、Ａｌ2 Ｏ3 −
ＴｉＣ等からなるスライダー１０１の一側面に、ハード
ディスクとの対向面、すなわちエア・ベアリング・サー
フェス面（以下、ＡＢＳ面という。）１０２に臨んで磁
気ギャップを構成する薄膜磁気ヘッド素子１０３が真空
薄膜形成技術によって形成された構成とされている。
される磁気ヘッドは、図９に示すように、Ａｌ2 Ｏ3 −
ＴｉＣ等からなるスライダー１０１の一側面に、ハード
ディスクとの対向面、すなわちエア・ベアリング・サー
フェス面（以下、ＡＢＳ面という。）１０２に臨んで磁
気ギャップを構成する薄膜磁気ヘッド素子１０３が真空
薄膜形成技術によって形成された構成とされている。
【０００３】このスライダー１０１には、ハードディス
クに対して安定した浮上姿勢を確保するために、ＡＢＳ
面１０２の中央に空気流入溝１０４が形成されると共
に、その両脇に一対のレール１０５が形成されている。
そして、このレール１０５には、薄膜磁気ヘッド素子１
０３が形成される空気流出端側とは反対の空気流入端側
に、傾斜面１０６が形成されている。
クに対して安定した浮上姿勢を確保するために、ＡＢＳ
面１０２の中央に空気流入溝１０４が形成されると共
に、その両脇に一対のレール１０５が形成されている。
そして、このレール１０５には、薄膜磁気ヘッド素子１
０３が形成される空気流出端側とは反対の空気流入端側
に、傾斜面１０６が形成されている。
【０００４】上記構成からなる磁気ヘッドを作成するに
は、先ず、図１０に示すように、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等
からなる略円盤状をなすウエハー１０７を基台１０８の
上に固定する。そして、かかるウエハー１０７のヘッド
素子成膜部分１０７ａに真空薄膜形成手段によって、薄
膜磁気ヘッド素子１０３を複数形成する。
は、先ず、図１０に示すように、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等
からなる略円盤状をなすウエハー１０７を基台１０８の
上に固定する。そして、かかるウエハー１０７のヘッド
素子成膜部分１０７ａに真空薄膜形成手段によって、薄
膜磁気ヘッド素子１０３を複数形成する。
【０００５】薄膜磁気ヘッド素子１０３を形成するに当
たっては、図１１に示すように、薄膜磁気ヘッド素子１
０３が所定間隔で横一列となるように複数行形成する。
このとき、薄膜磁気ヘッド素子１０３の向きは、全て同
一方向を向くように形成する。
たっては、図１１に示すように、薄膜磁気ヘッド素子１
０３が所定間隔で横一列となるように複数行形成する。
このとき、薄膜磁気ヘッド素子１０３の向きは、全て同
一方向を向くように形成する。
【０００６】そして、図１２に示すように、上記ウエハ
ー１０７を縦横に切断する。その結果、図１３に示すよ
うに、横一列に薄膜磁気ヘッド素子１０３が並んだ短冊
状のヘッド素子ブロック１０９が形成される。
ー１０７を縦横に切断する。その結果、図１３に示すよ
うに、横一列に薄膜磁気ヘッド素子１０３が並んだ短冊
状のヘッド素子ブロック１０９が形成される。
【０００７】次に、図１４に示すように、このヘッド素
子ブロック１０９をＡＢＳ面となる面１０９ａを上にし
てブロック載置台１１０の載置面１１０ａに接着固定す
る。次いで、上記ヘッド素子ブロック１０９上に形成さ
れる各薄膜磁気ヘッド素子１０３の図９（ｂ）中、Ｄｐ
で示すギャップデプスを所定の値となるように研磨す
る。
子ブロック１０９をＡＢＳ面となる面１０９ａを上にし
てブロック載置台１１０の載置面１１０ａに接着固定す
る。次いで、上記ヘッド素子ブロック１０９上に形成さ
れる各薄膜磁気ヘッド素子１０３の図９（ｂ）中、Ｄｐ
で示すギャップデプスを所定の値となるように研磨す
る。
【０００８】しかる後、各薄膜磁気ヘッド素子１０３毎
にＡＢＳ面となる面１０９ａに、図９（ａ）に示した空
気流入溝１０４、レール１０５、傾斜面１０６等を形成
する。そして最後に、図１５に示すように、このヘッド
素子ブロック１０９をスライダー毎に切断し、サスペン
ションに取り付けて磁気ヘッドを完成させる。
にＡＢＳ面となる面１０９ａに、図９（ａ）に示した空
気流入溝１０４、レール１０５、傾斜面１０６等を形成
する。そして最後に、図１５に示すように、このヘッド
素子ブロック１０９をスライダー毎に切断し、サスペン
ションに取り付けて磁気ヘッドを完成させる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、ドラ
イブの小型化等に伴いヘッドも小型化してきている。ま
た、生産性の向上も含め、図１１に示すウエハー１０７
上に形成される薄膜磁気ヘッド素子１０３の配列ピッチ
Ｐ1 ，Ｐ2 が小さくなり、また図１３に示すヘッド素子
ブロック１０９自体の厚みＴも薄型化されてきている。
イブの小型化等に伴いヘッドも小型化してきている。ま
た、生産性の向上も含め、図１１に示すウエハー１０７
上に形成される薄膜磁気ヘッド素子１０３の配列ピッチ
Ｐ1 ，Ｐ2 が小さくなり、また図１３に示すヘッド素子
ブロック１０９自体の厚みＴも薄型化されてきている。
【００１０】そのため、ウエハー１０７からヘッド素子
ブロック１０９を切り出す際や、そのヘッド素子ブロッ
ク１０９をブロック載置台１１０に接着する際に、加工
歪みや接着歪みが生じ、当該ヘッド素子ブロック１０９
が変形し易くなる。
ブロック１０９を切り出す際や、そのヘッド素子ブロッ
ク１０９をブロック載置台１１０に接着する際に、加工
歪みや接着歪みが生じ、当該ヘッド素子ブロック１０９
が変形し易くなる。
【００１１】図１６（ａ）は、変形の無いヘッド素子ブ
ロック１０９を示す。このヘッド素子ブロック１０９で
は、ＡＢＳ面となる面１０９ａを所定のギャップデプス
となるまで（斜線部分）平面研磨を行った場合、ヘッド
素子ブロック１０９の両端部Ｓ1 ，Ｓ2 と中央部分Ｓ3
ではいずれも同じギャップデプスが得られる。
ロック１０９を示す。このヘッド素子ブロック１０９で
は、ＡＢＳ面となる面１０９ａを所定のギャップデプス
となるまで（斜線部分）平面研磨を行った場合、ヘッド
素子ブロック１０９の両端部Ｓ1 ，Ｓ2 と中央部分Ｓ3
ではいずれも同じギャップデプスが得られる。
【００１２】しかし、同図（ｂ）または（ｃ）のよう
に、ヘッド素子ブロック１０９が凸形状または凹形状に
変形した場合には、各薄膜磁気ヘッド素子１０３の配列
が非直線となる。この状態で平面研磨を行った場合、ヘ
ッド素子ブロック１０９の両端部Ｓ1 ，Ｓ2 と中央部分
Ｓ3 でギャップデプスにばらつきが生ずる。
に、ヘッド素子ブロック１０９が凸形状または凹形状に
変形した場合には、各薄膜磁気ヘッド素子１０３の配列
が非直線となる。この状態で平面研磨を行った場合、ヘ
ッド素子ブロック１０９の両端部Ｓ1 ，Ｓ2 と中央部分
Ｓ3 でギャップデプスにばらつきが生ずる。
【００１３】このようなヘッド素子ブロックの変形は、
ブロックの薄型化に伴うブロック剛性の低下から生ずる
ものである。従って、ヘッド素子ブロックの厚みを厚く
て剛性を増すことで変形を改善することができる。しか
しながら、単にブロックの厚みを厚くしたのでは、１枚
のウエハーから取り得るヘッドの数が減り、生産性を損
なうことになる。
ブロックの薄型化に伴うブロック剛性の低下から生ずる
ものである。従って、ヘッド素子ブロックの厚みを厚く
て剛性を増すことで変形を改善することができる。しか
しながら、単にブロックの厚みを厚くしたのでは、１枚
のウエハーから取り得るヘッドの数が減り、生産性を損
なうことになる。
【００１４】そこで本発明は、上述の従来の有する課題
に鑑みて提案されたものであり、ヘッド素子ブロックの
変形を抑えることにより各薄膜磁気ヘッド素子のギャッ
プデプスのばらつきを抑え、ヘッド出力の安定化，寸法
精度の向上，歩留りの向上を実現可能とする薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法を提供することを目的とする。
に鑑みて提案されたものであり、ヘッド素子ブロックの
変形を抑えることにより各薄膜磁気ヘッド素子のギャッ
プデプスのばらつきを抑え、ヘッド出力の安定化，寸法
精度の向上，歩留りの向上を実現可能とする薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】薄膜磁気ヘッドを製造す
るには、先ず、ウエハー上に薄膜磁気ヘッド素子を所定
間隔で横一列に複数行形成すると共に、一列毎に薄膜磁
気ヘッド素子の向きを異なるように形成する。次に、向
きの異なった薄膜磁気ヘッド素子のうち、媒体対向面が
互いに向き合った薄膜磁気ヘッド素子を横一列に配列し
た２つのヘッド素子群を１ブロックとなるようにウエハ
ーより切り出した後、その切り出されたヘッド素子ブロ
ックを切断面方向より挟み込むようにして一対のブロッ
ク載置台に対して接着固定する。
るには、先ず、ウエハー上に薄膜磁気ヘッド素子を所定
間隔で横一列に複数行形成すると共に、一列毎に薄膜磁
気ヘッド素子の向きを異なるように形成する。次に、向
きの異なった薄膜磁気ヘッド素子のうち、媒体対向面が
互いに向き合った薄膜磁気ヘッド素子を横一列に配列し
た２つのヘッド素子群を１ブロックとなるようにウエハ
ーより切り出した後、その切り出されたヘッド素子ブロ
ックを切断面方向より挟み込むようにして一対のブロッ
ク載置台に対して接着固定する。
【００１６】次いで、上記ヘッド素子ブロックを各ヘッ
ド素子群毎に２分し、その２分された各ヘッド素子ブロ
ックに形成される薄膜磁気ヘッド素子の媒体対向面とな
る面を研磨して所定のギャップデプスとする。そして最
後に、上記各ヘッド素子ブロックに形成される薄膜磁気
ヘッド素子毎にレール加工を施し、各々のヘッド素子幅
に切断する。
ド素子群毎に２分し、その２分された各ヘッド素子ブロ
ックに形成される薄膜磁気ヘッド素子の媒体対向面とな
る面を研磨して所定のギャップデプスとする。そして最
後に、上記各ヘッド素子ブロックに形成される薄膜磁気
ヘッド素子毎にレール加工を施し、各々のヘッド素子幅
に切断する。
【００１７】
【作用】本発明では、ウエハー上に薄膜磁気ヘッド素子
を形成するに当たって、一列毎に薄膜磁気ヘッド素子の
向きを異なるように形成する。そして、その向きの異な
った薄膜磁気ヘッド素子のうち、媒体対向面が互いに向
き合った薄膜磁気ヘッド素子を配列してなるヘッド素子
群２列を１ブロックとなるようにウエハーから切り出
す。そうすると、ブロックの厚みが厚くなり、ヘッド素
子ブロック自体の剛性が大きくなる。
を形成するに当たって、一列毎に薄膜磁気ヘッド素子の
向きを異なるように形成する。そして、その向きの異な
った薄膜磁気ヘッド素子のうち、媒体対向面が互いに向
き合った薄膜磁気ヘッド素子を配列してなるヘッド素子
群２列を１ブロックとなるようにウエハーから切り出
す。そうすると、ブロックの厚みが厚くなり、ヘッド素
子ブロック自体の剛性が大きくなる。
【００１８】次に、剛性が大きくなったヘッド素子ブロ
ックを切断面方向より挟み込むようにして一対のブロッ
ク載置台に対して接着固定するが、ブロックの剛性が高
いため接着歪みが発生しない。
ックを切断面方向より挟み込むようにして一対のブロッ
ク載置台に対して接着固定するが、ブロックの剛性が高
いため接着歪みが発生しない。
【００１９】次いで、ヘッド素子ブロックを各ヘッド素
子群毎に２分した後、各ヘッド素子ブロックに形成され
る薄膜磁気ヘッド素子の媒体対向面となる面を研磨して
所定のギャップデプスとするが、ここではヘッド素子ブ
ロックに変形が無いため、各薄膜磁気ヘッド素子のギャ
ップデプスが一定となる。
子群毎に２分した後、各ヘッド素子ブロックに形成され
る薄膜磁気ヘッド素子の媒体対向面となる面を研磨して
所定のギャップデプスとするが、ここではヘッド素子ブ
ロックに変形が無いため、各薄膜磁気ヘッド素子のギャ
ップデプスが一定となる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。
いて図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２１】ハードディスク用の磁気ヘッドを製造する
には、先ず、図１に示すように、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等
よりなる略円盤状をなすウエハー１上に真空薄膜形成手
段によって、薄膜磁気ヘッド素子２を所定間隔で横一列
に複数行形成する。
には、先ず、図１に示すように、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等
よりなる略円盤状をなすウエハー１上に真空薄膜形成手
段によって、薄膜磁気ヘッド素子２を所定間隔で横一列
に複数行形成する。
【００２２】ここで製造する磁気ヘッドは１つのスライ
ダーに２つの薄膜磁気ヘッド素子２を搭載させるため、
これら２つの薄膜磁気ヘッド素子２を１組として、所定
ピッチＰ1 で横一列に形成する。また、横一列に配列さ
れた薄膜磁気ヘッド素子２のヘッド素子群３，４〜１０
を、一列毎にその薄膜磁気ヘッド素子２の向きが異なる
ようにする。その結果、隣り合う２つのヘッド素子群３
と４、５と６、７と８、９と１０の各薄膜磁気ヘッド素
子２のＡＢＳ面となる面が互いに向かい合った形とな
る。
ダーに２つの薄膜磁気ヘッド素子２を搭載させるため、
これら２つの薄膜磁気ヘッド素子２を１組として、所定
ピッチＰ1 で横一列に形成する。また、横一列に配列さ
れた薄膜磁気ヘッド素子２のヘッド素子群３，４〜１０
を、一列毎にその薄膜磁気ヘッド素子２の向きが異なる
ようにする。その結果、隣り合う２つのヘッド素子群３
と４、５と６、７と８、９と１０の各薄膜磁気ヘッド素
子２のＡＢＳ面となる面が互いに向かい合った形とな
る。
【００２３】また、ヘッド素子群３，４〜１０の配列ピ
ッチＰ2 については、薄膜磁気ヘッド素子２のＡＢＳ面
となる面が互いに向かい合った２つのヘッド素子群３と
４、５と６、７と８、９と１０を１組として、所定ピッ
チＰ2 で形成する。
ッチＰ2 については、薄膜磁気ヘッド素子２のＡＢＳ面
となる面が互いに向かい合った２つのヘッド素子群３と
４、５と６、７と８、９と１０を１組として、所定ピッ
チＰ2 で形成する。
【００２４】次に、ＡＢＳ面となる面が互いに向かい合
った２つのヘッド素子群３と４、５と６、７と８、９と
１０を１組となるように、上記ウエハー１から短冊状の
ブロックとなるように切り出す。
った２つのヘッド素子群３と４、５と６、７と８、９と
１０を１組となるように、上記ウエハー１から短冊状の
ブロックとなるように切り出す。
【００２５】切り出されたヘッド素子ブロック１１を、
図２に示す。このヘッド素子ブロック１１は、２つのヘ
ッド素子群３，４を１ブロックとしているため、ブロッ
クの厚みＴが厚く、ブロック自体の剛性が大きい。
図２に示す。このヘッド素子ブロック１１は、２つのヘ
ッド素子群３，４を１ブロックとしているため、ブロッ
クの厚みＴが厚く、ブロック自体の剛性が大きい。
【００２６】次いで、図３に示すように、この切り出さ
れたヘッド素子ブロック１１を切断面方向より挟み込む
ようにして一対のブロック載置台１２，１３に接着固定
する。すなわち、図４に示すヘッド素子ブロック１１の
両切断面１１ａ，１１ｂが、各ブロック載置台１２，１
３の載置面１２ａ，１３ａにそれぞれ接着されるように
する。
れたヘッド素子ブロック１１を切断面方向より挟み込む
ようにして一対のブロック載置台１２，１３に接着固定
する。すなわち、図４に示すヘッド素子ブロック１１の
両切断面１１ａ，１１ｂが、各ブロック載置台１２，１
３の載置面１２ａ，１３ａにそれぞれ接着されるように
する。
【００２７】ヘッド素子ブロック１１を接着した場合、
当該ヘッド素子ブロック１１の厚みＴが薄いと接着歪み
が生じてブロック自体が変形し易くなる。しかし、この
ヘッド素子ブロック１１では、ブロック自体の厚みＴが
厚いため、接着歪みによる変形が生じない。
当該ヘッド素子ブロック１１の厚みＴが薄いと接着歪み
が生じてブロック自体が変形し易くなる。しかし、この
ヘッド素子ブロック１１では、ブロック自体の厚みＴが
厚いため、接着歪みによる変形が生じない。
【００２８】ヘッド素子ブロック１１をブロック載置台
１２，１３に接着した状態を、図５に示す。
１２，１３に接着した状態を、図５に示す。
【００２９】次に、図６に示すように、研削砥石である
ダイヤモンドホイール１４を図中矢印Ａ方向に回転させ
ると共に、このダイヤモンドホイール１４を図中矢印Ｂ
方向に移動させることにより、上記ヘッド素子ブロック
１１を各ヘッド素子群３と４とに２分する。
ダイヤモンドホイール１４を図中矢印Ａ方向に回転させ
ると共に、このダイヤモンドホイール１４を図中矢印Ｂ
方向に移動させることにより、上記ヘッド素子ブロック
１１を各ヘッド素子群３と４とに２分する。
【００３０】ヘッド素子ブロック１１を２分するに当た
っては、図４で示す２つのヘッド素子群３と４の間に設
けられたスペースＷ部分をスライシングする。切断を行
った場合、当該ヘッド素子ブロック１１の厚みＴが薄い
と加工歪みにより変形が発生し易くなる。しかしなが
ら、このヘッド素子ブロック１１では、厚みＴが厚く、
しかもブロック載置台１２，１３によって固定された状
態にあるので、加工歪みによる影響が少ない。
っては、図４で示す２つのヘッド素子群３と４の間に設
けられたスペースＷ部分をスライシングする。切断を行
った場合、当該ヘッド素子ブロック１１の厚みＴが薄い
と加工歪みにより変形が発生し易くなる。しかしなが
ら、このヘッド素子ブロック１１では、厚みＴが厚く、
しかもブロック載置台１２，１３によって固定された状
態にあるので、加工歪みによる影響が少ない。
【００３１】図７に、各ヘッド素子群３，４毎に２分さ
れた短冊ヘッド素子ブロック１５（一方の短冊ヘッド素
子ブロックは図示を省略する。）を示す。
れた短冊ヘッド素子ブロック１５（一方の短冊ヘッド素
子ブロックは図示を省略する。）を示す。
【００３２】次に、この短冊ヘッド素子ブロック１５の
ＡＢＳ面となる面を研磨して、所定のギャップデプスと
なるように平面研磨する。
ＡＢＳ面となる面を研磨して、所定のギャップデプスと
なるように平面研磨する。
【００３３】次いで、この短冊ヘッド素子ブロック１５
に形成される薄膜磁気ヘッド素子２毎にレール加工を施
す。レール加工は、前述した図９に示す空気流入溝、レ
ール、傾斜面等の加工である。
に形成される薄膜磁気ヘッド素子２毎にレール加工を施
す。レール加工は、前述した図９に示す空気流入溝、レ
ール、傾斜面等の加工である。
【００３４】そして最後に、図７に示すように、各々の
ヘッド素子幅に切断することで、ハードディスク用の磁
気ヘッドが完成する。以上のようにして製造された磁気
ヘッドにおいては、磁気ギャップのギャップデプスがほ
ぼ同じとなり、ヘッド出力，寸法精度も均一なものとな
る。また、前述のプロセスには入れてないが、ブロック
載置台にヘッド素子ブロックを接着する際に、該ヘッド
素子ブロックの切断面を鏡面加工する場合があるが、従
来の場合ではヘッド素子ブロック毎に処理しなければな
らなかったが、本例のヘッド素子ブロック１１では、両
面ラップ機等を用いて両切断面１１ａ，１１ｂを同時に
処理することができ、処理効率が２倍となる。
ヘッド素子幅に切断することで、ハードディスク用の磁
気ヘッドが完成する。以上のようにして製造された磁気
ヘッドにおいては、磁気ギャップのギャップデプスがほ
ぼ同じとなり、ヘッド出力，寸法精度も均一なものとな
る。また、前述のプロセスには入れてないが、ブロック
載置台にヘッド素子ブロックを接着する際に、該ヘッド
素子ブロックの切断面を鏡面加工する場合があるが、従
来の場合ではヘッド素子ブロック毎に処理しなければな
らなかったが、本例のヘッド素子ブロック１１では、両
面ラップ機等を用いて両切断面１１ａ，１１ｂを同時に
処理することができ、処理効率が２倍となる。
【００３５】ここで、ヘッド素子ブロックの剛性が大き
くなることによって、該ヘッド素子ブロック１１の変形
がどれ位減少するのかについて、計算を行ってみた。図
８に長さｌ、幅ｂ、高さｈの短冊状をなすブロック１６
を両端支持した。このブロック１５の縦弾性係数（ヤン
グ率）をＥ、荷重をＷ、断面二次モーメントをＩ（Ｉ＝
ｂｈ3 ／１２）、定数をβ（β＝５／３８４）とする
と、このブロック１６の撓みδは次のようになる。
くなることによって、該ヘッド素子ブロック１１の変形
がどれ位減少するのかについて、計算を行ってみた。図
８に長さｌ、幅ｂ、高さｈの短冊状をなすブロック１６
を両端支持した。このブロック１５の縦弾性係数（ヤン
グ率）をＥ、荷重をＷ、断面二次モーメントをＩ（Ｉ＝
ｂｈ3 ／１２）、定数をβ（β＝５／３８４）とする
と、このブロック１６の撓みδは次のようになる。
【００３６】δ＝βｗｌ3 ／ＥＩより、ブロック厚が従
来の２．５倍となると、δ＝１／１５．６となる。従っ
て、ブロック変形量が１．５μｍであるならば、約０．
１μｍ以下となる。
来の２．５倍となると、δ＝１／１５．６となる。従っ
て、ブロック変形量が１．５μｍであるならば、約０．
１μｍ以下となる。
【００３７】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の方法によれば、ウエハーよりヘッド素子ブロックを
切り出すに際して、媒体対向面となる面を互いに向かい
合わせるように薄膜磁気ヘッド素子を横一列に配列した
２つのヘッド素子群を１組としているため、ヘッド素子
ブロックの厚みが確保され、当該ブロックの剛性の高ま
りにより、加工歪みによるブロックの変形を回避でき
る。従って、磁気ギャップのギャップデプスを研磨した
場合、ブロック自体に変形が無いことから、各々のヘッ
ドのギャップデプスが一定になり、ヘッド出力及び寸法
精度の向上した磁気ヘッドを得ることができる。
明の方法によれば、ウエハーよりヘッド素子ブロックを
切り出すに際して、媒体対向面となる面を互いに向かい
合わせるように薄膜磁気ヘッド素子を横一列に配列した
２つのヘッド素子群を１組としているため、ヘッド素子
ブロックの厚みが確保され、当該ブロックの剛性の高ま
りにより、加工歪みによるブロックの変形を回避でき
る。従って、磁気ギャップのギャップデプスを研磨した
場合、ブロック自体に変形が無いことから、各々のヘッ
ドのギャップデプスが一定になり、ヘッド出力及び寸法
精度の向上した磁気ヘッドを得ることができる。
【００３８】また、薄膜磁気ヘッド素子の媒体対向面と
なる面を互いに向かい合わせていることから、配列ピッ
チをつめて薄膜磁気ヘッド素子を形成することができ、
ウエハーより切り出される磁気ヘッド数の増大が図れる
と共に、歩留りの向上も実現できる。
なる面を互いに向かい合わせていることから、配列ピッ
チをつめて薄膜磁気ヘッド素子を形成することができ、
ウエハーより切り出される磁気ヘッド数の増大が図れる
と共に、歩留りの向上も実現できる。
【図１】本発明の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、薄膜磁気ヘッド素子形成工程を示す
斜視図である。
を順次示すもので、薄膜磁気ヘッド素子形成工程を示す
斜視図である。
【図２】本発明の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、切り出したヘッド素子ブロックの斜
視図である。
を順次示すもので、切り出したヘッド素子ブロックの斜
視図である。
【図３】本発明の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをブロック載置
台に接着固定する工程を示す斜視図である。
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをブロック載置
台に接着固定する工程を示す斜視図である。
【図４】本発明の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックの拡大斜視図で
ある。
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックの拡大斜視図で
ある。
【図５】本発明の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをブロック載置
台に接着固定した状態を示す斜視図である。
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをブロック載置
台に接着固定した状態を示す斜視図である。
【図６】本発明の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックの分断工程を示
す斜視図である。
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックの分断工程を示
す斜視図である。
【図７】本発明の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをヘッド素子幅
に切断する工程を示す斜視図である。
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをヘッド素子幅
に切断する工程を示す斜視図である。
【図８】ヘッド素子ブロックの厚みを厚くしたときの撓
み量を計算するために用いた図である。
み量を計算するために用いた図である。
【図９】ハードディスク用の磁気ヘッドの斜視図を示
す。
す。
【図１０】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、薄膜磁気ヘッド素子形成工程を示す
斜視図である。
を順次示すもので、薄膜磁気ヘッド素子形成工程を示す
斜視図である。
【図１１】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ウエハーに薄膜磁気ヘッド素子を形
成した状態の斜視図である。
を順次示すもので、ウエハーに薄膜磁気ヘッド素子を形
成した状態の斜視図である。
【図１２】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ウエハーを切断する工程を示す斜視
図である。
を順次示すもので、ウエハーを切断する工程を示す斜視
図である。
【図１３】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、切り出したヘッド素子ブロックの斜
視図である。
を順次示すもので、切り出したヘッド素子ブロックの斜
視図である。
【図１４】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをブロック載置
台に接着固定する状態を示す斜視図である。
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをブロック載置
台に接着固定する状態を示す斜視図である。
【図１５】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをヘッド素子幅
に切断する工程を示す斜視図である。
を順次示すもので、ヘッド素子ブロックをヘッド素子幅
に切断する工程を示す斜視図である。
【図１６】ヘッド素子ブロックが変形した状態と変形し
ない状態を示す平面図である。
ない状態を示す平面図である。
１ ウエハー ２ 薄膜磁気ヘッド素子 ３〜１０ ヘッド素子群 １１ ヘッド素子ブロック １２，１３ ブロック載置台 １４ ダイヤモンドホイール １５ 短冊ヘッド素子ブロック
Claims (1)
- 【請求項１】 ウエハー上に薄膜磁気ヘッド素子を所定
間隔で横一列となるように複数行形成すると共に、一列
毎に薄膜磁気ヘッド素子の向きを異なるように形成する
工程と、 向きの異なった薄膜磁気ヘッド素子のうち、媒体対向面
が互いに向き合った薄膜磁気ヘッド素子を横一列に配列
した２つのヘッド素子群を１ブロックとなるようにウエ
ハーより切り出す工程と、 切り出されたヘッド素子ブロックを切断面方向より挟み
込むようにして一対のブロック載置台に対して接着固定
する工程と、 上記ヘッド素子ブロックを各ヘッド素子群毎に２分する
工程と、 ２分された各ヘッド素子ブロックに形成される薄膜磁気
ヘッド素子の媒体対向面となる面を研磨して所定のギャ
ップデプスとする工程と、 上記各ヘッド素子ブロックに形成される薄膜磁気ヘッド
素子毎にレール加工を施し、各々のヘッド素子幅に切断
する工程とからなる薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20210894A JPH0863711A (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20210894A JPH0863711A (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0863711A true JPH0863711A (ja) | 1996-03-08 |
Family
ID=16452101
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20210894A Pending JPH0863711A (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0863711A (ja) |
-
1994
- 1994-08-26 JP JP20210894A patent/JPH0863711A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030610 |