JPH0859242A - 水性ジルコニアゾル及びその製法 - Google Patents
水性ジルコニアゾル及びその製法Info
- Publication number
- JPH0859242A JPH0859242A JP17554195A JP17554195A JPH0859242A JP H0859242 A JPH0859242 A JP H0859242A JP 17554195 A JP17554195 A JP 17554195A JP 17554195 A JP17554195 A JP 17554195A JP H0859242 A JPH0859242 A JP H0859242A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zirconia
- sol
- colloidal zirconia
- colloidal
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
Abstract
容易に除去できるような低活性コロイド状ジルコニアの
安定な水性ゾルを製造すること。 【構成】目的とするゾルの製法は、10〜400m2/g の比表
面積と20〜500nm の粒子径を有し、且つ 4〜15重量%の
脱水性水分を保有する原料コロイド状ジルコニアを、 4
00〜1000℃で 0.5〜50時間焼成して、 0.1〜2 重量%の
脱水性水分を保有する焼成ジルコニア粉末を生成させ、
次いでこの焼成ジルコニア粉末を、水溶性の酸又はアル
カリが存在する水中で粉砕することにより、 5〜200m2/
g の比表面積と20〜1500 nm の粒子径を有し、且つ 0.1
〜3 重量%の脱水性水分を保有するコロイド状ジルコニ
アを 5〜80重量%の濃度に含有する安定な水性ゾルを生
成させることからなる。
Description
定な水性ゾルとその製法に関する。特に、このゾルのコ
ロイド状ジルコニアは、20〜1500nmの粒子径を
有し、そして材料表面に付着しても、その材料を水中で
洗浄すれば、その材料表面からその付着コロイド状ジル
コニアが除去される如き低い表面活性を示す。
であって、電子顕微鏡観察による5〜200nmの平均
粒子径(D)、窒素ガス吸着法により測定される5〜4
00m2 /gの比表面積そしてA×D=1000〜20
00の関係を持つ究極のコロイド状ジルコニア粒子の安
定な酸性水性ゾルが開示されている。上記ゾルは、ジル
コニウム塩を120〜300℃の温度で加圧下に加熱し
て上記塩を加水分解する方法により製造される。
イド状ジルコニアの安定なアルカリ性水性ゾルが開示さ
れている。そのゾルは、50nmの粒子径を持つコロイ
ド状ジルコニアの酸性水性ゾルに、水溶性の、ヒドロキ
シル基を持つ有機化合物を添加し、次いでその生成した
ゾルに6〜14のpHを持つゾルが形成されるように塩
基性化合物を添加する方法により製造される。
と関連する従来技術のゾル中のジルコニアのコロイド状
粒子は、材料、例えば半導体材料の表面をそれらゾルで
研磨しそしてその後水で洗浄した場合、その表面にコロ
イド状粒子のまま付着してその材料の表面上に残留する
か、又は、そのゾルが容器内で接触した場合に、容器を
空にしその後水で洗浄した場合に、その内壁上にコロイ
ド状粒子のまま付着してその容器の内壁上に残留する。
従って、従来技術のジルコニアのコロイド状粒子は、高
い表面活性を持つか又は高度に活性な表面を有する点に
特徴を有する。
は、コロイド状ジルコニアが材料の表面に付着したと
き、その表面を水で又は水中で洗浄することによりその
表面から容易に除去されるような低表面活性を持つコロ
イド状ジルコニアの安定な水性ゾルを提供することであ
る。
性を持つコロイド状ジルコニアの安定な水性ゾルを製造
するための方法を提供することである。
るコロイド状ジルコニアの安定な水性ゾルは、コロイド
状ジルコニアが、窒素ガス吸着法により測定される5〜
200m2 /gの比表面積と動的光散乱法により測定さ
れる20〜1500nmの粒子径を持つコロイド状ジル
コニアの安定な水性ゾルである。
は、そのゾルを150℃で3時間にわたり乾燥して、コ
ロイド状ジルコニアの乾燥粉末を得たとき、その乾燥粉
末は、その乾燥粉末を1100℃で1時間にわたり加熱
すると、脱水により、その乾燥粉末の0.1〜3重量%
の重量減少を示すことである。換言すると、そのゾルの
コロイド状ジルコニアは、0.1〜3重量%の脱水性の
水分を保有している。そのゾルは、コロイド状ジルコニ
アをZrO2 として5〜80重量%の量で持ちそしてコ
ロイド状ジルコニアのZrO2 1モルに対して、0.0
1〜100ミリ当量の量で水溶性酸又は1〜100ミリ
当量の量で水溶性アルカリを持つ。
性ゾルの製法は、10〜400m2/gの比表面積と2
0〜500nmの粒子径を有し、そして4ないし15重
量%の脱水性の水分を保有するコロイド状ジルコニア
を、400〜1000℃の温度で0.05〜50時間焼
成することにより、0.1〜2重量%の脱水性の水分を
保有する焼成ジルコニアを形成させる工程、及び上記焼
成ジルコニアを、この焼成ジルコニアのZrO2 1モル
当たり0.01〜100ミリ当量の水溶性酸又は1〜1
00ミリ当量の水溶性アルカリを含有する水媒体中、上
記焼成ジルコニアのZrO2 濃度を5〜80重量%に保
って、上記焼成前コロイド状ジルコニアの粒子径の1〜
3倍の粒子径を有するコロイド状ジルコニアの水性ゾル
が形成されるまで粉砕を続ける工程からなる。
れるコロイド状ジルコニアは、原料のジルコニアゾルに
由来し、このコロイド状ジルコニアは、そのコロイド状
ジルコニアを150℃の温度で3時間にわたり乾燥し
て、乾燥ジルコニア粉末を得たとき、その乾燥粉末は、
その乾燥粉末を1100℃で1時間にわたり加熱する
と、脱水により、その乾燥粉末の4〜15重量%の重量
減少を示すことに特徴がある。換言すると、原料ゾルの
コロイド状ジルコニアは、4〜15重量%の脱水性の水
分を保有している。その焼成ジルコニアは、その焼成ジ
ルコニアを150℃の温度で3時間にわたり乾燥して、
乾燥焼成ジルコニア粉末を得たとき、その乾燥粉末は、
その乾燥粉末を1100℃で1時間にわたり加熱する
と、脱水により、その乾燥粉末の0.1〜2重量%の重
量減少を示すことに特徴がある。換言すると、その焼成
ジルコニアは、粉砕の前に、0.1〜2重量%の脱水性
の水分を保有している。
の窒素ガス吸着法により測定される。コロイド状ジルコ
ニアの粒子径は、市販品の装置、例えば米国のコールタ
ー(Coulter) 社製の「N4 」という名称の装置を使用す
ることによる動的光散乱法により測定される。ゾル、コ
ロイド状ジルコニア、コロイド状ジルコニア粉末、焼成
ジルコニア及び1100℃での加熱後のジルコニア中に
含有される水溶性酸又は水溶性アルカリの量は、当該技
術分野で知られている化学分析により測定される。
性ゾルは、本質的には、コロイド状ジルコニアの原料ゾ
ル又はコロイド状ジルコニアの原料ゾルを例えば80〜
200℃の温度で乾燥することにより得られる粉状のコ
ロイド状ジルコニアを、焼成し、それにより焼成ジルコ
ニアを形成する工程と、焼成ジルコニアを酸又はアルカ
リの存在下水中で粉砕する工程からなる方法により製造
される。
素ガス吸着法により測定される10〜400、好ましく
は20〜300そして更に好ましくは50〜200m2
/gの比表面積、及び動的光散乱法による測定される2
0〜500、好ましくは50〜400そして更に好まし
くは70〜300nmの粒子径を有するものでよい。そ
の原料ゾルのコロイド状ジルコニアは、そのコロイド状
ジルコニアを150℃の温度で3時間にわたり乾燥し
て、乾燥ジルコニア粉末を得たとき、その乾燥粉末は、
その乾燥粉末を1100℃で1時間にわたり加熱する
と、脱水により、その乾燥粉末の4〜15重量%の重量
減少を示すことに特徴がある。換言すると、そのゾルの
コロイド状ジルコニアは、4〜15重量%の脱水性の水
分を保有している。
技術分野で知られている方法で製造されてよく、例え
ば、米国特許第2984628号に開示されているよう
に、水性媒体中のジルコニウム塩を加熱してその塩を加
水分解しそして媒体中にコロイド状ジルコニアを形成さ
せる方法で製造される。原料ゾルは、例えばオキシ塩化
ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、硫酸ジルコニウム又
は酢酸ジルコニウムのようなジルコニウム塩を水1リッ
トル当たり0.01〜2モルのジルコニウムイオン濃度
において、100〜200℃の温度で加圧下1〜100
時間にわたり加熱し、それによりコロイド状ジルコニア
の酸性水性ゾルを形成させる方法により製造するのが好
ましい。精製された型の原料ゾルは、酸性ゾルを限外ろ
過することにより製造され得る。アルカリ性型の原料ゾ
ルは、酸性ゾルにアルカリ性物質を添加することにより
得ることができ、これは特開平2−167826号公報
に開示されているとおりである。コロイド状ジルコニア
としては、それら粒子の凝集によって形成された大きい
粒子の形態にあっても使用することができ、例えば、コ
ロイド状ジルコニアのゾルを中性域のpHに調製するこ
とにより生成するスラリーも使用することができる。
500nmの粒子径を持つコロイド状ジルコニアの粉末
を形成させるために、原料ゾルを、乾燥器、好ましくは
スプレードライヤー中で80〜200℃、好ましくは1
00〜150℃で乾燥してよい。コロイド状ジルコニア
の粉末は、その粉末がより高い温度で再乾燥されると重
量が減少し、そしてその粒子は、それがより高い温度、
例えば500℃で焼成されてすら更に重量が減少する。
しかし、1100℃の温度で加熱した後の粉末は、その
粉末を1100℃より高い温度で再び加熱した後では重
量が減少しない。粉末の重量の減少は、粉末からの脱水
による水の放出のせいばかりではなく粉末中に含まれて
いる酸、アルカリ又は塩のような、水以外の揮散性物質
の放出のせいでもあることが見出されていた。
され得る水の量(H)は、粉末を150℃で3時間にわ
たり乾燥した後の粉末の重量(W1 )と粉末中のH2 O
以外の揮散性成分の含量(C1 )を測定し、そして粉末
を1100℃で1時間にわたり加熱した後の粉末の重量
(W2 )と粉末中のH2 O以外の揮散性成分の含量(C
2 )を再度測定し、そして 等式:H=(W1 −C1 )
−(W2 −C2 )によるHを決定することにより得られ
る。コロイド状ジルコニアから脱水され得る水の量は、
(H/W1 )×100により与えられる重量%で表され
る。
気炉又はガス炉中のセラミック又は金属製容器のような
容器中で、原料ゾル又はスラリーを焼成するか、又は好
ましくは原料ゾルを乾燥することにより得られたコロイ
ド状ジルコニアを焼成する。焼成は、分当たり1〜10
℃の速度で温度を上げることにより開始するのが好まし
く、そして焼成を400〜1000℃、好ましくは50
0〜950℃そして更に好ましくは600〜900℃の
温度で実施して焼成ジルコニアを形成させる。焼成ジル
コニアは、これを150℃で3時間乾燥して乾燥粉末を
得、次にこの乾燥粉末を1100℃で1時間加熱したと
き、この乾燥粉末に基づいて0.1〜2、好ましくは
0.1〜1.5そして更に好ましくは0.1〜1%の、
脱水による重量減少を示す特徴を持っている。換言する
と、焼成ジルコニアは、0.1〜2、好ましくは0.1
〜1.5、最も好ましくは0.1〜1重量%の脱水性の
水分を保存している。焼成を0.05〜50時間の時間
内に400〜1000℃の温度で完了することが好まし
く、そして更に短い時間内により高い温度で焼成を完了
することが最も好ましい。焼成後のジルコニアを室温に
冷却する。
水される水の量(Q)も上述のようにして、即ち、15
0℃で3時間にわたり乾燥した後の焼成ジルコニアの重
量(W3 )とH2 O以外の揮散分の重量(C3 )及び1
100℃で1時間にわたり加熱した後のジルコニアの重
量(W4 )とH2 O以外の揮散分の重量(C4 )から、
等式:Q=(W3 −C3 )−(W4 −C4 )に従って得
られる。焼成ジルコニアからの脱水される水の量は、
(Q/W3 )×100により与えられる重量%で表現さ
れる。焼成ジルコニアは、焼成前のコロイド状ジルコニ
アの比表面積と比較してより低い比表面積を持つ。
水中、5〜80、好ましくは10〜60そして更に好ま
しくは20〜50重量%の焼成ジルコニアのZrO2 濃
度で粉砕する。酸性型コロイド状ジルコニアの安定なゾ
ルは、焼成ジルコニアを、焼成ジルコニア中のZrO2
の1モルに対して0.01〜100、好ましくは0.0
3〜50そして更に好ましくは0.05〜30ミリ当量
の水溶性酸を含有する水中で、粉砕することにより得ら
れる。この酸性ゾルは、1〜6、好ましくは2〜6そし
て更に好ましくは3〜6のpHを持つ。アルカリ性型コ
ロイド状ジルコニアの安定なゾルは、焼成ジルコニア
を、焼成ジルコニア中のZrO2 の1モルに対して1〜
100、好ましくは3〜50そして更に好ましくは5〜
30ミリ当量の水溶性アルカリを含有する水中で、粉砕
することにより得られる。このアルカリ性ゾルは、8〜
13.5、好ましくは9〜13そして更に好ましくは1
0〜13のpHを持つ。別の、アルカリ性型のコロイド
状ジルコニアの安定なゾルは、アルカリ性物質を上述の
ようにして製造した酸性ゾルへ添加することにより得ら
れる。
酸、硫酸のような無機酸、例えば蟻酸、酢酸、蓚酸、酒
石酸、クエン酸、乳酸のような有機酸又はそれらの酸性
塩であってよい。ゾル中の水溶性アルカリは、例えばナ
トリウム、カリウム又はリチウムのような金属の水酸化
物、例えばテトラエタノールアンモニウム、モノエチル
トリエタノールアンモニウム、テトラメチルアンモニウ
ム又はトリメチルベンジルアンモニウムのような第四級
アンモニウムの水酸化物、又は、例えば、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、アミノエチルエタノールアミン、N,N−ジメチル
エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、モノ
プロパノールアミン又はモルホリンのようなアミン、又
はアンモニアでよい。
の添加物、例えばキサンタンゴム(xanthan gum) 、ロー
カストビーンガム(locust bean gum) 、グアーゴム、カ
ルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ポリビニルアルコール、ナトリ
ウムポリアクリレート、ポリエチレンオキシド等々のよ
うなもの、又はグリセリン、プロピレングリコール、エ
チレングリコール等々のような多価アルコールの存在下
で実施してもよい。
はアトリッションミルのようなミル中で実施してもよ
く、焼成前のコロイド状ジルコニアの粒子径の1〜3
倍、好ましくは1〜2.5倍そしてより好ましくは1〜
2倍の粒子径を持つコロイド状ジルコニアの水性ゾルが
形成されるまでの時間にわたり粉砕を継続する。粉砕
は、ボールミルによる場合、例えば20〜100時間の
間に完了する。
トビーンガム(locust bean gum) 又はグアーゴムのよう
な水溶性高分子物質を、高い粘度を持つコロイド状ジル
コニアの好ましいゾルを形成するために、そのような物
質がなしに粉砕することにより形成したゾルに添加する
と効果的である。
コニアは、窒素ガス吸着法により測定される5〜200
m2 /gの比表面積と動的光散乱法により測定される2
0〜1500nmの粒子径を持ち、そしてゾル中のコロ
イド状ジルコニアは、そのゾルを150℃で3時間にわ
たり乾燥して、コロイド状ジルコニアの粉末を得たと
き、その粉末は、その粉末を1100℃で1時間にわた
り加熱すると、脱水により、コロイド状ジルコニアの粉
末を基準にして0.1〜3、好ましくは0.1〜2.5
そして更に好ましくは0.1〜2重量%の重量減少を示
すという特徴を示す。換言すると、製品ゾル中のコロイ
ド状ジルコニアは、0.1〜3、好ましくは0.1〜
2.5そして更に好ましくは0.1〜2重量%の脱水さ
れ得る水分を保有している。粉末を加熱する時に粉末か
ら脱水され得る水の量は、上述の原料ゾル中のコロイド
状ジルコニアにおけるのと同様にして得られる。
O2 として5〜80重量%の量で含有する。そしてその
ゾルは、そのゾル中のコロイド状ジルコニアのZrO2
1モルに対して、0.01〜100ミリ当量の量で水溶
性酸又は1〜100ミリ当量の量で水溶性アルカリを有
する。
ルコニアは、原料ゾル中のコロイド状ジルコニアと比較
して顕著に低い表面活性を持ち、そのゾルは安定であ
り、5〜80重量%のZrO2 濃度を持ち、そして1〜
6の酸性pH又は8〜13.5のアルカリ性pHを持
つ。
のゾルは、所望ならば、ゾルをイオン交換樹脂を通して
脱イオン化することにより又はゾルを限外ろ過すること
により精製することができる。
うにして、ジルコニウム塩の水性溶液を120〜150
℃で加熱することからなる方法により形成されたコロイ
ド状ジルコニアは、10000のようなA×Dの大きい
値を持ち、それはその米国特許明細書に記述されている
上限値2000をはるかに超えること;そしてそのコロ
イド状ジルコニアは、窒素ガス吸着法により測定される
と、電子顕微鏡により又は動的光分散法により測定され
る平均粒子径から計算される比表面積より遙かに大きい
比表面積を持つので、その方法により形成したコロイド
状ジルコニアは緻密構造を持っていないということが見
出された。そして更に見出されたことは、その方法によ
り形成したコロイド状ジルコニアは、そのコロイド状ジ
ルコニアを高温で加熱した時にそれからの脱水による重
量減少、例えば、約7%を示すこと、 例えば約800
℃における焼成の後のジルコニアは、たとえその焼成は
コロイド状ジルコニアの粒子径を殆ど変えないにして
も、焼成前のコロイド状ジルコニアの比表面積より遙か
に低い比表面積を持つこと、及びその方法により形成し
たコロイド状ジルコニアは、例えばそのコロイド状ジル
コニアで表面を研磨した後のような材料の表面へ付着し
ているコロイド状ジルコニアが、表面が水中で洗浄され
る時すら表面から除去されない程度に高い表面活性を持
っていることである。
ド状ジルコニアは、ジルコニアの微細粒子の凝集形態で
存在するこれら微細粒子からなる究極粒子であること、
ジルコニアのその微細粒子はその微細粒子の表面上にZ
r原子に結合した多くのOH基を持ちそしてそのOH基
はその粒子に高表面活性を付与すること、及び、コロイ
ド状ジルコニアの焼成の際に、微細粒子の幾つかは変化
してより大きい粒子に合一され、そしてジルコニアの隣
接するコロイド状粒子は、互いに連結して一緒になると
いうことが考えられる。
るコロイド状ジルコニアの重量減少は、Zr原子に結合
しているOH基の縮合反応により、コロイド状ジルコニ
アからの脱水反応により形成される水の放出によるもの
であること、その焼成が微細粒子のジルコニアのより大
きい粒子への成長の原因になり、そのより大きい粒子は
ジルコニアの単位重量当たりのOH基の顕著な減少数に
由来する低表面活性を持つこと;しかしながら、その焼
成により形成された焼成ジルコニアは粒子上に外部から
加えられた機械力により粉砕され得るが、その焼成前の
コロイド状ジルコニアより小さい粒子を形成する程度に
は微小に細分化できないので、その焼成はジルコニアの
微細粒子の間に、Zr−O−Zrとして表現される化学
結合を持つ完全な格子構造を形成させる程には強くない
ということが考えられる。又、粉砕工程で水中に存在す
る酸又はアルカリは、粉砕により形成したコロイド状ジ
ルコニアの粒子を水中に安定して分散させるための安定
剤として機能すると信じられている。
ましいゾルは、本発明の好ましい方法に従って製造され
る。
/gより大きい比表面積を持つ原料コロイド状ジルコニ
アは、その焼成に使用するのに好ましくない。というの
は10m2 /gより小さい比表面積では粉砕工程で安定
なゾル製品が得られず、そして400m2 /gより大き
い比表面積では粉砕工程で低い表面活性を持つコロイド
状ジルコニアの製品が得られないからである。20nm
より小さいか又は500nmより大きい粒子径を持つコ
ロイド状ジルコニアは、その焼成に使用するのに好まし
くない。というのは20nmより小さい粒子径は焼成の
間にジルコニアの焼結の原因になる傾向があり、そして
500nmより大きい粒子径は、ゾル製品中で不安定に
沈澱するコロイド状ジルコニア製品を生成する傾向があ
るからである。
が、400℃より低いか又は1000℃より高いと好ま
しくない。というのは400℃より低い温度では粉砕工
程で表面活性の低いコロイド状ジルコニアの製品を生成
せず、そして1000℃より高い温度では粉砕工程でゾ
ル製品中で安定に分散できないコロイド状ジルコニア製
品を生成するからである。900℃より高い、特に95
0℃より高い焼成温度は、粉砕工程で焼成前のコロイド
状ジルコニアの粒子径から大きく乖離した粒子径を持つ
コロイド状ジルコニアを生成するので不利であり、そし
て600℃より低い、特に500℃より低い焼成温度
は、粉砕工程で、約3%より大きく乖離した脱水重量減
(換言すれば約3%より大きい)を示すコロイド状ジル
コニアを与えるので不利である。
長い焼成時間は、好ましくない。というのは、0.05
時間より短い時間は製造において再現性に乏しくそして
50時間より長い時間は、付加的利益がなく、製法の効
率を下げるからである。
水性の水分を保有する焼成したコロイド状ジルコニアは
好ましくない。というのは0.1%より少ない脱水性の
水分量ではゾル製品中で安定に分散し得るコロイド状ジ
ルコニア製品が得られず、そして2%より多い脱水性の
水分量では低い表面活性を持つコロイド状ジルコニア製
品を得られないからである。
0.01ミリ当量より少ない量の酸又は1ミリ当量より
少ない量のアルカリは好ましくない。というのはその量
の酸又はアルカリでは、粉砕の間、コロイド状ジルコニ
アを十分に分散しないからである。粉砕工程におけるZ
rO2 1モルに対して100ミリモル当量より多い量の
酸又はアルカリでは、安定なゾル製品が得られずそして
その製品中のコロイド状ジルコニアがゾル中で凝集する
傾向がある。
80重量%より高いZrO2 濃度は好ましくない。とい
うのは5重量%より少ない濃度のゾル製品は通常その次
の濃縮を必要として製法を非効率的にし、そして80重
量%より高い濃度はゾル中でコロイド状ジルコニアが安
定に分散できない製品を生成するからである。
ジルコニア粒子径より小さい粒子径を持つコロイド状ジ
ルコニアを生成できない。粉砕工程で、原料ゾル中のコ
ロイド状ジルコニアの粒子径の3倍より大きい粒子径を
持つコロイド状ジルコニアを生成させると、このコロイ
ド状ジルコニアは、ゾル製品中で沈澱する傾向がある。
る。これらの実施例により、本発明の範囲の限定を意図
するものではない。実施例1 この実施例では、酸性のコロイド状ジルコニアの原料ゾ
ル(S1 )とコロイド状ジルコニアの粉末(P1 )を調
製する。オキシ塩化ジルコニウムの水溶液を、純水21
00gにオキシ塩化ジルコニウム1000gを溶解する
ことにより調製する。その全溶液に、攪拌下、25%ア
ンモニア水264gを添加する。アンモニアを含有する
オキシ塩化ジルコニウム溶液全量を、オートクレーブ
中、130℃で7時間にわたり加熱し、次いでオートク
レーブ中の液体を室温まで冷却し、そして回収する。回
収した液体のpHは1以下であり、米国のコールター(C
oulter) 社製の「N4 」と呼ばれる装置を使用する動的
光散乱法により測定される粒子径89nmを有するコロ
イド状ジルコニアの水性ゾルである。そのコロイド状ジ
ルコニアは電子顕微鏡写真中では100nmの平均粒子
径を有する。
ア水11.7gを添加してpH5.2のコロイド状ジル
コニアの水性ゾルを形成する。pH5.2のコロイド状
ジルコニアに純水を添加し、次いで希釈ゾルを限外ろ過
器を通して濃縮する。希釈と限外ろ過を繰り返すあい
だ、ゾルに合計28kgの水を添加する。その結果、
4.6のpH、38重量%のZrO2 濃度、0.88重
量%のCl濃度そして0.1重量%以下のNH3 濃度を
有するコロイド状ジルコニア910gを得る。
温度100℃のスプレードライヤー中で乾燥して、N2
ガス吸着法により測定される128m2 /gの比表面積
を持つコロイド状ジルコニアの粉末(P1 )を形成す
る。
×128(m2 /g) の計算は、12800の数値に
なる。本実験のコロイド状ジルコニアは、米国特許第2
984628号の明細書に示されている2000の上限
値を遙かに超えている値である、12800の驚異的値
を持つことが見出される。
り乾燥器中で乾燥する。乾燥した後の粉末は、化学分析
によると2.28重量%のClを含有する。
1100℃の温度で1時間にわたり電気炉中で加熱す
る。10.150gの加熱後のジルコニア粉末を得る。
化学分析をすると、この加熱後の粉末中のCl含量は
0.01%以下である。この加熱による粉末の重量減少
から、コロイド状ジルコニアの粉末(P1 )は、粉末
(P1 )を150℃で3時間にわたり乾燥することによ
り調製した粉末を基準にして、乾燥した後の粉末を11
00℃で1時間にわたり加熱する時は、6.2重量%の
水が脱水されていることが見出される。
原料ゾル(S2 )とコロイド状ジルコニアの粉末
(P2 )を調製する。
ゾル(S1 )を、実施例1と同様にして調製する。
エン酸31g次いで25%アンモニア水39gを添加す
る。クエン酸とアンモニアを含有するゾルに純水を添加
し、次いで希釈したゾルを限外ろ過器を通して濃縮す
る。
全量7.8kgの純水を添加する。8.6のpH、36
重量%のZrO2 濃度、0.01重量%以下のCl濃
度、2.5重量%のクエン酸濃度そして0.08重量%
のNH3 濃度を有するコロイド状ジルコニアの精製ゾル
(S2 )1050gを得る。ゾル中のコロイド状ジルコ
ニアは、装置N4 で測定される粒子径104nmを有す
る。
温度100℃のスプレードライヤー中で乾燥して、N2
ガス吸着法により測定される135m2 /gの比表面積
を持つコロイド状ジルコニアの粉末(P2 )を得る。
り乾燥器中で乾燥する。乾燥後の粉末は、化学分析によ
ると、6.88重量%のクエン酸含量、0.01重量%
以下のCl含量そして0.01重量%以下のNH3 含量
を有する。次いで乾燥後の粉末11.713gを110
0℃の温度で1時間にわたり電気炉中で加熱する。加熱
後、10.162gのジルコニア粉末を得る。取得した
粉末は、0.01重量%以下より少ない量でクエン酸を
含有する。
粉末(P2 )を150℃で3時間にわたり乾燥すること
により調製した粉末を基準にして、乾燥した後の粉末を
1100℃で1時間にわたり加熱する時は、6.4重量
%の水が脱水されていることが見出される。
いろいろの条件で焼成して焼成ジルコニアを形成させ、
そして焼成したジルコニアを水中で粉砕する。粉末(P
2 )を電気炉中、第1表に記載した温度と時間で焼成し
て、焼成ジルコニア(T1 )ないし(T6 )(T6 は比
較例である。)を形成させる。ジルコニア(T1 )は化
学分析によると30ppm(重量)のClを含有する。
ジルコニア(T1 )ないし(T6 )それぞれについて比
表面積(m2 /g)を測定し、そしてジルコニア
(T1 )ないし(T6 )それぞれについて重量減少率
(脱水量,%)を、上述と同様の方法により、すなわ
ち、焼成ジルコニア(T1)ないし(T6 )を150℃
で3時間にわたり乾燥した後、1100℃で1時間にわ
たり加熱する方法により得る。結果を第1表に示す。
り、0.2ミリ当量のHClを含有する塩化水素水溶液
204gを調製する。
した塩化水素水溶液204g及び5mmの直径を持つジ
ルコニア製硬質ビーズ700gを、8cmの直径を持つ
ボールミル中へ投入する。ミルを密閉し、92時間にわ
たり200rpmの速度で回転する。ミルから、5.4
のpHと31重量%のZrO2 濃度を有するコロイド状
ジルコニアの安定な水性ゾル(Z1 )を回収する。
粒子径は、装置N4 により測定すると152nmであ
る。
温度100℃のスプレードライヤー中で乾燥して、コロ
イド状ジルコニア粉末を得る。その粉末は、N2 ガス吸
着法により測定される61.8m2 /gの比表面積を示
す。
nmの粒子径を有するコロイド状ジルコニアへの粉砕を
もたらすが、ゾル(Z1 )中のコロイド状ジルコニアの
61.8m2 /gの比表面積は焼成ジルコニア(T1 )
の60.5m2 /gの比表面積と比較して殆ど変化して
いないこと、及びその152nmの粒子径はゾル
(S2 )中のコロイド状ジルコニアの粒子径104nm
の1.5倍であることが認められる。
つ粉末を150℃で3時間にわたり乾燥器中で乾燥す
る。乾燥後の粉末は、化学分析によると0.1重量%以
下のクエン酸を含有する。粉末10.447gを110
0℃で1時間にわたり加熱することにより加熱後のジル
コニア10.173gが得られる。ゾル(Z1 )中のコ
ロイド状ジルコニアは、スプレードライヤー中で得られ
る粉末を150℃で3時間にわたり乾燥することにより
調製されるコロイド状ジルコニアの粉末を基準にして、
乾燥した後の粉末を1100℃で1時間にわたり加熱す
る時は、2.6重量%の水が脱水されていることが見出
される。
(T6 )の各々を、水中、第2表に示したミリ当量の量
の酸又はアルカリの存在下、粉砕する。ジルコニア(T
2 )ないし(T5 )からは安定な水性ゾル(Z2 )ない
し(Z5 )が得られたが、ジルコニア(T6 )からは水
性スラリーが得られた。各々のゾル中のコロイド状ジル
コニアの比表面積は、対応するジルコニア(T2 )ない
し(T5)のそれと比較して殆ど変化していない。ジル
コニア(T6 )を粉砕することにより生成するスラリー
中のジルコニアの比表面積は7.2m2 /gであって、
ジルコニア(T6 )の4.8m2 /gより若干大きい。
子径は装置N4 により測定され、そして第2表に記載さ
れている。
より形成したスラリー中のジルコニアの各々からの脱水
された水の量は実施例3と同様にして測定され、そして
第2表に記載されている。
アのアルカリ性ゾルを調製する。実施例3と同様にして
調製したゾル(Z1 )1000gに、1000gの純水
を添加して15重量%のZrO2 濃度を有するコロイド
状ジルコニアの希釈ゾルを調製する。次いでその希釈ゾ
ルの全量に、5重量%の濃度を有する水酸化カリウムの
水溶液36gを添加し、得られたゾルを室温で4時間に
わたり強く攪拌する。10.4のpHを有するコロイド
状ジルコニアの安定なアルカリ性ゾルを得る。10.4
のpHを有するゾルから蒸留で水を除くことにより、2
0重量%のZrO2 濃度を有するコロイド状ジルコニア
の濃縮ゾルを調製する。
アの表面活性を、原料ゾル(S1 )の対照例と比較して
試験する。ゾル(Z3 )とゾル(S1 )の各々を、長さ
7.5cm、巾2.5cmの透明なガラス板の表面上に
塗布し、室内環境中で乾燥しコロイド状ジルコニアをガ
ラス板の表面上に付着させる。
ツ)、出力210Wの超音波を水に加え、その水中に上
記のガラス板を室温で60分間にわたり浸漬する。ゾル
(Z3 )からの付着したコロイド状ジルコニアはガラス
表面から除去されるが、ゾル(S1 )中からの付着した
コロイド状ジルコニアはガラス板から殆ど脱落しない。
水性ゾルは、酸性又はアルカリ性であってよく、水溶性
の有機添加剤を含有でき、そして工業製品として供給さ
れ得る。そのゾルは、いろいろな分野、例えば精密鋳造
に使用するための耐熱性を強化した鋳型を製造するため
の結合剤、材料例えば金属、セラミック又はコンクリー
トをウォータージェット切断するための水性媒体中に含
有される研磨剤、又はいろいろな材料の表面を粗に、精
密に又は鏡面様に研磨するための研磨剤、等々に適用で
きる。
ウム又はIII −V族、II−VI族又はI−VII 族の型の化
合物のような半導体の表面;光ファイバーに使用するた
めの石英、液晶セルに使用するためのガラス、光学セラ
ミックに使用するためのニオブ酸リチウム又はタンタル
酸リチウムの表面;電子又は電気製品の部品に使用する
ための水晶、窒化アルミニウム、アルミナ、フェライト
又はジルコニアの表面;多層配線半導体デバイスにおけ
る層間絶縁膜、及びアルミニウム、銅、タングステン又
はそれらの合金のようなメタル配線の表面;そして炭化
タングステンのような超硬合金の表面を研磨するのに有
用であることが明瞭である。
Zr以外の他の金属酸化物のゾルのコロイド状粒子の表
面上の電荷が、ジルコニアのコロイド状粒子のそれと同
じである限りは、そのZr以外の他の金属酸化物のゾル
と所望の比率で、例えばジルコニア100重量部に対し
て10〜90重量部で混合してもよい。かくして、例え
ばアルカリ性のコロイド状ジルコニアの水性ゾルをアル
カリ性のコロイド状シリカの水性ゾルと混合することに
より、又は酸性のコロイド状ジルコニアを酸性のコロイ
ド状アルミナの水性ゾルと混合することにより、混合ゾ
ルが得られる。混合ゾルも、上述のような多層配線半導
体デバイスにおける層間絶縁膜、及びアルミニウム、
銅、タングステン又はそれらの合金のようなメタル配線
の表面を研磨するのにも有用である。
Claims (4)
- 【請求項1】 5〜200m2 /gの比表面積と20〜
1500nmの粒子径を有し、そして0.1〜3重量%
の脱水性の水分を保有するコロイド状ジルコニアをその
ZrO2 として5〜80重量%の濃度に含有し、そして
このコロイド状ジルコニアのZrO2 1モル当たり0.
01〜100ミリ当量の水溶性酸を更に含有するコロイ
ド状ジルコニアの安定な水性ゾル。 - 【請求項2】 10〜400m2 /gの比表面積と20
〜500nmの粒子径を有し、そして4ないし15重量
%の脱水性の水分を保有するコロイド状ジルコニアを、
400〜1000℃の温度で0.05〜50時間焼成す
ることにより、0.1〜2重量%の脱水性の水分を保有
する焼成ジルコニアを形成させる工程、及び上記焼成ジ
ルコニアを、この焼成ジルコニアのZrO2 1モル当た
り0.01〜100ミリ当量の水溶性酸を含有する水媒
体中、上記焼成ジルコニアのZrO2 濃度を5〜80重
量%に保って、上記焼成前コロイド状ジルコニアの粒子
径の1〜3倍の粒子径を有するコロイド状ジルコニアの
水性ゾルが形成されるまで粉砕を続ける工程からなる請
求項1に記載のコロイド状ジルコニアの安定な水性ゾル
の製造方法。 - 【請求項3】 5〜200m2 /gの比表面積と20〜
1500nmの粒子径を有し、そして0.1〜3重量%
の脱水性の水分を保有するコロイド状ジルコニアをその
ZrO2 として5〜80重量%の濃度に含有し、そして
このコロイド状ジルコニアのZrO2 1モル当たり1〜
100ミリ当量の量で水溶性アルカリを更に含有するコ
ロイド状ジルコニアの安定な水性ゾル。 - 【請求項4】 請求項2に記載の焼成ジルコニアを形成
させる工程、及びこの工程で得られた焼成ジルコニア
を、この焼成ジルコニアのZrO2 1モル当たり1〜1
00ミリ当量の水溶性アルカリを含有する水媒体中、上
記焼成ジルコニアのZrO2 濃度を5〜80重量%に保
って、上記焼成前コロイド状ジルコニアの粒子径の1〜
3倍の粒子径を有するコロイド状ジルコニアの水性ゾル
が形成されるまで粉砕を続ける工程からなる請求項3に
記載のコロイド状ジルコニアの安定な水性ゾルの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17554195A JP3778219B2 (ja) | 1994-06-17 | 1995-06-19 | 水性ジルコニアゾル及びその製法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13561194 | 1994-06-17 | ||
JP6-135611 | 1994-06-17 | ||
JP17554195A JP3778219B2 (ja) | 1994-06-17 | 1995-06-19 | 水性ジルコニアゾル及びその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0859242A true JPH0859242A (ja) | 1996-03-05 |
JP3778219B2 JP3778219B2 (ja) | 2006-05-24 |
Family
ID=26469425
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17554195A Expired - Fee Related JP3778219B2 (ja) | 1994-06-17 | 1995-06-19 | 水性ジルコニアゾル及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3778219B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006123562A1 (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 研磨用組成物の製造方法 |
-
1995
- 1995-06-19 JP JP17554195A patent/JP3778219B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006123562A1 (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 研磨用組成物の製造方法 |
US7678703B2 (en) | 2005-05-20 | 2010-03-16 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Production method of polishing composition |
US8323368B2 (en) | 2005-05-20 | 2012-12-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Production method of polishing composition |
JP5218736B2 (ja) * | 2005-05-20 | 2013-06-26 | 日産化学工業株式会社 | 研磨用組成物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3778219B2 (ja) | 2006-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100364375B1 (ko) | 지르코니아 수성 졸 및 그 제조방법 | |
JP5013671B2 (ja) | 金属酸化物ゾルの製造方法および金属酸化物ゾル | |
JPH01103904A (ja) | 無機球状微粒子の製造方法 | |
TW200415259A (en) | Improved polishing formulations for SiO2-based substrates | |
JP3284413B2 (ja) | 水和ジルコニアゾルおよびジルコニア粉末の製造方法 | |
CN105565359A (zh) | 一种平均粒径可调的超细氧化铈抛光粉的制备方法 | |
JPH01153530A (ja) | 結晶性酸化ジルコニウム粉末、その製造法および焼結セラミツクの製造法 | |
CN101284952A (zh) | 化学机械抛光磨料粒子CeO2及其制备方法 | |
JP3837754B2 (ja) | 結晶性酸化第二セリウムの製造方法 | |
JPH09235119A (ja) | 低活性ジルコニアの水性ゾル及びその製法 | |
JP2868176B2 (ja) | 希土類元素酸化物粉末の製造方法 | |
JP2006240928A (ja) | ジルコニア微粉末及びその製造方法 | |
CN102079950A (zh) | 单分散稀土抛光粉制备方法 | |
JP3831982B2 (ja) | アルミニウムディスクの研磨用組成物 | |
JP2005170700A (ja) | 酸化ジルコニウム粒子とその製造方法 | |
JPH0859242A (ja) | 水性ジルコニアゾル及びその製法 | |
JP5574527B2 (ja) | 酸化セリウム微粒子の製造方法 | |
JP3692188B2 (ja) | イットリウムアルミニウムガーネット微粉体の製造方法 | |
JPH07101726A (ja) | 粒状酸化タンタル又は酸化ニオブの製造方法 | |
JPS62270418A (ja) | フルオロ硫酸ジルコニウムからミクロン以下の安定化されたジルコニアを製造する方法 | |
JP2001253709A (ja) | 結晶性酸化第二セリウム粒子の製造方法 | |
JPH04280815A (ja) | 微粒子チタン酸アルカリ及びその製造法 | |
JPH04357115A (ja) | 酸化ジルコニウム粉末及びその製造方法 | |
TW412504B (en) | A process for preparation of silica | |
JPH05147924A (ja) | アルミナ・シリカ系粉末の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060208 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060221 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090310 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100310 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110310 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110310 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120310 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130310 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140310 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |