JPH08507787A - 放射線撮影イメージング剤に有用なヘテロ環基部を有する窒素−硫黄配位子類 - Google Patents

放射線撮影イメージング剤に有用なヘテロ環基部を有する窒素−硫黄配位子類

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JPH08507787A
JPH08507787A JP6521112A JP52111294A JPH08507787A JP H08507787 A JPH08507787 A JP H08507787A JP 6521112 A JP6521112 A JP 6521112A JP 52111294 A JP52111294 A JP 52111294A JP H08507787 A JPH08507787 A JP H08507787A
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ラジャゴパラン、ラグハーヴァン
シュリニバサン、アナンタチャリ
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マリンクロット・メディカル・インコーポレイテッド
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、特に、放射性核種との錯体形成に適し、診断目的の汎用イメージング剤として有用な、ヘテロ環基部を有する新規窒素−硫黄配位子類に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 放射線撮影イメージング剤に有用な ヘテロ環基部を有する窒素−硫黄配位子類 発明の背景 本発明は、放射性核種錯体を形成するための新規配位子類、該配位子類を組み 込んでいる新規錯体、該錯体の製法、該錯体が含まれているイメージング剤およ び該イメージング剤を用いるイメージング法に関する。 骨格構造、器官または組織を可視化するための放射線撮影イメージング剤は、 生物学および医学研究、および診断法の分野でよく知られている。このようなイ メージング達成方法は、一般に、生物学的対象に投与したとき、研究しようとす る特定の骨格構造、器官または組織内に局在化される放射性薬剤の調製を含んで いる。局在化された放射性薬剤は、次に、放射線検出器、例えば、トラバーシン グスキャナまたはシンチレーションカメラにより追跡、プロットされ、またはシ ンチフォトグラフィーにかけられる。検出された放射活性薬剤の分布および相対 強度は、薬剤が取り込まれた組織の位置を示すものであり、また異常の存在、病 理学的状態なども示す。 一般に、放射線撮影イメージング剤は、放射性核種標識された化合物、例えば 、テクネチウム99m、レニウム186またはレニウム188、または他の適用 出来る放射性核種等の錯体を、適切なキャリアーおよび補助剤、例えば、患者へ の注射または吸引に適した運搬媒体、生理的緩衝液および塩などと共に含んで成 るものである。 発明の詳細な説明 本発明は、特に、放射性核種との錯体形成に適し、かつ一般診断目的用イメー ジング剤として有用である、新規アミノチオール配位子類に関する。さらに詳し くは、本発明は、一般式 式中、R1は、水素、アルキル、ヒドロキシル、アルコキシル、ヒドロキシアル キル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボニルまたはカルバモイルから成る 群から選択されるが、ここで、これらの基の炭素含有部分は、1ないし10の炭 素原子を含有するものであり; R2は、アセチル、ベンゾイル、メトキシアセチル、1,3−ジオキサシクロヘキ シル、1,3−ジオキサシクロペンチル、アルコキシカルボニル、カルバモイル 、アルコキシアルキル、ジアルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、テトラ ヒドロフラニル、p−メトキシベンジル、ベンズヒドリル、トリチルおよび同種 物から成る群から選択される適切な硫黄保護基であり; Qは、(CH2p、−O、−SまたはNR3であるが、ここでpは0または1で あり、R3は前記R1と同じ定義のものであり; Lは、 式中、k、l、mおよびnは0ないし10、好ましくは1ないし6であり、Eは −O−、−S−または−NR5であるが、ここでR5は前記R1と同じ定義のもの であり、R4は前記R1と同じ定義のものであり、Xは、ホルミル、カルボキシル 、ヒドロキシル、アミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、クロロカルボニル、 N −アルコキシカルバモイル、スクシンイミジルオキシカルボニル、イミデート、 イソシアネート、イソチオシアネート、テトラフルオロフェノキシおよび同種物 から成る群から選択される適切なカップリング部位である、から成る群から選択 され; Aは、 式中、R6およびR7は、前記R1と同じ定義のものであり、Yは、前記Lと同じ 定義のものである、であり; Bは、 式中、R8およびR9は、前記R1と同じ定義のものであり、Zは、前記Lと同じ 定義のものである、から成る群から選択される、 を有するものである、新規配位子類に関する。 好ましい実施態様において、本発明の配位子類は、R1、R6、R7およびYが 、水素であり; Bが、 式中、R8は水素、Zは、 であり、ここで、R4は水素であり、Eは−NH−であり、mは2であり、nは 4であり、Xはカルボキシルである、であり; R2がベンゾイルまたはテトラヒドロピラニル基であり; Lが水素であり;さらに、 Qが−Oである、 上記一般式(I)を有するものである。 他の好ましい実施態様において、本発明の配位子類は、R1、R6、R7および Yが、水素であり; Bが、 式中、R8は水素、Zは−(CH2k−X基であり、ここで、kは2または4で あり、Xはアミノ、カルボキシルまたはヒドロキシルのうちの1つである、であ り; R2が、ベンゾイルまたはテトラヒドロピラニル基であり; Lが、水素であり;さらに、 Qが、−Oである、 一般式(I)を有するものである。 上記の新規配位子類は、放射線撮影イメージング剤として使用される放射性核 種内に取り込まれ得る。さらに、これらの配位子類または錯体類は、共有結合的 にまたは非共有結合的に生物学上活性なキャリアー分子、例えば、抗体類、酵素 類、ペプチドホルモン類、および同種物に結合させてもよい。本発明の錯体類は 、 前記配位子類の1つを、放射性核種含有溶液と、放射性核種錯体形成反応条件下 で反応させることにより、製造する。特に、テクネチウム剤が望まれる場合、反 応を、テクネチウム99m錯体形成反応条件下、過テクネテート溶液で行う。溶 媒が、水または生理食塩水以外であれば、溶媒を適切な方法、例えばエバポレー ションにより除去する。その後、錯体類を医薬的に許容され得る媒体中に溶解ま たは懸濁して、患者への投与用に調製する。 本発明の配位子類は、商業的に入手出来る出発物質、例えば4−(2−アミノ エチル)モルホリン、ピリジン、リジン、メルカプト酢酸等から、下記実施例1 −2に記載した標準的合成法により製造出来る。 本発明の放射性核種錯体は、一般式 式中、Mは、適切な放射性核種、例えば、テクネチウムまたはレニウムであり、 AおよびBは、前記式(I)で定義した通りである、 を有し得る。 好ましい実施態様において、一般式(II)を有するテクネチウム放射性核種錯 体は、過テクネテート溶液および、 前記一般式(I)を有する配位子、但し、式中R1、L、R6、R7およびYは、 水素であり;Bは、 式中、R8は水素、Zは であり、ここで、R4は水素であり、Eは−NH−であり、mは2であり、nは 4であり、Xはカルボキシルである、であり;さらに Qは、−Oである、 とから形成され得る。 他の好ましい実施態様において、一般式(II)を有するテクネチウム錯体は、 過テクネテート溶液および、 前記一般式(I)を有する配位子、但し、式中R1、L、R6、R7およびYは、 水素であり;Bが、 式中、R8は水素、Zは−(CH2k−X基であり、ここで、kは2または4で あり、Xはアミノ、カルボキシルまたはヒドロキシルのうちの1つである、であ り; Qが、−Oである、 とから形成され得る。 放射性核種を含有する溶液は、知られている手法で放射性核種生成源から得る ことが出来る。例えば、テクネチウム錯体を形成させる場合、過テクネテート溶 液は知られている手法でテクネチウム生成源から得ることが出来る。次いで、放 射性核種錯体形成反応を適切な反応条件下で行う。例えば、テクネチウム99m 錯体形成反応は、テクネチウム錯体形成温度下、例えば、20℃ないし100℃ で10分ないし数時間かけて行う。適切な配位子類を、放射性核種錯体形成量よ りも大過剰量で使用するのが好ましい。過テクネテートは、テクネチウム錯体形 成量、例えば、約10-6ないし10-12モル量で使用する。 本発明は、また医薬的に許容され得る放射能学的媒体と共に、上記放射性核種 錯体をイメージングに十分な量含有するイメージング剤にも関する。放射能学的 媒体は、注射または吸引に適するべきであり、例えば、ヒト血清アルブミン;水 性緩衝溶液、例えば、トリス(ヒドロメチル)アミノメタン(およびその塩)、 リン酸塩、クエン酸塩、重炭酸塩等;滅菌水;生理食塩水;および塩化物および またはジカーボネート塩、または正常血漿カチオン、例えば、Ca2+、Na+、K+ 、Mg2+を含有する平衡化イオン溶液である。 本発明のイメージング剤の放射能学的媒体中の濃度は、満足のいくイメージン グを提供するに十分であるべきであり、例えば、水性溶液を使用する場合、その 用量は、約1.0ないし50ミリキュリーである。イメージング剤は、患者の体 内で約1ないし3時間留まるように投与すべきであるが、それより長短両方の期 間が許容出来る。それ故に、水性溶液1ないし10mlを含有する便利なアンプル を用意出来る。 イメージングは、通常の方法で行うことが出来、例えば、適切なイメージング を提供するに十分量の組成物を注射し、次いで、適切な機器、例えばガンマカメ ラでスキャンニングする。 本発明の錯体類は、下記実施例に従い製造出来る。 実施例1 3,6−ジアザ−4−(2−ヒドロキシ)エチル−(S−テトラヒドロピラニ ル)−メルカプト−8−(4−モルホリノ)オクタンの製造 3−アミノ−5−アザ−7−(2−モルホリノ)−4−オキソヘプタン−1− オール(2.31g、0.01モル)と(S−テトラヒドロピラニル)メトカプト 酢酸N−スクシンイミドエステル(2.63g、0.01モル)との混合物を、ア セトニトリル(25ml)中、周辺温度で4時間攪拌した。溶媒を真空下で蒸発さ せ、残渣を逆相フラッシュクロマトグラフィー(50g)により、精製した。水 で溶出して、低分子量不純物と共にN−ヒドロキシスクシンイミドを除去した。 水/メタノール(7:3)で溶出して、配位子を得た。溶媒を蒸発させ、所望の 生成物を明褐色のガラス質固体として得た。13C−NMR(D2O)δ173.1 ,172.5,82.2,65.2,57.0,55.4,51.6,50.8,35. 0,32.6,32.4,29.8,23.8,20.5;熱スプレーマススペクト ル、m/Z390(M+1)。 実施例2 実施例1の配位子のテクネチウム−99m錯体の製造 実施例1の配位子の溶液(0.5Mリン酸ナトリウム緩衝液中1.0mg/ml貯蔵 溶液110μl、pH8)を、グルコン酸ナトリウム(50mg)および塩化スズ (II)(0.5mg)を含有するバイアル中に入れた。次いで、過テクネテートナ トリウムの生理食塩水(1ml)溶液を加え、混合物全体を沸騰水浴中で15分間 加熱した。生成物を、逆相HPLCにより単離および精製して、中性99mTc( V)錯体を約80−85%収率で得た。 上記は、本発明の好ましい実施態様の説明であるが、本発明を何等限定するす ることを意図するものではない。むしろ、細部にわたる多くの修飾、変形および 変化は、本発明の範囲内で為される得るものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.配位子が一般式 式中、R1は、水素、アルキル、ヒドロキシル、アルコキシル、ヒドロキシアル キル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボニルまたはカルバモイルから成る 群から選択されるが、ここで、これらの基の炭素含有部分は、1ないし10の炭 素原子を含有するものであり; R2は、アセチル、ベンゾイル、メトキシアセチル、1,3−ジオキサシクロヘキ シル、1,3−ジオキサシクロペンチル、アルコキシカルボニル、カルバモイル 、アルコキシアルキル、ジアルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、テトラ ヒドロフラニル、p−メトキシベンジル、ベンズヒドリル、トリチルおよび同種 物から成る群から選択される適切な硫黄保護基であり; Qは、(CH2p−O、−SまたはNR3であるが、ここでpは0または1であ り、R3は前記R1と同じ定義のものであり; Lは、 式中、k、l、mおよびnは0ないし10、好ましくは1ないし6であり、Eは −O−、−S−または−NR5であるが、ここでR5は前記R1と同じ定義のもの であり、R4は前記R1と同じ定義のものであり、Xは、ホルミル、カルボキシル 、 ヒドロキシル、アミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、クロロカルボニル、N −アルコキシカルバモイル、スクシンイミジルオキシカルボニル、イミデート、 イソシアネート、イソチオシアネート、テトラフルオロフェノキシおよび同種物 から成る群から選択される適切なカップリング部位である、から成る群から選択 され; Aは、 式中、R6およびR7は、前記R1と同じ定義のものであり、Yは、前記Lと同じ 定義のものである、であり; Bは、 式中、R8およびR9は、前記R1と同じ定義のものであり、Zは、前記Lと同じ 定義のものである、から成る群から選択される、 を有するものである、放射性核種錯体の形成に有用な配位子。 2.R1、R6、R7およびYが、水素であり; Bが、 式中、R8は水素、Zは、 であり、ここで、R4は水素であり、Eは−NH−であり、mは2であり、nは 4であり、Xはカルボキシルである、であり; R2が、ベンゾイルまたはテトラヒドロピラニル基であり; Lが、水素であり;さらに、 Qが、−Oである、請求の範囲第1項記載の配位子。 3.R1、R6、R7およびYが、水素であり; Bが、 式中、R8は水素、Zは−(CH2k−X基であり、ここで、kは2または4で あり、Xはアミノ、カルボキシルまたはヒドロキシルのうちの1つである、であ り; R2が、ベンゾイルまたはテトラヒドロピラニル基であり; Lが、水素であり; Qが、−Oである、請求の範囲第1項記載の配位子。 4.k、l、mおよびnが1ないし6である、請求の範囲第1項記載の配位子 。 5.一般式: 式中、Mは、適切な放射性核種であり;Aは、 式中、R6およびR7は、同じかまたは異なって、水素、アルキル、ヒドロキシル 、アルコキシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボ ニルまたはカルバモイルから成る群から選択されるが、ここで、これらの基の炭 素含有部分は1ないし10の炭素原子を含有するものであり; Yは、 式中、k、l、mおよびnは0ないし10、好ましくは1ないし6であり、Eは −O−、−S−または−NR5であるが、ここでR5は前記R6およびR7と同じ定 義のものであり、R4は前記R6およびR7と同じ定義のものであり、さらに、X は、ホルミル、カルボキシル、ヒドロキシル、アミノ、t−ブトキシカルボニル アミノ、クロロカルボニル、N−アルコキシカルバモイル、スクシンイミジルオ キシカルボニル、イミデート、イソシアネート、イソチオシアネート、テトラフ ルオロフェノキシおよび同種物から成る群から選択される適切なカップリング部 位である、から成る群から選択され; Bは、 式中、R8およびR9は、前記R6およびR7と同じ定義のものであり、Zは、前記 Yと同じ定義のものである、から成る群から選択され;さらに、 Qは、(CH2p、−O、−SまたはNR3であるが、ここでpは0または1で あり、R3は前記R6およびR7と同じ定義のものである、 を有する放射性核種錯体。 6.Mがテクネチウムまたはレニウムである、請求の範囲第5項記載の錯体。 7.R6、R7およびYが、水素であり; Bが、 式中、R8は水素、Zは、 であり、ここで、R4は水素であり、Eは−NH−であり、mは2であり、nは 4であり、Xはカルボキシルである、であり;さらに Qは、−Oである、請求の範囲第5項記載の錯体。 8.R6、R7およびYが、水素であり; Bが、 式中、R8は水素、Zは−(CH2k−X基であり、ここで、kは2または4で あり、Xはアミノ、カルボキシルまたはヒドロキシルのうちの1つである、であ り ;Qが、−Oである、請求の範囲第5項記載の錯体。 9.k、l、mおよびnが1ないし6である、請求の範囲第5項記載の錯体。 10.一般式: 式中、Mは、適切な放射性核種であり;Aは、 式中、R6およびR7は、同じかまたは異なって、水素、アルキル、ヒドロキシル 、アルコキシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボ ニルまたはカルバモイルから成る群から選択されるが、ここで、これらの基の炭 素含有部分は1ないし10の炭素原子を含有するものであり; Yは、 式中、k、l、mおよびnは0ないし10、好ましくは1ないし6であり;Eは −O−、−S−または−NR5であるが、ここでR5は前記R6およびR7と同じ定 義のものであり、R4は前記R6およびR7と同じ定義のものであり、さらに、X は、ホルミル、カルボキシル、ヒドロキシル、アミノ、t−ブトキシカルボニル アミノ、クロロカルボニル、N−アルコキシカルバモイル、スクシンイミジルオ キシカルボニル、イミデート、イソシアネート、イソチオシアネート、テトラフ ルオロフェノキシおよび同種物から成る群から選択される適切なカップリング部 位である、から成る群から選択され; Bは、 式中、R8およびR9は、前記R6およびR7と同じ定義のものであり、Zは、前記 Yと同じ定義のものである、から成る群から選択され;さらに、 Qは、(CH2p、−O、−SまたはNR3であるが、ここでpは0または1で あり、R3は前記R6およびR7と同じ定義のものである、 を有する放射性核種錯体の製法であって、放射性核種含有溶液と、一般式: 式中、Q、AおよびBは、前記定義の通りであり;R1は、前記R6およびR7と 同じ定義のものであり、Lは前記Yと同じ定義のものであり、更にR2は、アセ チル、ベンゾイル、メトキシアセチル、1,3−ジオキサシクロヘキシル、1,3 −ジオキサシクロペンチル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、アルコキシ アルキル、ジアルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニ ル、p−メトキシベンジル、ベンズヒドリル、トリチルおよび同種物から成る群 から選択される適切な硫黄保護基である、 を有する配位子とを反応させることを含んで成る、製法。 11.Mがテクネチウムまたはレニウムであり、該放射性核種含有溶液が、それ ぞれ過テクネテートまたは過レネート溶液である、請求の範囲第10項記載の製 法。 12.R1、R6、R7およびYが水素であり; Bが、 式中、R8は水素、Zは、 であり、ここで、R4は水素であり、Eは−NH−であり、mは2であり、nは 4であり、Xはカルボキシルである、であり;R2がベンゾイルまたはテトラヒ ドロピラニル基であり;Lが水素であり;さらに Qは、−Oである、 請求の範囲第10項記載の製法。 13.R1、R6、R7およびYが水素であり; Bが、 式中、R8は水素、Zは−(CH2k−X基であり、ここで、kは2または4で あり、Xはアミノ、カルボキシルまたはヒドロキシルのうちの1つである、であ り; R2がベンゾイルまたはテトラヒドロピラニル基であり; Lが水素であり;さらに、 Qが−Oである、請求の範囲第10項記載の製法。 14.k、l、mおよびnが1ないし6である、請求の範囲第10項記載の製法 。 15.一般式: 式中、Mは、適切な放射性核種であり;Aは、 式中、R6およびR7は、同じかまたは異なって、水素、アルキル、ヒドロキシル 、アルコキシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボ ニルまたはカルバモイルから成る群から選択されるが、ここで、これらの基の炭 素含有部分は1ないし10の炭素原子を含有するものであり; Yは、 式中、k、l、mおよびnは0ないし10、好ましくは1ないし6であり;Eは −O−、−S−または−NR5であるが、ここでR5は前記R6およびR7と同じ定 義のものであり、R4は前記R6およびR7と同じ定義のものであり、Xは、ホル ミル、カルボキシル、ヒドロキシル、アミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、 クロロカルボニル、N−アルコキシカルバモイル、スクシンイミジルオキシカル ボニル、イミデート、イソシアネート、イソチオシアネート、テトラフルオロフ ェノキシおよび同種物から成る群から選択される適切なカップリング部位である 、から成る群から選択され; Bは、 式中、R8およびR9は、前記R6およびR7と同じ定義のものであり、Zは、前記 Yと同じ定義のものである、から成る群から選択され; Qは、(CH2p、−O、−SまたはNR3であるが、ここでpは0または1で あり、R3は前記R6およびR7と同じ定義のものである、 を有する錯体と、医薬的に許容され得る媒体とを含んで成る、放射線撮影イメー ジング剤。 16.該媒体が、注射または吸入に適するものであり、ヒト血清アルブミン、水 性緩衝溶液、滅菌水、生理食塩水、および平衡化イオン溶液から成る群から選択 され、該平衡化イオン溶液は、塩化物塩、ジカーボネート塩、または正常血漿カ チオンを含有するものである、請求の範囲第15項記載のイメージング剤。 17.Mがテクネチウムまたはレニウムである、請求の範囲第15項記載のイメ ージング剤。 18.該媒体中の該錯体濃度が、約1.0から50ミリキュリーである、請求の 範囲第15項記載のイメージング剤。 19.R6、R7およびYが水素であり;Bが、 式中、R8は水素、Zは、 であり、ここで、R4は水素であり、Eは−NH−であり、mは2であり、nは 4であり、Xはカルボキシルである、であり;さらに Qは、−Oである、 請求の範囲第15項記載のイメージング剤。 20.R6、R7およびYが水素であり;Bが、 式中、R8は水素、Zは−(CH2k−X基であり、ここで、kは2または4で あり、Xはアミノ、カルボニルまたはヒドロキシルのうちの1つである、であり ;Qが、−Oである、 請求の範囲第15項記載のイメージング剤。 21.k、l、mおよびnが1ないし6である、請求の範囲第15項記載のイメ ージング剤。 22.イメージング剤の十分量を注射して、適切なイメージングを生ぜしめ、次 いで、適切なスキャンニング機器を用いてスキャンニングすることを含んで成る 、放射線撮影イメージング法であって、該イメージング剤が一般式: 式中、Mは、適切な放射性核種であり;Aは、 式中、R6およびR7は、同じかまたは異なって、水素およびアルキル、ヒドロキ シル、アルコキシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシカ ルボニルまたはカルバモイルから成る群から選択されるが、ここで、これらの基 の炭素含有部分は1ないし10の炭素原子を含有するものである、であり; Yは、 式中、k、l、mおよびnは0ないし10、好ましくは1ないし6であり;Eは −O−、−S−または−NR5であるが、ここでR5は前記R6およびR7と同じ定 義のものであり、R4は前記R6およびR7と同じ定義のものであり、Xは、ホル ミル、カルボキシル、ヒドロキシル、アミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、 クロロカルボニル、N−アルコキシカルバモイル、スクシンイミジルオキシカル ボニル、イミデート、イソシアネート、イソチオシアネート、テトラフルオロフ ェノキシおよび同種物から成る群から選択される適切なカップリング部位である 、 から成る群から選択され; Bは、 式中、R8およびR9は、前記R6およびR7と同じ定義のものであり、Zは、前記 Yと同じ定義のものである、から成る群から選択され;さらに Qは、(CH2p、−O、−SまたはNR3であるが、ここでpは0または1で あり、R3は前記R6およびR7と同じ定義のものである、 を有する錯体を含んで成るものである方法。 23.Mがテクネチウムまたはレニウムである、請求の範囲第22項記載の方法 。 24.R6、R7およびYが水素であり;Bが、 式中、R8は水素、Zは、 であり、ここで、R4は水素であり、Eは−NH−であり、mは2であり、nは 4であり、Xはカルボキシルである、であり;さらに Qは、−Oである、 請求の範囲第22項記載の方法。 25.R6、R7およびYが水素であり;Bが、 式中、R8は水素、Zは−(CH2k−X基であり、ここで、kは2または4で あり、Xはアミノ、カルボキシルまたはヒドロキシルのうちの1つである、であ り;さらに、Qが、−Oである、 請求の範囲第22項記載の方法。 26.k、l、mおよびnが1ないし6である、請求の範囲第22項記載の方法 。
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