JPH08504466A - 磁気記録媒体用二軸延伸ｐｅｎｂｂフィルム及びそれで作った磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ここに開示されているのは、向上したスリップ性及び／又は磁性コーティングへの向上した接着性をもたらすように修飾された表面を有する二軸延伸ＰＥＮＢＢフィルムである。その表面修飾は、粒子、連続若しくは不連続なコーティング、又はそれらの組み合わせを含む。本発明のＰＥＮＢＢでは、ジカルボン酸誘導繰り返し単位が、２５モル％又はそれ以上の４，４’−ビ安息香酸から誘導された以下の単位を含む。

Description

【発明の詳細な説明】 磁気記録媒体用二軸延伸ＰＥＮＢＢフィルム 及びそれで作った磁気記録媒体 発明の背景 １．発明の分野 この発明は、磁気記録媒体用ベースフィルムに関する。より特定的には、高密 度磁気記録媒体に適するベースフィルムに関する。 ２．先行技術の説明 単位容量に記録された大量の情報を含有することができる磁気記録媒体を開発 する傾向が益々高まっている。テープをベースとした磁気記録材料については、 この傾向は、単位表面積当たりのより高い記録密度と、より薄いテープ支持体を 入手してより長い長さの磁気テープを利用可能なカートリッジスペース内に巻き 上げることの両方を要求する。より薄い支持体には、より大きな弾性（剛性、即 ち、引張弾性）と記録装置及び再生装置内で受ける力に耐える強度が要求される 。 使用されている最も一般的なベースフィルムは、ポリエチレンテレフタレート （ＰＥＴ）ポリマーである。高い引張特性の要件を満たすために、このポリマー から作られるフィルムに高い延伸応力を与えて“引張られた”フィルムを製造し ている。この際、機械方向（磁気テープの縦方向）の引張特性が高まる。かかる プロセスで、高い機械方向強度がもたらされるが、一般に横方向の強度及び弾性 を犠牲にするか又はそのフィルム若しくはテープを高温に付した場合に大きく収 縮するようになるか、又はその両方を被る。横方向弾性の低下は、テープが縦に 重なる傾向を増して、テーププレイヤー内で詰まってそのテープを使えないよう にすることを意味する。かかる収縮は、寸法変化をもたらして記録信号を歪ませ 、記憶された情報の破壊又はビデオ信号の歪みを招来する。 高い情報記憶密度の要求も、テープの記録表面（磁気感受層）が極端に滑らか で突起がないことを要する。一方、フィルム又はテープが、フィルム及びテープ 製造プロセス、記録、及び末端使用装置を通して高速で取り扱われ又は加工され るという必要性から、フィルムの良好なスリップ性が要求される。かくして、ポ リマーを基材とした高密度記録テープに適するフィルムは、優れた平滑性と良好 なスリップ特性のいずれをも有することが要求される。 平滑性及び取扱適性の必要なバランスを達成するために、種々の手段が記載さ れてきた。かかる手段に含まれるものとして、ポリマー内に不活性粒子（充填材 ）を用いる手段がある。かかる粒子は無機であっても有機であってもよい。それ らは、ポリマー製造工程の間に別々に添加しても、触媒沈殿による如きポリマー 製造の間にin situで形成してもよい。かかる粒子は、（記憶情報の）ドロップ アウトを起こすのに十分大きなサイズのあらゆる粒子を避けるために、制御され た粒子サイズと分布の粒子でなければならない。２つのモードがあるサイズ分布 の粒子が好ましいこと分かっている。 フィルム及び磁気テープの取扱適性に好ましい表面を提供するもう１つの手段 は、過度の突起を生じさせることなしに良好なスリップ性を提供するのに十分な 表面の粗さにするよう企図されたコーティングで、フィルムの片面又は両面を好 ましくはフィルム製造段階の間に被覆することである。 良好なスリップ性を提供することに加えて、かかるコーティングは、磁気感受 層の支持体への向上した接着性を提供するよう企図されることもできる。これら コーティングは、磁性酸化物層又は超薄型金属層の接着に対して特異的であって もよい。 発明の要旨 本発明の第１の目的は、室温及び高密度で情報を記録するのに用いられ得る高 温で、向上した剛性（引張弾性）及び高い強度を有する磁気テープベースを提供 することである。 この発明の他の目的は、超薄型磁気記録層をその上に堆積したフィルムベース を提供することである。かかる記録層は、そのベースに対する優れた接着性を有 し、かつ信号の減少又は損失を起こす過度の表面の粗さをなくすであろう。 本発明の更なる目的は、良好なスリップ性及び機械加工性を示すフィルムベー スを提供することである。 具体的には、本発明に従えば、スリップ性、耐磨耗性、及び／又は接着性を提 供するための粒状物質及び／又はコーティングを含有することができるＰＥＮＢ Ｂ（ポリエチレンナフタレートビベンゾエート）の二軸延伸フィルムが提供され る。 発明の説明 ここに挙げるＰＥＮＢＢは、少なくとも２５モル％がビベンゾエート単位であ る酸誘導単位を含有するコポリエステルである。 この酸誘導単位の残りは、２，６−ジカルボキシナフタレート、テレフタレー ト、イソフタレート、５−ナトリウムスルホイソフタレート、アジペートの如き 二官能性単位、又はトリメリット酸エステル、ピロメリット酸エステル、及びｐ −ヒドロキシベンゾエートの如き多官能性単位である。このコポリエステルのジ オール単位は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ ール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、及びｐ −キシレングリコールから選ぶことができる。 好ましいコポリエステルは、酸誘導単位として４，４’−ビベンゾエートを４ ０〜６０モル％の範囲で含有し、２，６−ジナフトエ酸を６０〜４０モル％の範 囲で含有するであろう。このジオール成分は、好ましくは、少なくとも重量で８ ０モル％、より好ましくは９５〜１００モル％のエチレングリコール誘導単位を 含む。 米国特許第３，００８，９３４号は、酸誘導単位として４，４’−ビベンゾエ ートと、２，６−ナフタレンジカルボキシレートを含む他のジカルボキシレート のホストを含有するコポリエステルを開示している。それは、これらコポリエス テルから調製された延伸ファイバーとフィルムも開示しているが、二軸延伸ＰＥ ＮＢＢフィルムは開示若しくは示唆されていない。特に、ＰＥＴフィルムに比べ て向上したＭＤ及びＴＤの両方の剛性（引張弾性）及び引張強度並びに熱安定性 、Ｕ Ｖ安定性、疎水性、寸法安定性及びガスに対する不透過性を有するフィルムは、 米国特許第３，００８，９３４号に開示されていない。 このコポリエステルは、対応する二価酸又は低級ジアルキルジエステルと対応 するジオールとの重縮合により得られる。両成分は、普通は大体等しいモル比で 用いられるべきである。しかしながら、例えば、反応速度に影響を与えるか又は 溶媒として役立てるためには、一方の成分、特にジオールを過剰に用いることが 有利であり得る。この重縮合は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ ）の製造に用いられる公知の方法に従って行われる。通常は、約１００モル％の ジカルボン酸又はジカルボン酸ジアルキル混合物を１００モル％を越える対応す る１種又は多種のジオールと混合する。次いで、蒸留により十分な低級アルキル アルコール又は水がこの混合物から留去するまで、この混合物を好ましくはエス テル交換触媒の存在下で約２００℃に加熱する。この反応は、オリゴマー又は低 分子量ポリエステルを生成するので、続いて、好ましくは安定剤及び／又は触媒 の存在下で重縮合に付する。有用な安定剤及び触媒は、ポリホスフェート類、ト リ有機ホスフェート類、三酸化アンチモン又はテトラアルコキシチタネート（IV ）又はトリフェニルホスフェートと三酸化アンチモンとの混合物であり得る。か かるコポリエステルの製造のための好ましい方法は、米国特許出願第０７／７３ ５，５５３号に記載されている。なお、この米国出願は参照によってここに組み 入れられるものとする。分子量を更に増加させるには、融点を僅かに下回る温度 で真空下又は乾燥空気若しくは不活性ガスの気流下で固相重縮合すればよい。 この二軸延伸ＰＥＮＢＢフィルムに所望の機械的特性をもたらすには、押し出 し後のＰＥＮＢＢポリマーのＩＶ値（固有粘度，ペンタフルオロフェノールとヘ キサフルオロイソプロパノールの１：１重量比混合液中で０．２ｇ／ｄｌの濃度 で２５℃の温度で測定）を０．５ｄｌ／ｇを上回るように、好ましくは０．５５ ｄｌ／ｇを上回るようにすることが推奨される。 二軸延伸フィルムを製造するには、ポリマーメルトをダイからチルロール上に 押し出してそれをそこで固化させてから、二軸延伸し、ヒートセットし、随意に 後処理してから、ロール上に巻き上げる。チルロール上に押し出された固化フィ ルムは、本質的に非晶質状態で得られるべきである。これを行うには、メルトフ ィ ルムを、静電的押さえつけ又は真空、エアーナイフ又はそれに類した方法の如き 公知の方法によってチルロールに押さえつけなければならない。 フィルムの二軸延伸は、フィルムを高温で機械方向（ＭＤ）及び横方向（ＴＤ ）に延伸することによって行われる。この延伸は、同時的であっても逐次的であ ってもよい。逐次的延伸の場合、最初の延伸工程は、ＭＤであってもＴＤであっ てもよく、その後に他方向の延伸を行う。ＭＤでの延伸は、数工程で行うことも でき、ＴＤでの延伸を行う前に相次いで行っても、ＴＤ延伸の前と後に行っても よい。好ましい延伸温度は、使用中のＰＥＮＢＢコポリマー組成物のガラス転移 温度と、低温結晶化温度よりも約３０℃高い温度の間である（両温度は非晶質フ ィルムでＤＳＣによって容易に測定することができる）。ＭＤ及びＴＤでの適す る全延伸率は１〜２及び１〜１０の間、好ましくは１〜２．５及び１〜５の間で ある。ＭＤ及びＴＤの生成物の全延伸率は、１及び３０の間、好ましくは５及び ２０の間であるべきである。二軸延伸は、適度な等方性を確保するために、複屈 折が０．２未満、好ましくは０．１未満になるように行う。ここで挙げた複屈折 とは、Abbe屈折計、光学ベンチ又は補償板の如き普通の測定器で測定した、フィ ルムの平面における最大屈折率と最小屈折率の差の絶対値のことである。 収縮の如き特性を最適化するために、緩和工程を延伸及びヒートセットプロセ スに含めてもよい。 ヒートセットは、そのコポリマー組成物の低温結晶化温度と溶融温度の間の温 度で起こる。 幾つかの場合には、二軸延伸フィルムをロール上に巻き上げる前に、コロナ、 プラズマ又は火炎処理の如き表面処理を用いるべきである。 重合プロセスの間にポリマーに粒子を加えてもよい。これら粒子の凝集が起こ らないように適当に注意しながら、エステル化（又はエステル交換）段階へのグ リコールスラリーとしてそれらを添加することができる。適度に表面の粗さに影 響するそれらの能力について選択された触媒残留物の沈殿からそれらを生じさせ てもよい。更に、それらを後で、例えば、押し出し前のメルト流体に添加するマ スターバッチの形で添加してもよい。好ましいルートは、適度に分散させて濾過 した添加剤のスラリーを初期エステル化／エステル交換段階に添加するルートで ある。 それぞれが異なる平均粒子サイズ及び分布と、適する物理的形状、硬度及び不 活性さのそれぞれを示す１を越えるタイプの粒子を添加して、０．１μｍ未満の Ｒａを有する表面突起の２モード分布を与えることが更に好ましい。好ましい配 合の１つは、約１０〜１０００ｎｍの範囲の平均粒子サイズを有する０．０１〜 ０．５重量％の不活性粒子と０．５〜約３０μｍの平均粒子サイズを有する０． ０２〜約０．１重量％の炭酸カルシウムを含むであろう。 スリップ性、取扱適性、平滑性、及び接着性の所望の表面特性を得るために、 二軸延伸ＰＥＮＢＢフィルムの片面又は両面にコーティングを塗布してもよい。 これらコーティングはできるだけ薄いのが好ましく、これら所望の特性を達成す ることと一致している。コーティングが薄いほど低コストとなり、かつそのフィ ルムの反復利用性も高まる。これを達成するには、コーティング配合物の希薄分 散液又は溶液をフィルム製造工程中であって延伸段階の前又は複数の延伸段階の 間に塗布するのが好ましい。次いで、かかるインラインコーティングを横延伸及 び／又はアニーリング（ヒートセット）工程で乾燥及び／又は硬化させることが できる。 典型的なコーティングは、水分散液から塗布され、そして約０．５〜１５％、 好ましくは約３〜１０％の範囲内の固形物濃度で塗布されるであろう。好ましい 固形物濃度は、５０ｎｍ又はそれ未満、好ましくは５〜３０ｎｍの最終乾燥コー ティング厚になるような濃度である。 これらコーティングは実際ポリマー性であって、熱可塑性であっても架橋性で あってもよい。それらは、ホモポリマーであってもコポリマーであってもよく、 また単独で用いても、不活性な粒子状顔料、滑剤、分散剤、架橋剤等の如き添加 剤と一緒に用いてもよい。それらを水の如きキャリヤー中に分散又は溶解するの が好ましい。というのは、そのようなキャリヤーは、フィルム製造プロセスにお いてより安全に用いることができるからである。 インラインで塗布される良好な接着性を有する典型的なコポリエステルコーテ ィングは、次の構成単位を含有するであろう。 （ａ）約６０〜７０モル％のテレフタル酸； （ｂ）約１５〜２５モル％の、式ＨＯＯＣ（ＣＨ₂）_nＣＯＯＨ（ｎは１〜１１で ある）の少なくとも１種の脂肪族ジカルボン酸； （ｃ）６モル％より多いが約１５モル％までの、ジカルボキシ芳香核に結合した アルカリ金属スルホネート基を含有する少なくとも１種のスルホモノマー；及び （ｄ）理論量の１００モル％の、約２〜１１の炭素原子を有する少なくとも１種 の共重合性脂肪族又は脂環式アルキレングリコール。 高密度記録に有用な薄膜金属堆積物に対する向上した接着性を有するもう１つ の典型的なコーティングは、次の成分又はそれらのポリエステル形成性等価物の 縮合生成物から本質的になる水分散性コポリエステルからなるであろう。 （ａ）約６５〜９５モル％のイソフタル酸； （ｂ）約０〜３０モル％の、式ＨＯＯＣ（ＣＨ₂）_nＣＯＯＨ（ｎは１〜１１であ る）の少なくとも１種の脂肪族ジカルボン酸； （ｃ）約５〜約１５モル％の、ジカルボキシ芳香核に結合したアルカリ金属スル ホネート基を含有する少なくとも１種のスルホモノマー；及び （ｄ）理論量の約１００モル％の、約２〜１１の炭素原子を有する少なくとも１ 種の共重合性脂肪族又は脂環式アルキレングリコール。 他のコーティング配合物は、次の１又は２以上のものを含有してもよい：アク リル酸エステル、メタクリル酸エステル、シリコーン、アミノシラン、金属有機 長鎖アルキル塩。可溶性中間体の二成分コーティングを連続的に塗布した後に相 互作用させて、その表面上に不溶性粒状物質を形成させてもよい。この考え方の １態様が、米国特許第４，８８０，６９５号に記載されている。代替え手段とし てこのコーティング分散液（溶液）に不活性粒子を添加して、表面の粗さを制御 してもよい。 本発明の選り抜きの態様を以下の実施例で説明する。しかしながら、本発明の 範囲は、ここに説明又は記載した態様に限定されることはない。 次の試験方法を用いて二軸延伸フィルムの特性を測定した。 測定方法 − ＤＳＣ法によるＴ_g及びＴ_ccの測定には非晶質サンプルが必要である。２０ Ｋ／分の加熱速度での最初の加熱で、Ｔ_gで熱容量の段階的増加が起こる。Ｔ_g以 上ではＴ_ccで発熱性低温結晶化が起こる（発熱ピーク温度）。 − 密度は、ＡＳＴＭＤ１５０５−６８に従って、サンプルを密度勾配カラム中 に浸けることによって測定した。ＣＣｌ₄／ヘプタンの混合液又はＺｎＣｌ₂水溶 液のいずれかを用いてこの密度勾配カラムを調製した。 − 機械的特性は、サイズが１００ｍｍ×１５ｍｇのフィルムストリップでの引 張試験により測定した。弾性率は、０．４〜０．６％伸び率の間で１０％／分の 速度で張力をかけて測定した。引裂強さ及び破断点伸びは、１００％／分の速度 で張力をかけて測定した。 実施例１ まず、２８９重量部の２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、３２２重量 部のジメチル４，４’−ビベンゾエート、３６８重量部のエチレングリコール及 び０．７部の酢酸マンガン・４水和物を、シール用ガスライン（Ｎ₂）、均圧装 置、温度計、コンデンサー、真空連結管及び攪拌器を備えた慣用の重縮合反応器 内に導入する。この混合物を２２０℃に２．５時間加熱する。この間にメタノー ルが留去される。次いで、０．６７５重量部のトリフェニルホスフェートと０． ２２５９重量部の三酸化アンチモンを重縮合触媒として添加して、その混合物を 攪拌しながら２７０℃に加熱する。真空にして温度を２８５℃にまで上げて２． ５時間維持する。こうして得られたコポリエステルの一部を溶融物の形で反応器 から窒素加圧下に取り出し、薄い透明の非晶質フィルムとして固化させる。その フィルムについて１２３℃のガラス転移温度（Ｔ_g）と１３２℃の低温結晶化温 度（Ｔ_cc）が、ＤＳＣ法によって測定される。 残りの溶融物を顆粒化する。これら顆粒は白色の不透明な結晶である。０．５ ６ｄｌ／ｇのＩＶ値がこれら顆粒について測定される（ペンタフルオロフェノー ル／ヘキサフルオロイソプロパノール（重量比１：１）中で０．１ｇ／ｍｌの濃 度で２５℃で測定）。 これら顆粒を固相で真空下２４０℃で更に２０時間縮合させる。この処理をし た後、ＩＶ値は１．１ｄｌ／ｇとなる。予想通り、Ｔ_g及びＴ_ccのいずれも、固 相で縮合した結晶性顆粒についてのＤＳＣ記録では見分けられない。融点（Ｔ_m ）は２８１℃である。 ２８１℃の融点を有するＰＥＮＢＢ顆粒を２８０〜３２０℃の温度で一軸スク リュー押出機内で溶融させて、シートダイから温度を３０℃に調節した冷却ロー ル上に押し出す。１２０μｍ厚の澄んだ透明のプレフィルムが得られる。その密 度は１．３１ｇ／ｃｍ³で、ＩＶ値は０．７８ｄｌ／ｇである。その機械的特性 は次の通りである。 縦 横 弾性率： ２．１ＧＰａ ２．１ＧＰａ 引裂強さ： ７４ＭＰａ ７４ＭＰａ このＰＥＮＢＢプレフィルムを、同時フィルム延伸装置を用いて、そのもとの ４倍の長さ及び４倍の幅に同時に１３５℃で二軸延伸する。その密度は１．３１ ｇ／ｃｍ³である。フィルム厚は８μｍで、フィルムは澄んだ透明である。機械 的特性は次の通りである。 縦 横 弾性率： ５．８ＧＰａ ５．１ＧＰａ 引裂強さ： １５４ＭＰａ １９８ＭＰａ 二軸延伸ＰＥＮＢＢフィルムを幅出機内のクランプで締めて２６０℃で１０分 間熱処理する。二軸延伸フィルムは透明なまま（濁度３７％）でその密度は１３ ３ｇ／ｃｍ³となる。機械的特性は次の通りである。 ＰＥＮＢＢ 代表的ＰＥＴ 縦 横 弾性率： ８．９ＧＰａ ８．１ＧＰａ ４．０〜４．５ 引裂強さ： ２０４ＭＰａ ２５６ＭＰａ １５０〜２００ 実施例２ ＰＥＮＢＢプレフィルムを実施例１のようにして形成する。そのＰＥＮＢＢプ レフィルムをフィルム延伸装置で１２５℃で逐次的に二軸延伸する（最初は横方 向でその後は縦方向：３．５×３．５）。８μｍ厚の透明な二軸延伸フィルムが 得られる。この二軸延伸フィルムを幅出機内のクランプで締めて２６０℃で１０ 分間熱処理する。その密度は１．３４３ｇ／ｃｍ³となる。機械的特性は次の通 りである。 縦 横 弾性率： ９．２ＧＰａ ８．０ＧＰａ 引裂強さ： ２３７ＭＰａ １８２ＭＰａ 実施例３ プレフィルムを形成する段階で、平均粒子サイズ１．５μｍ及び分布の３％シ リカ（ドイツのGrace GmbH of WormsからのSyloblock 44）を含有するＰＥＮＢ ＢのマスターバッチをＰＥＮＢＢ顆粒に添加する以外は、実施例１の操作に従っ てフィルムを作る。このマスターバッチは、二軸スクリュー押出機内でＰＥＮＢ Ｂにこのシリカを添加することによって事前に調製される。このマスターバッチ をフィルム中での濃度が約２０００ｐｐｍになるレベルで添加する。 このフィルムは容易に巻き上げかつ巻き戻す（unwound）ことができ、実施例 １のフィルム（シリカ粒子を欠いている）に比べてブロックする傾向が顕著に減 少する。

【手続補正書】特許法第１８４条の８ 【提出日】１９９４年１０月２８日 【補正内容】 請求の範囲の差し替え 請求の範囲 １．式（Ｉ） の主要酸誘導繰り返し単位を含有するコポリエステルであって単位（Ｉ）が前 記コポリエステルの全酸誘導単位を２５モル％を越えて含むコポリエステル及び 式（II） −Ｏ−Ｒ−Ｏ− （II） （ＲはＣ₁〜Ｃ₆アルキレン基を表わす。） の主要ジオール誘導単位 を含む二軸延伸フィルムであって、スリップ性を向上するように及び／又は磁 性コーティングへの接着性を向上するように修飾された少なくとも１の表面を有 するフィルム。 ２．他の主要酸誘導単位が、式（III） の単位である、請求項１の二軸延伸フィルム。 ３．Ｒが−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である、請求項１又は２の二軸延伸フィルム。 ４．前記表面修飾が、該二軸延伸フィルム内に粒子を含めることにより行われ、 該粒子が、無機添加剤、有機添加剤、ポリマー触媒沈殿物及びこれらの組み合わ せからなる群から選ばれる、請求項１又は２の二軸延伸フィルム。 ５．前記粒子が、第１平均粒径を有する第１組の粒子及び第２平均粒径を有する 第２組の粒子を含み、前記第１組の粒子が前記第２組の粒子とは異なる組成を含 みかつ前記第１平均粒径が前記第２粒径とは異なるものである、請求項４の二軸 延伸フィルム。 ６．前記表面修飾が、５０ｎｍ又はそれ未満の厚さを有するコーティングによっ て達成される、請求項１〜５のいずれか１項又は２項以上の二軸延伸フィルム。 ７．前記コーティングが不連続である、請求項６の二軸延伸フィルム。 ８．前記コーティングが、無機添加剤、有機添加剤、触媒沈殿物、及びそれらの 組み合わせから選ばれる粒子を含む、請求項７の二軸延伸フィルム。 ９．前記コーティングが、前記フィルムを延伸する前に又は延伸している間に塗 布される、請求項６、７又は８の二軸延伸フィルム。 10．フィルムが０．２未満の複屈折を有し、該コポリエステルのＩＶ値が０．５ ｄｌ／ｇを越える、請求項１〜９のいずれか１項又は２項以上の二軸延伸フィル ム。 11．請求項１の二軸延伸フィルム及び前記二軸延伸フィルムの少なくとも１つの 表面上で形成された強磁性薄膜を含む磁気記録媒体。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 67:00 (72)発明者 チュー，エ−ウォン アメリカ合衆国ニュージャージー州07869, ランドルフ，ラドトケ・ロード 130 (72)発明者 フリント，ジョン・アンソニー アメリカ合衆国ニュージャージー州07922, バークリー・ハイツ，レナピ・レーン 150 (72)発明者 クーマン，ボド ドイツ連邦共和国デー―6258 ルンケル ５，リンデンシュトラーセ ５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．式（Ｉ） の主要酸誘導繰り返し単位を含有するコポリエステルであって単位（Ｉ）が前 記コポリエステルの全酸誘導単位を２５モル％を越えて含むコポリエステル及び 式（II） −Ｏ−Ｒ−Ｏ− （II） （ＲはＣ₁〜Ｃ₆アルキレン基を表わす。） の主要ジオール誘導単位 を含む二軸延伸フィルムであって、スリップ性を向上するように及び／又は磁 性コーティングへの接着性を向上するように修飾された少なくとも１の表面を有 するフィルム。 ２．他の主要酸誘導単位が、式（III） の単位である、請求項１の二軸延伸フィルム。 ３．Ｒが−CH₂−CH₂−である、請求項１又は２の二軸延伸フィルム。 ４．前記表面修飾が、該二軸延伸フィルム内に粒子を含めることにより行われ、 該粒子が、無機添加剤、有機添加剤、ポリマー触媒沈殿物及びこれらの組み合わ せからなる群から選ばれる、請求項１〜３のいずれか１項又は２項以上の二軸延 伸フィルム。 ５．前記粒子が、第１平均粒径を有する第１組の粒子及び第２平均粒径を有する 第２組の粒子を含み、前記第１組の粒子が前記第２組の粒子とは異なる組成を含 みかつ前記第１平均粒径が前記第２粒径とは異なるものである、請求項４の二軸 延伸フィルム。 ６．前記表面修飾が、５０ｎｍ又はそれ未満の厚さを有するコーティングによっ て達成される、請求項１〜５のいずれか１項又は２項以上の二軸延伸フィルム。 ７．前記コーティングが不連続である、請求項６の二軸延伸フィルム。 ８．前記コーティングが、無機添加剤、有機添加剤、触媒沈殿物、及びそれらの 組み合わせから選ばれる粒子を含む、請求項６又は７の二軸延伸フィルム。 ９．前記コーティングが、前記フィルムを延伸する前に又は延伸している間に塗 布される、請求項６、７又は８の二軸延伸フィルム。 10．フィルムが０．２未満の複屈折を有し、該コポリエステルのＩＶ値が０．５ ｄｌ／ｇを越える、請求項１〜９のいずれか１項又は２項以上の二軸延伸フィル ム。 11．請求項１の二軸延伸フィルム及び前記二軸延伸フィルムの少なくとも１つの 表面上で形成された強磁性薄膜を含む磁気記録媒体。