JPH08502470A - 石英ガラス光波導体のための予備成形体を製造する方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 １． 石英ガラス光波導体のための予備成形体を製造する方法および装置２． 抄訳２．１ 光波導体用の予備成形体は、従来、乾燥のために時間とガスの著しい浪費により製造されている。これは、ＯＨ含有量が蒸気に関して、最終製品についての品質を決めるからである。それ故、本発明により、実質的に少ない費用でＯＶＤ法に由来する公知の方法の改良が見出された。２．２ 改良ＭＯＶＤは、加水分解ガス混合物の燃焼による多孔性沈積物の成長中、及び特に、さらにある時間、乾燥ガス混合物を、加圧下に内から外へと、管状に成長される多孔性沈積物を通過させることにある。その際、更に、費用減少のために、品質の長所として、内から外へ向かって減少するＯＨイオン濃度が達成される。２．３ 光波導体の製造

Description

【発明の詳細な説明】 石英ガラス光波導体のための予備成形体を製造する方法および装置 この発明は、通信工学の工学的伝送装置に使用できる請求の範囲第１項記載の 概念に対応する石英ガラス光波導体用の予備成形体を製造する方法に関するもの である。 更に、そのような方法を実施するのに適した請求の範囲第４項記載の概念に対 応した装置が取り扱われている。 光学通信工学では、石英ガラスをベースにした光波導体（ＬＷＬ）が大規模に 使用されている。このＬＷＬは、長さ１ｍ〜２ｍ）直径２ｃｍ〜１０ｃｍの石英 ガラスロッドから引き抜き製造され、それは予備成形体（Vorform）と呼ばれて いる。極端に高い純度が予備成形体材料の本質的要件である。というのは、ｐｐ ｂ範囲（１０^-9）の不純物濃度でも、ＬＷＬでの強力な吸収損失の原因となるか らである。 ＬＷＬの製造にとって、例えば、刊行物「光学通信システム」に記載されてい る一連の方法は周知である。経済的意義の順序において４つの最も重要な方法は 、 ＯＶＤ（外部蒸着）， ＭＣＶＤ（改良化学蒸着）， ＶＡＤ（蒸気アキシャル析出）， ＰＣＶＤ（プラズマ活性化学蒸着）である。 ＭＣＶＤ法およびＰＣＶＤ法では、ＬＷＬ材料が析出される（abscheiden）石 英ガラスから成る基体管が必要である。基体管の材料についは、均一な純度要件 は設定されないが、基体管の製造工程において相当の費用を必要とする非常に少 ないＯＨ濃度を守らねばならない。同じことがいわゆるフラッシュ管にも当ては まる。 ＬＷＬでは光性能の大部分は、コアと、続く薄い被覆区域に集中するので、経 済的理由から、この内部領域だけが一層、高純度のＬＷＬ材料から製造され、そ の上には高い不純物濃度が少し高い石英ガラスから成る厚壁管（フラッシュ管） が溶着される。しかしながら、そのようなフラッシュ管でもＯＨ含有量は非常に わずかでなければならない。 ＯＶＤ法（コーニング／米国）は、予備成形体の大部分が生産されている予備 成形体の製造のための経済的に非常に重要な方法である。この方法は、簡単な製 造方法と、非常に大きい予備成形体の製造ができる点で優れている。 ＯＶＤ法による予備成形体の製造工程を第１図および第２図で概略的に示す。 第１図で示すように、まず初めに細孔材料から成る大きい石英体１が製造される 。四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ₄）を添加し、メタン（ＣＨ₄）と酸素により動作され るバーナ２が、回転するセラミックバー３（Ａｌ₂Ｏ₃）に対して往復作動する。 加水分解と見做される炎内の化学反応により、多孔で白色材料として層上に沈 積する石英ガラスが形成される。または、ガラスブラックと称されるこの材料は 、加水分解により制御され、中実石英ガラスの１０％から最高２５％までの密度 を有し、非常に小さい直径の、逐一相互に溶融した小球４から成る。 ドーピング石英ガラスを製造するため、バーナガスに例えば四塩化ゲルマニウ ム（ＧｅＣｌ₄）が利用され、それにより、屈折率の高いＧｅＯ₂ドーピング材料 が生じる。 加水分解では、石英ガラスと共に多量の水蒸気が生じる。この水蒸気は、多孔 性石英ガラス内で高濃度（約１０００ｐｐｍ）のＯＨイオンの形で形成される。 所要量の石英ガラスが成長したら、バーナは消される。冷却中に基体ロッドは 、その大きい膨張係数のため、石英ガラス体としてより強く伸長するので、ロッ ドを引き伸ばすことができる。このようにして生産される材料は、その高いＯＨ 含有量のため、ＬＷＬ製造にとっては、なお不適当であり、次の工程で乾燥しな ければならない。 第２図に示すように、乾燥のために多孔性石英ガラス体１は、オーブン５内に 装着される。物理的乾燥である第１ステップにおいて、８００゜Ｃで約２時間内 で、乾燥純正ガス（窒素、酸素、ヘリウム）による洗浄６により、石英ガラス内 のＯＨ含有量が約１０００ｐｐｍから約１０ｐｐｍに減少する。 物理的乾燥である第２ステップにおいて、塩素ガスまたは塩化チオニル（ＳＯ Ｃｌ₂）ガスおよびヘリウムによる洗浄が行なわれる。この化学的に活性なガス 混合物は、約８００℃で長時間に亘り、多孔性石英体の周辺に流れる。 石英ガラス小球内のＯＨイオンは表面に拡散し、乾燥ガスと反応してＨＣｌガ スとなり、ＨＣｌガスは徐々に石英ガラスから出て来る。それにより、材料中の ＯＨ含有量は０．０１ｐｐｍ以下に低下できる。この低いＯＨ含有量は、石英ガ ラスから伸張されるＬＷＬ内のＯＨ吸収帯を明らかに１ｄＢ／ｋｍ以下に低下す るために必要である。 続いて、多孔性石英ガラス体が溶融して中実ロッドとなるように、オーブン温 度が更に上昇される。 ＭＣＶＤ予備成形体およびＰＣＶＤ予備成形体のための基体管やフラッシュ管 の製造において、多孔性石英ガラス体は、実質的に大きい内径で製造され、乾燥 後、溶融されて中実管とされる。 この乾燥工程は、多くの時間と、常に新鮮で高純度でオーブンを流ればならな い活性乾燥ガスについての大きい要求ために、時間と費用のかかるステップであ る。 この発明の目的は、実質的な生産時間の減少と費用の減少とを結合し、上記の 欠点の明白な減少を行うことにある。 この発明の課題は、乾燥時間と活性乾燥ガスの消費を減らす改良のために、上 記方法、特にＯＶＤ法をさらに発展させることである。 この発明による改良は、請求の範囲第１項の特徴部分に記載されている。請求 の範囲第２項および第３項の特徴部分の特徴により、この方法の別の可能な態様 が与えられている。 この方法の実施に適する装置の改良は、請求の範囲第４項の特徴部分で示して ある。そのための有利な別の可能な態様が請求の範囲第５項の特徴部分に記載さ れている。 実施例 この発明の詳細並びにその態様および長所を以下の実施例で推定できる。添付 図において、 第１図は、ＯＶＤ法における析出工程を示すものである。 第２図は、ＯＶＤ法における乾燥工程を示すものである。 第３図は、この発明による改良方法を示すものである。 ＯＶＤ法の説明は、第１図および第２図に基ずく技術水準の説明において既に 最初に行なった。 この発明による改良方法は、以下に簡単にＭＯＶＤ法（改良外部蒸着）として 特徴付けられる。第３図に概略的に示す装置に基づいて、ＭＤＶＤ法を説明する 。 従来のＯＶＤ法における通常の基体ロッドとして、小孔のあるガス通過性セラ ミック、特にアルミナまたは酸化ジルコンから成る基体管７を使用した。図示し ないガスシール回転ブッシュを介して、塩素または塩化チオニルのような化学的 に活性なガスと、ヘリウム、アルゴン、酸素のような他のガスからなるガス混合 物８が基体管内の空間に加圧、導入される。 基体管の内圧力、壁厚及び管材料のガス通過性は、多孔性石英ガラスの加水分 解による析出の際に、バーナガスからの水蒸気がガラス体の内部に侵入しないよ うに選択される。数時間の析出工程中に、連続的に新鮮な乾燥ガス混合物が内方 から外方流れ、その際に、凝縮により生成されるＯＨイオンが石英ガラスから取 り去られる。 全析出期間中に、石英ガラス小球体間の空所に水蒸気が高い分圧で存在する従 来のＯＶＤ法と対照的に、この発明による方法では、常に乾燥ガス混合物が多孔 性材料を通して流れ、高温度で長い時間持続されるこの工程中に、ほぼ完全にＯ Ｈイオンが除去される。 ＯＨ濃度は、ＯＶＤ工程とは対照的に、ＭＯＶＤ工程では軸近傍の領域で最も 少なく、まさに、ＬＷＬ用のコア材料が沈着され且つフアイバーへの吸収に強い 影響を及ぼす領域で最も少ない。 ＭＯＶＤ法では、第１ステップで析出と乾燥が同時に行なわれる。その際、乾 燥ガスは本質的にＯＶＤ法におけるよりも経済的に使用される。ＯＶＤ法におい ては、多くのガス量が多孔性ガラス体を通過するのに対し、この新しい方法では 、乾燥ガスが強制的に材料を通して導かれる。ＭＯＶＤ法において生成し、多孔 性石英ガラス体の表面から出て来る少量の乾燥ガスは、多量の加水分解排ガスと 共に除去できる。 既に述べたように、ＯＶＤ法では、中実石英ガラスの１０％〜２５％の密度を 有する多孔性石英ガラス体が製造される。密度が小さいことが不可避であり、比 較的ゆっくりしたガス交換を介して経過する乾燥は長時間を要する。これに対し て、ＭＯＶＤ法では、実質的に効率的な乾燥工程のために、石英ガラス体の密度 を少なくとも２倍にできる。それにより、２つの重要な長所が生じる。即ち、第 １に、石英ガラス体は安定であり、基体管の剥がれおよび次の工程での破壊の危 険がより少ない。第２に、溶融の際に大きい予備成形体並びに厚壁管が生じる。 石英析出の終了およびバーナの消火後、温度が約５０℃に低下するまでガラス 体の冷却中ずっと、乾燥ガス流が保持される。それにより、なお一定のＯＨ濃度 を有する外側の縁領域は再び乾燥され、周辺空気から多孔性材料への水蒸気の侵 入が妨げられる。続いて、ガラス体はセラミック管から取り去られ、通常の乾燥 ガス混合物の作用の下で中実ロッドに溶解される。 ＭＣＶＤ予備成形体及びＰＣＶＤ予備成形体、およびフラシュ管のための基体 管が同様にして、ほぼＯＨのない石英ガラス体から製造できる。比較的さい内径 及び外径を有するセラミック管の代わりに、対応する大きい直径を有する基体管 が管製造のために使用され、そして多孔性石英ガラス管は潰れてロッドとなるの ではなく、管壁だけが溶融して密な集石英ガラスになる。 ＭＯＶＤ法では、乾燥ガスは石英ガラスが析出される領域にだけ流されるので 、基体管をガスシール挿入体９を有する残りの区域または焼結区域に設けること が都合がよく、且つ保持体内の支持体の保護にも不可欠である。 この発明による方法の最も重要な長所をもう一度要約する。 ＭＯＶＤ法では、ガラス析出および乾燥が一つのステップで行なわれる。それ により、多くの生産時間や多量の活性乾燥ガスが節約される。それとともに、排 ガスの処理費の著しい低下となる。 非常に効率的な乾燥に基ずき、多孔性ガラス体の密度を高めることができ、再 処理時の破壊の危険が減少し、製造可能な予備成形体や管の量が明らかに拡大す る。 現在のＯＶＤ装置は、わずかな費用で新しいＭＯＶＤ法に変更できる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．四塩化ケイ素を含む加水分解ガス混合物の移動燃焼により、はじ めに、同様に動くセラミック基体ロッド上に、部分溶融された石英ガラス小球の 管状多孔性の沈積物が成長して形成され、該石英ガラス小球は次の熱工程で基体 ロッドから分離され、その後、乾燥ガス供給下にそのＯＨ含有量が減少し、最後 に、再度の温度上昇において、中実ロッドに溶融される石英ガラス光波導体のた めの予備成形体を製造する方法において、加水分解ガス混合物の燃焼による多孔 性沈積物の成長中に、及び特に、さらにある時間、乾燥ガス混合物を、加圧下に 内から外へと、管状に成長する多孔性沈積物内を通過させることを特徴とする方 法。 ２．部分溶融した石英ガラス小球の沈積物析出密度が、乾燥過程中に 、中実石英ガラスの密度の２５％超過に調整されることを特徴とする請求の第１ 項に記載の方法。 ３．乾燥ガス混合物として、ヘリウム及び／又はアルゴン及び／又は 酸素と共に、塩素並びに塩化チオニルが使用されることを特徴とする請求の第１ 項に記載の方法。 ４．基体ロッドとして、乾燥ガス供給接続部（８）を有する、酸化セ ラミック、特に酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムから成る、析出領域にお いて多孔性である管（７）が使用されるとを特徴とするセラミック基体ロッドを 使用した石英ガラス光波導体のための予備成形体製造装置。 ５．多孔性管（７）は０．５ｃｍ〜２０ｃｍの内径と、数ｍｍの壁厚 さと、析出領域外の長手領域でのガスシール区域（９）とを有することを特徴と する請求の範囲第４項に記載の装置。