JPH08500524A - 高剪断材料処理方法および装置 - Google Patents

高剪断材料処理方法および装置

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JPH08500524A JP6506585A JP50658594A JPH08500524A JP H08500524 A JPH08500524 A JP H08500524A JP 6506585 A JP6506585 A JP 6506585A JP 50658594 A JP50658594 A JP 50658594A JP H08500524 A JPH08500524 A JP H08500524A
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Abstract

(57)【要約】 高剪断処理された材料を最小の可能なコルモゴロフ渦の直径よりも大きい自由な超コルモゴロフ渦と、この直径よりも小さい付勢された準コルモゴロフ渦とを共存させることができる高剪断処理ゾーンを通過させる。このゾーンは、これらの渦を抑制する一層高剪断の副処理ゾーンを含む。通路の壁(40、44、102、108)が流れと交差して互いに相対的に動くことにより、液体フィルムを通路の面に被着保持させた状態で、超コルモゴロフ渦と準コルモゴロフ渦との同時形成を付勢する。この動きにより、非乱流を保持した状態で副処理ゾーンに付勢された準コルモゴロフ渦だけを形成する。超音波振動を弾性流体力学的圧力に印加して、粘度の上昇および/または一層小さい準コルモゴロフ渦の形成を行なわせる。一の装置は、中空の外側シリンダ(38)の内側に回転自在の内側シリンダ(46)を備え、別の装置は、2つの円形の共軸をなすプレートからなり、回転軸線は垂直または水平とすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】 高剪断材料処理方法および装置関連出願の相互参照 アメリカ合衆国における出願である本願は、1992年8月26日(26.0 8.92)に出願され、現在特許されている本出願人の先の出願に係る米国特許 出願第07/935,277号の一部継続出願であり、合衆国法典第35巻第1 20条の利益を主張するものである。技術分野 本発明は、流動性のある材料の高剪断処理を行なう方法および装置に関するも のであり、本明細書において使用されている「高剪断処理」(high-shear treatm ent)なる語は、混合とミル処理の双方を含むものであり、「混合」(mixing)なる 語は溶解、懸濁および分散を含み、「ミル処理」(milling)なる語は粉砕(grindi ng)、微粉砕(comminuting)および解凝集(deagglomerating)を含むものである。 使用される各流動性材料は、少なくとも2つの成分からなり、その一方は液体で ある。本発明は、より特定して云うと、流動性材料が、微粉砕された(finelydiv ided)セラミック材料のスラリ懸濁体からなる、かかる方法および装置に関する ものであるが、これらに限定されるものではない。背景技術 数多くの製造方法においては、例えば、5ミクロンよりも小さい粒度に微粉砕 され、ある場合には1ミクロンよりも小さい粒度に微粉砕され、更には、多く見 受けられるものとして0.1ミクロンという小さい粒度に微粉砕された出発材料 を使用することがますます必要となっている。これは特に、セラミックの処理の 場合に云えることであり、かかる微粉砕された原材料を使用することにより、改 善された強度、機械的および熱的耐衝撃性のような改善された特性を有するとと もに、焼成または焼結後に理論密度が最大値または近最大値となる製品を製造す ることが可能となる。粒度分布は重要性がますます高まっている基準であり、特 に、全ての粒子が公称値を中心とする狭い範囲にあるサイズを有することが要件 となっている。産業規模で実施する場合には、このように均一な粒度を得ること は著しく困難であり、製造コストのかなりの増加を招くものとなる。 例えば、セラミック部品を製造する場合には、出発材料は、最大粒度を小さく して部品を超可塑的に鍛造することができるように、平均粒度を0.3ミクロン とし、最大粒度を1.0ミクロンとすることが必要となる。粒度分布は典型的な ベル形の特徴を有することが期待され、材料の大部分(例えば、約70重量%) がほぼ平均粒度であり、小部分(例えば、各15%)が大粒および小粒である。 材料を平均粒度となるように粉砕しても、全ての粒子、特に細かい粒子の場合に は、粉末が粉砕ミルを出ると直ちに凝集を開始するとともに、その後の処理にお いても継続するので、最終のユーザが受け入れることができるような比較的均一 な細かい粉砕状態にはなりにくい。粉末体は、運搬および取扱いを用意にするた めにペレット化することがしばしば行なわれているが、これはその後、粉砕によ り脱ペレット化しなければならない。その結果、材料は、少なくとも一部が特定 の範囲から外れて不均一となるとともに、多数の大きな粒子を含むことにより、 得られる焼結製品に欠陥が生ずる可能性がある。更に、材料の処理、特に、粉砕 は、感知することができる量の汚染粒子を含まないことが重要であり、例えば、 0.1重量%未満、好ましくは、0.01重量%未満とするのが重要である。 塗料の顔料を粉砕するのにストーン(stone) (カーボランダム)およびコロイ ドミルを使用することが公知であるが、これは、互いに対して作用する2つの精 密形成された滑らかなストーンから実質上なり、ストーンの一方は固定して保持 され、他方は高速(3600乃至5400回転/分)で回転され、両者間には2 つの相対的に動く面を分離する、本技術分野においては非常に狭いとみなされる ギャップが形成される。かくして、多くの場合は、2つの面間の間隔は確実な接 触状態から適宜の距離まで調整自在となっており、この距離は、かかるミルの場 合には一般に、最小の25マイクロメートルから3,000マイクロメートルで あるが、通常は50乃至75マイクロメートル程度となっている。代表的なスト ーンミルの場合には、既に混合されている充填物は、截頭円錐状のギャップを介 して平坦な環状リングの形状をなすミル処理領域へ供給され、一方、コロイドミ ルの場合には、これも既に混合された充填物を必要とするが、ミル処理領域は截 頭円錐形状を有している。液体ビヒクルにおける顔料の粉砕は、材料が重力によ りあるいは加圧されてギャップに供給されるときにストーンの平行面間で行なわ れる高剪断速度の可塑化(smearing)作用により行なわれる。75マイクロメート ルの分離ギャップは、粉砕により2乃至3マイクロメートルの平均粒度を有する 粒子を形成すると云われているが、粒度分布は一定ではなく、著しく大きな粒子 が存在する。かかるミルは、均一性、粒度分布、最大粒度および汚染度が比較的 重要視されない場合には、満足することができるものである。発明の開示 本発明の第1の目的は、少なくとも2つの成分からなり、一方が液体である流 動性材料の高剪断処理の方法および装置を提供することにあり、かかる高剪断処 理は、例えば、液体ビヒクルに対する気体および粉末材料の懸濁、分散および溶 液をはじめとする均一な混合および/またはスラリ懸濁体における粉末材料の粉 砕、解凝集および微粉砕をはじめとする均一なミル処理からなる。 本発明のより特定した目的は、スラリ懸濁体における微粉砕されたセラミック 材料の均一なミル処理に特に適用することができる方法および装置を提供するこ とにある。 本発明によれば、本明細書において説明されているように、処理されるべき材 料を、それぞれのミル部材(mill member)により提供される2つの接近して離隔 配置された通路面間の通路により構成される流路において流れ方向へ通す工程を 備えた流動性材料の新規な高剪断処理方法が提供されており、この方法において は、 流路は、通路面間の間隔により、流動材料の最小のコルモゴロフ渦の直径より も大きい自由な超コルモゴロフ渦(supra-Kolmogoroff eddy)と、最小のコルモゴ ロフ渦の直径よりも小さい付勢された準コルモゴロフ渦(sub-Kolmogoroff eddy) とが同時に存在することができる全高剪断処理ゾーン(overall high-shear trea tment zone)を含み、 全高剪断処理ゾーンは、自由な超コルモゴロフ渦が材料の通過中に抑制される 一層高剪断の副処理ゾーン(subsidiary higher-shear treatment zone)を提供す るように通路の間隔が全高剪断処理ゾーンの残りの部分におけるよりも小さい部 分を少なくとも含み、 材料が全高剪断処理ゾーンを動いているときに、ミル部材が互いに相対的に動 かされてミルの通路面を互いに対して流れ方向と交差する方向に、相対的に動い ている通路面にそれぞれの液体フィルムを被着させた状態で超ミクロンおよびサ ブミクロンのスケールで材料を処理するように超コルモゴロフ渦と準コルモゴロ フ渦との同時形成を付勢するような相対速度で動かすことにより、処理材料をで きるだけ均一にし、 かかる相対的な動きにより、一層高剪断の副処理ゾーンにおいて非乱流を保持 しながら付勢された準コルモゴロフ渦だけを形成することを特徴とする構成に係 る。 更に、本発明によれば、以下において説明するように、本発明の方法を使用し て流動性材料を高剪断処理する新規な装置が提供されている。 好ましくは、一層高剪断の副処理ゾーンは、通路而間の間隔が流動材料におい て流体力学的圧力を発生させることにより材料の粘度を局部的に高めて処理作用 を増進するように通路面間に形成された最小の間隔のギャップを有している。 縦の圧力振動(longitudinal pressure oscillation)が、液体フィルムにおけ る弾性流体力学的スクイーズフィルム作用(squeeze-film effect)および/また は付勢された準コルモゴロフ渦の形成によって、材料において粘度を局部的に増 加させることにより処理作用を増進させるように、全高剪断処理ゾーンにおいて 通路の壁に印加される。 ミル部材は、固定され中空の外側シリンダと、長手方向の回転軸線を中心に回 転するように固定された中空の外側シリンダ内に取着された回転自在の内側シリ ンダとすることができ、これら2つのシリンダは更に、回転軸線と交差する方向 に相対的に動いて、2つの対向する流通路面間の間隔を変えるように取着するこ とができる。 あるいは、ミル部材は中心を通る共通の回転軸線を中心に相対的に回転するこ とができるように取着された円形プレートとすることができ、通路面は2枚のプ レートの各対向する面により構成され、プレートは更に対向する面間の距離を変 えるように回転軸線に沿って相対的に動くことができるように取着される。 回転軸線は、垂直または水平とすることができる。図面の説明 本発明の特に好ましい実施例を、一例として、添付図面に関して説明するが、 図面において、 図1は、ミル部材が水平な軸線を中心に相対的に回転する本発明の第1の実施 例に係るドラムミルの一方の側を示す斜視図であり、 図2は、図1のドラムミルの本体を示す図1の2−2線側方横断面図であり、 図3は、本発明の別の実施例を示す図2と同様の長手方向の部分横断面図であ り、 図4は、図1および図2のドラムミルの部分側面および長手方向の部分横断面 図であり、ミルのベースと内側ミル部材が側面で示され、外側ミル部材が図2の 4−4線長手方向横断面で示されており、 図5は、本発明に係る気体−液体反応のドラム反応器を介して切断した図2と 同様の側方横断面図であり、 図6は、予め分散されたジルコニアスラリの粒度分布を実線で示し、図11の プレートミルを使用して処理した後の粒度分布を破線で示す粒度分布累積グラフ 図であり、 図7は、本発明の更に別の実施例に係る、ミル部材が垂直軸を中心に相対的に 回転するプレートミルの図8の7−7線垂直側方横断面図であり、 図8は、図7のプレートミルの8−8線水平横断面図であり、 図9は、本発 明の更に別の実施例に係る、ミル部材が水平軸線を中心に相対的に回転するプレ ートミルの図7と同様の垂直側方横断而図であり、 図10は、図9の破線の円で囲まれた部分10の拡大図であり、 図11は、本発明の更に別の実施例に係るプレートミルの図2と同様の垂直側 方横断面図であり、 図12は、本発明のドラムミルの複数を直列に配設して構成するとともに、ミ ルに供給を行なう再循環予備混合回路に単一反射式(reverbatory)超音波ミキサ を備えた連続流スラリミル処理装置を示す概略線図であり、 図13(図面7枚目)は、スラリが再循環される、単一プレートミルを使用し たバッチ処理装置を示す概略線図である。 同様のあるいは同等の部材には、可能な限り図面の全ての図において同じ参照 番号が付されている。 ミルの協働する面間の間隔は、図示を明瞭にするためかなり強調して示されて いる。発明を実施するための形態 図1乃至図5の実施例は、協働する円筒形状のミル面が、ドラム形状の部材に よりそれぞれ提供される、「ドラム」ミル("drum" mill)としての特徴を有して おり、また、図6乃至図11の実施例は、協働するミル面がプレート形状の部材 によりそれぞれ提供される、「プレート」 ミル("plate" mill)としての特徴を 有するものである。ミルの構成および動作の態様を説明するのに先立ち、ミルを 使用したセラミックスラリ製造の代表的な装置を説明する。 図12に示す連続流装置においては、微粉砕された粉末は、液体ビヒクルにお いて均一に分散され、かつ、(必要に応じて解凝集させながら)より小さな粒度 に粉砕されるように、ミル処理が行なわれる。粉末が、供給ホッパ10からドラ ムミル12に供給されるととともに、液体分散ビヒクルが供給タンク14から供 給され、予備迅速粗分散体が、ドラムミル12の溜め、ポンプ16および高い流 れ容量の反射式超音波ミキサ(RUMミキサ)18からなる閉鎖回路において混 合物を循環させることにより得られる。 水性または非水性の、液体分散ビヒクルは通常、分散剤を含むとともに、バイ ンダ、可塑剤および滑剤のような他の機能添加剤を含む。粉末、機能添加剤およ び分散ビヒクルの相対的な割合は、最終分散体がダイラタンシ(dilatency)に関 連する問題をなくすのに十分な液体含量を有するように定められる。 RUMミキサ18は、米国特許第4,071,225号に開示されているタイ プのものが好ましい。本明細書においては、この米国特許を引用して、その説明 に代える。簡単に説明すると、かかるミキサは、平坦な、極めて接近して離隔配 置されたプレート20によって形成された2つの平行をなす幅広の壁を有する狭 い矩形の側方横断面の細長い室を備えており、各プレート20は、圧力振動を室 内に向けるとともに反対側の壁へ向けるように外面に複数の超音波変換器が取着 され、対向する変換器からの振動は、反射により、かつ、粉末を媒体に混合しあ るいは予備分散させるのに特に有効な強い小さな渦を形成するようにして互いに 干渉し合う。 当業者に周知のように、従来の高剪断機械的撹拌ミキサまたはボールもしくは サンドミルを使用して微粉末を液体分散ビヒクルに完全に分散させる処理は、長 くて退屈な処理であり、許容することができる分散体を得るのに数日を要するこ とがしばしばである。これは、粒度が減少するにつれて湿潤にされるべき表面積 が増加すること、かかる微粒子を湿潤にするのは本質的に困難であること、必然 的に存在する凝集体の解凝集が困難であることなどのような数多くの理由による 。他の理由については以下において説明する。開示されかつ簡単に上記したRU Mミキサは、5乃至15分という短い時間で許容することができる分散体を形成 することができるが、ある処理の場合には、おそらく30乃至45分という一層 長い時間をかけるのが好ましいことがある。完全に連続した系が好ましい場合に は、単一のRUMミキサの代わりに一連のかかるミキサを使用することができる 。 この予備工程が完了すると、粗に分散されたスラリは、ポンプ26およびクー ラ28を介して本発明の一連のドラムミル30に放出される。図面には、ドラム ミル30は2つだけが図示されている。ポンプとクーラは各ミルに設けられ、ス ラリが各ミルに供給される速度、圧力および温度を制御することができるように しており、クーラは先行するミルが形成したスラリの加熱を補償する作用を行な う。複数のプレートミルまたはドラムミルとプレートミルの組合わせを使用する こともできる。 図13には、プレートミル32として図示されている単一のミルを再循環回路 において使用してバッチ処理を行なう態様が示されている。RUMミキサ系から の予備混合されたスラリは、ドラムミキサ24に供給され、単一のポンプ26お よびクーラ28によりミルの入口に給送される。ミルの出口パイプがドラムミキ サ24に接続され、スラリは所望の粒度分布が得られるまで再循環される。この 処理は通常、所定のプロトコールによって行なわれ、ミルは当初は最大操作粒度 の粒子を処理し、処理が進むにつれて、順次または段階的に調整され、所要の最 小サイズの粒子を形成する。単一のドラムミルを代わりに使用することができる 。 次に、図1乃至図3について説明すると、ドラムミルは、処理されるべき材料 の流路を形成する環状通路42の作動壁を構成する内側円筒面40を有する固定 外側中空円筒ミル部材38が中間ケーシング36により取着されている装置のベ ースフレームを備えている。通路のもう一方の作動壁は、内側円筒ミル部材の外 側円筒面44により構成されており、本実施例においては、内側円筒ミル部材4 6は、水平軸線50を中心に中空シリンダ内で回転するようにシャフト48に取 着された中実の円筒体から構成されている。変換器52(図2)がケーシング3 6内に取着されかつ外側シリンダ38に接続され、変換器が発生する縦の圧力振 動を通路42の隣接部の中へ向けるとともに、円筒壁の少なくとも隣接部分を振 動させて通路の厚さを周期的に変えるようにしており、通路の少なくともこの部 分は以下において説明するように全高剪断処理ゾーンを構成する。変換器は、同 期した同相操作を行なうように電源(図示せず)に接続され、入口54および出 口56を介して冷却流体が供給される。部材38の外部の残りのできるだけ多く の部分は、部分環状包囲体を形成するカバープレート58により包囲され、入口 60から導入され、出口62から放出される冷却水を通すようにしている。カバ ープレートと部材の外側との間の空所には金網が充填され、包囲体の冷却効率を 高めるようにしている。 円筒部材38の内部は、端部フランジにそれぞれ取着された2つの円形カバー プレート66により閉止されており、カバープレートの一方には最下部にスラリ 導入パイプ68が取着され、他方のカバープレートには最上部にスラリ放出パイ プ70が取着されている。これら2つのプレートには、シャフト48と内側ミル 部材を固定外側部材に対して動かすことにより処理ゾーンにおいて軸線方向に延 びる線状ギャップG(図2)のサイズを調整することができるように、シャフト 48が挿通する整合された拡大孔72が配設されている。各端部には、環状のガ スケットシール74が各カバープレート66と保持ワッシャ76との間に挟持さ れ、材料の逃げを防止している。 シャフト48は2つのベアリング78により回転自在に取着され、各ベアリン グ78は各クロスバー80により担持され、各クロスバーは、2つの側方に離隔 して配置された垂直方向に延びる矩形横断面のポスト82および84の上端に取 着されている。各ポスト82の上面は、水平方向に対して内方および下方に傾斜 して配置され、ポストの外側縁部は、シャフトの軸線50と平行をなす軸線86 を中心とするクロスバーの刃先ピボットを構成している。クロスバーのこの端部 は、所要のピボット運動を許容するフレキシブルなストラップ88(図1)によ り各ポストに取着されている。クロスバーの他端は、クロスバーの孔を自由に挿 通する垂直に延びたねじ付きロッド90からなるばね集成体により各ポストの上 端部の上方に支持されている。この端部は一対の圧縮ばね92の間に介在配置さ れ、ばねの圧縮とシャフト48の対応する垂直位置は、上端に設けられたナット 94を操作することにより必要に応じて調整されるようになっている。刃先ピボ ットにより、水平なシャフトの軸線50の動きは軸線86を中心に弧状となり、 かかる動きは2つのミル部材の相対的な回転の偏心を変えることにより、線ギャ ップGのサイズを変える。ばね集成体はまた、2つのミル部材が処理ゾーンに入 る異常に大きな粒子により相対的な回転が邪魔されることがないようにしている 。シャフト48は、フレキシブルなカップリング95を介してモータに連結され 、モータにより駆動されるようになっている。 内側ミル部材46は、炭化珪素のような十分に硬い材料から全体を形成すると ともに、外面44は所要の限度まで正確かつ滑らかに研削するのが好ましいが、 適宜の内部フレームに取着したかかる硬質材料の筒状チューブから形成すること もできる。外側シリンダもまた同じ材料から形成することができるが、経済性を 考慮してステンレス鋼とし、内側シリンダと同じ硬質材料からなるインサート9 6をギャップGが形成される最下位の弧状セグメントに設けることができる。全 高剪断処理ゾーンのインサートを含みかつインサートにすぐ隣接する部分は、全 高剪断処理ゾーン内に一層高剪断の副処理ゾーンを構成するとともに、以下にお いて説明するように、ミル処理操作の大部分が行なわれるゾーンとなる。2つの ミル部材は互いに対して偏心して回転されるので、ギャップGは、内側ミル部材 の上部と外側ミル部材の対向部との間に画定される径方向に対向するギャップH よりも小さくなっている。従って、環状通路42がギャップHからギャップGへ 周方向へ収斂するように形成され、ここで通路の壁離隔距離は最小となって最大 剪断が流動材料において得られ、次いで、通路はギャップGからギャップHへ向 けて拡がる。 好ましい実施例においては、インサートは側方横断而が矩形をなし、一層高剪 断の副処理ゾーンのギャップの対応する面を提供する該インサートの面98は平 坦であり、2つの協働するミル面は反均衡(counterformal) (非共形(non-conf ormal)とも呼ばれる)であるので、ギャップ内およびギャップにすぐ隣接するこ れらの収斂とその後の発散は、全高剪断処理ゾーンの残りも部分と比べてはるか に大きくなる。面98もまた、所要の限度まで正確かつ滑らかに研削される。 図4に示す別の実施例においては、協働するミル面44および98は、共形と なっている。即ち、これらの而は輪郭および寸法が著しく調和しているので、比 較的大きな面積に亘って小さなギャップのみによって分離され、インサートの内 側ミル面98は所要のプロファイルと滑らかさになるまで研削され、処理ゾーン における2つの面の収斂と発散は、これら2つの面の偏心のみによる。図1乃至 図3の実施例の平坦面98は、無限半径であると見なすことができ、平坦と図4 の実施例の共形値との間で所要の値を与えることができる。 本発明の装置を使用して処理される代表的な微粉末材料はアルミナ、シリカお よびジルコニアであり、これらはいずれも、5マイクロメートル以下の凝集一次 粒子として商業的に入手することができ、特に、公称サイズが0.3乃至1マイ クロメートルの範囲にある凝集一次粒子として入手することができる。凝集体の サイズは200マイクロメートルという大きさになる。粉末材料と、分散ビヒク ルに導入される機能添加剤の量は、当然にしてスラリの目的によって変わるが、 通常は、分散ビヒクルと添加剤の双方の量をできだけ少なくして、その後の処理 を容易にすることができるようにするのが望ましい。コンシステンシは比較的小 さく保持して、かかる材料について生ずるダイラタンシをなくすことが必要であ る。 最大所要粒度が1マイクロメートルであるセラミックスラリの処理を行なうよ うに構成された特定の実施例においては、内側部材46は長さと直径が15cm (6インチ)であり、200乃至2000回転/分、好ましくは、400乃至6 00回転/分の速度で回転される。インサート96の周方向の幅は、約2.5c m(1インチ)である。ミル処理に使用する場合には、ギャップGのサイズは通 常、粉砕された後の粉末材料の最大粒度とされ、従って、ほとんどのセラミック スラリの場合には、ギャップは0.1乃至5マイクロメートルの範囲内で、より 一般的には2マイクロメートルよりも小さい範囲内で変えることができる。特に 粘性のあるスラリの場合には、ミルを介して十分な流れが得られるように、ギャ ップは幾分大きくすることが必要となる場合がある。縦の圧力振動を使用するこ とにより、ギャップを以下に述べるように幾分大きくすることができる。本発明 の方法および装置は、かかる微細粒子を含む材料に特にかつ通常とは異なり有効 であるが、より大きい粒度の材料に対しても有利に動作を行なうものである。従 って、ギャップGは以下において説明するように、1乃至500マイクロメート ルの範囲、好ましくは、1乃至100マイクロメートルの範囲で変えることがで き、一方、径方向に沿った反対側のギャップHは約5mm(0.20インチ)の 最大値を有することができる。ミルが溶解器、反応器またはミキサとして使用さ れる場合のギャップのサイズは、以下において説明する。 本発明の方法および装置の一例が図6に示されており、図6は、実線が予備分 散されたスラリ材料の粒度分布を示し、破線が図11のプレートミルにおいて処 理した後の同じ材料の粒度分布を示す、組み合わせた累積グラフ図である。使用 された材料は、ちりの散乱を防止かつ容易に運搬することができるように水溶性 バインダを使用してペレット化された粒度が公称0.3マイクロメートルの、噴 霧乾燥した部分安定化ジルコニアであり、ペレットはサイズが100乃至150 マイクロメートルであった。これらのペレットの50グラムを、超音波浴を使用 して、少量の界面活性剤(ジルコニアの0.3重量%)とともに100グラムの 水に30分間予め分散させたが、これは原粉末材料を完全に解凝集するのに十分 なものとすべきある。実線の特性は、かかる処理後の材料においては、わずか8 2%が0.8マイクロメートルよりも小さいサイズであり、0.8乃至10マイ クロメートルのサイズの材料は実質上なく、残りの18%は10乃至80マイク ロメートルのサイズであることを示している。これは、一部は凝集の結果による ものであるが、主としてペレットの硬化によるものであり、材料の高価な完全な 再ミル処理なしに元の粒度に戻すのを困難にしている。破線の特性は、同じ材料 をプレートミルにおいて同じ30分間処理した結果を示すもので、いずれの材料 とも0.8マイクロメートルよりも小さく、99.25%が0.7マイクロメー トルよりも小さく、96%が0.6マイクロメートルよりも小さいものとなって いる。 以下、本発明の方法および装置を、新規かつ予期し得ない優れた作用効果を奏 する新規性と進歩性を備えた機構についての現段階での知識に基づいて説明する 。従って、かかる説明は、他の新規性と進歩性を備えた機構が代わりをなし、あ るいは信頼性があることを明らかにする別の検討を拘束するものではない。 上記したように、小さな粒子の場合には、高出力、高剪断のミキサを使用して も、完全な分散体を得るには比較的長時間の「エージング」("aging")が必要と なることは、セラミックスラリの製造の分野における当業者には周知であり、こ の時間は、混合能力を高めることによって、あるいは撹拌器の回転速度を大きく して剪断粘度を高めることによっては有意に縮めることはできない。かかる混合 処理についてのエイ・エヌ・コルモゴロフ(A.N.Kolmogoroff)博士の研究によれ ば、かかる事実、および当初は混合は速やかに進行するが、次いで著しく緩慢に なるという事実を説明することができるとする報告が得られている。同博士は、 混合は渦の形成によること、および、例えば、分散ビヒクルとして水を使用しか つ20℃の温度で作動される従来のミキサによれば、約10乃至20マイクロイ メートルよりも小さい直径の渦を得ることは不可能であることを明らかにしてい る。これよりも小さい粒度の連行粒子のような液体素子および物質は、これらの 最小の渦の一部をなし、従って、乱流の影響が遮断されるので、物質移動は対流 によって支配されるのではなく、内部の濃度勾配により渦内に生ずる著しく緩慢 な分子の拡散により支配されるものとなる。渦(コルモゴロフ渦)と見なすこと ができ、かつ、これらのミキサにより形成される最小の動きは、局所的なレイノ ルズ数が1に近づききかつ1に等しくなるときに得られるものと考えられ、低レ イノルズ数におけるかかる小さな渦の場合には、粘性力は慣性力よりも一層重要 となる。 コルモゴロフがかかる現象に対して十分な説明を提供しているとの前提に立て ば、本発明の方法および装置においては、少なくとも全高剪断処理ゾーンにおけ る流通路の壁の間隔は、流動材料の最小のコルモゴロフ渦の直径よりも大きい自 由な超コルモゴルフ渦と最小のコルモゴロフ渦の直径よりも小さい付勢された準 コルモゴロフ渦との双方が共存することができるようなものとされる。全高剪断 処理ゾーンは、通路の間隔がゾーンの他の部分よりも小さくなることにより、自 由な超コルモゴロフ渦が抑制される一層高剪断な副処理ゾーンを提供する部分を 少なくとも含む。かかる構成とすることにより、一層高剪断の副処理ゾーンを通 る流れは層状となり、従って、非乱流となるという重要な効果が得られる。この 実施例においては、流通路の最小の壁間隔の部分を構成する直線状に軸線方向に 延びるギャップGは、一層高剪断の副処理ゾーンを構成し、一方、全高剪断処理 ゾーンは所定の最大間隔が得られる流通路の全てから形成される。 コルモゴロフはまた、等方性の乱流の場合、渦の分布が平衡になると、LKと して表わされる(通常は渦の長さと呼ばれる)渦の直径は、撹拌系の単位質量( PM)に対して、動力入力として LK = (v3/PM14 なる関係により定められることを明らかにしている。上記式において、vは流体 の動粘度である。従って、流路のこの制限は、新しいミルの動力利用の効率に重 要な別の予期し得ない有利な影響を及ぼす。従来の先行技術の装置においては、 乱流エネルギのほとんどは大きいおよび中間のサイズの渦に存在し、LK程度の サイズの小さい渦にはほとんど存在せず、従って、装置の動力のほとんどは、初 期の分散を維持するにのみ有効な渦の形成において無駄に逸散され、一方、残り の「エージング」分散は分子の拡散により行なわれる。本発明の方法と装置の場 合、全高剪断処理ゾーン、特に、一層高剪断の副処理ゾーンにおいては、最小の 径と同等またはこれよりも小さい渦だけを形成することができ、一方、無駄な大 きい渦は抑制される。この関係からは更に、流体の粘度が上昇すると、渦の直径 が通常大きくなり、粘度のかなりの増加が以下において説明するように生ずるが 、渦の直径のその後の増加は再度阻止される。 スラリは、例えば、通常、0.07乃至0.7kg/cm2 (1−10ps i)の範囲の比較的低い圧力で作動するポンプ26の作用を受けて、通路42に より構成される環状の流路において軸線方向に移動する。表面エネルギー力の影 響下では、流動材料は、面40、44および98のそれぞれにおいて、境界層を 含 む薄い被着フィルムを形成する。ギャップHは通常、ギャップHにおいて最大の 厚さを有しかつ最大の剪断条件が得られる線状処理ギャップGにおいて厚さが最 大となるように肉厚が徐々に減少する介在層によりこれら2つのフィルムが分離 されるように、十分大きな寸法に形成されている。ギャップGはまた、介在層と して識別することができる層が存在せず、従って、流れが互いに遮断し合う2つ の薄いフィルムからなるように小さくすることができる。このギャップはまた、 フィルムを遮断し合う2つの境界層だけからなると見なすことができるように十 分小さくすることもできる。 本発明によれば、2つのミル部材は、各フィルムを一体的に保持しかつ一層高 剪断の副処理ゾーンの流れを非乱流状態に保持した状態で、流動物質に超コルモ ゴロフ渦と準コルモゴロフ渦の双方を全高剪断処理ゾーンにおいて同時に形成す ることができる相対速度で流通路の壁を流れの方向と交差して相対的に動かすこ とができるように互いに相対的に動かされることにより、2つのフィルムは相互 に作用し合って所望のミル処理作用を行なうことができるようになっている。般 的な場合のようにギャップHが十分に大きい場合には、2つの面被着フィルムは ミル部材の相対的な回転によりギャップGからギャップHへ向けて引きずられる につれて分離され、新しい材料が両者間に入って介在層を形成し、この介在層に おいて超コルモゴルフ渦が形成される。かかる渦が形成されると、マクロ混合が 通路のこの部分で行なわれ、フィルムを再度一緒に動かして介在層をなくし、超 コルモゴロフ渦を抑制するとともに、準コルモゴロフ渦への転換を強制する。こ のサイクルは内側ミル部材46の各回転ごとに繰り返される。従って、材料は、 超ミクロンおよびサブミクロンのスケールで全高剪断処理ゾーンにおいて処理さ れて、所望の完全に均一な混合が行なわれ、しかも一層強くて完全な均一混合が 一層高剪断の副処理ゾーンにおいて行なわれるとともに、先行技術のミル処理装 置では到底不可能であると考えられる程度までミル処理と解凝集とが行なわれる 。 本発明の新規な方法と装置は、微細な粒子をミル処理するこれまでの試みが、 ミルの本体が撹拌機構またはミル処理媒体を含むように十分な大きさの大容量の 容器からなる、3次元「容量」("volume")系として特徴づけることができるもの であることを考慮すれば、容易に理解することができる。ボール、ビーズ更には 砂がミル処理媒体として使用されるが、ミルは、材料を粉砕するためには粒子が 衝突媒体素子の接触点領域間に存在しなければならず、しかも統計学的には、こ れはまれであるとともに、粒子のサイズが小さくなるにつれて一層まれとなるの で、比較的非効率である。上記したように、汚染の可能性も高く、例えば、しば しば0.2重量%という高さとなり、これは、ほとんどの電子セラミック向けの 最大値が0.01%であることからすれば、許容することができないものである 。これに対して、本発明の方法と装置は、少なくとも一層高剪断の副処理ゾーン においては、薄い中間層が存在しても、超コルモゴロフ渦の形成を不可能にする ことにより乱流の可能性をなくすことができたということで、2次元「領域」系 と見なさなければならない。流路を通る材料の実際の粘度とは実質上関係なく、 この薄い非乱流表面フィルム特に境界層が、微細な粒子をしっかりと連行して保 持する著しく粘性のある液体皮として作用するのは、かかるフィルムの本質的な 特性である。2つのミル部材の相対的な側方向の動きにより、これらの確実に連 行された粒子を互いにおよびミル部材の表面と粉砕係合させることにより、図6 に示すような優れた効果が得られる。 更に説明すると、摩擦学(tribology) 、エンジニアリング材料の摩擦と摩粍 の研究から、流体力学的な潤滑層は、収斂しかつ負荷を受ける2つの相対的に動 く共形面間に形成され、かかる層を形成する滑剤は負荷を受けていない材料より も大きな粘度を有することが知られている。かかる層は、図1乃至図4のミルに おいて得られる被着フィルムにより形成されるので、スラリの局部的な粘度は全 高剪断処理ゾーン、特に、最小ギャップGを有する一層高剪断の副処理ゾーンに おいて高まり、これらのゾーンにおける均一な混合および粉砕作用を高進させる 。スラリ材料の粘度全体に長時間影響を及ぼすことなく、局部粘度を更に高くす ることは、フィルムを、以下において説明するように、弾性流体力学性を有する ように形成することにより行なうことができる。当業者が既知のように、粒子の 凝集の破壊は、高剪断速度の可塑化作用が強い粘性抵抗を受けたときに特に目立 つようになり、解凝集は抵抗が大きくなるにつれて一層目立ったものとなる。従 来の方法は、所要の高粘度を得るために、高粘度の分散液を使用するか、あるい は 最高の可能な固形分容積摩擦(volume friction)を利用している。本発明は、従 来の方法とは異なり、適正な高液体粘度または高固形分容量摩擦の特定の選択を 必要とすることなく、全高剪断処理ゾーンの狭い境界内で局部的な摩擦学による 流体力学および/または弾性流体力学作用により所望の粘度増加を得ている。 2つの面に関して必要とされる収斂の程度は著しく小さく、処理ゾーンにおけ る最小フィルム厚の最大フィルム厚に対する比は1:2乃至1:50の範囲、好 ましくは、1:2乃至1:10の範囲とされる。収斂度を異常に大きくすること は、向流が粒子、特に、大きな粒子を連行するゾーンの上流に形成されて、粒子 が処理領域に入るのを妨げる可能性があるので避けるべきである。 全高剪断処理ゾーン、特に、一層高剪断の副処理ゾーンにおけるミル表面の間 隔は小さくする必要があるので、作動面40、44および98は、荒い表面接触 およびフィルムの破壊が避けられるべきである場合には、対応する円滑度および 曲率(プレートミルの場合には平坦度)まで研削しなければならない。フィルム の肉厚Fと表面粗さRとの関係Mは、式M=F/Rで表わすことができ、実際に は、Mは1乃至5、好ましくは、2.5乃至3の範囲の値を有するようにすべき である。例えば、ミルが1マイクロメートル以下まで解凝集を行ない、Mの値を 3に保持しようとする場合には、表面粗さは0.33マイクロメートル以下にす べきであり、これは艶なし鏡面仕上げまたは良好な艷出しである。粗い仕上げは 、反応器、ミキサまたは溶解器として作用するミルの場合に許容される。ミルの 表面は耐摩粍性を高めるようにダイヤモンドコーティングを行なうことができ、 ダイヤモンド層は結晶質または非晶質とすることができ、イオン注入あるいは元 の表面のプロファイルを変えない他の方法により被着することができる。 本発明の方法と装置は、縦方向の圧力振動を必要とすることなく操作すること ができるが、これは、高粘度の液体/固体系における高剪断条件、例えば、高剪 断微粉砕の新規かつ予期し得ない使用により行なうことができる。上記したよう に、摩擦学によれば、液体は、反均衡ジャーナル軸受けの最小のギャップに圧縮 された状態で入るときに粘度が突然増加することが知られている。かかる作用は 、均一な混合を行なうことができ、かつ、粘度が局部的にのみ大きく増加する対 応した最高剪断ゾーンとともに、反均衡面間に最小のギャップを有する一層高剪 断の副処理ゾーンを有する全高剪断処理ゾーンを提供することにより、本発明に おいて使用されている。これにより、ミルに入る前の供給材料の粘度を例えば濃 厚なバインダ、増粘添加剤を使用しあるいはより多くの固形分を加えることによ り高める必要なしに、摩擦学的に画定されたゾーンにおいて高剪断の微粉砕およ び分散を行なうことができる。 縦の圧力振動の使用による予期し得ない効果はまた、本発明の方法が2次元「 領域」方法であり、しかも2つの相対的に動く流体コーティング表面が互いに対 して直交する方向にかなり動くときに得られるスクイーズフィルム作用(squeeze -film effect)として知られていることに関する摩擦学の知識によるものである という点で予期し得ないものである。かくして、流体の薄い層により分離された 2つの協働する面は面40および44、特に、面98および44のように反均衡 であるので、線状のギャップ(例えば、ギャップG)を含み、しかも直交する動 きを受ける場合には、ギャップにおける局部的な圧力および粘度は流体力学的に 形成されるものと比べて一般に著しく高く、弾性流体力学的に形成されるものと 見なされることが知られている。この種の構造体の先行例には、噛合する歯車の 歯、およびベアリングのトラックのボールまたはローラがあり、これらはいずれ も潤滑されるものである。流体力学理論を使用して計算すると、滑性層は著しく 薄く、直交する方向の動きにより表面間に荒い接触が生ずるようにすべきである が、実際には、予測したものよりも厚い層を形成し、しかも表面のフィルムの一 体性を保持することにより、フィルムは連続状態を保持できることが認められて いる。 摩擦学による説明によれば、局部的な非常に高い圧力振動は、流体力学理論に より予測されるものと比べて流体の粘度をかなり高めるともに、ギャップ内で得 られる局部圧力および粘度は、弾性流体力学的な条件が適用される場合には、わ ずか数パーセントの上昇とは異なり著しく高いものとすることができる。例えば 、500MPaの圧力が得られ、この圧力では、潤滑油の粘度は大気圧における 同じ材料の粘度と比べて20,000倍よりも大きくすることができ、液体とい うよりも固体に一層近い挙動を呈するものとなる。振動による可動ミル部材に対 する固定ミル部材のサイクル負荷により、対応する正確な周期的な直交する方向 の動き即ち変位が生じ、その結果、特にギャップGにスクイーズフィルム作用に より負荷および圧力作用が生ずるとともに、流動材料の局部粘度の予期し得ない 著しい増加が対応して生ずることにより、高粘性の表面フィルム間のミル作用が かなり高進する。これは、縦の圧力振動の新規かつ予期し得ない利用によるもの であり、かかる振動は相対的に動くミル部材に機械的作用を直接及ぽとともに、 薄い協働する流動フィルムにおける圧力と粘度の増加により機械的作用を間接的 に及ぼすことができ、従って、上記した公知の先行技術での試みにおける比較的 大容量の液体にこのような振動を向ける作用とは完全に異なる作用を行なうこと がわかる。このように、縦の圧力振動のかかる優れた効果は、該振動が液体ビヒ クルに連行される固体粒子に及ぼす直接的な作用によるのではなく、液体ビヒク ルの圧力および粘度に及ぼす予期し得ない間接的な作用によるものである。スク イーズフィルム作用による流動材料の粘度の局部上昇により更に、被着表面フィ ルムの一体性が保持されるとともに、フィルムに含まれる高含量の固体物質によ りフィルムが破壊されないようにすることができ、かくして、通路壁の間隔を著 しく狭いものとすることができる。 縦の圧力振動を使用することにより、通路の壁の直交する方向への動きによっ て流通路の有効高さは小さくなるので、粉砕の場合には、一層小さくなるように 行なうことができるという別の効果も得られる。この場合、例えば、1マイクロ メートルの最大粒度が必要とされる場合には、ギャップGは、同じ結果を得るの に、2マイクロメートルと、幾分大きく設定することができる。縦の圧力振動の このような利用は、かかる振動が、混合およびミル処理において予期し得ない相 乗的な優れた作用を発揮するために、より大きな渦と、相互作用を行なうことが できる一層小さな準コルモゴロフ渦とを同時に形成するように直接作用すること ができる場合を除くものではない。 従って、本発明の方法と装置は、十分に接近して離隔配置されかつ十分な速度 で互いに相対的に動かされる2つの面間の通路の部分である全高剪断処理ゾーン においてできるだけ均一となるように流動材料を「マクロ混合する」("macromix ing")マクロ混合と、より小さな準コルモゴロフ渦を形成するように付勢する反 射性の縦の圧力振動を印加することにより同時に行なわれる「ミクロ混合」("mi cromixing")との組み合わせを採用していると考えることができる。 本発明の装置はまた、面作用、即ち、スラリの薄いフィルムを保持し、これを 引きずって、インサート96の表面98に存在する薄いフィルムと係合する内側 シリンダ46の回転外側面44の「スキンドラッグ」("skin-drag")により作用 を行なうものと考えることができる。ミルを通るスラリの流量は、ミルのギャッ プGをあたかも短絡するように図面に現わすことができる、ミルの上部のより大 きいギャップHが存在するにも拘らず、スラリの全てがギャップGを介して回転 面44により引きずられるように定められるが、上記したように、本実施例にお いては、このギャップの最大値はわずか5mmであり、より一般的には1mm程 度であり、これは、流量を正しく選択することにより、材料の全てが処理ゾーン を所望のように通ることができるように十分に小さいものとなっている。 図5は、気体と液体との反応、あるいは難溶性の気体の液体に対する速やかな 溶解または難溶性気体と液体との反応のような、実行が困難な化学反応および物 理的相互作用を行なうための本発明に係る装置が示されている。この装置もまた 、中空の外側シリンダ38内で水平な軸線50を中心に回転する内側シリンダ4 6を備えている。反応されるべきキャリヤ液体または溶媒として作用すべきキャ リヤ液体は、反応器の一端に設けられた液体の入口(図示せず)から反応器を介 して他端に設けられた液体の出口70へ供給されるが、この実施例においては、 入口と出口が外側シリンダの最下部に配置されている構成が異なり、他の成分は 、別の入口により2つのシリンダ間の作用/反応空間に供給されるが、該成分は キャリヤ液体により消費されるので、別の出口は当然に必要とはされない。変換 器52とミル部材38との間にはカップリング部材148が配設され、該カップ リング部材には反応ギャップ内で行なわれる作用/反応が発熱であるか、吸熱で あるかによって液体を冷却しあるいは加熱する通路150が設けられており、こ れらの通路には、例えば、本発明者の発明に係る米国特許第4,784,218 号に開示されているように、熱交換促進インサート152が設けられている。本 明細書においては、この米国特許を引用してその説明に代える。液体成分は、液 体プール154を超音波変換器にすぐ隣接して配置された相対的に回転する部材 間の空間に閉じ込めて形成することができる速度で供給される。 最小のギャップGは、上記した実施例のミル処理ギャップよりも高さを大きく することができるととも、1マイクロメートル乃至5mmの範囲とすることがで き、一方、対向するギャップHは2mm乃至2cmの範囲とすることができる。 2つの面の相対的な動きの速度もまた、通常は、粉砕の場合よりも遥かに大きく 、例えば、内側シリンダの直径が15cm(6インチ)の場合には、回転速度は 通常200乃至20,000回転/分の範囲にあり、好ましい範囲は500乃至 5,000回転/分である。直径かより大きいまたはより小さいミル部材は、同 等の角速度を得るために対応して異なる速度で操作される。最高の可能速度の上 限は、処理されている材料、特に、長鎖分子材料の安定性が欠如する可能性と、 キャビテーションの開始を考慮して設定することができる。ある用途においては 、環状通路42全体が、軸線を共通にして延びる全高剪断処理ゾーンと一層高剪 断の副処理ゾーンの双方を構成する場合には、2つのミル部材は、同軸をなして 作動させることができる。 図1乃至図5に示す実施例はいずれも、水平な相対回転軸線50を有している が、異なる方向に配向された軸線、特に、垂直方向に配向された軸線を中心に操 作することもできる。 次に、図7および図8について説明すると、これらの図に示されているプレー トミル32は、円筒状のベースケーシング36を支持する装置のベースプレート 34を備えている。ドラム面40に対応する円形面102を備えた、ドラムミル 部材38に対応する固定の円形振動プレート部材100が、弾性材料からなるリ ング即ち環状部材104に、例えば接着により取着されており、この環状部材は 、ケーシング36の上端に配設された座ぐりに、例えば接着により固着されるこ とにより、プレートはケーシングに固着される。半径方向の小さなクリアランス が、プレート100の円筒状縁部と座ぐりの対面する円筒壁との間に配設され、 プレートが垂直方向に自由に振動することができるようになっているが、感知さ れる側方向の動きは抑制されている。プレートは、該プレートの下側に取着され かつプレートの中心点を中心に周方向に均一に離隔配置された複数の超音波変換 器52により振動され、変換器は、ドラムミルの変換器と同様に、同期、同相操 作が行なわれるように適宜の電源(図示せず)に接続されている。 ドラム面44に対応する円形面108を備えた、ドラム部材46に対応する回 転自在の円形プレート部材106は、ベースプレート34に取着された垂直方向 に延びる垂直支柱112からなる駆動手段により、中心点を介して延びる垂直軸 線110を中心に回転するようにプレート100の上方に取着されている。モー タ駆動の駆動ヘッド114が垂直支柱に取着され、該駆動ヘッドには垂直方向下 方に延びる駆動軸48が配設され、プレート部材106は中心点が軸即ちシャフ ト48の下端に取着されてシャフトとともに回転するようになっている。流路1 16を画定するプレート部材の面102と108間の間隔は、当業者が周知のよ うに、適宜のマイクロメータ系を使用して、ヘッド114を垂直支柱上で垂直方 向に動かしおよび/またはシャフト48をヘド内で垂直方向に動かすことにより 正確に調整することができる。プレート部材106は、材料が流れているときの 流通路の間隔を適宜の値に保持するため、駆動ヘドとシャフト48とを介して作 用される適宜のばねまたはおもり手段により下方に強く押圧されている。本実施 例においては、面102は、著しくフラットにされ、側面が真直ぐに形成された 円錐の反転上面の形態をなしており、従って、流路の通路116は、高さが軸線 110から半径方向外方へかけて徐々に減少している。かくして、流通路の、間 隔が十分に狭くかつ相対的回転速度が十分に大きくなっている部分は、収斂した 全高剪断処理ゾーンを構成し、一方、最小の高さの処理ギャップGを有する通路 の半径方向外側部分は、全高剪断処理ゾーン内に一層高剪断の副処理ゾーンを構 成している。本実施例においては、ギャップGは、2つのプレートの半径方向外 側の縁部間に形成され、最高の剪断条件が得られる円形ラインゾーンを構成して いるが、図9の実施例のような他の実施例においては、ギャップは、半径方向の 外側縁部から半径方向のすぐ内方の部位に配置することができる。他の実施例に おいては、面108あるいは面102と108の双方は、適宜の形状に形成して 同じ作用を行なうようにすることができる。 粗に予備混合しかつ予備分散させたスラリは、導入パイプ68を介してミルに 供給されるが、導入パイプ68はプレート100の振動を妨害しないようにフレ キシブルな接続体118を有している。スラリは、プレート部材間から円筒状の 孔120を介してプレート100の中心に入り、次いで、ポンプの圧力の影響を 受けて通路内を半径方向外方へ流れるとともに、ミル部材の相対的な回転により 周方向へ流れる。孔120は、流通路116への入口として作用する。その後、 スラリは、通路の出口を構成する出口を有する円筒状のギャップGに到達し、次 いで、ケーシング36の円筒状延長部124と、プレート100および106と 、ケーシング36に取着されかつ回転プレート106の可動縁部と係合する固定 された環状の弾性セルフシールガスケット126との間に形成される環状の放出 プレナム室122に入る。スラリは、次いで、ミルから放出パイプ70を介して 放出される。 スラリ116は、通路116を流れる際に、閉止の影響と通路面間の徐々に減 少する間隔の影響を受けるとともに、2つのプレート部材間の相対的な回転の影 響と、変換器52からの縦の圧力振動の影響を受けるが、これらの影響は上記し たように組み合わされることにより、ドラムミルは著しく短縮された時間内に、 スラリに連行された固体粉末材料の一層完全な分散および湿潤を、著しく均一な ミル処理、解凝集および微粉砕とともに、従来の高剪断ミキサおよびミルと比べ て一層良好に行なう。 特に好ましい実施例においては、2つのプレート部材はいずれも、直径が25 cm(10インチ)で、肉厚が6.25mm(0.25インチ)であり、炭化珪 素、好ましくは、表面にダイヤモンドコーティングを施したものから形成され、 両面は鏡面仕上げに供され、本実施例においては、25cmに対して1.5マイ クロメートルの限度で平坦であるのが好ましい。一層平坦な表面が可能であるが 、この特定の実施例においては、必ずしも経済的または重要なものではない。本 発明の装置に関して好ましい平坦度の範囲は、向けられる用途によるが、25c m当たり500ナノメートル乃至10マイクロメートルである。 2つのプレート面は保守および点検のために分離させておく必要があるので、 2つのプレート面間の垂直方向の間隔の最大高さは不定であるが、作動の際のギ ャップGの最小の高さは、ドラムミルの場合と同様に、1マイクロメートル以下 の小さい寸法にされる。このギャップは、最小粒度のスラリを処理するとともに 、プレート間をスラリが十分に流れることができるようにするのに通常必要な処 理ギャップである。通常の操作においては、処理ギャップのサイズは、スラリの 平均粒度と相関関係があり、連続するミルの場合には、最初のミルから最後のミ ルへかけて徐々に小さくされている。使用されるべきギャップのサイズの範囲は 1乃至500マイクロメートル、一方、粉末材料の処理におけるギャップサイズ の通常の範囲は1乃至10マイクロメートルであり、セラミック原材料の処理に 特に好ましい範囲は1乃至5マイクロメートルである。特定のスラリを処理する 場合には、通常、処理時間と連続するミルの通過高さとを相互に関連させるプロ トコールを必要とし、かくして、処理は、例外的に大きな凝集体が存在する場合 にプレートが比較的遠くに離れて配置されているミルにおいて開始され、この間 隔は、処理が継続しかつ粒度が小さくなるにつれて徐々に狭められる。個々のミ ルは比較的限定された粒度範囲で操作するのが通常は最も有効であり、例えば、 0乃至100マイクロメートルの範囲の材料が供給されるミルは0乃至1マイク ロメートル(0乃至1,000ナノメートル)の範囲の製品を形成するのに使用 され、0乃至0.2マイクロトメートル(0乃至200ナノメートル)の範囲の 製品をつくるのに使用される。 プレートミルの場合には、プレート間の相対的な周方向の線状の側方の動きが 回転軸線110上の零から周囲の最大値まで徐々に変化することにより、所要の 最小しきい値は軸線から半径方向へある距離の部分で得られるのみである。本実 施例において使用される直径が25cm(10インチ)のプレートの場合には、 これらの作動面の互いに相対的な線速度は、分当たり0.5乃至200メートル (分当たり20乃至8000インチ)とすべきであり、この特定の実施例におい ては、6cm(2.5インチ)の平均半径で測定した場合、上部プレートの回転 速度は分当たり約1乃至400回転とすべきであり、好ましい速度は分当たり5 0乃至200回転である。環状外側部にだけ著しく艶出しされた平坦な作動面を 有する全高剪断処理ゾーンを形成することにより、プレート100および106 のコストを低減させることができる。 ドラムミルの場合と同様に、このミルの動作においては、流体力学的および弾 性流体力学的作用による粘度の局部上昇は、大きなファクタとなる。材料は、薄 い被着フィルムの形態をなして2つの面に密着されるとともに、特に一層高剪断 の副処理ゾーンにおいてこれらは接近して隔離配置されているので、介在層なし に互いに係合する。2つのフィルム間のこの相対的な動きは、ポンプにより通路 内の材料の半径方向外方への流れに加えられる。この薄い表面層は非常に強力で 、プレートの動きによるスクイーズ作用に対して耐スクイーズ性を発揮するので 、プレート部材は所望の小さい間隔で保持するためには、比較的剛性を有すると ともに互いに強く押圧されることを必要とする。変換器がスクイーズフィルム作 用を発揮するように作動している場合でも、付勢された準コルモゴロフ渦を形成 するように作動している場合でも、あるいは双方を行なうように作動している場 合でも、処理通路の両面に変換器を設ける必要はなく、かくして、変換器と、可 動プレート部材に対する電源とを設ける必要性をなくすことができる。超音波変 換器52のサイズ、数および空間配分は、当然に、特定のミルに関して特定のも のであり、本実施例の単なる特定例においては、10個の変換器が1つの円内に 均等の間隔をおいて配置される。各変換器は、約50ワットの出力を有し、16 kHz乃至50kHzの周波数範囲で作動し、この範囲は好ましい範囲であり、 通常は超音波とみなされ、使用される通常のより広い範囲は、ミルの構成によっ ては8kHz乃至100kHzであり、これは超音波の下に拡がる。 図9は、別のプレートミルの実施例を示す長手方向の横断面図であり、この実 施例では2つのプレート部材が水平な軸線128を中心に回転するように取着さ れている。固定した振動プレート部材100が、ベースプレート34に取着され た垂直支柱130の上端部に固着され、このプレート部材100には弾性材料の シリンダ132が円筒周辺部に固定されており、該シリンダは外部ケーシング1 36に取着された鋼製リング134に固着されている。ケーシングはストラップ 138により回転しないように拘束されている。放出プレナム124が、シンリ ンダ132と、リング134と、ケーシング136と、固定ガスケット126と の間に形成されている。軸線128を中心に可動プレート106を取着するシャ フト48が、ベースプレート34に取着された垂直支柱142の上端に配設され たベアリング140に取着され、カップリング144を介して図示しないモータ により駆動され、これにより、軸線128に沿ったシャフトとプレートの必要な 動きが流路の高さを変えることができるとともに、所要の場合に流路116への アクセスが可能となる。ギャップGの横断面が図10に詳細に示されており、周 囲のプレートの縁部から内方に位置するように図示され、半径方向の拡がりLを 有している。次いで、通路はプレナム124内へ円滑に放出するように軸線方向 に拡がっている。図7および図8の実施例の通路116もまた、同じ形態を取る ことができる。特定の実施例においては、Lの値は0.5乃至5mmであり、好 ましくは約1mmである。回転軸線は垂直または水平以外の姿勢も取ることがで き、かかる姿勢はミルの動作に影響を及ぼすものでない。 図11は、図6のグラフの結果を得るのに最初に使用された実施例を示し、流 路を形成するミルの面102と108はプレート100および106の半径方向 の拡がりのほとんどに亘って略平行をなしているので、最小のギャップGは画成 されず、かくしてこれらは共形をなしている。従って、全高剪断処理ゾーンは、 プレートが十分な速度で互いに相対的に回転している半径方向の位置からプレー トの半径方向最外縁部まで延び、一層高剪断の副処理ゾーンは同じ半径方向の拡 がりを有し、かくして、これら2つのゾーンは同じ拡がりを持っている。従って 、本実施例においては、全高剪断処理ゾーンの流通路の間隔は、自由な超コルモ ゴロフ渦は抑制され、付勢された準コルモゴロフ渦だけが可能となる一層高剪断 の副処理ゾーンの条件を満たすように十分に小さいものとなる。この場合にも、 各表面フィルムは著しく薄くできるので、互いに係合する高粘性の境界層のみか ら実質上構成することができる。プレートの相対的な回転は、材料が周方向へ引 きずられるときに材料の粘度に小さな流体力学的な影響を及ぼし、従って、本実 施例においては、変換器はミルの粉砕能力に有利な弾性流体力学的影響を及ぼす ことで特に望ましいことがわかった。これは、当初は、相対的な回転により生ず る準コルモゴロフ渦に重畳される、材料における一層小さな準コルモゴロフ渦の 変換器振動により直接発生されるものとの前提に立っていたが、上記した説明か ら、流体力学的影響と弾性流体力学的影響もまた作用することが可能である。固 定のミル部材に取着された変換器の同期された同相動作により、強い高周波数の 正確な動き即ち変位が生じ、かくして形成されたスクイーズフィルムの弾性流体 力学作用により少なくとも最小ギャップGに局部的な粘度の上昇が生ずる。 プレートミルにおいては、粒子は全てリング状の最小ギャップを通過しなけれ はならないので、プレートミルは粒度の低減が必要とされかつ粒度分布の上限が 確実に保持されなければならない場合には、ドラムミルよりも好ましい。本発明 の方法と装置を、セラミックスラリの処理に適用した場合について主として説明 したが、2つの互いに不溶性または難溶性の液体の均一な混合、液体中に気体を 含む材料、特に、微細な粒子材料および液体に対して溶解度の低い材料の溶解、 懸濁ビヒクルにおける他の材料の懸濁、特に、湿潤が困難な材料、特に微細な粒 子材料の懸濁のような材料の均一な混合にも広く適用することができるのは明ら かである。 参照符号の表示 G 流通路の最小ギャップ H 流通路の最大ギャップ L ギャップGの半径方向の拡がり 10 粉末供給ホッパ 12 予備混合回路貯蔵タンク 14 分散ビヒクル供給タンク 16 予備混合回路循環ポンプ 18 予備混合回路RUM 20 RUM壁プレート 22 RUM超音波変換器 24 ドラムミキサ 26 フィーダポンプ 28 クーラ 30 本発明のドラムミル 32 本発明のプレートミル 34 装置のベースプレート 36 中間ケーシング 38 外側円筒ミル部材 40 ミル部材38の内面 42 ドラムミルの環状流通路 44 ミル部材46の外側面 46 内側円筒ミル部材 48 ミル部材46のシャフト 50 シャフト48の水平軸線 52 ミルの超音波変換器 54/56 変換器の冷却剤入口/出口 58 冷却包囲体を形成するカバープレート 60/62 ミル冷却剤導入/放出パイプ 64 金網インサート 66 端部カバープレート 68/70 スラリ導入/放出パイプ 72 端部プレート66の孔 74 ガスケットシール 76 保持ワッシャ 78 シャフト48のベアリング 80 ベアリング78を支持するクロスバー 82/84 クロスバー80のベアリングポスト 86 クロスバーのピボット軸線 88 フレキシブルストラップ 90 ねじ付きロッド 92 圧縮はね 94 調整ナット 95 駆動カップリング 96 ミル部材46のインサート 98 インサート96のミル処理面 100 固定円形プレートミル部材 102 プレート部材100のミル面 104 部材100の弾性取着リング 106 回転自在の円形プレートミル部材 108 プレート部材108のミル面 110 プレートミルの垂直軸線 112 ミルの垂直支柱 114 モータ駆動のミル駆動ヘッド 116 プレートミル流通路 118 フレキシブルなパイプ接続体 120 プレート100の中央孔 122 スラリの放出プレナム室 126 プレナム弾性ガスケット 128 水平なミル回転軸線 130 垂直支柱 132 弾性シリンダ 134 鋼製リング 136 外部ケーシング 138 拘束ストラップ 140 ベアリング 142 垂直支柱 144 カップリング 146 溶解器の別の入口 148 部材36と38との間のカップリング部材 150 冷却液の通路(図5) 152 熱交換インサート 154 液体プール

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.それぞれのミル部材(それぞれ38、46または100、106)によって 提供される2つの接近して離隔配置された通路面(それぞれ40、44または1 02、108)間に画定され、入口(68)と出口(70)とを有する通路(4 2または116)により構成される流路に処理されるべき材料を流れ方向に通す 工程を備えた、一方が液体である少なくとも2つの成分からなる流動性材料の高 剪断処理方法において、 流路は、通路面(40、44または102、108)間の間隔が流動材料の最 小のコルモゴロフ渦の直径よりも大きい自由な超コルモゴロフ渦と、最小のコル モゴロフ渦の直径よりも小さい付勢された準コルモゴロフ渦とを共存させること ができる全高剪断処理ゾーンを有し、 全高剪断処理ゾーンは、材料の通過の際に自由な超コルモゴロフ渦が抑制され る一層高剪断の副処理ゾーンを提供するように通路の間隔が全高剪断処理ゾーン の残りの部分よりも小さくなっている部分を少なくとも有し、 材料が全高剪断処理ゾーンを動いているときにミル部材が互いに相対的に動か されてミル通路面(40、44または102、108)を流れ方向と交差する方 向へ、液体フィルムを相対的に動く通路面(40、44または102、108) に被着保持しながら超ミクロンおよびサブミクロンのスケールで材料を処理する ように超コルモゴロフ渦と準コルモゴロフ渦との同時形成を付勢するような相対 速度で互いに相対的に動かすことにより、処理材料をできるだけ均一にし、 かかる相対的な動きが非乱流状態を保持しながら付勢された準コルモゴロフ渦 だけを一層高剪断の副処理ゾーンにおいて形成することを特徴とする流動性材料 の高剪断処理方法。 2.一層高剪断の副処理ゾーンは通路面の間隔が流動材料に流体力学的圧力を形 成するように徐々に減少して材料の粘度を局部的に上昇させることにより処理作 用を高めるように通路面(40、44または102、108)間に最小間隔のギ ャップ(G)を有することを特徴とする請求の範囲第1項に記載の方法。 3.全高剪断処理ゾーンは更に、通路面の間隔を徐々に大きくする通路面(40 、44または102、108)間に最大間隔のギャップ(H)を有し、通路面間 の相対的な動きにより通路面間の流動材料の横断面の厚さのサイクル変化が生ず ることを特徴とする請求の範囲第2項に記載の方法。 4.ギャップGにおける接近して離隔配置された通路面(40、44または10 2、108)間の間隔は1マイクロメートル乃至5mmの範囲にあり、ギャップ Hにおける接近して離隔配置された通路面(40、44または102、108) 間の間隔は2mm乃至2cmの範囲にあることを特徴とする材料および/または キャリヤ液体の成分の連行物の混合に使用する請求の範囲第3項に記載の方法。 5.全高剪断処理ゾーンにおける接近して離隔配置された通路面(40、44ま たは102、108)間の間隔は0.1乃至500マイクロメートルの範囲にあ ることを特徴とする請求の範囲第1乃至3項のいずれかに記載の方法。 6.一層高剪断の副処理ゾーンにおける接近して離隔配置された通路面(40、 44または102、108)間の間隔は相対的に動く通路面に被着する液体フィ ルムが両者間に中間層なしに互いに相互作用を行なうように定められることを特 徴とする請求の範囲第5項に記載の方法。 7.一層高剪断の副処理ゾーンにおける接近して離隔配置された通路面(40、 44または102、108)間の間隔は材料が粉砕されるべき最大粒度であるこ とを特徴とするキャリヤ液体に連行された固体粉末材料の粉砕に使用する請求の 範囲第5または6項に記載の方法。 8.ミル部材(38、46または100、106)は接近して離隔配置された通 路面(40、44または102、108)間に分当たり0.5乃至200メート ルの相対線速度を形成するように動かされることを特徴とする請求の範囲第1乃 至7項のいずれかに記載の方法。 9.ミル部材(38、46)は、固定された中空外側シリンダ(38)と、長手 方向の回転軸線(50)を中心に回転するように固定中空外側シリンダ内に取着 された回転自在の外側シリンダ(46)であり、2つのシリンダは回転軸線と交 差して互いに相対的に動いて2つの対向する流路面(40、44)間の間隔を変 えるように取着されていることを特徴とする請求の範囲第1乃至8項のいずれか に記載の方法。 10.ミル部材(38、46)間の一層高剪断の副処理ゾーンは、固定中空外側 シリンダ(38)の内面(40)の平坦面部(98)と回転自在の内側シリンダ (46)の円筒面部(44)との間に形成されて2つの面部(44、98)の収 斂を高めることを特徴とする請求の範囲第9項に記載の方法。 11.ミル部材(100、106)は中心を通る共通の回転軸線(110または 128)を中心に互いに相対的に回転するように取着され、通路面(40、44 または102、108)は2つのプレートの対向する表面によって構成され、プ レートはまた回転軸線に沿って互いに相対的に動いて2つの対向面間の距離を変 えるように取着されていることを特徴とする請求の範囲第1乃至8項のいずれか に記載の方法。 12.全高剪断処理ゾーンと一層高剪断の副処理ゾーンは互いに同一の拡がりを 有することを特徴とする請求の範囲第1乃至11項のいずれかに記載の方法。 13.縦の圧力振動が、液体フィルムにおける弾性流体力学スクイーズフィルム 作用による局部粘度の増加が材料において生ずることにより処理作用を高めるよ うに全高剪断処理ゾーンにおける通路の壁に印加されることを特徴とする請求の 範囲第1乃至12項のいずれかに記載の方法。 14.縦の圧力振動が、材料における付勢された準コルモゴロフ渦による局部粘 度の増加が材料において生ずることにより処理作用を高めるように全高剪断処理 ゾーンにおける通路の壁に印加されることを特徴とする請求の範囲第1乃至12 項に記載の方法。 15.装置フレーム(34)と、 装置フレーム(34)に取着され、かつ、入口(68)と出口(70)とを有 し処理されるべき材料を流す流路を構成する流通路(それぞれ42または116 )を形成するように互いに接近して離隔配置された第1および第2の通路面(4 0、44または102、108)を提供する第1および第2のミル部材(38、 46または100、106)とを備え、一方が液体である少なくとも2つの成分 からなる流動性材料の高剪断処理装置において、 流路は、通路面(40、44または102、108)間の間隔が流動材料の最 小のコルモゴロフ渦の直径よりも大きい自由な超コルモゴロフ渦と、最小のコル モゴロフ渦の直径よりも小さい付勢された準コルモゴロフ渦とを共存させること ができる全高剪断処理ゾーンを有し、 全高剪断処理ゾーンは、材料の通過の際に自由な超コルモゴロフ渦が抑制され る一層高剪断の副処理ゾーンを提供するように通路の間隔が全高剪断処理ゾーン の残りの部分よりも小さくなっている部分を少なくとも有し、 モータ手段がミル部材(46または106)の少なくとも一方に接続され、第 1および第2の通路面(それぞれ44または108)を流れ方向と交差する方向 へ、液体フィルムを相対的に動く通路面(40、44または102、108)に 被着保持しながら超ミクロンおよびサブミクロンのスケールで材料を処理するよ うに超コルモゴロフ渦と準コルモゴロフ渦との同時形成を付勢するような相対速 度で互いに相対的に動かすように部材を動かすことにより、処理材料をできるだ け均一にし、 かかる相対的な動きが非乱流状態を保持しながら付勢された準コルモゴロフ渦 だけを一層高剪断の副処理ゾーンにおいて形成することを特徴とする流動性材料 の高剪断処理装置。 16.一層高剪断の副処理ゾーンは通路面の間隔が流動材料に流体力学的圧力を 形成するように徐々に減少して材料の粘度を局部的に上昇させることにより処理 作用を高めるように通路面(40、44または102、108)間に最小間隔の ギャップ(G)を有することを特徴とする請求の範囲第15項に記載の装置。 17.全高剪断処理ゾーンは更に、通路面の間隔を徐々に大きくする通路面(4 0、44または102、108)間に最大間隔のギャップ(H)を有し、通路面 間の相対的な動きにより通路面間の流動材料の横断面の厚さのサイクル変化が生 ずることを特徴とする請求の範囲第16項に記載の装置。 18.ギャップGにおける接近して離隔配置された通路面(40、44または1 02、108)間の間隔は1マイクロメートル乃至5mmの範囲にあり、ギャッ プHにおける接近して離隔配置された通路面(40、44または102、108 )間の間隔は2mm乃至2cmの範囲にあることを特徴とする材料および/また はキャリヤ液体の成分の連行物の混合に使用する請求の範囲第17項に記載の装 置。 19.全高剪断処理ゾーンにおける接近して離隔配置された通路面(40、44 または102、108)間の間隔は0.1乃至500マイクロメートルの範囲に あることを特徴とする請求の範囲第15乃至18項のいずれかに記載の装置。 20.ミル部材(38、46または100、106)は接近して離隔配置された 通路面(40、44または102、108)間に分当たり0.5乃至200メー トルの相対線速度を形成するようにモータ手段により動かされることを特徴とす る請求の範囲第15乃至19項のいずれかに記載の装置。 21.ミル部材(38、46)は、固定された中空外側シリンダ(38)と、長 手方向の回転軸線(50)を中心に回転するように固定中空外側シリンダ内に取 着された回転自在の外側シリンダ(46)であり、2つのシリンダは回転軸線と 交差して互いに相対的に動いて2つの対向する流路面(40、44)間の間隔を 変えるように取着されていることを特徴とする請求の範囲第15乃至20項のい ずれかに記載の装置。 22.ミル部材(38、46)間の一層高剪断の副処理ゾーンは、固定中空外側 シリンダ(38)の内面(40)の平坦面部(98)と回転自在の内側シリンダ (46)の円筒面部(44)との間に形成されて2つの面部(44、98)の収 斂を高めることを特徴とする請求の範囲第21項に記載の装置。 23.ミル部材(100、106)は中心を通る共通の回転軸線(110または 128)を中心に互いに相対的に回転するように取着され、通路面(40、44 または102、108)は2つのプレートの対向する表面によって構成され、プ レートはまた回転軸線に沿って互いに相対的に動いて2つの対向面間の距離を変 えるように取着されていることを特徴とする請求の範囲第15乃至20項のいず れかに記載の装置。 24.ミル部材の通路面(102、108)は平坦でありかつ互いに平行をなす ことにより、全高剪断処理ゾーンと一層高剪断の副処理ゾーンは互いに同じ拡が りを有することを特徴とする請求の範囲第23項に記載の装置。 25.少なくとも1つの縦の圧力振動を発生する変換器(52)が、液体フィル ムにおける弾性流体力学的スクイーズフィルム作用により材料の局部粘度を増加 させることにより処理作用を高めるために縦の圧力振動を材料に印加するように 、全高剪断処理ゾーンの流通路の壁に接続されていることを特徴とする請求の範 囲第15乃至24項のいずれかに記載の装置。 26.少なくとも1つの縦の圧力振動を発生する変換器(52)が、付勢された 準コルモゴロフ渦を材料に形成することにより処理作用を高めるために縦の圧力 振動を材料に印加するように全高剪断処理ゾーンの流通路の壁に接続されている ことを特徴とする請求の範囲第15乃至24項のいずれかに記載の装置。 27.ミル部材(38、46または100、106)の接近して離隔配置された 通路面(40、44または102、108)は1乃至5の範囲の、M=F/Rで 表わされるMを有し、Fは通路面のフィルムの厚さであり、Rは表面粗さである ことを特徴とする請求の範囲第15乃至26項のいずれかに記載の装置。 28.接近して離隔配置された通路面(40、44または102、108)は艶 なし鏡面仕上げ以上であることを特徴とする請求の範囲第27項に記載の装置。
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