JPH08339968A - ウェーハ処理方法及び拡散炉 - Google Patents

ウェーハ処理方法及び拡散炉

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JPH08339968A
JPH08339968A JP14982696A JP14982696A JPH08339968A JP H08339968 A JPH08339968 A JP H08339968A JP 14982696 A JP14982696 A JP 14982696A JP 14982696 A JP14982696 A JP 14982696A JP H08339968 A JPH08339968 A JP H08339968A
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diffusion furnace
gas
wafer
wafers
valve
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JP14982696A
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Shigeo Fukuda
重夫 福田
Shoichiro Izumi
昭一郎 泉
Seiji Watanabe
誠治 渡辺
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Kokusai Electric Corp
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Kokusai Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】ウェーハの装入引出し時に周囲の雰囲気ガスが
大量にプロセス排気装置を流通しない様にし、プロセス
排気装置の熱変形、或は溶損を防止する。 【解決手段】プロセスガスを排気する拡散炉用プロセス
排気装置７の所要位置に開閉バルブ８を設け、該開閉バ
ルブをウェーハの装入、引出し時に閉塞する様構成し、
ウェーハの装入引出し時にエアバルブを閉塞すること
で、大量の高温ガスが拡散炉用プロセス排気装置を経て
排気されるのを抑制し、高温ガスによる拡散炉用プロセ
ス排気装置の溶損を防止すると共に外気が炉内に巻込ま
れるのを防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウェーハ
より半導体を製造する装置の１つである拡散炉に於ける
ウェーハ処理方法及び該拡散炉からのプロセス排気ガス
を吸引排気する拡散炉用プロセス排気装置を具備した拡
散炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２に於いて従来例を説明する。
【０００３】図中１は拡散炉の反応管であり、該反応管
１の周囲には図示しないヒータが設けてある。該反応管
１にはボート２に多段に保持されたウェーハがボートエ
レベータ（図示せず）によって装入引出しされる様にな
っており、ウェーハが反応管１に装入された状態で、該
反応管１の天井面に連通したプロセスガス供給管３より
プロセスガスが供給され、該プロセスガスは前記反応管
１の下部に連通されたプロセス排気装置７より排出され
る様になっている。該プロセス排気装置７は石英製の排
気管４に弗素樹脂等の合成樹脂管５が接続され、該合成
樹脂管５は図示しない排気装置に接続された構成となっ
ており、又該合成樹脂管５にはメンテナンス及び排気圧
調整用の手動式の弁６が設けてある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の拡散炉
のプロセス排気装置７では、ウェーハの装入引出しの
為、炉口部が開放状態となった場合、前記排気管４より
周囲の雰囲気ガスを大量に吸引する。この雰囲気温度は
５００℃〜１２００℃程度であり、高温の雰囲気ガスが
大量に前記合成樹脂管５を流れた場合、該合成樹脂管５
が熱変形、或は溶損することがある。
【０００５】本発明は斯かる実情に鑑み、ウェーハの装
入引出し時に周囲の雰囲気ガスが大量にプロセス排気装
置を流通しない様にし、合成樹脂管の熱変形、或は溶損
を防止しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、プロセスガス
を排気する拡散炉用プロセス排気装置の所要位置に開閉
バルブを設け、該開閉バルブをウェーハの装入、引出し
時に閉塞することを特徴とするものであり、又プロセス
ガスを排気する拡散炉用プロセス排気装置の所要位置に
ウェーハの装入、引出し時に閉塞する開閉バルブを設け
たことを特徴とするものである。
【０００７】ウェーハの装入引出し時に開閉バルブを閉
塞することで、大量の高温ガスが拡散炉用プロセス排気
装置を経て排気されるのを抑制し、高温ガスによる拡散
炉用プロセス排気装置の溶損を防止する。又、外気が炉
内に巻込まれるのを防止する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明の一実
施の形態を説明する。
【０００９】尚、図１中、図２中で示したものと同一の
ものには同符号を付してある。
【００１０】合成樹脂管５に電磁式エアバルブ８を設
け、該電磁式エアバルブ８をバルブ駆動器９によって開
閉する様にし、該バルブ駆動器９は制御器１０によって
制御する。又、ボートエレベータ１１はエレベータ駆動
器１２によって昇降され、該エレベータ駆動器１２は前
記制御器１０によって制御される。又、該エレベータ駆
動器１２から前記制御器１０にボートエレベータ１１の
上下状態の検知信号即ち炉口部の開閉状態の検知信号が
入力される様になっている。
【００１１】以下、作動を説明する。
【００１２】ウェーハが反応管１に装入され、ウェーハ
の処理が行われている時には前記制御器１０から前記バ
ルブ駆動器９に電磁式エアバルブ８の開信号が発せら
れ、該電磁式エアバルブ８は開状態となり、プロセス排
気装置７よりプロセス排気ガスが排気される。
【００１３】次に、ウェーハの処理完了後、前記制御器
１０から前記エレベータ駆動器１２にボート引出しの指
令が発せられる。該エレベータ駆動器１２によりボート
の下降が開始されると同時に前記バルブ駆動器９に電磁
式エアバルブ８の閉信号が発せられ、前記バルブ駆動器
９によって該電磁式エアバルブ８が閉じられる。
【００１４】該電磁式エアバルブ８が閉じられることに
よって前記プロセス排気装置７からの排気が停止され、
高温の周囲の雰囲気ガスが吸込まれ該プロセス排気装置
７を流通することがなくなる。而して、前記合成樹脂管
５が高温のガスに晒されることがなく、該合成樹脂管５
の熱変形、或は溶損が防止される。又、外気の巻込みが
抑制され、外気によるウェーハが酸化することがない。
【００１５】次に、ウェーハを装入する場合は前記エレ
ベータ駆動器１２からの信号でウェーハが反応管１に完
全に炉内に装入されたことを確認し、又プロセスガスを
供給し、又前記バルブ駆動器９を介して前記電磁式エア
バルブ８を開く。
【００１６】尚、プロセス排気装置７を停止する状態は
ウェーハの装入引出しの為であり、この状態ではプロセ
スガスを前記反応管１に供給する必要はなく、ウェーハ
処理に何等影響することはない。
【００１７】尚、エアバルブは電磁式に限らず遠隔操作
できるものであればよく、又該電磁式エアバルブの設け
る場所はプロセス排気装置７の任意の位置でよいことも
言う迄もない。更に、図は縦型拡散炉を示してあるが、
横型拡散炉にも実施可能であることも勿論である。
【００１８】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、高温ガ
スを吸引するウェーハの装入引出し時に、プロセス排気
装置を遮断するので高温ガスのプロセス排気装置流通を
抑制し、高温ガスによる合成樹脂管の変形、溶損を防止
すると共に外気の巻込みが防止されるのでウェーハの酸
化が防止され、品質の向上も図れる。更に、電磁式エア
バルブが遠隔操作されることで装置稼動時の省力化が図
れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態を示す概略図である。
【図２】従来例を示す概略図である。
【符号の説明】
１ 反応管 ４ 排気管 ５ 合成樹脂管 ７ プロセス排気装置 ８ 電磁式エアバルブ ９ バルブ駆動器 １０ 制御器

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 プロセスガスを排気する拡散炉用プロセ
    ス排気装置の所要位置に開閉バルブを設け、該開閉バル
    ブをウェーハの装入、引出し時に閉塞することを特徴と
    するウェーハ処理方法。
  2. 【請求項２】 プロセスガスを排気する拡散炉用プロセ
    ス排気装置の所要位置にウェーハの装入、引出し時に閉
    塞する開閉バルブを設けたことを特徴とする拡散炉。
JP8149826A 1996-05-21 1996-05-21 ウェーハ処理方法及び拡散炉 Expired - Lifetime JP3023313B2 (ja)

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JPS6356914A (ja) * 1986-08-27 1988-03-11 Toshiba Corp 半導体気相成長装置
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JPH03108322A (ja) * 1989-09-20 1991-05-08 Mitsubishi Electric Corp 気相成長装置
JPH03174242A (ja) * 1989-12-04 1991-07-29 Matsushita Electron Corp 圧力制御装置

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