JPH08337547A - フェノール樹脂オリゴマーの製造方法 - Google Patents

フェノール樹脂オリゴマーの製造方法

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JPH08337547A
JPH08337547A JP8085924A JP8592496A JPH08337547A JP H08337547 A JPH08337547 A JP H08337547A JP 8085924 A JP8085924 A JP 8085924A JP 8592496 A JP8592496 A JP 8592496A JP H08337547 A JPH08337547 A JP H08337547A
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general formula
mol
diformyl
acid
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JP8085924A
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Yoshinori Masuda
義則 増田
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Arakawa Chemical Industries Ltd
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Arakawa Chemical Industries Ltd
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】収率低下の原因となる高分子量物および低分子
量物の副生を最小限度に抑制でき、目的とする多価フェ
ノール化合物であるフェノール樹脂オリゴマーを高収率
で収得できる製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式(1): 【化1】(式中、xは1〜3の整数を、R1 は炭素数1
〜4のアルキル基を、yは0〜3の整数を示す。)で表
されるフェノール類と、一般式(2): 【化2】(R2 は水素原子、炭素数1〜10のアルキル
基、アルコキシル基、ハロゲン基またはニトロ基を、z
は0〜3の整数を示す。)で表されるジホルミルフェノ
ール類とを、酸触媒の存在下に反応させて、一般式
(3): 【化3】(x、R1 、y、R2 およびzはいずれも前記
と同じ。)で表されるフェノール樹脂オリゴマーを製造
するに際し、反応溶媒として極性非プロトン溶媒を使用
することを特徴とする該フェノール樹脂オリゴマーの製
造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はフェノール樹脂オリ
ゴマーの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、多価フェノール系化合物であるフ
ェノール樹脂オリゴマーは、エポキシ樹脂の硬化剤やエ
ポキシ樹脂の原料として使用でき、またポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂およびポリウレタン樹脂等の
ポリオール成分としても使用できる有用な化合物である
ことが知られている。
【0003】本発明者らは、特定の多価フェノール系化
合物およびその製造方法に関する発明を行ない、特開平
6−263671号公報に開示されている。しかし、該
製造法によれば、一旦発生した該多価フェノール系化合
物の一部が残存原料アルデヒド類とさらに反応して高分
子量物を相当量副生したり、使用触媒や加熱の影響で分
解して低分子量物を生じる。そのため、目的とするフェ
ノール樹脂オリゴマーの収率が60%以下となり、工業
的製法としては必ずしも満足しうるものではなく、収率
向上の余地がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】フェノール樹脂オリゴ
マーの従来の製造法に比べて、大幅に収率を向上しうる
製造方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の
溶媒下に反応させることにより、高分子量物および低分
子量物の副生を最小限に抑制しうるという知見を得、本
発明を完成するに至った。
【0006】すなわち本発明は、一般式(1):
【0007】
【化4】
【0008】(式中、xは1〜3の整数を、R1 は炭素
数1〜4のアルキル基を、yは0〜3の整数を示す。)
で表されるフェノール類と、一般式(2):
【0009】
【化5】
【0010】(R2 は水素原子、炭素数1〜10のアル
キル基、アルコキシル基、ハロゲン基またはニトロ基
を、zは0〜3の整数を示す。)で表されるジホルミル
フェノール類とを、酸触媒の存在下に反応させて、一般
式(3):
【0011】
【化6】
【0012】(x、R1 、y、R2 およびzはいずれも
前記と同じ。)で表されるフェノール樹脂オリゴマーを
製造するに際し、反応溶媒として極性非プロトン溶媒を
使用することを特徴とする該フェノール樹脂オリゴマー
の製造方法に関する。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明で用いる前記一般式(1)
で表されるフェノール類の具体例としては、フェノー
ル、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾー
ル、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、
2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4
−キシレノール、3,5−キシレノール、2,3,4−
トリメチルフェノール、2,3,5−トリメチルフェノ
ール、2,3,6−トリメチルフェノール、2,4,5
−トリメチルフェノール、3,4,5−トリメチルフェ
ノール、2−tert−ブチルフェノール、4−ter
t−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル
フェノール、カテコール、レゾルシノール、ピロガロー
ル等があげられ、これらは1種を単独で、または2種以
上を組み合わせて使用できる。
【0014】一般式(1)で表されるフェノール類の使
用量は、その反応性によっても異なるが、通常、一般式
(2)で表されるジホルミルフェノール類1モル部に対
して3〜60モル部程度、好ましくは4〜35モル部で
ある。3モル部未満では目的物であるフェノール樹脂オ
リゴマーの収率が低下しやすく、また60モル部を越え
て用いても該オリゴマーの収率向上にあまり影響せず、
かえって生産性が低下する傾向がある。
【0015】本発明で用いる一般式(2)で表されるジ
ホルミルフェノール類の具体例としては、2,6−ジホ
ルミルフェノール、3,5−ジホルミルフェノール、
2,6−ジホルミル−4−メチルフェノール、2,6−
ジホルミル−3−メチルフェノール、2,6−ジホルミ
ル−3,4−ジメチルフェノール、2,6−ジホルミル
−3,5−ジメチルフェノール、2,6−ジホルミル−
3,4,5−トリメチルフェノール、2,6−ジホルミ
ル−4−メトキシフェノール、2,6−ジホルミル−4
−ブトキシフェノール、2,6−ジホルミル−4−ニト
ロフェノール、2,6−ジホルミル−4−エチルフェノ
ール、2,6−ジホルミル−4−n−プロピルフェノー
ル、2,6−ジホルミル−4−イソプロピルフェノー
ル、2,6−ジホルミル−4−n−ブチルフェノール、
2,6−ジホルミル−4−tert−ブチルフェノー
ル、2,6−ジホルミル−4−オクチルフェノール、
2,6−ジホルミル−4−ノニルフェノール、2,6−
ジホルミル−4−デシルフェノール、2,6−ジホルミ
ル−4−クロロフェノール、2,6−ジホルミル−4−
ブロモフェノール、2,6−ジホルミル−4−フルオロ
フェノール、2,6−ジホルミル−4−トリフルオロメ
チルフェノール等があげられる。なお、かかるジホルミ
ルフェノール類は公知の方法により容易に製造すること
ができる(例えば、特公昭60−29371号公報、特
公平4−43059号公報、Voswinokel,C
hem.Ber.,15(1882),p2823、Z
iegler,J,Prakt.Chem.,(2)1
52(1993)126,142.など参照)。
【0016】本発明で用いる一般式(3)で表されるフ
ェノール樹脂オリゴマーの具体例としては、
【0017】
【化7】
【0018】
【化8】
【0019】
【化9】
【0020】
【化10】
【0021】
【化11】
【0022】
【化12】
【0023】
【化13】
【0024】
【化14】
【0025】
【化15】
【0026】
【化16】
【0027】
【化17】
【0028】
【化18】
【0029】
【化19】
【0030】
【化20】
【0031】
【化21】
【0032】
【化22】
【0033】
【化23】
【0034】
【化24】
【0035】
【化25】
【0036】
【化26】
【0037】
【化27】
【0038】
【化28】
【0039】
【化29】
【0040】
【化30】
【0041】
【化31】
【0042】
【化32】
【0043】
【化33】
【0044】
【化34】
【0045】
【化35】
【0046】
【化36】
【0047】
【化37】
【0048】
【化38】
【0049】
【化39】
【0050】
【化40】
【0051】
【化41】
【0052】等の多価フェノール系化合物があげられ
る。
【0053】本発明の製造方法では、反応溶媒として極
性非プロトン溶媒を用いることが特徴とされる。該極性
非プロトン溶媒とは、一般的にそれ自体にプロトン供与
能がなく、かつ自己解離しない非プロトン溶媒であっ
て、特に双極子モーメントの大きいものをいう。より具
体的には双極子モーメントが2.5D以上で誘電率が1
5以上のものである。したがって、極性非プロトン溶媒
以外の溶媒を反応溶媒として使用しても本発明の優れた
効果は得られない。
【0054】かかる極性非プロトン溶媒の具体例として
は、N, N−ジメチルホルムアミド、N, N−ジエチル
ホルムアミドなどのジ低級アルキルホルムアミド;ジメ
チルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのジ低級
アルキルスルホキシド;ヘキサメチルホスホリルトリア
ミド、ヘキサエチルホスホリルトリアミドなどのヘキサ
低級アルキルホスホリルアミド;N, N−ジメチルアセ
トアミド、N, N−ジエチルアセトアミドなどのジ低級
アルキルアセトアミド;N, N, N',N' −テトラメチ
ル尿素、N, N, N',N' −テトラエチル尿素などのテ
トラ低級アルキル尿素;アセトニトリル、プロピオニト
リル、スクシノニトリル、ブチロニトリル、イソブチロ
ニトリル、バレロニトリルなどの低級アルキルシアニ
ド;ベンゾニトリル、α−トルニトリルなどの芳香族シ
アニド;ニトロメタン、ニトロエタン、1−ニトロプロ
パン、2−ニトロプロパンなどのニトロ低級アルカン;
ニトロベンゼン、ニトロトルエン、o−ニトロアニソー
ルなどの芳香族ニトロ化合物;スルホラン、メチルスル
ホランなどの環状スルホン;N−メチルピロリドンなど
の環状アミド;1, 3−ジメチル−2−イミダゾリジノ
ンなどの環状尿素などがあげられる。これら極性非プロ
トン溶媒は、いずれも単独で、または二種以上を混合し
て用いることができる。これらのうち、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリ
ルアミド、1, 3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン、スルホ
ランおよびメチルスルホランは、高分子量物や低分子量
物の副生を抑制する効果の点で特に好ましい。
【0055】前記極性非プロトン溶媒の使用割合は、特
に限定はされないが、前記一般式(1)のフェノール類
と一般式(2)ジホルミルフェノール類との使用合計量
に対し、通常は0.5〜40倍量程度、好ましくは1〜
20倍量である。0.5倍量未満ではフェノール樹脂オ
リゴマーの収率が低下しやすく、また40倍量を越えて
用いても該オリゴマーの収率向上にあまり影響せず、か
えって生産性が低下する傾向がある。
【0056】本発明で用いる酸触媒としては、格別限定
はされず、例えば有機酸、無機酸、金属塩、ルイス酸等
があげられる。より具体的には、有機酸としてギ酸、シ
ュウ酸、マロン酸、コハク酸、酢酸、モノクロル酢酸、
ジクロル酢酸、トリクロル酢酸、パラトルエンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸、キシ
レンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸等があげられ、無機酸としては塩酸、硫
酸、硝酸、過塩素酸、臭化水素酸、リン酸等があげら
れ、金属塩としては酢酸亜鉛、酢酸マグネシウム、塩化
亜鉛等があげられ、ルイス酸としては三フッ化ホウ素、
四塩化チタン、塩化鉄、塩化アルミニウム等があげられ
る。これらのなかでも、特に選択性が良く、反応速度を
適度にコントロールできるという点で、パラトルエンス
ルホン酸や塩酸等の強酸触媒を用いるのが好ましい。酸
触媒の使用量は、その種類に応じて変化するため一概に
決定できないが、反応速度を適度に制御し、副生物の発
生を抑えるという観点から、前記一般式(2)のジホル
ミルフェノール類100重量部に対して、通常0.00
01〜200重量部程度、好ましくは0.01〜50重
量部とされる。
【0057】また、前記触媒の使用に当たっては、適当
な助触媒を併用してもよい。助触媒の具体例としては、
メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、t−ブチル
メルカプタン、フェニルメルカプタン、ベンジルメルカ
プタン、トルエンチオール、チオグリセロール、チオグ
リコール酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカ
プトプロピオン酸、2−メルカプトベンズイミダゾー
ル、2−メルカプトエタノール、2−メルカプトエチル
エーテル、2−メルカプトニコチン酸、メルカプトコハ
ク酸、2−メルカプトチアゾリン、2−メルカプト安息
香酸などがあげられる。これらのなかでも、後処理の容
易さや、溶解性の点からチオグリコール酸を用いるのが
好ましい。助触媒の使用量は、反応速度を適度に制御
し、副生成物の生成を抑えられることから、前記一般式
(2)のジホルミルフェノール類100重量部に対し
て、通常0.0001〜200重量部程度、好ましくは
0.001〜50重量部とされる。
【0058】本発明方法では、前記の酸触媒および極性
非プロトン溶媒の存在下に、前記一般式(1)のフェノ
ール類と一般式(2)のジホルミルフェノール類をそれ
ぞれ所定割合で縮合反応させる。反応温度は通常0〜2
00℃程度とされる。反応速度の制御と副生成物の発生
防止の観点から、20〜100℃とするのがよい。な
お、該反応では、必ずしも不活性ガスを供給するには及
ばないが、通常は空気酸化による生成物の色調低下を避
けるため、窒素やヘリウム等の不活性ガスの雰囲気下で
行なうのが好ましい。また、該反応では生成水を除去し
なくても反応が進行するが、生成水を除去することによ
り反応時間を短縮できる。水の除去にあたっては、一般
的な方法を用いれば良く、例えば、常圧または減圧下に
系外に留出させる方法、水と共沸する溶媒を少量添加し
てディーンスターク型の油水分離器を用いて除去する方
法、乾燥したガスを系内に吹き込む方法、ソックスレー
型抽出器に乾燥剤を充填して行なう方法、乾燥剤を系内
に分散させて脱水する方法等を適宜選択採用できる。
【0059】反応終了後は、アルカリ性物質を添加し
て、酸触媒を中和する。使用されるアルカリ性物質とし
ては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、ア
ルカリ土類金属炭酸塩およびアンモニア、有機アミン類
等があげられる。これらの中でも副反応が少なく、取り
扱いが容易なことから、アルカリ金属水酸化物、たとえ
ば水酸化ナトリウム等が好適である。アルカリ性物質は
そのまま添加してもよく、また水溶液として添加しても
よいが、中和熱による急な発熱を避けることから、通常
0.1〜50重量%程度、好ましくは1〜20重量%の
水溶液として添加するのがよい。
【0060】中和の後は、系内に有機溶媒等を添加し
て、反応生成物を溶解し、水洗浄により生成塩を除去し
てもよいし、次操作である再結晶などの精製操作時に生
成塩を除去することもできる。
【0061】なお、反応終了時のフェノール樹脂オリゴ
マー中には、少量の高分子量物や低分子量物が含まれて
いる場合があるが、これら副生物は再結晶等の精製操作
により容易に除去できる。また上記副生物の他に反応中
間体として生成する下記一般式(4):
【0062】
【化42】
【0063】(xは1〜3の整数を、R1 は炭素数1〜
4のアルキル基を、yは0〜3の整数を、R2 は水素原
子、炭素数1〜10のアルキル基、アルコキシル基、ハ
ロゲン基またはニトロ基を、zは0〜3の整数を示
す。)で表されるモノホルミル体が若干含まれるが、同
様に再結晶等の精製操作により容易に除去しうる。その
他に該フェノール樹脂オリゴマー中には、それらの異性
体(通常は前記化7〜化41の化合物が主生成物として
得られるが、用いるフェノール類がオルソ位およびパラ
位の両方で反応可能である場合には、パラ位で反応した
ものが主生成物として得られ、異性体としてオルソ位で
反応したものが副生する)が若干含まれる。しかしなが
ら、これら異性体が含有されていてもなんら不都合はな
く、該フェノール樹脂オリゴマーは各種用途に実用可能
であり、必要があれば再結晶等の精製操作により該異性
体を除去すればよい。
【0064】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、収率低下の
原因となる高分子量物および低分子量物の副生を最小限
度に抑制でき、そのため目的とする多価フェノール化合
物であるフェノール樹脂オリゴマーを高収率で収得でき
る。本発明で得られるフェノール樹脂オリゴマーは、エ
ポキシ樹脂の硬化剤、エポキシ樹脂の原料等として使用
できる他、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレ
タンのポリオール成分としても好適である。
【0065】
【実施例】以下、実施例をあげて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【0066】実施例1(化9の化合物の合成) ヒーター、撹拌機、コンデンサーおよび窒素導入管を備
えた反応装置に、フェノール663g(7.04モ
ル)、2,6−ジホルミル−4−メチルフェノール3
6.1g(0.22モル)およびスルホラン1029g
を仕込み均一になるまで撹拌し、さらにチオグリコール
酸1.01g(0.011モル)およびパラトルエンス
ルホン酸一水和物2.09g(0.011モル)を加え
た。窒素気流下に系内温度が約85℃になるまで加熱
し、同温度に保持しながら系内を35〜40Torrの
減圧下、生成水と共沸流出してくるフェノールとを系外
に除去しながら約6時間縮合反応させた。反応終了後、
4%水酸化ナトリウム水溶液0.44gを加えて酸触媒
を中和した後、反応液を減圧蒸留してスルホランと未反
応フェノールを除去した。残渣をメチルイソブチルケト
ンに溶解し、水洗した後、減圧濃縮して粗結晶を得た。
下記条件で組成分析を行った結果、粗結晶の組成は化9
の化合物83.2%、高分子量物10.1%、低分子量
物3.4%、モノホルミル体3.3%であった。さらに
粗結晶をアセトニトリル/キシレン溶液から再結晶し
て、化9の化合物の結晶75.5gを純度96%で得
た。2,6−ジホルミル−4−メチルフェノールからの
収率は68%であった。
【0067】GPC:東ソー株式会社(製) HLC−
8020 カラム:東ソー株式会社(製) TSK−GEL(G2
000HXL*2+G1000HXL) 溶 媒:THF 検出方法:RI(面積百分率法)
【0068】実施例2(化13の化合物の合成) 実施例1で用いたのと同様の反応装置に、o−クレゾー
ル571g(5.28モル)、2,6−ジホルミル−4
−メチルフェノール36.1g(0.22モル)および
スルホラン937gを仕込み均一になるまで撹拌し、さ
らにチオグリコール酸1.01g(0.011モル)お
よびパラトルエンスルホン酸一水和物2.09g(0.
011モル)を加えた。以下、実施例1と同様に反応を
行い、反応終了後、ジフェニルアミン1.86g(0.
011モル)を加えて酸触媒を中和した後、反応液を減
圧蒸留してスルホランと未反応のo−クレゾールを除去
し、残渣を得た。実施例1と同様にして残渣から粗結晶
を得、実施例1と同様にして組成分析した結果、粗結晶
の組成は化13の化合物89.0%、高分子量物2.3
%、モノホルミル体8.7%であった。さらに粗結晶を
実施例1と同様に再結晶して、化13の化合物の結晶9
0.0gを純度95%で得た。2,6−ジホルミル−4
−メチルフェノールからの収率は73%であった。
【0069】実施例3(化13の化合物の合成) 実施例2において、スルホラン937gに代えてニトロ
ベンゼン930gを用いた他は実施例2と同様にして反
応し、ついで同様の一連の操作を行い粗結晶を得た。実
施例1と同様にして組成分析した結果、粗結晶の組成は
化13の化合物86.0%、高分子量物3.5%、モノ
ホルミル体10.5%であった。さらに粗結晶を実施例
1と同様に再結晶して、化13の化合物の結晶85.1
gを純度97%で得た。2,6−ジホルミル−4−メチ
ルフェノールからの収率は69%であった。
【0070】実施例4(化13の化合物の合成) 実施例2において、スルホラン937gに代えてヘキサ
メチルホスホリルトリアミド930gを用いた他は実施
例2と同様にして反応し、ついで同様の一連の操作を行
い粗結晶を得た。実施例1と同様にして組成分析した結
果、粗結晶の組成は化13の化合物78.3%、高分子
量物4.2%、モノホルミル体17.5%であり、微量
の低分子量物を含んでいた。さらに粗結晶を実施例1と
同様に再結晶して、化13の化合物の結晶80.3gを
純度93%で得た。2,6−ジホルミル−4−メチルフ
ェノールからの収率は65%であった。
【0071】実施例5(化13の化合物の合成) 実施例2において、スルホラン937gに代えてジメチ
ルスルホキシド930gを用いた他は実施例2と同様に
して反応し、ついで同様の一連の操作を行い粗結晶を得
た。実施例1と同様にして組成分析した結果、粗結晶の
組成は化13の化合物88.5%、高分子量物4.2
%、モノホルミル体7.3%であり、微量の低分子量物
を含んでいた。さらに粗結晶を実施例1と同様に再結晶
して、化13の化合物の結晶86.3gを純度97%で
得た。2,6−ジホルミル−4−メチルフェノールから
の収率は70%であった。
【0072】実施例6(化13の化合物の合成) 実施例2において、スルホラン937gに代えて1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン930gを用いた他
は実施例2と同様にして反応し、ついで同様の一連の操
作を行い粗結晶を得た。実施例1と同様にして組成分析
した結果、粗結晶の組成は化13の化合物85.4%、
高分子量物3.2%、モノホルミル体11.4%であ
り、微量の低分子量物を含んでいた。さらに粗結晶を実
施例1と同様に再結晶して、化13の化合物の結晶8
7.6gを純度94%で得た。2,6−ジホルミル−4
−メチルフェノールからの収率は71%であった。
【0073】実施例7(化14の化合物の合成) 実施例1で用いたのと同様の反応装置に、m−クレゾー
ル761g(7.04モル)、2,6−ジホルミル−4
−メチルフェノール36.1g(0.22モル)および
スルホラン1127gを仕込み均一になるまで撹拌し、
さらにチオグリコール酸1.01g(0.011モル)
およびパラトルエンスルホン酸一水和物2.09g
(0.011モル)を加えた。以下、実施例1と同様に
反応を行い、ついで同様の一連の操作を行い粗結晶を得
た。実施例1と同様にして組成分析した結果、粗結晶の
組成は化14の化合物84.7%、高分子量物8.3
%、低分子量物2.8%、モノホルミル体4.2%であ
った。さらに粗結晶を実施例1と同様に再結晶して化1
4の化合物の結晶82.7gを純度97%で得た。2,
6−ジホルミル−4−メチルフェノールからの収率は6
7%であった。
【0074】実施例8(化15の化合物の合成) 実施例7において、m−クレゾール761g(7.04
モル)に代えてp−クレゾール761g(7.04モ
ル)を用いた他は実施例7と同様に反応を行い、ついで
同様の一連の操作を行い粗結晶を得た。実施例1と同様
にして組成分析した結果、粗結晶の組成は化15の化合
物93.4%、高分子量物3.2%、低分子量物2.2
%、モノホルミル体1.2%であった。さらに粗結晶を
実施例1と同様に再結晶して、化15の化合物の結晶1
04.8gを純度98%で得た。2,6−ジホルミル−
4−メチルフェノールからの収率は85%であった。
【0075】実施例9(化17の化合物の合成) 実施例1で用いたのと同様の反応装置に、2,5−キシ
レノール110g(0.9モル)、2,6−ジホルミル
−4−メチルフェノール24.6g(0.15モル)お
よびスルホラン290gを仕込み均一になるまで撹拌
し、さらにチオグリコール酸0.69g(0.0075
モル)およびパラトルエンスルホン酸一水和物1.43
g(0.0075モル)を加えた。窒素気流下に系内温
度が約115℃になるまで加熱し、生成水蒸気をコンデ
ンサーで凝縮して系外に除去しながら約7時間縮合反応
させた。反応終了後、約70℃まで冷却した後、反応液
を約1000mlの水に投入し、内容物をろ過し、水洗
した後、減圧乾燥して粗結晶を得た。実施例1と同様に
して組成分析した結果、粗結晶の組成は化17の化合物
97.0%、高分子量物0.4%、モノホルミル体2.
6%であり、低分子量物を含んでいなかった。さらに粗
結晶を実施例1と同様に再結晶して、化17の化合物の
結晶82.6gを純度98%で得た。2,6−ジホルミ
ル−4−メチルフェノールからの収率は90%であっ
た。
【0076】実施例10(化18の化合物の合成) 実施例9において、2,5−キシレノール110g
(0.9モル)に代えて2,6−キシレノール110g
(0.9モル)を用いた他は実施例9と同様にして反応
し、ついで同様の一連の操作を行い粗結晶を得た。実施
例1と同様にして組成分析した結果、粗結晶の組成は化
18の化合物97.5%、モノホルミル体2.5%であ
り、高分子量物および低分子量物は含んでいなかった。
さらに粗結晶を実施例1と同様に再結晶して、化18の
化合物の結晶85.3gを純度98%で得た。2,6−
ジホルミル−4−メチルフェノールからの収率は93%
であった。
【0077】実施例11(化26の化合物の合成) 実施例1で用いたのと同様の反応装置に、2,5−キシ
レノール54g(0.44モル)、2,6−ジホルミル
−4−メチルフェノール36.1g(0.22モル)お
よびスルホラン937gを仕込み均一になるまで撹拌
し、さらにチオグリコール酸1.01g(0.011モ
ル)およびパラトルエンスルホン酸一水和物2.09g
(0.011モル)を加えた。窒素気流下に系内温度が
約85℃になるまで加熱し約1時間反応を行った。ここ
で、o−クレゾール523g(5.84モル)を追加し
た後、約85℃に保温しながら系内を35〜40Tor
rの減圧下、生成水と共沸流出してくるo−クレゾール
とを系外に除去しながら約6時間縮合反応した。反応終
了後、ジフェニルアミン1.86g(0.011モル)
を加えて酸触媒を中和した後、反応液を減圧蒸留してス
ルホランと未反応フェノール類を除去した。残渣をメチ
ルイソブチルケトンに溶解して水洗した後、減圧濃縮し
て粗結晶を得た。実施例1と同様にして組成分析した結
果、粗結晶の組成は化26の化合物86.3%、高分子
量物1.5%、モノホルミル体12.2%であり、微量
の低分子量物を含んでいた。さらに粗結晶を実施例1と
同様に再結晶して化26の化合物の結晶95.8gを純
度97%で得た。2,6−ジホルミル−4−メチルフェ
ノールからの収率は74%であった。
【0078】比較例1(化9の化合物の合成) ヒーター、撹拌機、コンデンサー付の油水分離器および
窒素導入管を備えた反応装置に、フェノール304g
(3.2モル)、2,6−ジホルミル−4−メチルフェ
ノール16.4g(0.1モル)およびトルエン320
gを仕込み均一になるまで撹拌し、さらにチオグリコー
ル酸0.09g(0.01モル)およびパラトルエンス
ルホン酸一水和物0.19g(0.01モル)を加え
た。窒素気流下に系内温度が約125℃になるまで加熱
し、還流下に生成水を油水分離器により系外に除去しな
がら約7時間縮合反応した。反応終了後、4%水酸化ナ
トリウム水溶液1mlを加えて酸触媒を中和した後、反
応液をメチルイソブチルケトンに溶解して水洗した後、
減圧濃縮して粗結晶を得た。実施例1と同様にして組成
分析した結果、粗結晶の組成は化9の化合物65.9
%、高分子量物22.8%、低分子量物11.3%であ
り、微量のモノホルミル体11.3%を含んでいた。さ
らに実施例1と同様に再結晶して、化9の化合物の結晶
24.2gを純度95%で得た。2,6−ジホルミル−
4−メチルフェノールからの収率は48%であった。
【0079】比較例2(化13の化合物の合成) 比較例1において、フェノール304g(3.2モル)
に代えてo−クレゾール346g(3.2モル)を用い
た他は比較例1と同様にして反応し、ついで同様の一連
の操作を行い粗結晶を得た。実施例1と同様にして組成
分析した結果、粗結晶の組成は化13の化合物75.9
%、高分子量物11.5%、低分子量物12.6%であ
り、微量のモノホルミル体12.6%を含んでいた。さ
らに粗結晶を実施例1と同様に再結晶して、化13の化
合物の結晶32.0gを純度96%で得た。2,6−ジ
ホルミル−4−メチルフェノールからの収率は57%で
あった。
【0080】比較例3(化13の化合物の合成) 実施例1で用いたのと同様の反応装置に、o−クレゾー
ルノール346g(3.2モル)、2,6−ジホルミル
−4−メチルフェノール16.4g(0.1モル)およ
びジグリム(2−メトキシメチルエーテル)360gを
仕込み均一になるまで撹拌し、さらにチオグリコール酸
0.09g(0.01モル)およびパラトルエンスルホ
ン酸一水和物0.19g(0.01モル)を加えた。窒
素気流下に系内温度が約120℃になるまで加熱し、生
成水蒸気をコンデンサーで凝縮して系外に除去しながら
約12時間縮合反応した。反応終了後、4%水酸化ナト
リウム水溶液1mlを加えて酸触媒を中和した後、反応
液をメチルイソブチルケトンに溶解して水洗した後、減
圧濃縮して粗結晶を得た。該粗結晶の組成分析を行った
結果、モノホルミル体の含有率は数%であったが、その
他は未反応原料であり、目的とする化13の化合物は全
く認められなかった。
【0081】比較例4〜5(化13の化合物の合成) 実施例2において、スルホランに代えてメチルイソブチ
ルケトン(比較例4)またはイソホロン(比較例5)を
用いた他は実施例2と同様に反応を行ったが、いずれも
溶媒が副反応し、目的とする化13の化合物は全く得ら
れなかった。
【0082】比較例6(化13の化合物の合成) 実施例1で用いたのと同様の反応装置に、o−クレゾー
ル173g(1.6モル)および2,6−ジホルミル−
4−メチルフェノール7.5g(0.05モル)を仕込
み均一になるまで撹拌し、さらにチオグリコール酸0.
045g(0.005モル)およびパラトルエンスルホ
ン酸一水和物0.095g(0.005モル)を加え
た。窒素気流下に系内温度が約80℃になるまで加熱し
同温度で約12時間縮合反応した。反応終了後、4%水
酸化ナトリウム水溶液0.5mlを加えて酸触媒を中和
した後、反応液をメチルイソブチルケトンに溶解して水
洗した後、減圧濃縮して粗結晶を得た。実施例1と同様
にして組成分析した結果、粗結晶の組成は化13の化合
物69.2%、高分子量物15.1%、低分子量物1
5.7%であり、微量のモノホルミル体を含んでいた。
さらに粗結晶を実施例1と同様に再結晶して、化13の
化合物の結晶13.2gを純度96%で得た。2,6−
ジホルミル−4−メチルフェノールからの収率は47%
であった。
【0083】上記実施例および比較例の各結果を表1に
示す。
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 205/21 C07C 205/21 C08G 8/10 NBC C08G 8/10 NBC // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1): 【化1】 (式中、xは1〜3の整数を、R1 は炭素数1〜4のア
    ルキル基を、yは0〜3の整数を示す。)で表されるフ
    ェノール類と、一般式(2): 【化2】 (R2 は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アル
    コキシル基、ハロゲン基またはニトロ基を、zは0〜3
    の整数を示す。)で表されるジホルミルフェノール類と
    を、酸触媒の存在下に反応させて、一般式(3): 【化3】 (x、R1 、y、R2 およびzはいずれも前記と同
    じ。)で表されるフェノール樹脂オリゴマーを製造する
    に際し、反応溶媒として極性非プロトン溶媒を使用する
    ことを特徴とする該フェノール樹脂オリゴマーの製造方
    法。
  2. 【請求項2】 一般式(2)のジホルミルフェノール類
    に対する一般式(3)のフェノール樹脂オリゴマーの収
    率が65重量%以上である請求項1記載の製造方法。
  3. 【請求項3】 極性非プロトン溶媒が、双極子モーメン
    ト2.5D以上かつ誘電率15以上を有する請求項1ま
    たは2記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 極性非プロトン溶媒が、ジ低級アルキル
    ホルムアミド、ジ低級アルキルスルホキシド、ヘキサ低
    級アルキルホスホリルアミド、ジ低級アルキルアセトア
    ミド、テトラ低級アルキル尿素、低級アルキルシアニ
    ド、芳香族シアニド、ニトロ低級アルカン、芳香族ニト
    ロ化合物、環状スルホン、環状アミドおよび環状尿素の
    うちの少なくとも1種である請求項3記載の製造方法。
  5. 【請求項5】 極性非プロトン溶媒が、ジメチルホルム
    アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリ
    ルトリアミド、1, 3−ジメチル−2−イミダゾリジノ
    ン、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン、ス
    ルホランおよびメチルスルホランのうちの少なくとも1
    種である請求項4記載の製造方法。
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