JPH08333424A - アブラティブ光分解性組成物 - Google Patents
アブラティブ光分解性組成物Info
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- JPH08333424A JPH08333424A JP13515296A JP13515296A JPH08333424A JP H08333424 A JPH08333424 A JP H08333424A JP 13515296 A JP13515296 A JP 13515296A JP 13515296 A JP13515296 A JP 13515296A JP H08333424 A JPH08333424 A JP H08333424A
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- C07C315/04—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、相分離も結晶化もしない、光吸収
剤が重合体に結合したアブラティブ光分解性重合体を提
供する。 【解決手段】 このアブラティブ光分解性重合体によ
り、均一なアブレーションと高い解像度が得られ、好ま
しい実施例では、過マンガン酸カリ・エッチャント及び
塩化第二鉄エッチャントに耐える。このアブラティブ光
分解性重合体は、剥離可能であるが、必要であれば基板
上に残すこともできる。このアブラティブ光分解性重合
体は、光吸収剤が、共有結合またはイオン結合した重合
体からなる。本発明はまた、アブラティブ光分解性重合
体を使用して基板上に金属パターンを形成する方法にも
関するものである。
剤が重合体に結合したアブラティブ光分解性重合体を提
供する。 【解決手段】 このアブラティブ光分解性重合体によ
り、均一なアブレーションと高い解像度が得られ、好ま
しい実施例では、過マンガン酸カリ・エッチャント及び
塩化第二鉄エッチャントに耐える。このアブラティブ光
分解性重合体は、剥離可能であるが、必要であれば基板
上に残すこともできる。このアブラティブ光分解性重合
体は、光吸収剤が、共有結合またはイオン結合した重合
体からなる。本発明はまた、アブラティブ光分解性重合
体を使用して基板上に金属パターンを形成する方法にも
関するものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アブラティブ（ab
lative）光分解性重合体と、アブラティブ光分解性重合
体の製法に関するものであり、詳細に述べれば、相分離
も結晶化も発生しないアブラティブ光分解性重合体と、
その製法に関するものである。
lative）光分解性重合体と、アブラティブ光分解性重合
体の製法に関するものであり、詳細に述べれば、相分離
も結晶化も発生しないアブラティブ光分解性重合体と、
その製法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】基板上に金属パターンを形成する方法、
特に高密度電子パッケージ上にパターンを形成した回路
を形成する方法は、「アブラティブ光分解」と称する技
術を利用する。この技術は、乾式像形成法で、パターン
を形成すべき基板上に有機重合体コーティングを付着さ
せるものである。この重合体コーティングは、放射に感
受性を有し、レーザからの、通常エキシマ・レーザから
の放射によりパターンを形成する。特定波長の多数の光
子が、短時間のうちに重合体コーティングに向けられ
る。重合体コーティングは、レーザの波長で吸収可能で
なければならないが、これらの光子のうちのかなりの部
分を吸収する。その結果、ある種のレーザによるアブレ
ーションでは、きわめて短時間のうちに多数の重合体の
分子鎖の断片が小さい体積中で生成する。これにより、
持続はしないが圧力が局部的に増大し、この圧力は、断
片化した重合体の分子鎖が分解し、コーティングから逸
散するアブレーション工程により解放される。このよう
にして、溶剤現像段階がなくても材料がパターン化され
る。しかし、特定のアブレーション可能な重合体コーテ
ィングの、特定波長における吸収効率はきわめて低く、
この重合体コーティングをアブレーションさせるにはか
なりのレーザ・エネルギーを必要とする。
特に高密度電子パッケージ上にパターンを形成した回路
を形成する方法は、「アブラティブ光分解」と称する技
術を利用する。この技術は、乾式像形成法で、パターン
を形成すべき基板上に有機重合体コーティングを付着さ
せるものである。この重合体コーティングは、放射に感
受性を有し、レーザからの、通常エキシマ・レーザから
の放射によりパターンを形成する。特定波長の多数の光
子が、短時間のうちに重合体コーティングに向けられ
る。重合体コーティングは、レーザの波長で吸収可能で
なければならないが、これらの光子のうちのかなりの部
分を吸収する。その結果、ある種のレーザによるアブレ
ーションでは、きわめて短時間のうちに多数の重合体の
分子鎖の断片が小さい体積中で生成する。これにより、
持続はしないが圧力が局部的に増大し、この圧力は、断
片化した重合体の分子鎖が分解し、コーティングから逸
散するアブレーション工程により解放される。このよう
にして、溶剤現像段階がなくても材料がパターン化され
る。しかし、特定のアブレーション可能な重合体コーテ
ィングの、特定波長における吸収効率はきわめて低く、
この重合体コーティングをアブレーションさせるにはか
なりのレーザ・エネルギーを必要とする。
【０００３】重合体コーティングが露光される特定波長
における重合体コーティングの吸収効率を高めるため、
重合体に光吸収剤を混合している。光吸収剤は、アブレ
ーションに使用するレーザの波長またはそれに近い波長
で吸収能を有するものを選択する。
における重合体コーティングの吸収効率を高めるため、
重合体に光吸収剤を混合している。光吸収剤は、アブレ
ーションに使用するレーザの波長またはそれに近い波長
で吸収能を有するものを選択する。
【０００４】しかし、従来の重合体と光吸収剤の混合物
によれば、光吸収剤はコーティング中に均一に分布しな
い。このような均一性の欠如は、一部は混合工程の不均
一によるものである。さらに、時間の経過により、光吸
収剤の分布が均一でないと、光吸収剤の結晶化、相分
離、表面またはコーティングと基板との境界面への移行
などが生じる。光吸収剤の不均一な分布の結果、光吸収
剤濃度の高い部分でアブレーションが増大し、回路パタ
ーンの品質が低く、解像度が悪くなる。反対に、光吸収
剤がまったくまたはほとんどない部分ではアブレーショ
ンがほとんどまたはまったく起こらず、短絡の原因とな
ることも多い。
によれば、光吸収剤はコーティング中に均一に分布しな
い。このような均一性の欠如は、一部は混合工程の不均
一によるものである。さらに、時間の経過により、光吸
収剤の分布が均一でないと、光吸収剤の結晶化、相分
離、表面またはコーティングと基板との境界面への移行
などが生じる。光吸収剤の不均一な分布の結果、光吸収
剤濃度の高い部分でアブレーションが増大し、回路パタ
ーンの品質が低く、解像度が悪くなる。反対に、光吸収
剤がまったくまたはほとんどない部分ではアブレーショ
ンがほとんどまたはまったく起こらず、短絡の原因とな
ることも多い。
【０００５】均一にアブレーションしたパターンを得る
ために、光吸収剤が均一に分散したアブラティブ光分解
性組成物が望まれている。
ために、光吸収剤が均一に分散したアブラティブ光分解
性組成物が望まれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、相分離も結
晶化もしない、光吸収剤が重合体に結合したアブラティ
ブ光分解性重合体（以下「アブラティブ光分解性重合
体」と称する）を提供する。このアブラティブ光分解性
重合体により、均一なアブレーションと高い解像度が得
られ、好ましい実施例では、過マンガン酸カリ・エッチ
ャント及び塩化第二鉄エッチャントに耐える。このアブ
ラティブ光分解性重合体は、剥離可能であるが、必要で
あれば基板上に残すこともできる。このアブラティブ光
分解性重合体は、光吸収剤が、共有結合またはイオン結
合した重合体からなる。
晶化もしない、光吸収剤が重合体に結合したアブラティ
ブ光分解性重合体（以下「アブラティブ光分解性重合
体」と称する）を提供する。このアブラティブ光分解性
重合体により、均一なアブレーションと高い解像度が得
られ、好ましい実施例では、過マンガン酸カリ・エッチ
ャント及び塩化第二鉄エッチャントに耐える。このアブ
ラティブ光分解性重合体は、剥離可能であるが、必要で
あれば基板上に残すこともできる。このアブラティブ光
分解性重合体は、光吸収剤が、共有結合またはイオン結
合した重合体からなる。
【０００７】本発明はまた、アブラティブ光分解性重合
体を使用して基板上に金属パターンを形成する方法にも
関するものである。
体を使用して基板上に金属パターンを形成する方法にも
関するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、相分離も結晶
化もせず、均一なアブレーションと高い解像度が得ら
れ、過マンガン酸カリ・エッチャント及び塩化第二鉄エ
ッチャントに耐え、剥離可能な、光吸収剤が重合体に結
合したアブラティブ光分解性重合体を提供する。この熱
光分解性重合体は、光吸収剤が、共有結合またはイオン
結合した重合体からなる。
化もせず、均一なアブレーションと高い解像度が得ら
れ、過マンガン酸カリ・エッチャント及び塩化第二鉄エ
ッチャントに耐え、剥離可能な、光吸収剤が重合体に結
合したアブラティブ光分解性重合体を提供する。この熱
光分解性重合体は、光吸収剤が、共有結合またはイオン
結合した重合体からなる。
【０００９】本発明はまた、アブラティブ光分解性重合
体を使用して基板上に金属パターンを形成する方法にも
関するものである。
体を使用して基板上に金属パターンを形成する方法にも
関するものである。
【００１０】このアブラティブ光分解性重合体は、好ま
しくはアクリレート単量体が重合した単位、さらに好ま
しくはメタクリル酸メチルの重合した単位と、重合体に
結合した光吸収剤からなる。１実施例では、光吸収剤は
重合体と共有結合しており、アブラティブ光分解性重合
体がメタクリル酸メチルの重合した単位からなる場合
は、光吸収剤はメタクリル酸メチルの重合した単位の一
部または全部のメチル基と置換している。他の実施例で
は、光吸収剤は重合体とイオン結合している。
しくはアクリレート単量体が重合した単位、さらに好ま
しくはメタクリル酸メチルの重合した単位と、重合体に
結合した光吸収剤からなる。１実施例では、光吸収剤は
重合体と共有結合しており、アブラティブ光分解性重合
体がメタクリル酸メチルの重合した単位からなる場合
は、光吸収剤はメタクリル酸メチルの重合した単位の一
部または全部のメチル基と置換している。他の実施例で
は、光吸収剤は重合体とイオン結合している。
【００１１】このアブラティブ光分解性重合体により得
られる解像度は、２ミクロン以下である。
られる解像度は、２ミクロン以下である。
【００１２】
【発明の実施の形態】基板 アブラティブ光分解性重合体のための基板は、好ましく
は電子構造であり、メタライズしたセラミック、多層セ
ラミック、ポリイミドとメタライズしたセラミックの複
合材料、その他従来の基板が含まれる。
は電子構造であり、メタライズしたセラミック、多層セ
ラミック、ポリイミドとメタライズしたセラミックの複
合材料、その他従来の基板が含まれる。
【００１３】光吸収剤 本発明のアブラティブ光分解性重合体に使用する光吸収
剤は、紫外線の放射を吸収し、紫外線の放射に露出した
場合にエネルギーの伝達により、アブラティブ光分解性
重合体のアブレーションを起こし、または促進する。光
吸収剤が重合体と共有結合した実施例では、好ましい光
吸収剤は、ウィスコンシン州ミルウォーキーのアルドリ
ッチ・ケミカル・カンパニー（Aldrich Chemical Compa
ny）から「ディスパース・レッド・ダイ−１（Disperse
red dye-1）」の商品名で市販されている、４［（２−
ヒドロキシエチル）エチルアミノ］−４'−（ニトロフ
ェニル）アゾベンゼンである。他の適当な光吸収剤に
は、アルドリッチ・ケミカル・カンパニーから市販され
ているピレン、アルドリッチ・ケミカル・カンパニーか
ら市販されているクマリン、ファルツ・アンド・バウラ
ー社（Pfaltz and Baurer Inc.）から市販されている、
４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］−４'−
（トリフルオロメチルスルフォニル）トラン、７−ヒド
ロキシ−４−メチル−２Ｈ−１−ベンゾピレン−２−オ
ンなどがある。
剤は、紫外線の放射を吸収し、紫外線の放射に露出した
場合にエネルギーの伝達により、アブラティブ光分解性
重合体のアブレーションを起こし、または促進する。光
吸収剤が重合体と共有結合した実施例では、好ましい光
吸収剤は、ウィスコンシン州ミルウォーキーのアルドリ
ッチ・ケミカル・カンパニー（Aldrich Chemical Compa
ny）から「ディスパース・レッド・ダイ−１（Disperse
red dye-1）」の商品名で市販されている、４［（２−
ヒドロキシエチル）エチルアミノ］−４'−（ニトロフ
ェニル）アゾベンゼンである。他の適当な光吸収剤に
は、アルドリッチ・ケミカル・カンパニーから市販され
ているピレン、アルドリッチ・ケミカル・カンパニーか
ら市販されているクマリン、ファルツ・アンド・バウラ
ー社（Pfaltz and Baurer Inc.）から市販されている、
４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］−４'−
（トリフルオロメチルスルフォニル）トラン、７−ヒド
ロキシ−４−メチル−２Ｈ−１−ベンゾピレン−２−オ
ンなどがある。
【００１４】イオン結合した実施例での使用に適した光
吸収剤には、重合体の酸性水素と反応して第四アンモニ
ウム塩を生成する第三アミンの官能基を有する光吸収
剤、たとえば、アルドリッチ・ケミカル・カンパニーか
ら市販されている７−（ジメチルアミン）−４−メチル
クマリン、アルドリッチ・ケミカル・カンパニーから市
販されている１−（ジメチルアミノ）−ピレン、及びこ
れらの誘導体などがある。
吸収剤には、重合体の酸性水素と反応して第四アンモニ
ウム塩を生成する第三アミンの官能基を有する光吸収
剤、たとえば、アルドリッチ・ケミカル・カンパニーか
ら市販されている７−（ジメチルアミン）−４−メチル
クマリン、アルドリッチ・ケミカル・カンパニーから市
販されている１−（ジメチルアミノ）−ピレン、及びこ
れらの誘導体などがある。
【００１５】約１ないし１００％、好ましくは約５ない
し２５％の重合した単量体に、光吸収剤が結合してい
る。
し２５％の重合した単量体に、光吸収剤が結合してい
る。
【００１６】アブラティブ光分解性重合体 アブラティブ光分解性重合体は適切なコーティング特性
を有し、重量平均分子量は、少なくとも１５，０００、
好ましくは約１８，０００ないし約２５０，０００、最
も好ましくは約２５，０００である。
を有し、重量平均分子量は、少なくとも１５，０００、
好ましくは約１８，０００ないし約２５０，０００、最
も好ましくは約２５，０００である。
【００１７】アブラティブ光分解性重合体は、下記の特
性を有するものが好ましい。耐化学薬品性、使用温度
（通常は室温）におけるじん性、良好な皮膜形成性（す
なわち重合体組成物が乾燥して粘着性のない連続皮膜を
形成すること）、及び熱安定性（好ましくは７０℃以
上、さらに好ましくは２４０℃以上）。
性を有するものが好ましい。耐化学薬品性、使用温度
（通常は室温）におけるじん性、良好な皮膜形成性（す
なわち重合体組成物が乾燥して粘着性のない連続皮膜を
形成すること）、及び熱安定性（好ましくは７０℃以
上、さらに好ましくは２４０℃以上）。
【００１８】アブラティブ光分解性重合体はアクリレー
ト重合体であることが好ましいが、光吸収剤は他の重合
体、たとえばポリイミド類に結合したものでもよい。
ト重合体であることが好ましいが、光吸収剤は他の重合
体、たとえばポリイミド類に結合したものでもよい。
【００１９】共有結合した光吸収剤の実施例 光吸収剤が共有結合したアブラティブ光分解性重合体
は、アクリレート単量体が重合した単位からなるアクリ
レート重合体が好ましい。適当なアクリレート単量体に
は、たとえば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸ブチル、及びこれらの混合物または共
重合体がある。メタクリル酸メチルが好ましく、デュポ
ン社（E. I. duPont de Nemours）から市販されてい
る。
は、アクリレート単量体が重合した単位からなるアクリ
レート重合体が好ましい。適当なアクリレート単量体に
は、たとえば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸ブチル、及びこれらの混合物または共
重合体がある。メタクリル酸メチルが好ましく、デュポ
ン社（E. I. duPont de Nemours）から市販されてい
る。
【００２０】光吸収剤は重合体、好ましくは重合した単
量体の全部または一部に共有結合し、重合体と一体化し
ている。アブラティブ光分解性重合体は、まず重合体を
生成した後、光吸収剤を重合体に結合させるか、または
まず光吸収剤を単量体に結合させた後、光吸収剤が結合
した単量体を他の単量体とともに重合させることにより
生成することができる。
量体の全部または一部に共有結合し、重合体と一体化し
ている。アブラティブ光分解性重合体は、まず重合体を
生成した後、光吸収剤を重合体に結合させるか、または
まず光吸収剤を単量体に結合させた後、光吸収剤が結合
した単量体を他の単量体とともに重合させることにより
生成することができる。
【００２１】イオン結合した光吸収剤の実施例 光吸収剤がイオン結合したアブラティブ光分解性重合体
は塩で、重合体の酸基、好ましくは酸水素と、光吸収剤
の第三アミン基との間にイオン結合がある。したがっ
て、光吸収剤がイオン結合したアブラティブ光分解性重
合体は、第四アンモニウム塩である。重合体は、たとえ
ばポリアクリル酸、またはメタクリル酸メチルとアクリ
ル酸との共重合体などのアクリル樹脂が好ましい。
は塩で、重合体の酸基、好ましくは酸水素と、光吸収剤
の第三アミン基との間にイオン結合がある。したがっ
て、光吸収剤がイオン結合したアブラティブ光分解性重
合体は、第四アンモニウム塩である。重合体は、たとえ
ばポリアクリル酸、またはメタクリル酸メチルとアクリ
ル酸との共重合体などのアクリル樹脂が好ましい。
【００２２】アブラティブ光分解性重合体の使用 アブラティブ光分解性重合体を塗布するには、アブラテ
ィブ光分解性重合体を溶剤に溶解して、好ましくは約７
５ないし９５重量％の溶剤を含有する溶液を生成する。
好ましくは、有機溶剤を使用すれば、均一に、かつ容易
にアブラティブ光分解性重合体のコーティングを塗布す
ることができる。適当な有機溶剤には、たとえば、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、乳酸エチル、トル
エン、アセトン、メチルエチルケトン、塩化メチレン、
酢酸エチル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ク
ロロヘキサノン、メチルエチルケトン、ジメチルホルム
アミドなどがある。
ィブ光分解性重合体を溶剤に溶解して、好ましくは約７
５ないし９５重量％の溶剤を含有する溶液を生成する。
好ましくは、有機溶剤を使用すれば、均一に、かつ容易
にアブラティブ光分解性重合体のコーティングを塗布す
ることができる。適当な有機溶剤には、たとえば、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、乳酸エチル、トル
エン、アセトン、メチルエチルケトン、塩化メチレン、
酢酸エチル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ク
ロロヘキサノン、メチルエチルケトン、ジメチルホルム
アミドなどがある。
【００２３】アブラティブ光分解性重合体のコーティン
グは、ロール・コーティング、スプレイ・コーティン
グ、ブレード塗布、スピン・コーティングなどの従来の
方法により、電子構造の上面にブランケット・コーティ
ングを行う。好ましくは、アブラティブ光分解性重合体
の皮膜の厚みは、約０．１５ないし５．０μｍ、さらに
好ましくは約２μｍとする。
グは、ロール・コーティング、スプレイ・コーティン
グ、ブレード塗布、スピン・コーティングなどの従来の
方法により、電子構造の上面にブランケット・コーティ
ングを行う。好ましくは、アブラティブ光分解性重合体
の皮膜の厚みは、約０．１５ないし５．０μｍ、さらに
好ましくは約２μｍとする。
【００２４】次に、電子構造を通常約７０℃ないし１５
０℃に約１５ないし３０分加熱して、アブラティブ光分
解性重合体のコーティングから大部分の溶剤を除去す
る。次に電子構造を好ましくは約１２０℃ないし２５０
℃の最終温度で、アブラティブ光分解性重合体が十分に
硬化する時間ベーキングする。この結果、平滑で硬い均
一なアブラティブ光分解性重合体皮膜が得られる。レー
ザまたは紫外線ランプを、ｘ−ｙテーブルなどの従来の
手段、またはフォトマスクを介して電子構造に位置合わ
せする。市販のエキシマ・レーザは、１９３ｎｍ、２４
８ｎｍ、３０８ｎｍ、３５１ｎｍのいずれかの波長を放
射する。約３０８ｎｍの波長を放射するエキシマ・レー
ザが好ましい。
０℃に約１５ないし３０分加熱して、アブラティブ光分
解性重合体のコーティングから大部分の溶剤を除去す
る。次に電子構造を好ましくは約１２０℃ないし２５０
℃の最終温度で、アブラティブ光分解性重合体が十分に
硬化する時間ベーキングする。この結果、平滑で硬い均
一なアブラティブ光分解性重合体皮膜が得られる。レー
ザまたは紫外線ランプを、ｘ−ｙテーブルなどの従来の
手段、またはフォトマスクを介して電子構造に位置合わ
せする。市販のエキシマ・レーザは、１９３ｎｍ、２４
８ｎｍ、３０８ｎｍ、３５１ｎｍのいずれかの波長を放
射する。約３０８ｎｍの波長を放射するエキシマ・レー
ザが好ましい。
【００２５】次に、エキシマ・レーザまたは紫外線ラン
プを使用して、アブラティブ光分解性重合体をアブレー
ションさせて、所期のパターンを形成する。エキシマ・
レーザを使用する場合は、０．１Ｊ／ｃｍ2程度の低い
フルーエンスでも皮膜をアブレーションさせることがで
きるが、０．２Ｊ／ｃｍ2が好ましい。アブラティブ光
分解性重合体皮膜をエッチングするのに必要なパルス数
は、皮膜の厚みに依存する。アブラティブ光分解性重合
体の光吸収効率を増大させることにより、たとえば０．
２Ｊ／ｃｍ2でも効率的にアブレーションさせることが
できる。これは従来の光吸収剤と重合体の混合物では得
られないことである。また、アブレーション効率が増大
するため、アブラティブ光分解性重合体をアブレーショ
ンさせるのに必要な時間が著しく短縮する。
プを使用して、アブラティブ光分解性重合体をアブレー
ションさせて、所期のパターンを形成する。エキシマ・
レーザを使用する場合は、０．１Ｊ／ｃｍ2程度の低い
フルーエンスでも皮膜をアブレーションさせることがで
きるが、０．２Ｊ／ｃｍ2が好ましい。アブラティブ光
分解性重合体皮膜をエッチングするのに必要なパルス数
は、皮膜の厚みに依存する。アブラティブ光分解性重合
体の光吸収効率を増大させることにより、たとえば０．
２Ｊ／ｃｍ2でも効率的にアブレーションさせることが
できる。これは従来の光吸収剤と重合体の混合物では得
られないことである。また、アブレーション効率が増大
するため、アブラティブ光分解性重合体をアブレーショ
ンさせるのに必要な時間が著しく短縮する。
【００２６】アブラティブ光分解性重合体にパターンま
たはマスクを形成した後、金属パターン、すなわち回路
形成を従来の手段により行う。基板がメタライズしたセ
ラミックの場合は、メタライゼーションをエッチングす
る。基板がメタライズされていない場合は、アブレーシ
ョンにより形成したパターンを、たとえば無電解メッキ
などの従来の手段によりメタライズする。
たはマスクを形成した後、金属パターン、すなわち回路
形成を従来の手段により行う。基板がメタライズしたセ
ラミックの場合は、メタライゼーションをエッチングす
る。基板がメタライズされていない場合は、アブレーシ
ョンにより形成したパターンを、たとえば無電解メッキ
などの従来の手段によりメタライズする。
【００２７】アブラティブ光分解性重合体は基板上に残
すことも、必要があれば溶剤を用いて除去することもで
きる。適当な溶剤は、周囲の有機誘電性材料を膨潤させ
ることなく、アブラティブ光分解性重合体を選択的に除
去するものを選択する。適当なストリッピング用溶剤に
は、たとえば炭酸プロピレン、γ−ブチロラクトン、Ｎ
−メチルピロリドン、乳酸エチル、プロピレングリコー
ルメチルエーテルアセタート、ジメチルホルムアミド、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、クロロホル
ム、メチルエチルケトン、塩化メチレンなどがある。
すことも、必要があれば溶剤を用いて除去することもで
きる。適当な溶剤は、周囲の有機誘電性材料を膨潤させ
ることなく、アブラティブ光分解性重合体を選択的に除
去するものを選択する。適当なストリッピング用溶剤に
は、たとえば炭酸プロピレン、γ−ブチロラクトン、Ｎ
−メチルピロリドン、乳酸エチル、プロピレングリコー
ルメチルエーテルアセタート、ジメチルホルムアミド、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、クロロホル
ム、メチルエチルケトン、塩化メチレンなどがある。
【００２８】
【実施例】下記の例は、アブラティブ光分解性重合体の
各種の実施例を説明するものである。
各種の実施例を説明するものである。
【００２９】例１ 下記の構造を有するアブラティブ光分解性重合体を、下
記の方法により生成した。
記の方法により生成した。
【化１】
【００３０】メタクリル酸４［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベ
ンゼン単量体の生成 メカニカル・スターラ、温度計、及び滴下ロート付きの
１リットルのフラスコに、１０ｇ、すなわち３２ミリモ
ルの精製４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］
−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン（アルドリッ
チ・ケミカル社（Aldrich Chemical Company Inc.）、
つまりディスパース・レッド１（Disperse Red 1, DR
1）及び４００ｍｌの塩化メチレンを入れた。アルドリ
ッチ・ケミカル社の塩化メタクリロイルを蒸留し、３．
２ｍｌすなわち３２．７ミリモルの蒸留した塩化メタク
リロイルを徐々に滴下した。次に、４．７ｍｌのトリエ
チルアミンを１５ｍｌの塩化メチレンに溶解した溶液
を、室温で４時間かけて添加した。必要があれば、反応
の完了を促進するため、０．３９ｇのジメチルアミノピ
リジンを添加した。トリエチルアミン及びメタクリル酸
メチル（いずれもアルドリッチ・ケミカル社）を、使用
前にそれぞれ蒸留した。
ル）エチルアミノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベ
ンゼン単量体の生成 メカニカル・スターラ、温度計、及び滴下ロート付きの
１リットルのフラスコに、１０ｇ、すなわち３２ミリモ
ルの精製４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］
−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン（アルドリッ
チ・ケミカル社（Aldrich Chemical Company Inc.）、
つまりディスパース・レッド１（Disperse Red 1, DR
1）及び４００ｍｌの塩化メチレンを入れた。アルドリ
ッチ・ケミカル社の塩化メタクリロイルを蒸留し、３．
２ｍｌすなわち３２．７ミリモルの蒸留した塩化メタク
リロイルを徐々に滴下した。次に、４．７ｍｌのトリエ
チルアミンを１５ｍｌの塩化メチレンに溶解した溶液
を、室温で４時間かけて添加した。必要があれば、反応
の完了を促進するため、０．３９ｇのジメチルアミノピ
リジンを添加した。トリエチルアミン及びメタクリル酸
メチル（いずれもアルドリッチ・ケミカル社）を、使用
前にそれぞれ蒸留した。
【００３１】反応混合物を、冷却した水酸化ナトリウム
の２％水溶液で洗浄した後、脱イオン水で洗浄した。有
機相は、硫酸ナトリウムを入れたデシケータで乾燥し
た。溶剤を除去した後、生成物をメタノールで再結晶
し、８．８ｇの褐色の固形物を得た。収率は７２％であ
った。メタクリル酸ＤＲ１の融点は９２ないし９３℃
で、ＮＭＲの結果は下記のとおりであった。ＮＭＲδ
（ＣＤＣｌ3）８．３３（ｄ、Ｊ＝９．１Ｈｚ、２
Ｈ）、７．９８（ｄ、Ｊ＝９．１Ｈｚ、２Ｈ）、７．９
０（ｄ、Ｊ＝９．２Ｈｚ、２Ｈ）、６．８３（ｄ、Ｊ＝
９．１Ｈｚ、２Ｈ）、６．１２（ｔ、Ｊ＝１．０Ｈｚ、
１Ｈ）、５．６０（ｔ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１Ｈ）、４．
３８（ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ、２Ｈ）、３．７５（ｔ、Ｊ
＝６．２Ｈｚ、２Ｈ）、３．５６（ｑ、Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ、２Ｈ）、１．９５（ｓ、３Ｈ）、１．２７（ｔ、Ｊ
＝７．１Ｈｚ、３Ｈ）。
の２％水溶液で洗浄した後、脱イオン水で洗浄した。有
機相は、硫酸ナトリウムを入れたデシケータで乾燥し
た。溶剤を除去した後、生成物をメタノールで再結晶
し、８．８ｇの褐色の固形物を得た。収率は７２％であ
った。メタクリル酸ＤＲ１の融点は９２ないし９３℃
で、ＮＭＲの結果は下記のとおりであった。ＮＭＲδ
（ＣＤＣｌ3）８．３３（ｄ、Ｊ＝９．１Ｈｚ、２
Ｈ）、７．９８（ｄ、Ｊ＝９．１Ｈｚ、２Ｈ）、７．９
０（ｄ、Ｊ＝９．２Ｈｚ、２Ｈ）、６．８３（ｄ、Ｊ＝
９．１Ｈｚ、２Ｈ）、６．１２（ｔ、Ｊ＝１．０Ｈｚ、
１Ｈ）、５．６０（ｔ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１Ｈ）、４．
３８（ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ、２Ｈ）、３．７５（ｔ、Ｊ
＝６．２Ｈｚ、２Ｈ）、３．５６（ｑ、Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ、２Ｈ）、１．９５（ｓ、３Ｈ）、１．２７（ｔ、Ｊ
＝７．１Ｈｚ、３Ｈ）。
【００３２】メタクリル酸ＤＲ１とメタクリル酸メチル
の重合 反応管に、０．７８５ｇ、すなわち２．０５ミリモルの
メタクリル酸４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン、２．２
５ｇすなわち２２．５ミリモルのメタクリル酸メチル、
４１ｍｇ（０．２５ミリモル）のアゾビスイソブトロニ
トリル、及び１１ｍｌのクロロベンゼンを入れた。この
混合物を攪拌し、真空下で交互凍結解凍サイクルにより
酸素を除去した。反応管を真空のままシールし、６０℃
に４８時間加熱した。粗製の生成物をメタノールを用い
て沈殿させ、塩化メチレンに溶解し、メタノールから再
結晶することによって精製した。
の重合 反応管に、０．７８５ｇ、すなわち２．０５ミリモルの
メタクリル酸４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン、２．２
５ｇすなわち２２．５ミリモルのメタクリル酸メチル、
４１ｍｇ（０．２５ミリモル）のアゾビスイソブトロニ
トリル、及び１１ｍｌのクロロベンゼンを入れた。この
混合物を攪拌し、真空下で交互凍結解凍サイクルにより
酸素を除去した。反応管を真空のままシールし、６０℃
に４８時間加熱した。粗製の生成物をメタノールを用い
て沈殿させ、塩化メチレンに溶解し、メタノールから再
結晶することによって精製した。
【００３３】得られた赤色の重合物（２．７ｇ、収率９
０％）は、メタクリル酸メチルに対する発色団の濃度が
８％、重量平均分子量が８７，０００、数平均分子量が
３１，０００、ＧＰＣにより測定した分散率が２．８で
あった。ＤＳＣにより測定したＴgは１１６℃であっ
た。
０％）は、メタクリル酸メチルに対する発色団の濃度が
８％、重量平均分子量が８７，０００、数平均分子量が
３１，０００、ＧＰＣにより測定した分散率が２．８で
あった。ＤＳＣにより測定したＴgは１１６℃であっ
た。
【００３４】例１Ａ 例１によりアブラティブ光分解性重合体を生成した。た
だし、メタクリル酸４［（２−ヒドロキシエチル）エチ
ルアミノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン
は、２．０５ミリモルではなく、１．０７ｇ（２．８ミ
リモル）を添加し、アブラティブ光分解性組成物中のメ
タクリル酸塩に対する光吸収剤濃度を１０％とした。
だし、メタクリル酸４［（２−ヒドロキシエチル）エチ
ルアミノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン
は、２．０５ミリモルではなく、１．０７ｇ（２．８ミ
リモル）を添加し、アブラティブ光分解性組成物中のメ
タクリル酸塩に対する光吸収剤濃度を１０％とした。
【００３５】例１Ｂ 例１によりアブラティブ光分解性重合体を生成した。た
だし、メタクリル酸４［（２−ヒドロキシエチル）エチ
ルアミノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン
は、２．０５ミリモルではなく、２．１４ｇ（５．６ミ
リモル）を添加し、アブラティブ光分解性組成物中のメ
タクリル酸塩に対する光吸収剤濃度を１６％とした。
だし、メタクリル酸４［（２−ヒドロキシエチル）エチ
ルアミノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン
は、２．０５ミリモルではなく、２．１４ｇ（５．６ミ
リモル）を添加し、アブラティブ光分解性組成物中のメ
タクリル酸塩に対する光吸収剤濃度を１６％とした。
【００３６】例２ 下記の構造を有するアブラティブ光分解性重合体を、下
記の方法により生成した。
記の方法により生成した。
【化２】
【００３７】滴下ロートと還流コンデンサを取り付けた
１リットルの三口フラスコに、２．０ｇ、すなわち５
２．７ミリモルの水素化リチウムアルミニウム（９５
％）（アルドリッチ・ケミカル社）を３００ｍｌの乾燥
テトラヒドロフラン（アルドリッチ・ケミカル社）に溶
解した溶液を入れた。１−ピレン酪酸（アルドリッチ・
ケミカル社）をトルエンから再結晶し、窒素雰囲気中
で、８．５２ｇすなわち２９．５ミリモルの１−ピレン
酪酸を１５０ｍｌのＴＨＦに溶解した溶液を、１．５時
間でマグネチック・スターラにより攪拌しながら滴下し
た。滴下後、反応混合物を加熱し、４時間還流した後、
室温で１夜攪拌した。その後、２ｍｌの水を滴下し、続
いて１０ｍｌの５％ＮａＯＨを滴下し、混合物を３５℃
に加熱して３０分間攪拌した。次に混合物を濾過して無
機固形物を除去し、濾液をロータリー・エバポレータに
より、容量が約１５０ｍｌになるまで濃縮した。この溶
液を無水硫酸マグネシウムを入れたデシケータで１時間
乾燥し、さらに濃縮して油状の残渣を粗製生成物とす
る。油状の残渣を約１０ｍｌの塩化メチレンに溶解し、
１５ｃｍ×１９ｍｍのシリカゲル・カラムに入れ、エチ
ルエーテル８６％とヘキサン１４％の混合溶媒で溶出し
て精製する。薄層クロマトグラフィで単一スポットを示
すフラクションを合わせ、溶媒を蒸発させて、放置する
と結晶化する油状生成物を得る。淡黄色の結晶の最終収
量は７．５５ｇ（収率９３％）であった。化合物をＮＭ
Ｒにより確認した。ＮＭＲ（ＣＤＣ１3）１．３ｐｐｍ
（広帯域、−ＯＨ）、１．５−２．２ｐｐｍ（ｍ、−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ2−）、３．３７ｐｐｍ（ｍ、−ＣＨ2−ピレ
ニル）、３．７０ｐｐｍ（ｍ、−ＣＨ2−Ｏ−）、７．
８−８．４ｐｐｍ（ｍ、ピレニル−Ｈ）。
１リットルの三口フラスコに、２．０ｇ、すなわち５
２．７ミリモルの水素化リチウムアルミニウム（９５
％）（アルドリッチ・ケミカル社）を３００ｍｌの乾燥
テトラヒドロフラン（アルドリッチ・ケミカル社）に溶
解した溶液を入れた。１−ピレン酪酸（アルドリッチ・
ケミカル社）をトルエンから再結晶し、窒素雰囲気中
で、８．５２ｇすなわち２９．５ミリモルの１−ピレン
酪酸を１５０ｍｌのＴＨＦに溶解した溶液を、１．５時
間でマグネチック・スターラにより攪拌しながら滴下し
た。滴下後、反応混合物を加熱し、４時間還流した後、
室温で１夜攪拌した。その後、２ｍｌの水を滴下し、続
いて１０ｍｌの５％ＮａＯＨを滴下し、混合物を３５℃
に加熱して３０分間攪拌した。次に混合物を濾過して無
機固形物を除去し、濾液をロータリー・エバポレータに
より、容量が約１５０ｍｌになるまで濃縮した。この溶
液を無水硫酸マグネシウムを入れたデシケータで１時間
乾燥し、さらに濃縮して油状の残渣を粗製生成物とす
る。油状の残渣を約１０ｍｌの塩化メチレンに溶解し、
１５ｃｍ×１９ｍｍのシリカゲル・カラムに入れ、エチ
ルエーテル８６％とヘキサン１４％の混合溶媒で溶出し
て精製する。薄層クロマトグラフィで単一スポットを示
すフラクションを合わせ、溶媒を蒸発させて、放置する
と結晶化する油状生成物を得る。淡黄色の結晶の最終収
量は７．５５ｇ（収率９３％）であった。化合物をＮＭ
Ｒにより確認した。ＮＭＲ（ＣＤＣ１3）１．３ｐｐｍ
（広帯域、−ＯＨ）、１．５−２．２ｐｐｍ（ｍ、−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ2−）、３．３７ｐｐｍ（ｍ、−ＣＨ2−ピレ
ニル）、３．７０ｐｐｍ（ｍ、−ＣＨ2−Ｏ−）、７．
８−８．４ｐｐｍ（ｍ、ピレニル−Ｈ）。
【００３８】メタクリル酸４−（１−ピレニル）ブチル
（Ｐｙ−ＭＡ）単量体の生成 操作はすべて黄色安全灯の下で行った。５００ｍｌのフ
ラスコに、７．５５ｇ、すなわち２７．６ミリモルの４
−（１−ピレン）−１−ブタノールと、５．４６ｇ（５
４．０ミリモル）の乾燥トリエチルアミンを、２００ｍ
ｌの無水クロロホルム（アルドリッチ・ケミカル社）に
溶解した溶液を入れた。フラスコ内を窒素でパージした
後、溶液を氷と食塩のバスで−５℃に冷却し、４．３１
ｇ（４１．２ミリモル）の直前に蒸留した塩化メタクリ
ロイルを７５ｍｌの無水クロロホルムに溶解した溶液
を、３時間でマグネチック・スターラにより攪拌しなが
ら滴下した。滴下後、反応混合物を徐々に室温に戻し、
室温で１夜攪拌した。その後、１０ｍｌの水を滴下し、
溶液を３０分間攪拌した後、有機相を分離し、順次２０
ｍｌの８％ＨＣｌで２回、５％のＮａＯＨで２回、Ｎａ
Ｃｌ飽和溶液で２回洗浄した。ＭｇＳＯ4で短時間乾燥
した後、４−メトキシ−１−フェノールの結晶を数個添
加して重合を抑制し、溶剤をロータリー・エバポレータ
で除去して、放置すると結晶化する油状の生成物を得
た。トルエンで再結晶した後、０．５ｍｍＨｇの真空下
で１夜乾燥して、５．５１ｇ（収率５８％）の淡黄色固
体を精製した最終生成物として得た。ＮＭＲ分析及び文
献（１）のスペクトルとの比較により、この化合物は、
メタクリル酸４−（１−ピレニル）ブチルであることが
確認された。ＮＭＲ（ＣＤＣ１3）１．８−２．２ｐｐ
ｍ（ｍ、−ＣＨ2−ＣＨ2−）、３．３８ｐｐｍ（ｍ、−
ＣＨ2−ピレニル）、４．２３ｐｐｍ（ｍ、−ＣＨ2−Ｏ
ＯＣ−）、５．５３ｐｐｍ（ｍ、＝ＣＨ2）、６．０９
（ｍ、＝ＣＨ2）、７．８−８．３ｐｐｍ（ｍ、ピレニ
ル−Ｈ）。
（Ｐｙ−ＭＡ）単量体の生成 操作はすべて黄色安全灯の下で行った。５００ｍｌのフ
ラスコに、７．５５ｇ、すなわち２７．６ミリモルの４
−（１−ピレン）−１−ブタノールと、５．４６ｇ（５
４．０ミリモル）の乾燥トリエチルアミンを、２００ｍ
ｌの無水クロロホルム（アルドリッチ・ケミカル社）に
溶解した溶液を入れた。フラスコ内を窒素でパージした
後、溶液を氷と食塩のバスで−５℃に冷却し、４．３１
ｇ（４１．２ミリモル）の直前に蒸留した塩化メタクリ
ロイルを７５ｍｌの無水クロロホルムに溶解した溶液
を、３時間でマグネチック・スターラにより攪拌しなが
ら滴下した。滴下後、反応混合物を徐々に室温に戻し、
室温で１夜攪拌した。その後、１０ｍｌの水を滴下し、
溶液を３０分間攪拌した後、有機相を分離し、順次２０
ｍｌの８％ＨＣｌで２回、５％のＮａＯＨで２回、Ｎａ
Ｃｌ飽和溶液で２回洗浄した。ＭｇＳＯ4で短時間乾燥
した後、４−メトキシ−１−フェノールの結晶を数個添
加して重合を抑制し、溶剤をロータリー・エバポレータ
で除去して、放置すると結晶化する油状の生成物を得
た。トルエンで再結晶した後、０．５ｍｍＨｇの真空下
で１夜乾燥して、５．５１ｇ（収率５８％）の淡黄色固
体を精製した最終生成物として得た。ＮＭＲ分析及び文
献（１）のスペクトルとの比較により、この化合物は、
メタクリル酸４−（１−ピレニル）ブチルであることが
確認された。ＮＭＲ（ＣＤＣ１3）１．８−２．２ｐｐ
ｍ（ｍ、−ＣＨ2−ＣＨ2−）、３．３８ｐｐｍ（ｍ、−
ＣＨ2−ピレニル）、４．２３ｐｐｍ（ｍ、−ＣＨ2−Ｏ
ＯＣ−）、５．５３ｐｐｍ（ｍ、＝ＣＨ2）、６．０９
（ｍ、＝ＣＨ2）、７．８−８．３ｐｐｍ（ｍ、ピレニ
ル−Ｈ）。
【００３９】メタクリル酸４−（１−ピレニル）ブチル
とメタクリル酸メチルの重合体の生成 操作はすべて黄色安全灯の下で行った。Ｐｙ−ＭＡとメ
タクリル酸メチル（ＭＭＡ）との共重合体を下記により
生成した。１００ｍｌのフラスコに、５０ｇの酢酸プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル（アルドリッチ・
ケミカル社）、１３３ｍｇの２，２'−アゾビス、すな
わちイソブチロニトリル（ポリサイエンシーズ社）、及
びマグネチック・スターラ・バーを入れた。次に、０．
０１８０ｇのＰｙ−ＭＡと、１４．９８ｇのＭＭＡの、
合計１５．０ｇの単量体を添加して、フラスコをセプタ
ムで覆い、混合物を室温で溶解するまで攪拌した。溶液
の入ったフラスコ内を２０分間窒素でパージし、フラス
コを油浴中で６５℃に２４時間加熱した。その後、油浴
温度を１００℃に上げ、さらに２４時間加熱を続けた。
攪拌と、窒素圧力の保持は、この４８時間連続して行っ
た。重合体を沈殿させるため、溶液を室温に冷却した
後、１リットルのメタノール中に高速攪拌しながら滴下
した。濾過及び乾燥の後、共重合体を室温で５０ｍｌの
クロロホルムに溶解し、１リットルのメタノールで再沈
殿させた。これを濾過し、０．５ｍｍＨｇの真空下で恒
量になるまで乾燥して、１２．８３ｇの共重合体を得
た。
とメタクリル酸メチルの重合体の生成 操作はすべて黄色安全灯の下で行った。Ｐｙ−ＭＡとメ
タクリル酸メチル（ＭＭＡ）との共重合体を下記により
生成した。１００ｍｌのフラスコに、５０ｇの酢酸プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル（アルドリッチ・
ケミカル社）、１３３ｍｇの２，２'−アゾビス、すな
わちイソブチロニトリル（ポリサイエンシーズ社）、及
びマグネチック・スターラ・バーを入れた。次に、０．
０１８０ｇのＰｙ−ＭＡと、１４．９８ｇのＭＭＡの、
合計１５．０ｇの単量体を添加して、フラスコをセプタ
ムで覆い、混合物を室温で溶解するまで攪拌した。溶液
の入ったフラスコ内を２０分間窒素でパージし、フラス
コを油浴中で６５℃に２４時間加熱した。その後、油浴
温度を１００℃に上げ、さらに２４時間加熱を続けた。
攪拌と、窒素圧力の保持は、この４８時間連続して行っ
た。重合体を沈殿させるため、溶液を室温に冷却した
後、１リットルのメタノール中に高速攪拌しながら滴下
した。濾過及び乾燥の後、共重合体を室温で５０ｍｌの
クロロホルムに溶解し、１リットルのメタノールで再沈
殿させた。これを濾過し、０．５ｍｍＨｇの真空下で恒
量になるまで乾燥して、１２．８３ｇの共重合体を得
た。
【００４０】例２Ａ 例２によりアブラティブ光分解性重合体を生成した。た
だし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、０．０
５８５ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８
ｇではなく、１４．９４ｇを使用して、１２．４４ｇの
メタクリル酸メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニ
ル）ブチルとの共重合体を得た。
だし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、０．０
５８５ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８
ｇではなく、１４．９４ｇを使用して、１２．４４ｇの
メタクリル酸メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニ
ル）ブチルとの共重合体を得た。
【００４１】例２Ｂ 例２によりアブラティブ光分解性重合体を生成した。た
だし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、０．１
７４０ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８
ｇではなく、１４．８３ｇを使用して、１３．７４ｇの
メタクリル酸メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニ
ル）ブチルとの共重合体を得た。
だし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、０．１
７４０ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８
ｇではなく、１４．８３ｇを使用して、１３．７４ｇの
メタクリル酸メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニ
ル）ブチルとの共重合体を得た。
【００４２】例２Ｃ 例２によりアブラティブ光分解性重合体を生成した。た
だし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、０．５
６７０ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８
ｇではなく、１４．４３ｇを使用し、共重合体を濾過及
び乾燥後、５０℃のクロロホルム５０％、トルエン５０
％の混合溶剤に溶液して、１２．４２ｇのメタクリル酸
メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニル）ブチルとの
共重合体を得た。
だし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、０．５
６７０ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８
ｇではなく、１４．４３ｇを使用し、共重合体を濾過及
び乾燥後、５０℃のクロロホルム５０％、トルエン５０
％の混合溶剤に溶液して、１２．４２ｇのメタクリル酸
メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニル）ブチルとの
共重合体を得た。
【００４３】例２Ｄ 例２Ｃによりアブラティブ光分解性重合体を生成した。
ただし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、１．
５８ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８ｇ
ではなく、１３．４２ｇを使用して、１３．４２ｇのメ
タクリル酸メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニル）
ブチルとの共重合体を得た。
ただし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、１．
５８ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８ｇ
ではなく、１３．４２ｇを使用して、１３．４２ｇのメ
タクリル酸メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニル）
ブチルとの共重合体を得た。
【００４４】例２Ｅ 例２Ｃによりアブラティブ光分解性重合体を生成した。
ただし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、４．
２３０ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８
ｇではなく、１０．７７ｇを使用して、１３．８６ｇの
メタクリル酸メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニ
ル）ブチルとの共重合体を得た。
ただし、Ｐｙ−ＭＡは、０．０１８０ｇではなく、４．
２３０ｇを使用し、メタクリル酸メチルは、１４．９８
ｇではなく、１０．７７ｇを使用して、１３．８６ｇの
メタクリル酸メチルとメタクリル酸４−（１−ピレニ
ル）ブチルとの共重合体を得た。
【００４５】例３ アルドリッチ・ケミカル社のポリメタクリル酸メチルと
アクリル酸との共重合体を、たとえばＮ−メチルピロリ
ドン、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテルな
どの有機溶剤に溶解して、光吸収剤が重合体にイオン結
合したアブラティブ光分解性重合体を生成した。次に、
アルドリッチ・ケミカル社の光吸収剤である７−（ジメ
チルアミン）−４−メチルクマリンを添加し、十分混合
した。溶液からアブラティブ光分解性塩の沈澱物として
これを回収した。沈澱は、ヘキサン、シクロヘキサン、
テトラヒドロフラン、メタノールなどの逆溶媒を添加し
て完了させた。
アクリル酸との共重合体を、たとえばＮ−メチルピロリ
ドン、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテルな
どの有機溶剤に溶解して、光吸収剤が重合体にイオン結
合したアブラティブ光分解性重合体を生成した。次に、
アルドリッチ・ケミカル社の光吸収剤である７−（ジメ
チルアミン）−４−メチルクマリンを添加し、十分混合
した。溶液からアブラティブ光分解性塩の沈澱物として
これを回収した。沈澱は、ヘキサン、シクロヘキサン、
テトラヒドロフラン、メタノールなどの逆溶媒を添加し
て完了させた。
【００４６】例４ アルドリッチ・ケミカル社のポリアクリル酸の重合体
を、たとえばＮ−メチルピロリドン、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセタートなどの有機溶剤に溶
解して、光吸収剤が重合体にイオン結合したアブラティ
ブ光分解性重合体を生成した。次に、アルドリッチ・ケ
ミカル社の光吸収剤である１−（ジメチルアミノ）−ピ
レンを添加し、十分混合した。溶液からアブラティブ光
分解性塩の沈澱物としてこれを回収した。沈澱は、ヘキ
サン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、メタノー
ルなどの逆溶媒を添加して完了させた。
を、たとえばＮ−メチルピロリドン、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセタートなどの有機溶剤に溶
解して、光吸収剤が重合体にイオン結合したアブラティ
ブ光分解性重合体を生成した。次に、アルドリッチ・ケ
ミカル社の光吸収剤である１−（ジメチルアミノ）−ピ
レンを添加し、十分混合した。溶液からアブラティブ光
分解性塩の沈澱物としてこれを回収した。沈澱は、ヘキ
サン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、メタノー
ルなどの逆溶媒を添加して完了させた。
【００４７】例５ 下記の構造を有するアブラティブ光分解性重合体を、下
記の方法により生成した。
記の方法により生成した。
【化３】 まず、４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］
−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トランを
合成する。４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トラ
ンの合成法は下記のとおりである。
−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トランを
合成する。４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トラ
ンの合成法は下記のとおりである。
【化４】
【００４８】化合物１： ４−［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］ヨードベンゼンの生成 まず、メカニカル・スターラを取り付けた５００ｍｌの
三口フラスコに、２５ｇ、すなわち１５０ミリモルの、
モベイ・ケミカル（Mobay Chemical Corp.）の（２−ヒ
ドロキシエチル）エチルアニリンと、２０ｍｌのエタノ
ールを入れ、フラスコ内を窒素でパージして、撹拌し
た。これに、２５ｇ、すなわち３００ミリモルの重炭酸
ナトリウムを３００ｍｌの水に溶解し、脱気した溶液を
撹拌しながら添加した。次に、３８．５ｇ、すなわち１
５０ミリモルのヨウ素（アルドリッチ・ケミカル社）を
乳鉢ですりつぶしたものを、反応温度を２０℃に保ちな
がら、４５分間かけて徐々に添加した。この混合物を４
時間撹拌した後、クロロホルムで抽出した。有機層をチ
オ硫酸ナトリウム（アルドリッチ・ケミカル社）で洗浄
し、分離した。溶剤を減圧で除去した後、脱色用活性炭
を濃色の残渣に添加して、加熱した石油エーテルで抽出
を繰り返した。軽質の油分を分離して、冷却すると結晶
化する無色の固体である４−［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］ヨードベンゼン３０ｇが、６８％の
収率で生成した。４−［（２−ヒドロキシエチル）エチ
ルアミノ］ヨードベンゼンの融点は５３ないし５４℃で
ある。
ル）エチルアミノ］ヨードベンゼンの生成 まず、メカニカル・スターラを取り付けた５００ｍｌの
三口フラスコに、２５ｇ、すなわち１５０ミリモルの、
モベイ・ケミカル（Mobay Chemical Corp.）の（２−ヒ
ドロキシエチル）エチルアニリンと、２０ｍｌのエタノ
ールを入れ、フラスコ内を窒素でパージして、撹拌し
た。これに、２５ｇ、すなわち３００ミリモルの重炭酸
ナトリウムを３００ｍｌの水に溶解し、脱気した溶液を
撹拌しながら添加した。次に、３８．５ｇ、すなわち１
５０ミリモルのヨウ素（アルドリッチ・ケミカル社）を
乳鉢ですりつぶしたものを、反応温度を２０℃に保ちな
がら、４５分間かけて徐々に添加した。この混合物を４
時間撹拌した後、クロロホルムで抽出した。有機層をチ
オ硫酸ナトリウム（アルドリッチ・ケミカル社）で洗浄
し、分離した。溶剤を減圧で除去した後、脱色用活性炭
を濃色の残渣に添加して、加熱した石油エーテルで抽出
を繰り返した。軽質の油分を分離して、冷却すると結晶
化する無色の固体である４−［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］ヨードベンゼン３０ｇが、６８％の
収率で生成した。４−［（２−ヒドロキシエチル）エチ
ルアミノ］ヨードベンゼンの融点は５３ないし５４℃で
ある。
【００４９】化合物２： ４−［（２−トリメチルシロ
キシエチル）エチルアミノ］ヨードベンゼンの生成 １４．５ｇ、すなわち５０ミリモルの４−［（２−ヒド
ロキシエチル）エチルアミノ］ヨードベンゼンと、６．
０ｇ、すなわち６０ミリモルのトリエチルアミン（アル
ドリッチ・ケミカル社）とを、９０ｍｌのテトラヒドロ
フラン（"ＴＨＦ"）に溶解した溶液を、氷を入れたウォ
ーター・バス上で、窒素雰囲気中で撹拌した。次に、
５．５ｇ、すなわち５１ミリモルのクロロトリメチルシ
ラン（アルドリッチ・ケミカル社）を、反応温度を１０
℃未満に保ちながら徐々に添加した。この混合物を３０
分間撹拌した後、１時間で室温まで加温した。これにエ
チルエーテルを添加し、食塩水で抽出した。有機層を分
離し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。溶剤を減
圧で除去した後、残渣をシリカゲル・カラムを用いたク
ロマトグラフィにより２％の酢酸エチルとヘキサンの混
合溶媒で溶出して、１６．６３ｇの透明な高粘度の油状
液体を、９２％の収率で得た。
キシエチル）エチルアミノ］ヨードベンゼンの生成 １４．５ｇ、すなわち５０ミリモルの４−［（２−ヒド
ロキシエチル）エチルアミノ］ヨードベンゼンと、６．
０ｇ、すなわち６０ミリモルのトリエチルアミン（アル
ドリッチ・ケミカル社）とを、９０ｍｌのテトラヒドロ
フラン（"ＴＨＦ"）に溶解した溶液を、氷を入れたウォ
ーター・バス上で、窒素雰囲気中で撹拌した。次に、
５．５ｇ、すなわち５１ミリモルのクロロトリメチルシ
ラン（アルドリッチ・ケミカル社）を、反応温度を１０
℃未満に保ちながら徐々に添加した。この混合物を３０
分間撹拌した後、１時間で室温まで加温した。これにエ
チルエーテルを添加し、食塩水で抽出した。有機層を分
離し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。溶剤を減
圧で除去した後、残渣をシリカゲル・カラムを用いたク
ロマトグラフィにより２％の酢酸エチルとヘキサンの混
合溶媒で溶出して、１６．６３ｇの透明な高粘度の油状
液体を、９２％の収率で得た。
【００５０】化合物３： ４−［（２−トリメチルシロ
キシエチル）エチルアミノ］トリメチルシリルエチニル
ベンゼンの生成 １０．９ｇ、すなわち３０ミリモルの、上記の方法で生
成した４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチル
アミノ］ヨードベンゼン、１．０ｇ、すなわち１．４ミ
リモルの塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウ
ム（ＩＩ）（アルドリッチ・ケミカル社）、及び７４ｍ
ｇ、すなわち０．７５ミリモルの塩化第一銅（アルドリ
ッチ・ケミカル社）の混合物に、５０ｍｌのトリエチル
アミンを加えて撹拌し、窒素雰囲気中で１５分間脱気し
た。次に、３．５ｇ、すなわち３６ミリモルのトリメチ
ルシリルアセチレン（アルドリッチ・ケミカル社）を、
室温でメカニカル・スターラで激しく撹拌しながら添加
し、混合物を８０℃で１時間撹拌した。混合物を冷却し
て、濾過し、エチルエーテルで希釈して、希塩酸で抽出
した。有機相を分離し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
し、溶剤を減圧で除去した。暗色の残渣を、シリカゲル
・カラムを用いたクロマトグラフィにより４％の酢酸エ
チルとヘキサンの混合溶媒で溶出して、９．２ｇの黄色
の油状液体を、９２％の収率で得た。
キシエチル）エチルアミノ］トリメチルシリルエチニル
ベンゼンの生成 １０．９ｇ、すなわち３０ミリモルの、上記の方法で生
成した４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチル
アミノ］ヨードベンゼン、１．０ｇ、すなわち１．４ミ
リモルの塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウ
ム（ＩＩ）（アルドリッチ・ケミカル社）、及び７４ｍ
ｇ、すなわち０．７５ミリモルの塩化第一銅（アルドリ
ッチ・ケミカル社）の混合物に、５０ｍｌのトリエチル
アミンを加えて撹拌し、窒素雰囲気中で１５分間脱気し
た。次に、３．５ｇ、すなわち３６ミリモルのトリメチ
ルシリルアセチレン（アルドリッチ・ケミカル社）を、
室温でメカニカル・スターラで激しく撹拌しながら添加
し、混合物を８０℃で１時間撹拌した。混合物を冷却し
て、濾過し、エチルエーテルで希釈して、希塩酸で抽出
した。有機相を分離し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
し、溶剤を減圧で除去した。暗色の残渣を、シリカゲル
・カラムを用いたクロマトグラフィにより４％の酢酸エ
チルとヘキサンの混合溶媒で溶出して、９．２ｇの黄色
の油状液体を、９２％の収率で得た。
【００５１】化合物４： ４−［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］エチルベンゼンの生成 ５．０ｇ、すなわち１５ミリモルの、上記の方法で生成
した４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルア
ミノ］トリメチルシリルエチニルベンゼンを、６０ｍｌ
のメタノールとＴＨＦの１：１の混合溶媒に溶解した溶
液に、３３ｍｌ、すなわち３３ミリモルの１Ｍフッ化テ
トラブチルアンモニウム（アルドリッチ・ケミカル社）
のＴＨＦ溶液を滴下した。この溶液を室温で１時間撹拌
した。エチルエーテルを加え、混合物を水で抽出した。
有機相を分離し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶剤
を減圧で除去した。粗製生成物をシリカゲル・カラムを
用いたクロマトグラフィにより３５％の酢酸エチルとヘ
キサンの混合溶媒で溶出して、２．５ｇの黄色の高粘度
油状液体を、８８％の収率で得た。
ル）エチルアミノ］エチルベンゼンの生成 ５．０ｇ、すなわち１５ミリモルの、上記の方法で生成
した４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルア
ミノ］トリメチルシリルエチニルベンゼンを、６０ｍｌ
のメタノールとＴＨＦの１：１の混合溶媒に溶解した溶
液に、３３ｍｌ、すなわち３３ミリモルの１Ｍフッ化テ
トラブチルアンモニウム（アルドリッチ・ケミカル社）
のＴＨＦ溶液を滴下した。この溶液を室温で１時間撹拌
した。エチルエーテルを加え、混合物を水で抽出した。
有機相を分離し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶剤
を減圧で除去した。粗製生成物をシリカゲル・カラムを
用いたクロマトグラフィにより３５％の酢酸エチルとヘ
キサンの混合溶媒で溶出して、２．５ｇの黄色の高粘度
油状液体を、８８％の収率で得た。
【００５２】化合物５： ４−［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスル
フォニル）トランの生成 ５．７ｇ、すなわち２０ミリモルの、Ｅ．Ａ．ノディフ
ほか（E.A. Nodiff etal.）ジャーナル・オブ・オーガ
ニック・ケミストリー（J. Org. Chem.）、Ｖｏｌ．２
５、ｐ．６０（１９６０）の方法で生成した１−ブロモ
−４−トリフルオロメチルスルホニルベンゼン、０．６
３ｇ、すなわち０．９ミリモルの塩化ビス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、４５ｍｇ、すなわ
ち０．４５ミリモルの塩化第一銅、及び１８ｇ、すなわ
ち１８０ミリモルのトリエチルアミンの混合物に、８０
ｍｌのベンゼンを加えて撹拌し、窒素雰囲気中で１５分
間脱気した。上記混合物を８０℃に保ち、３．４ｇ、す
なわち１８ミリモルの、上記の方法で生成した４−
［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］エチニルベ
ンゼンを４０ｍｌの脱気したベンゼンに溶解したものを
２０分間で添加した。この反応系をさらに４５分間撹拌
し、濾過及び抽出後、シリカゲル・カラムを用いたクロ
マトグラフィにより２５％のアセトンとヘキサンの混合
溶媒で溶出した。エーテルとヘキサンの混合溶媒で再結
晶して５．９ｇの黄色の針状結晶を、８２％の収率で得
た。この４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トラ
ンの融点は１８３ないし１８４℃、ＮＭＲ分析は下記の
とおりであった。ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ3）７．９６
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．７０（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．４２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，
２Ｈ）、６．７２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、３．
８４（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ）、３．５６−３．４
４（ｍ，４Ｈ）、１．２０（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３
Ｈ）。
ル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスル
フォニル）トランの生成 ５．７ｇ、すなわち２０ミリモルの、Ｅ．Ａ．ノディフ
ほか（E.A. Nodiff etal.）ジャーナル・オブ・オーガ
ニック・ケミストリー（J. Org. Chem.）、Ｖｏｌ．２
５、ｐ．６０（１９６０）の方法で生成した１−ブロモ
−４−トリフルオロメチルスルホニルベンゼン、０．６
３ｇ、すなわち０．９ミリモルの塩化ビス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、４５ｍｇ、すなわ
ち０．４５ミリモルの塩化第一銅、及び１８ｇ、すなわ
ち１８０ミリモルのトリエチルアミンの混合物に、８０
ｍｌのベンゼンを加えて撹拌し、窒素雰囲気中で１５分
間脱気した。上記混合物を８０℃に保ち、３．４ｇ、す
なわち１８ミリモルの、上記の方法で生成した４−
［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］エチニルベ
ンゼンを４０ｍｌの脱気したベンゼンに溶解したものを
２０分間で添加した。この反応系をさらに４５分間撹拌
し、濾過及び抽出後、シリカゲル・カラムを用いたクロ
マトグラフィにより２５％のアセトンとヘキサンの混合
溶媒で溶出した。エーテルとヘキサンの混合溶媒で再結
晶して５．９ｇの黄色の針状結晶を、８２％の収率で得
た。この４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トラ
ンの融点は１８３ないし１８４℃、ＮＭＲ分析は下記の
とおりであった。ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ3）７．９６
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．７０（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．４２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，
２Ｈ）、６．７２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、３．
８４（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ）、３．５６−３．４
４（ｍ，４Ｈ）、１．２０（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３
Ｈ）。
【００５３】メタクリル酸４−［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスル
フォニル）トラン単量体の生成 光吸収剤４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トラ
ンを用いて、例１の方法で単量体を生成した。シリカゲ
ル・カラムを用いたクロマトグラフィにより１８％のア
セトンとヘキサンの混合溶媒で溶出し、エーテルとヘキ
サンの混合溶媒で再結晶して、淡黄色の針状結晶を、７
２％の収率で得た。この単量体の融点は１０７ないし１
０８℃、ＮＭＲ分析は下記のとおりであった。ＮＭＲδ
（ＣＤＣｌ3）７．９６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ）、７．７１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．４
３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、６．７２（ｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ，２Ｈ）、６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．６０
（ｔ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ）、４．３３（ｔ，Ｊ＝
６．３Ｈｚ，２Ｈ）、３．６６（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，
２Ｈ）、３．４８（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ）、１．
９５（ｓ，３Ｈ）、１．２１（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３
Ｈ）。
ル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスル
フォニル）トラン単量体の生成 光吸収剤４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トラ
ンを用いて、例１の方法で単量体を生成した。シリカゲ
ル・カラムを用いたクロマトグラフィにより１８％のア
セトンとヘキサンの混合溶媒で溶出し、エーテルとヘキ
サンの混合溶媒で再結晶して、淡黄色の針状結晶を、７
２％の収率で得た。この単量体の融点は１０７ないし１
０８℃、ＮＭＲ分析は下記のとおりであった。ＮＭＲδ
（ＣＤＣｌ3）７．９６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２
Ｈ）、７．７１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．４
３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、６．７２（ｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ，２Ｈ）、６．１１（ｓ，１Ｈ）、５．６０
（ｔ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ）、４．３３（ｔ，Ｊ＝
６．３Ｈｚ，２Ｈ）、３．６６（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，
２Ｈ）、３．４８（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ）、１．
９５（ｓ，３Ｈ）、１．２１（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３
Ｈ）。
【００５４】メタクリル酸４−［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスル
フォニル）トランの重合 アブラティブ光分解性重合体を、例１に記載した方法で
生成した。得られた黄色の重合体は、メタクリル酸メチ
ル９３％と、メタクリル酸４−［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスル
フォニル）トラン７％からなるものであり、ＮＭＲ分析
による分子量は５４，０００、分散率は１．７、Ｔｇは
１２４℃である。
ル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスル
フォニル）トランの重合 アブラティブ光分解性重合体を、例１に記載した方法で
生成した。得られた黄色の重合体は、メタクリル酸メチ
ル９３％と、メタクリル酸４−［（２−ヒドロキシエチ
ル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスル
フォニル）トラン７％からなるものであり、ＮＭＲ分析
による分子量は５４，０００、分散率は１．７、Ｔｇは
１２４℃である。
【００５５】例６ 下記の構造を有するアブラティブ光分解性重合体を生成
した。
した。
【化５】 得られた共重合体は、メタクリル酸メチル７０重量％、
光吸収剤７−ブチルヒドロキシ−４−メチル−２Ｈ−１
−ベンゾピレン−２−オン３０重量％からなるものであ
った。
光吸収剤７−ブチルヒドロキシ−４−メチル−２Ｈ−１
−ベンゾピレン−２−オン３０重量％からなるものであ
った。
【００５６】比較例Ａ 比較のため、ポリメタクリル酸メチルを単にＤＲ−１光
吸収剤と混合したサンプルを作成した。
吸収剤と混合したサンプルを作成した。
【００５７】比較例Ｂ 比較のため、満足な解像度を有する従来のポリイミド・
アブラティブ組成物からサンプルを作成した。
アブラティブ組成物からサンプルを作成した。
【００５８】評価 例１ないし２Ｅ、５、６、比較例Ａ及びＢの重合体組成
物を、メタライズしたセラミック・ウェーハにスピン・
コーティングした。次に、基板を対流オーブンに入れ
て、１夜１２０℃でベーキングして、溶剤を除去した。
得られた皮膜は、平滑で硬度が高く、厚みは２ないし３
μｍであった。この重合体コーティングを、ラムダ・フ
ィジック・レーザ社（Lambda Physik Laser）のラムダ
２０００エキシマ・レーザを用いて、波長３０８ｎｍ
で、毎秒３００パルスで、フルーエンス０．２０Ｊ／ｃ
ｍ2を用い、通常５０ないし１００パルスを使用してア
ブレーションさせ、アブラティブ光分解性重合体中に回
路パターンを形成した。パターンを形成した基板を過マ
ンガン酸カリ浴に入れてクロムの上層を除去した後、パ
ターンを形成した基板を塩化第二鉄浴に入れて露出した
銅を除去し、最後にパターンを形成した基板を過マンガ
ン酸カリ浴に入れて露出したクロムを除去することによ
り、金属をエッチングした。このようにして、アブラテ
ィブ光分解性重合体により保護されたメタライゼーショ
ンを除いて、メタライゼーションをすべて除去した。残
ったアブラティブ光分解性重合体を選択的にアブレーシ
ョンさせ、銅のパッドなどの構造を画定した。次にこの
構造を過マンガン酸カリのみを用いてエッチングし、ク
ロムの上層を除去し、これにより銅を露出させた。次
に、この構造を目視により検査した。
物を、メタライズしたセラミック・ウェーハにスピン・
コーティングした。次に、基板を対流オーブンに入れ
て、１夜１２０℃でベーキングして、溶剤を除去した。
得られた皮膜は、平滑で硬度が高く、厚みは２ないし３
μｍであった。この重合体コーティングを、ラムダ・フ
ィジック・レーザ社（Lambda Physik Laser）のラムダ
２０００エキシマ・レーザを用いて、波長３０８ｎｍ
で、毎秒３００パルスで、フルーエンス０．２０Ｊ／ｃ
ｍ2を用い、通常５０ないし１００パルスを使用してア
ブレーションさせ、アブラティブ光分解性重合体中に回
路パターンを形成した。パターンを形成した基板を過マ
ンガン酸カリ浴に入れてクロムの上層を除去した後、パ
ターンを形成した基板を塩化第二鉄浴に入れて露出した
銅を除去し、最後にパターンを形成した基板を過マンガ
ン酸カリ浴に入れて露出したクロムを除去することによ
り、金属をエッチングした。このようにして、アブラテ
ィブ光分解性重合体により保護されたメタライゼーショ
ンを除いて、メタライゼーションをすべて除去した。残
ったアブラティブ光分解性重合体を選択的にアブレーシ
ョンさせ、銅のパッドなどの構造を画定した。次にこの
構造を過マンガン酸カリのみを用いてエッチングし、ク
ロムの上層を除去し、これにより銅を露出させた。次
に、この構造を目視により検査した。
【００５９】例１ないし２Ｅ、５及び６のアブラティブ
光分解性重合体のサンプルはすべて、満足なアブレーシ
ョンを示した。
光分解性重合体のサンプルはすべて、満足なアブレーシ
ョンを示した。
【００６０】比較例Ａの材料は、良好にアブレーション
しなかった。しかし、従来のポリイミドを塗布した基板
には、炭素の破片（debris）が外側リード・ボンドの間
に集合しているのが見られた。この破片は例１のアブラ
ティブ光分解性重合体の場合には見られない。このよう
に、ＤＲ１−ＰＭＭＡ重合体を使用することにより、炭
素の破片を洗浄する処理工程を追加することが避けられ
る。
しなかった。しかし、従来のポリイミドを塗布した基板
には、炭素の破片（debris）が外側リード・ボンドの間
に集合しているのが見られた。この破片は例１のアブラ
ティブ光分解性重合体の場合には見られない。このよう
に、ＤＲ１−ＰＭＭＡ重合体を使用することにより、炭
素の破片を洗浄する処理工程を追加することが避けられ
る。
【００６１】例１のアブラティブ光分解性重合体を、厚
みが１ないし４μｍのメタライズしたセラミック・ウェ
ーハにもコーティングした。次に、図１に示す回路パタ
ーンをエキシマ・レーザまたは深紫外線ランプのいずれ
かを使用して形成した。また、深紫外線源として、キン
テル社（Quintel Corp.）の３００ワット紫外線ランプ
を用い、２５３ｎｍの波長で、アブラティブ光分解性組
成物に、２０、１６、１０、８、４、２μｍの幅を有す
る線状のテスト・ライン・パターンを形成した。
みが１ないし４μｍのメタライズしたセラミック・ウェ
ーハにもコーティングした。次に、図１に示す回路パタ
ーンをエキシマ・レーザまたは深紫外線ランプのいずれ
かを使用して形成した。また、深紫外線源として、キン
テル社（Quintel Corp.）の３００ワット紫外線ランプ
を用い、２５３ｎｍの波長で、アブラティブ光分解性組
成物に、２０、１６、１０、８、４、２μｍの幅を有す
る線状のテスト・ライン・パターンを形成した。
【００６２】例１、２、５、及び６のアブラティブ光分
解性重合体は、欠陥がなく、欠陥のない回路を形成し
た。テスト・ライン・パターンに示す線の幅は、従来の
リソグラフィ処理を使用して得た線の幅に匹敵するもの
であった。
解性重合体は、欠陥がなく、欠陥のない回路を形成し
た。テスト・ライン・パターンに示す線の幅は、従来の
リソグラフィ処理を使用して得た線の幅に匹敵するもの
であった。
【００６３】例３のアブラティブ光分解性重合体により
形成したパターンの質は、比較例のＤＲ１−ＰＭＭＡ混
合物により形成したパターンの質より、著しく良好であ
った。
形成したパターンの質は、比較例のＤＲ１−ＰＭＭＡ混
合物により形成したパターンの質より、著しく良好であ
った。
【００６４】本発明は、上記実施例に限定されるもので
はない。本発明は、技術的に同等の手段はすべて、本発
明の原理及び範囲に含まれることを意図している。
はない。本発明は、技術的に同等の手段はすべて、本発
明の原理及び範囲に含まれることを意図している。
【００６５】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。
の事項を開示する。
【００６６】（１）単量体単位が重合したアクリル重合
体と、単量体単位に結合した光吸収剤とを含み、前記光
吸収剤が、４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン、ピレ
ン、クマリン、４［（２−ヒドロキシエチル）エチルア
ミノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）ト
ラン、７−ヒドロキシ−４−メチル−２Ｈ−１−ベンゾ
ピレン−２−オン、または第三アミン官能基を有し、前
記アクリル重合体の酸性水素と第四アンモニウム塩を生
成する光吸収剤、及びこれらの誘導体からなるグループ
から選択されることを特徴とする、アブラティブ光分解
性重合体。 （２）単量体単位がアクリル酸及びその誘導体であるこ
とを特徴とする上記（１）に記載のアブラティブ光分解
性重合体。 （３）光吸収剤が１−（ジメチルアミノ）−ピレンであ
ることを特徴とする上記（１）に記載のアブラティブ光
分解性重合体。 （４）光吸収剤が７−（ジメチルアミノ）−４−メチル
クマリンであることを特徴とする上記（１）に記載のア
ブラティブ光分解性重合体。 （５）前記アブラティブ光分解性重合体は紫外線の波長
でアブレーションすることを特徴とする上記（１）に記
載のアブラティブ光分解性重合体。 （６）単量体単位が、メタクリル酸メチルであり、光吸
収剤が４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］−
４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼンであることを特
徴とする上記（２）に記載のアブラティブ光分解性重合
体。 （７）単量体単位が、メタアクリル酸メチルであり、光
吸収剤がピレンであることを特徴とする上記（２）に記
載のアブラティブ光分解性重合体。 （８）単量体単位が、メタアクリル酸メチルであり、光
吸収剤が７−ヒドロキシ−４−メチル−２Ｈ−１−ベン
ゾピレン−２−オンであることを特徴とする上記（２）
に記載のアブラティブ光分解性重合体。 （９）単量体単位が、メタアクリル酸メチルであり、光
吸収剤が４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トラ
ンであることを特徴とする上記（１）に記載のアブラテ
ィブ光分解性重合体。 （１０）光吸収剤が第三アミン官能基を有し、前記アク
リル重合体にイオン結合していることを特徴とする上記
（１）に記載のアブラティブ光分解性重合体。 （１１）（ａ）重合体に共有結合またはイオン結合した
光吸収剤を有する重合体からなるアブラティブ除去可能
な重合体で基板をコーティングし、（ｂ）重合体コーテ
ィングをアブラティブ光分解して、所望のパターンを形
成する工程からなる、有機基板上に金属パターンを形成
する方法。 （１２）アブラティブ除去可能な重合体が、アクリル酸
及びその誘導体が重合した単位からなり、光吸収剤が重
合体に共有結合していることを特徴とする、上記（１
１）に記載の方法。 （１３）重合体がポリメチルメタクリレートであり、光
吸収剤が重合体に共有結合していることを特徴とする、
上記（１１）に記載の方法。 （１４）アブラティブ光分解が、エキシマ・レーザによ
り行われることを特徴とする、上記（１１）に記載の方
法。 （１５）前記エキシマ・レーザの波長が３０８ｎｍであ
り、そのフルーエンスが２００ｍＪ／ｃｍ2であること
を特徴とする、上記（１４）に記載の方法。 （１６）化合物４−［（２−ヒドロキシエチル）エチル
アミノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）
トラン。 （１７）ａ．まず（２−ヒドロキシエチル）エチルアニ
リンを生成し、 ｂ．（２−ヒドロキシエチル）エチルアニリンをヨウ素
化して、４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］ヨードベンゼンを生成し、 ｃ．４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］ヨ
ードベンゼンにトリメチルシリル基を付加して、４−
［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルアミノ］ヨ
ードベンゼンを生成し、 ｄ．４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルア
ミノ］ヨードベンゼンのヨード基をトリメチルシリルエ
チニル基で置換して、４−［（２−トリメチルシロキシ
エチル）エチルアミノ］トリメチルシリルエチニルベン
ゼンを生成し、 ｅ．４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルア
ミノ］トリメチルシリルエチニルベンゼンのトリメチル
シリル基を除去して４−［（２−ヒドロキシエチル）エ
チルアミノ］エチニルベンゼンを生成し、 ｆ．４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］エ
チニルベンゼンに４−トリフルオロメチルスルフォニル
ベンゼンを付加して、４−［（２−ヒドロキシエチル）
エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォ
ニル）トランを生成する工程からなる、４−［（２−ヒ
ドロキシエチル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオ
ロメチルスルフォニル）トランの製法。 （１８）上記（１）に記載のアブラティブ光分解性組成
物でコーティングした基板。
体と、単量体単位に結合した光吸収剤とを含み、前記光
吸収剤が、４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン、ピレ
ン、クマリン、４［（２−ヒドロキシエチル）エチルア
ミノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）ト
ラン、７−ヒドロキシ−４−メチル−２Ｈ−１−ベンゾ
ピレン−２−オン、または第三アミン官能基を有し、前
記アクリル重合体の酸性水素と第四アンモニウム塩を生
成する光吸収剤、及びこれらの誘導体からなるグループ
から選択されることを特徴とする、アブラティブ光分解
性重合体。 （２）単量体単位がアクリル酸及びその誘導体であるこ
とを特徴とする上記（１）に記載のアブラティブ光分解
性重合体。 （３）光吸収剤が１−（ジメチルアミノ）−ピレンであ
ることを特徴とする上記（１）に記載のアブラティブ光
分解性重合体。 （４）光吸収剤が７−（ジメチルアミノ）−４−メチル
クマリンであることを特徴とする上記（１）に記載のア
ブラティブ光分解性重合体。 （５）前記アブラティブ光分解性重合体は紫外線の波長
でアブレーションすることを特徴とする上記（１）に記
載のアブラティブ光分解性重合体。 （６）単量体単位が、メタクリル酸メチルであり、光吸
収剤が４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］−
４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼンであることを特
徴とする上記（２）に記載のアブラティブ光分解性重合
体。 （７）単量体単位が、メタアクリル酸メチルであり、光
吸収剤がピレンであることを特徴とする上記（２）に記
載のアブラティブ光分解性重合体。 （８）単量体単位が、メタアクリル酸メチルであり、光
吸収剤が７−ヒドロキシ−４−メチル−２Ｈ−１−ベン
ゾピレン−２−オンであることを特徴とする上記（２）
に記載のアブラティブ光分解性重合体。 （９）単量体単位が、メタアクリル酸メチルであり、光
吸収剤が４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トラ
ンであることを特徴とする上記（１）に記載のアブラテ
ィブ光分解性重合体。 （１０）光吸収剤が第三アミン官能基を有し、前記アク
リル重合体にイオン結合していることを特徴とする上記
（１）に記載のアブラティブ光分解性重合体。 （１１）（ａ）重合体に共有結合またはイオン結合した
光吸収剤を有する重合体からなるアブラティブ除去可能
な重合体で基板をコーティングし、（ｂ）重合体コーテ
ィングをアブラティブ光分解して、所望のパターンを形
成する工程からなる、有機基板上に金属パターンを形成
する方法。 （１２）アブラティブ除去可能な重合体が、アクリル酸
及びその誘導体が重合した単位からなり、光吸収剤が重
合体に共有結合していることを特徴とする、上記（１
１）に記載の方法。 （１３）重合体がポリメチルメタクリレートであり、光
吸収剤が重合体に共有結合していることを特徴とする、
上記（１１）に記載の方法。 （１４）アブラティブ光分解が、エキシマ・レーザによ
り行われることを特徴とする、上記（１１）に記載の方
法。 （１５）前記エキシマ・レーザの波長が３０８ｎｍであ
り、そのフルーエンスが２００ｍＪ／ｃｍ2であること
を特徴とする、上記（１４）に記載の方法。 （１６）化合物４−［（２−ヒドロキシエチル）エチル
アミノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）
トラン。 （１７）ａ．まず（２−ヒドロキシエチル）エチルアニ
リンを生成し、 ｂ．（２−ヒドロキシエチル）エチルアニリンをヨウ素
化して、４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］ヨードベンゼンを生成し、 ｃ．４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］ヨ
ードベンゼンにトリメチルシリル基を付加して、４−
［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルアミノ］ヨ
ードベンゼンを生成し、 ｄ．４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルア
ミノ］ヨードベンゼンのヨード基をトリメチルシリルエ
チニル基で置換して、４−［（２−トリメチルシロキシ
エチル）エチルアミノ］トリメチルシリルエチニルベン
ゼンを生成し、 ｅ．４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルア
ミノ］トリメチルシリルエチニルベンゼンのトリメチル
シリル基を除去して４−［（２−ヒドロキシエチル）エ
チルアミノ］エチニルベンゼンを生成し、 ｆ．４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］エ
チニルベンゼンに４−トリフルオロメチルスルフォニル
ベンゼンを付加して、４−［（２−ヒドロキシエチル）
エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォ
ニル）トランを生成する工程からなる、４−［（２−ヒ
ドロキシエチル）エチルアミノ］−４'−（トリフルオ
ロメチルスルフォニル）トランの製法。 （１８）上記（１）に記載のアブラティブ光分解性組成
物でコーティングした基板。
【図１】ＤＲ１−ＰＭＭＡがレーザによりアブレーショ
ンした、回路形成パターンと、メタライズしたセラミッ
ク・ウェーハの、７ｍｍ×７ｍｍの部分を示す図であ
る。
ンした、回路形成パターンと、メタライズしたセラミッ
ク・ウェーハの、７ｍｍ×７ｍｍの部分を示す図であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/039 Ｇ０３Ｆ 7/039 // Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｒ (72)発明者 ウィリアム・ウェザーズ・フレミング アメリカ合衆国23454 バージニア州バー ジニア・ビーチ ファイブ・ポイント・コ ート 2553 (72)発明者 ビクター・イー＝ウェイ・リー アメリカ合衆国95120 カリフォルニア州 サンノゼクウェイル・リッジ・コート 1160 (72)発明者 ランディ・ウィリアム・スナイダー アメリカ合衆国13850 ニューヨーク州ヴ ェスタルミーカー・ロード 144
Claims (18)
- 【請求項１】単量体単位が重合したアクリル重合体と、
単量体単位に結合した光吸収剤とを含み、前記光吸収剤
が、４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］−
４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼン、ピレン、クマ
リン、４［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］−
４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）トラン、７
−ヒドロキシ−４−メチル−２Ｈ−１−ベンゾピレン−
２−オン、または第三アミン官能基を有し、前記アクリ
ル重合体の酸性水素と第四アンモニウム塩を生成する光
吸収剤、及びこれらの誘導体からなるグループから選択
されることを特徴とする、アブラティブ光分解性重合
体。 - 【請求項２】単量体単位がアクリル酸及びその誘導体で
あることを特徴とする請求項１に記載のアブラティブ光
分解性重合体。 - 【請求項３】光吸収剤が１−（ジメチルアミノ）−ピレ
ンであることを特徴とする請求項１に記載のアブラティ
ブ光分解性重合体。 - 【請求項４】光吸収剤が７−（ジメチルアミノ）−４−
メチルクマリンであることを特徴とする請求項１に記載
のアブラティブ光分解性重合体。 - 【請求項５】前記アブラティブ光分解性重合体は紫外線
の波長でアブレーションすることを特徴とする請求項１
に記載のアブラティブ光分解性重合体。 - 【請求項６】単量体単位が、メタクリル酸メチルであ
り、光吸収剤が４［（２−ヒドロキシエチル）エチルア
ミノ］−４'−（ニトロフェニル）アゾベンゼンである
ことを特徴とする請求項２に記載のアブラティブ光分解
性重合体。 - 【請求項７】単量体単位が、メタアクリル酸メチルであ
り、光吸収剤がピレンであることを特徴とする請求項２
に記載のアブラティブ光分解性重合体。 - 【請求項８】単量体単位が、メタアクリル酸メチルであ
り、光吸収剤が７−ヒドロキシ−４−メチル−２Ｈ−１
−ベンゾピレン−２−オンであることを特徴とする請求
項２に記載のアブラティブ光分解性重合体。 - 【請求項９】単量体単位が、メタアクリル酸メチルであ
り、光吸収剤が４−［（２−ヒドロキシエチル）エチル
アミノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォニル）
トランであることを特徴とする請求項１に記載のアブラ
ティブ光分解性重合体。 - 【請求項１０】光吸収剤が第三アミン官能基を有し、前
記アクリル重合体にイオン結合していることを特徴とす
る請求項１に記載のアブラティブ光分解性重合体。 - 【請求項１１】（ａ）重合体に共有結合またはイオン結
合した光吸収剤を有する重合体からなるアブラティブ除
去可能な重合体で基板をコーティングし、 （ｂ）重合体コーティングをアブラティブ光分解して、
所望のパターンを形成する工程からなる、 有機基板上に金属パターンを形成する方法。 - 【請求項１２】アブラティブ除去可能な重合体が、アク
リル酸及びその誘導体が重合した単位からなり、光吸収
剤が重合体に共有結合していることを特徴とする、請求
項１１に記載の方法。 - 【請求項１３】重合体がポリメチルメタクリレートであ
り、光吸収剤が重合体に共有結合していることを特徴と
する、請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１４】アブラティブ光分解が、エキシマ・レー
ザにより行われることを特徴とする、請求項１１に記載
の方法。 - 【請求項１５】前記エキシマ・レーザの波長が３０８ｎ
ｍであり、そのフルーエンスが２００ｍＪ／ｃｍ2であ
ることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。 - 【請求項１６】化合物４−［（２−ヒドロキシエチル）
エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォ
ニル）トラン。 - 【請求項１７】ａ．まず（２−ヒドロキシエチル）エチ
ルアニリンを生成し、 ｂ．（２−ヒドロキシエチル）エチルアニリンをヨウ素
化して、４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミ
ノ］ヨードベンゼンを生成し、 ｃ．４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］ヨ
ードベンゼンにトリメチルシリル基を付加して、４−
［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルアミノ］ヨ
ードベンゼンを生成し、 ｄ．４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルア
ミノ］ヨードベンゼンのヨード基をトリメチルシリルエ
チニル基で置換して、４−［（２−トリメチルシロキシ
エチル）エチルアミノ］トリメチルシリルエチニルベン
ゼンを生成し、 ｅ．４−［（２−トリメチルシロキシエチル）エチルア
ミノ］トリメチルシリルエチニルベンゼンのトリメチル
シリル基を除去して４−［（２−ヒドロキシエチル）エ
チルアミノ］エチニルベンゼンを生成し、 ｆ．４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］エ
チニルベンゼンに４−トリフルオロメチルスルフォニル
ベンゼンを付加して、４−［（２−ヒドロキシエチル）
エチルアミノ］−４'−（トリフルオロメチルスルフォ
ニル）トランを生成する工程からなる、 ４−［（２−ヒドロキシエチル）エチルアミノ］−４'
−（トリフルオロメチルスルフォニル）トランの製法。 - 【請求項１８】請求項１に記載のアブラティブ光分解性
組成物でコーティングした基板。
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