JPH08316458A - モノリシック半導体コンポーネント - Google Patents

モノリシック半導体コンポーネント

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JPH08316458A
JPH08316458A JP8123454A JP12345496A JPH08316458A JP H08316458 A JPH08316458 A JP H08316458A JP 8123454 A JP8123454 A JP 8123454A JP 12345496 A JP12345496 A JP 12345496A JP H08316458 A JPH08316458 A JP H08316458A
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gate
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スイッチ機能および供給機能を有する装置を
提供する。 【解決手段】 モノリシック半導体コンポーネントは、
ゲート、アノード、およびカソードを有する第1のサイ
リスタ(Th1)を有する。ゲートは、第1の抵抗器
(RZ)を通ってカソードに、ツェナーダイオード
(Z)および第2のサイリスタ(Th2)の直列接続を
通ってアノードに接続される。サイリスタは縦型であ
り、ツェナーダイオード(Z)は横型である。ツェナー
ダイオード(Z)のカソードは、出力端子を形成するメ
タライゼーション(30)を通って第2のサイリスタ
(Th2)のカソードに接続される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】本発明は固体スイッチに関し、より特定
的には動作が集積回路によって制御可能な固体スイッチ
に関する。
【0002】
【関連技術】制御可能なスイッチは、回路において電流
が調整されることとなる負荷と直列に接続するよう設計
されているだろう。そのような配列の実際的な問題は、
制御集積回路が特定低電圧供給(いくつかの例では5か
ら15ボルト)を与えられなければならないことであ
る。このため、集積回路のために各々がスイッチおよび
電源を含む装置を形成することが所望されるだろう。こ
のことは、これらのスイッチおよびそれらの制御集積回
路の取付を大いに簡単にする。
【0003】図1は、スイッチング装置1と直列に配置
される負荷Lに電源を供給する電圧源Sを含む回路を例
示する。スイッチング装置1は集積回路ICによって制
御され、端子A1とA2との間に接続されるスイッチS
Wならびに集積回路に電源を供給するための出力端子2
および3を含む。このような配列から生じる特定の問題
は、スイッチSWが入れられたとき、スイッチSWの端
子の間の電圧が低いかまたは0であり、このため端子2
および3にかかる電圧が低すぎて集積回路ICに電力を
提供できないかもしれないことである。この欠点を避け
るために、端子2と3との間に蓄積キャパシタを接続す
ることが案出されている。
【0004】このような装置は十分に作動するが、スイ
ッチSWを長くつけたままにしておくために、高い値の
キャパシタCを必要とする。実際に、もし供給源Sがコ
ンセントの交流電圧または整流されたコンセントからの
電圧に対応するならば、コンセントからの電圧のいくら
かの期間中、スイッチの制御がそれを閉じる場合を考慮
に入れなければならない。
【0005】この問題を解決するために、スイッチは、
スイッチを入れる命令がスイッチに送られたとき、スイ
ッチにかかる電圧が所望されるスレッショルド供給電圧
に達していない限りこの命令が禁止されるように設計さ
れた低電圧の供給回路に関連づけられてきた。このた
め、蓄積キャパシタは、印加された電圧の各半周期の始
めで再び充電され得、したがって小サイズのキャパシタ
でよい。
【0006】このような回路は、フランス特許第222
2801号に開示されている。しかし、このような回路
の実施は多数のコンポーネントの使用および接続を示唆
する。
【0007】
【発明の概要】本発明の目的は、スイッチ機能および供
給機能を有する装置であってモノリシック半導体コンポ
ーネントの形で達成され得るものを提供することであ
る。
【0008】この目的を達成するために、本発明の実施
例は、ゲート、アノードおよびカソードを有する第1の
サイリスタを含み、ゲートが第1の抵抗器を通ってカソ
ードに、かつツェナーダイオードおよび第2のサイリス
タの直列接続を通ってアノードに接続されている、モノ
リシック半導体コンポーネントを提供する。サイリスタ
は縦型であり、ツェナーダイオードは横型であり、ツェ
ナーダイオードのカソードは出力端子を形成するメタラ
イゼーションを通って第2のサイリスタのカソードに接
続される。
【0009】発明の実施例によれば、ツェナーダイオー
ドは第1のトランジスタのゲートウェルに形成されてい
る。
【0010】発明の実施例によれば、メタライゼーショ
ンと第1のサイリスタのゲートウェルとの間にコンタク
トが形成されており、それにより、抵抗器は並列に形成
される。
【0011】発明の実施例によれば、ダイオードはコン
ポーネントの上表面のウェルに形成されており、ツェナ
ーダイオードおよび第2のサイリスタの接合点と前記出
力端子との間に接続されている。
【0012】発明の実施例によれば、横型の第3のサイ
リスタは、第1のサイリスタのカソードゲートウェルに
形成されたカソードを有し、ツェナーダイオードのカソ
ードは第3のサイリスタのアノードに接続され、ツェナ
ーダイオードのアノードは、第3のサイリスタのゲート
に接続されている。
【0013】発明の実施例によれば、第1のサイリスタ
に相補的な縦型の第4のサイリスタは、それとともにト
ライアックを形成する。
【0014】
【詳細な説明】図2は、図1の装置1の機能を確実にす
る回路の例を表わす。この回路は、図1に示されるよう
に、端子A1およびA2によって、負荷および供給源の
端子に接続されるように設計されている。説明を簡単に
するために、端子A2は接地端子であると仮定する。
【0015】スイッチSWは主サイリスタTh1に対応
する。サイリスタTh1のゲートは抵抗器RGを通って
サイリスタTh1のカソードに接続される。サイリスタ
Th1のゲートは、ツェナーダイオードZのアノードに
さらに接続され、ダイオードZのカソードは補助サイリ
スタTh2のカソードに接続される。サイリスタTh2
のアノードは、サイリスタTh1のアノードに接続され
る。サイリスタTh2とツェナーダイオードZの接合点
は図1の端子2に対応する。端子A2または接地端子
は、図1の端子3に対応する。たとえば、集積回路IC
に供給し得る供給電圧は、これらの端子2と端子3との
間で使用可能である。蓄積キャパシタC1は端子2と端
子3との間に配置される。サイリスタTh2のゲート端
子Gは、端子2と端子3を通って与えられる集積回路か
らの制御信号を受けるように設計されている。たとえば
押ボタンスイッチ16と直列の抵抗器15によって構成
されるトリガ回路14が、ゲートとサイリスタTh2の
アノードとの間に設けられる。
【0016】負荷Lにおいて電流の調整制御を起動する
ことが所望されるとき、押ボタン16を押す。これはサ
イリスタTh2を導通させる。導通の第1の期間中、キ
ャパシタC1にかかる電圧がツェナーダイオードZのス
レッショルド電圧に到達するまで、サイリスタTh2は
キャパシタC1を充電する。したがって、キャパシタC
1は、サイリスタのゲート端子Gで制御信号を提供する
集積回路ICに供給するよう十分に充電される。それか
ら押ボタン16は解放され、その制御集積回路ICによ
って統制されたモードでシステムが動作することを可能
にする。ゲート信号がサイリスタTh2に与えられるた
びに、第1の期間中、キャパシタC1は再び充電され、
その後、サイリスタTh1のゲートを電流が流れ、これ
が導通する。
【0017】図4は定常状態におけるこの回路の動作を
例示する。電源Sは、コンセント(たとえば、ピーク電
圧が約300Vであるコンセント)の整流された電圧に
対応すると仮定される。もし、時間t1において、制御
信号が端子Gに与えられると、サイリスタTh2は導通
し、第1の期間中、時間t1とt2との間でキャパシタ
が充電される。キャパシタC1にかかる電圧がツェナー
ダイオードZのアバランシェ電圧VZに到達すると、サ
イリスタTh1は導通する。これは半周期ごとに起こ
る。整流していない交流供給源の場合にも類似の現象が
起こるだろう。すなわち、この場合においては、正の半
周期中にのみ制御が起こるだろう。
【0018】事実上、時間間隔t1−t2は典型的に非
常に短い。これは、上述されたように、供給信号のピー
ク電圧が普通の応用において約300Vであるのに対
し、電圧VZが約10Vであるためである。
【0019】本発明の実施例は、少なくともコンポーネ
ントTh2、Z、RGおよびTh1については図2の回
路をN型の半導体基板21からモノリシックの形で実現
することを目的とする。
【0020】図3はそのような実現例を示す。コンポー
ネントの底面は、サイリスタTh1およびTh2のアノ
ードに対応する底面のメタライゼーションAで被覆され
たP型の層23を含む。サイリスタTh1は縦に配置さ
れ、上表面から、エミック短絡を有するカソード層24
を含み、これはP型のウェル25に形成されており、さ
らにこれは基板21に形成されている。ウェル25の一
部分に、N型の領域26が形成されており、これは、ウ
ェル25とともに、ダイオードZに対応するツェナー接
合点を形成する。N型の領域29を含む第2のP型のウ
ェル28は縦のサイリスタTh2を形成する。サイリス
タTh2は領域29、28、21、および23を含む。
サイリスタTh2のカソード29はメタライゼーション
30を通ってツェナーダイオードZのカソード26に接
続される。
【0021】メタライゼーション30は図2の供給端子
2に対応する。ウェル28はゲートメタライゼーション
Gで被覆されている。抵抗器RGはカソード層24の下
にある領域25の抵抗によって形成される。
【0022】図3は、半導体コンポーネントの断面図を
表わすすべての添付された図と同様に、半導体コンポー
ネントを表わす分野においてよくある通り、非常に概略
的であることが注目されるだろう。
【0023】当業者は、さまざまな層および領域の、面
および配置を調整してコンポーネントの特徴ならびに、
より特定的には、起こり得る電流およびツェナー電圧を
最も効果的にすることができるだろう。
【0024】当業者に明らかなように、図2の回路およ
びそのモノリシック実現例にはさまざまな修正がなされ
得、いくつかの変形が以下に述べられる。
【0025】この回路の第1の変形は図5に描かれ、モ
ノリシックコンポーネントの形をとったその実現例が図
6に例示される。
【0026】図5は起動回路14以外は図2と同じであ
る要素を表わす。さらに、図5の回路はダイオードDお
よび抵抗器RZを含む。ダイオードDはツェナーダイオ
ードZおよびサイリスタTh1の接合点と端子2との間
に配置される。抵抗器RZはツェナーダイオード(Z)
と並列に配置される。この構成は、端子A2の接地に対
してゲートGの制御電圧が普通の値の範囲内であり、一
方図2の回路の場合には普通の値よりVZだけこの電圧
が高くなければならない点で先の構成より有益であるか
もしれない。図2の回路において、集積回路ICの供給
電圧がツェナーダイオードZの電圧に厳密に対応するよ
うに、信号Gを生成する集積回路ICに電圧ブースタを
設けてもよい。
【0027】図5の回路のモノリシック実現例は図6に
例示される。このモノリシックコンポーネントは図3に
示されたのと同じコンポーネントと、N型の領域32を
有する追加的なP型のウェル31を含む。ウェル31は
メタライゼーションによって被覆されこれは図2に描か
れたメタライゼーション30に接続される。すなわち、
これらのメタライゼーションはもはや外部端子に接続さ
れていない。領域32はメタライゼーションで被覆さ
れ、これはキャパシタC1に接続されるよう設計された
端子2に接続される。領域31と32との間の接合点は
ダイオードDを形成する。さらに、領域26に近いメタ
ライゼーション30は領域26およびP型のウェル25
の一部の両方に接触してダイオードZと並列に抵抗器R
Zを形成する。
【0028】図2の回路の第2の代案が図7に例示され
る。図7において図5の抵抗器RZはアノードがツェナ
ーダイオードZのカソードに接続され、カソードが抵抗
器RZに接続され、ゲートがダイオードDのアノードに
接続されているサイリスタTh3によって置換えられて
いる。さらに、抵抗器RG3はゲートとサイリスタTh
3との間に配置される。この配列は、サイリスタTh1
のためのゲート電流増幅システムを構成し、スプリアス
のトリガに少ししか感知せず、高電流が流れ得るサイリ
スタTh1の使用を可能にする。
【0029】図8は図7の回路を実現する構成を表わ
す。図8の右部分は、領域24、25、21、および2
3によって形成された縦のサイリスタTh1を表わす。
サイリスタTh3は横に配置されている。サイリスタT
h3のカソードは、サイリスタTh3のゲート領域を形
成するウェル25に形成されたN型の領域41によって
構成される。サイリスタTh3のアノードは、ウェル2
5の近くに形成されたP型の領域44によって構成され
る。サイリスタTh3は、そのアノードからそのカソー
ドまでに領域44、21、25および41を含む。カソ
ード領域41はメタライゼーション42によって被覆さ
れ、これはまた、ウェル25の表面の一部分に接触し、
サイリスタTh3のカソードとサイリスタTh1のゲー
トとの間の接合点を形成する。サイリスタTh3のゲー
トもまた形成するウェル25の一部分は、メタライゼー
ション43によって被覆されこれはツェナーダイオード
Zのアノードを形成するウェル46の上部表面に形成さ
れるメタライゼーション45に結合される。拡散領域4
7はツェナーダイオードZのカソードを形成し、ウェル
28に形成されるN型の領域29に、メタライゼーショ
ン48を通って接続され、これはそれぞれ縦のサイリス
タTh2のカソードおよびゲート領域に対応する。ゲー
トメタライゼーションGはウェル28の部分に接触す
る。図8の左部分は再び、図5および図6のダイオード
Dに対応するN型の領域32およびウェル31を表わ
す。ダイオードDのカソード32はメタライゼーション
によって被覆され端子2に接続される。ダイオードのア
ノードは上述されたメタライゼーション48に結合され
たメタライゼーションと接触する。
【0030】図5および図7の実施例は、ダイオードD
と並列に抵抗器を提供することによって組合せられる。
これは、図6において、メタライゼーション30とウェ
ル25の一部分との間のコンタクトが提供されているの
と同じやり方で、メタライゼーション48とウェル46
の部分との間にコンタクトを提供することによって、図
8の構成を修正することになる。
【0031】図2の回路の第4の代案(これは起動回路
14を含まない)が、図9に示され、ここではサイリス
タTh1がトライアックTR1に置換えられている。ト
ライアックTR1のゲートは、負の半周期の間トライア
ックを導通させる制御集積回路に接続されるよう設計さ
れた端子4にさらに接続される。
【0032】図10はこの回路の実現例を表わす。図1
0の右部分は、図3と同じ層、ウェル、および領域を表
わす。さらに、P型のウェル51が基板の上部に形成さ
れ、下表面側には、ウェル51および少なくともゲート
領域28の一部分の下に、短絡の穴を有するN型の領域
52が形成される。領域51、21、23、および52
はこのようにトライアックの第2のサイリスタを形成す
る。ウェル51を被覆するメタライゼーションは、領域
26に接続し、上方にKと表示されている主トライアッ
ク電極を形成するメタライゼーションに接続される。メ
タライゼーション55はウェル25の高度にドープされ
たP型の領域56に接触し、ゲート端子4を形成するよ
う設計されている。
【0033】もちろん、図5および図6ならびに図7お
よび図8に関係して述べられたさまざまな改善および代
案がこの構成になされ得る。
【0034】図10がP型のウェル58によって囲まれ
たトライアックを表わすことに留意すべきである。これ
は、図3、図6および図8に概略的に例示されたコンポ
ーネントにもまた適用できる構成の実際的な例である。
【0035】したがって、本発明の少なくとも1つの例
示的な実施例を説明したが、さまざまな代替、修正およ
び改善が当業者には容易に生ずるであろう。このような
代替、修正および改善は、本発明の精神および範囲内に
意図されるものである。したがって、前述の説明は例と
してされるだけであり、限定を意図するものではない。
本発明は前掲の請求の範囲およびその均等物において規
定されるように限定されるだけである。
【図面の簡単な説明】
【図1】先行技術に従ったスイッチおよび供給装置を含
む回路を表わす図である。
【図2】スイッチおよび供給装置を表わす図である。
【図3】本発明の実施例に従った図2の回路のモノリシ
ックの実現例を表わす図である。
【図4】図2の回路の動作を例示する時間の関数として
の電圧の曲線を表わす図である。
【図5】スイッチおよび供給装置の回路の別の例を表わ
す図である。
【図6】本発明に従った図5の回路のモノリシックの実
現例を表わす図である。
【図7】スイッチおよび供給装置の回路のさらに別の例
を表わす図である。
【図8】本発明に従った図7の回路のモノリシックの実
現例を表わす図である。
【図9】スイッチおよび供給装置の回路のさらに別のも
う1つの例を表わす図である。
【図10】本発明に従った図9の回路のモノリシックの
実施を表わす図である。
【符号の説明】
Th1 第1のサイリスタ RZ 第1の抵抗器 Th2 第2のサイリスタ Z ツェナーダイオード 30 メタライゼーション

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 モノリシック半導体コンポーネントであ
    って、ゲート、アノード、およびカソードを有する第1
    のサイリスタ(Th1)を含み、前記ゲートは第1の抵
    抗器(RG)を通って前記カソードに、かつツェナーダ
    イオード(Z)および第2のサイリスタ(Th2)の直
    列接続を通って前記アノードに接続され、 前記サイリスタ(Th1、Th2)は、縦型であり、前
    記ツェナーダイオード(Z)は横型であり、前記ツェナ
    ーダイオードのカソードは、出力端子を形成するメタラ
    イゼーション(30)を通って前記第2のサイリスタの
    カソードに接続される、モノリシック半導体コンポーネ
    ント。
  2. 【請求項2】 前記ツェナーダイオードが第1のトラン
    ジスタのゲートウェルに形成される、請求項1に記載の
    コンポーネント。
  3. 【請求項3】 前記メタライゼーション(30)と前記
    第1のサイリスタとの間にコンタクトをさらに含み、そ
    れによって抵抗器(RZ)が前記ツェナーダイオードと
    並列に形成される、請求項1に記載のコンポーネント。
  4. 【請求項4】 前記コンポーネントの上表面のウェルに
    形成され、かつ前記ツェナーダイオード(Z)および前
    記第2のサイリスタ(Th2)の接合点と前記出力端子
    (2)との間に接続されるダイオードをさらに含む、請
    求項1に記載のコンポーネント。
  5. 【請求項5】 前記第1のサイリスタのカソードゲート
    ウェルに形成されたカソード(41)を有する横型の第
    3のサイリスタ(Th3)をさらに含み、前記ツェナー
    ダイオード(Z)の前記カソードは前記第3のサイリス
    タのアノードに接続され、前記ツェナーダイオードのア
    ノードは前記第3のサイリスタのゲートに接続されてい
    る、請求項1に記載のコンポーネント。
  6. 【請求項6】 前記第1のサイリスタに相補的である縦
    型の第4のサイリスタ(51、21、23、52)をさ
    らに含み、それとともにトライアックを形成する、請求
    項1に記載のコンポーネント。
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