JPH08301974A

JPH08301974A - エポキシ樹脂の製造方法

Info

Publication number: JPH08301974A
Application number: JP10446495A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Hirano; 泰弘平野; Akira Yokota; 明横田; Masatsugu Akiba; 真継秋庭; Hiroshi Nakamura; 宏中村; Shigeki Naito; 茂樹内藤
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1995-04-27
Filing date: 1995-04-27
Publication date: 1996-11-19

Abstract

(57)【要約】【目的】工程数が短く、生産性、経済性に優れ、加水分
解性塩素が少なく、信頼性の高い半導体封止装置を与え
るスチルベン系エポキシ樹脂の製造方法を提供するこ
と。【構成】一般式（１）【化１】（ここで、Ｒ₁〜Ｒ₈、Ｘ₁、Ｘ₂はそれぞれ独立に炭
素数１〜６の鎖状または環状アルキル基、水素原子また
はハロゲン原子を示す。）で表される1,1-ビス（ヒドロ
キシフェニル）-2-クロロエタン誘導体に、塩基性物質
の存在下エピハロヒドリンを反応させ、一般式（２）【化２】（ここでＲ₁〜Ｒ₈、Ｘ₁、Ｘ₂の定義は一般式（１）
の場合と同じ。）で示されるエポキシ樹脂を得ることを
特徴とするスチルベン系エポキシ樹脂の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、接着、塗料、絶縁材料
や積層板等の電気電子材料、特に、電子部品の封止用と
して有用なエポキシ樹脂の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】エポキシ樹脂の原料となるスチルベン型
ビスフェノール化合物については報告例があり、4,4'-
ジヒドロキシスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジ
メチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'- テ
トラメチルスチルベン等の化合物の製法と物性が開示さ
れている（von Rolf H.Sieber,Liebigs Ann.Chem.730,3
1-46(1969)）。この文献では、フェノール類とクロロア
セトアルデヒドとを反応させ、得られた1,1-ビス（ヒド
ロキシフェニル）-2- クロロエタン誘導体をナトリウム
アルコキシドの存在下に転位反応を行うことにより、対
応するジヒドロキシスチルベン誘導体が得られるとの記
載がある。また、4,4'- ジヒドロキシ−α−メチルスチ
ルベンについてはMETHODEN DER ORGANISCHEN CHEMIE
（HOUBEN-WEYL ）BAND ＩＶ／１c Phenol Teil 2 P103
4 に、フェノールとクロロアセトンを出発原料とする製
法についての記載がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記製
法では比較的容易に純度の高いビスフェノールが得られ
る反面、縮合反応、転位反応の二段階を経由するため、
対応するエポキシ樹脂を得るためには合計三段階の反応
が必要となり、生産性や経済性の面で不利となる。ま
た、上記転位反応では脱塩酸反応が起こるが、この様に
容易に加水分解される塩素が存在する化合物には腐食性
がある。例えば、半導体封止用のエポキシ樹脂に上記の
様な塩素が残存すると回路の腐食が発生し、信頼性が低
下することになる。本発明の目的は、工程数が短く、生
産性、経済性に優れ、加水分解性塩素が少なく、信頼性
の高い半導体封止装置を与えるスチルベン系エポキシ樹
脂の製造方法を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】このような事情に鑑み本
発明者らは鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに
至った。すなわち、本発明は下記のエポキシ樹脂の製造
方法を提供するものである。［１］一般式（１）

【０００５】

【化３】（ここで、Ｒ₁〜Ｒ₈、Ｘ₁、Ｘ₂はそれぞれ独立に炭
素数１〜６の鎖状または環状アルキル基、水素原子また
はハロゲン原子を示す。）で表される1,1-ビス（ヒドロ
キシフェニル）-2-クロロエタン誘導体に、塩基性物質
の存在下エピハロヒドリンを反応させ、一般式（２）

【０００６】

【化４】（ここでＲ₁〜Ｒ₈、Ｘ₁、Ｘ₂の定義は一般式（１）
の場合と同じ。）で示されるエポキシ樹脂を得ることを
特徴とするスチルベン系エポキシ樹脂の製造方法。

【０００７】［２］塩基性物質がアルカリ金属水酸化物
であり、エピハロヒドリンがエピクロルヒドリンである
上記１記載のエポキシ樹脂の製造方法。

【０００８】［３］一般式（１）および（２）におい
て、Ｘ₁およびＸ₂が水素原子である［１］または
［２］記載のエポキシ樹脂の製造方法。

【０００９】前記一般式（１）および（２）において置
換基Ｒ₁〜Ｒ₈、Ｘ₁、Ｘ₂を具体的に例示すると、そ
れぞれメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ア
ミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基（各異性体を含
む）、塩素原子および臭素原子等があげられる。中でも
製品の溶融粘度の低さや原料の入手の容易さからメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。

【００１０】本発明方法で得られる一般式（２）で表さ
れるエポキシ樹脂の具体例としては、4,4'- ジヒドロキ
シ- α- メチルスチルベン、4,4'- ジヒドロキシ-3,3'-
ジメチルスチルベン、3,3'- ジエチル-4,4'-ジヒドロキ
シスチルベン、4,4'- ジヒドロキシ-3,3'-ジプロピルス
チルベン、3,3'- ジアミル-4,4'-ジヒドロキシスチルベ
ン、3,3'- ジヘキシル-4,4'-ジヒドロキシスチルベン、
3,3'- ジシクロヘキシル-4,4'-ジヒドロキシスチルベ
ン、2,2'- ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラメチルスチ
ルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラメチルス
チルベン、4,4'- ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t- ブチルスチ
ルベン、4,4'- ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t- ブチル-5,5'-
ジメチルスチルベン、4,4'- ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t-
ブチル-6,6'-ジメチルスチルベン、2,2'- ジヒドロキシ
-3,3'-ジ-t- ブチル-6,6'-ジメチルスチルベン、2,4'-
ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t- ブチル-6,6'-ジメチルスチル
ベン、4,4'- ジヒドロキシ-3,3',5,5'- テトラ-t- ブチ
ルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-3'-メチ
ルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-5,3'-ジ
メチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-3',
6-ジメチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ
-5- エチル-3'-メチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジ
ヒドロキシ-3'-メチル-5- プロピルスチルベン、3-t-ブ
チル-4,4'-ジヒドロキシ-5- ブチル-3'-メチルスチルベ
ン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-5- アミル-3'-メチ
ルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-5- ヘキ
シル-3'-メチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロ
キシ-5- シクロヘキシル-3'-メチルスチルベン、3-t-ブ
チル-4,4'-ジヒドロキシ-3',5,5'-トリメチルスチルベ
ン、3-t-ブチル-2,4'-ジヒドロキシ-3',5',6- トリメチ
ルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-3',5',6
- トリメチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキ
シ-3',5 - ジメチル-5'-プロピルスチルベン、3-t-ブチ
ル-4,4'-ジヒドロキシ-3',6 - ジメチル-5'-プロピルス
チルベン等のグリシジルエーテル類が例示できるが、合
成の容易さ、性能、原料の価格の面から2,2'- ジヒドロ
キシ-3,3',5,5'- テトラメチルスチルベン、4,4'- ジヒ
ドロキシ-3,3',5,5'- テトラメチルスチルベン、4,4'-
ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t- ブチル-5,5'-ジメチルスチル
ベン、4,4'- ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t- ブチル-6,6'-ジ
メチルスチルベン、2,2'- ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t- ブ
チル-6,6'-ジメチルスチルベン、2,4'- ジヒドロキシ-
3,3'-ジ-t- ブチル-6,6'-ジメチルスチルベン、3-t-ブ
チル-4,4'-ジヒドロキシ-3',5,5'- トリメチルスチルベ
ン、3-t-ブチル-2,4'-ジヒドロキシ-3',5',6- トリメチ
ルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-3',5',6
- トリメチルスチルベン等のグリシジルエーテル類が特
に好ましい。

【００１１】本発明で用いる1,1-ビス（ヒドロキシフェ
ニル）-2-クロロエタン誘導体は、クロロアセトアルデ
ヒド類および／またはクロロアセトンとフェノール類を
反応させることによって得ることができる。クロロアセ
トアルデヒド類としては、クロロアセトアルデヒド、ク
ロロアセトアルデヒド水溶液、クロロアセトアルデヒド
のアセタール類、クロロアセトアルデヒドのトリオキサ
ン型三量体等が例示される。本発明ではクロロアセトア
ルデヒド類および／またはクロロアセトンの一種もしく
は二種以上を使用できる。使用する量は使用するフェノ
ール類の合計モル量を１として０．８〜１．４倍モル、
好ましくは等量配合で行う。この範囲より少ないと未反
応フェノール類が製品に残存し易く、この範囲を超える
と、製品が高分子量化し易い。

【００１２】本発明で用いられるフェノール類としては
下記のものが具体例として例示できる。フェノール、ク
レゾール、キシレノール、トリメチルフェノール、テト
ラメチルフェノール、メチルエチルフェノール、メチル
プロピルフェノール、メチルイソブチルフェノール、メ
チルヘキシルフェノール、メチルシクロヘキシルフェノ
ール等（各異性体を含む）、3-メチル-6-t- ブチルフェ
ノール、2-メチル-6-t- ブチルフェノール、2-t-ブチル
フェノール、2-エチル-6-t- ブチルフェノール、2-プロ
ピル-6-t- ブチルフェノール、2,6-ジ-t- ブチルフェノ
ール、2-イソブチル-6-t- ブチルフェノール、2-アミル
-6-t- ブチルフェノール、2-アミル-6-t- ブチルフェノ
ール、2-ヘキシル-6-t- ブチルフェノール、2-シクロヘ
キシル-6-t- ブチルフェノール等が例示できるが、最終
生成物の融点や入手のし易さ、価格の面からキシレノー
ル、3-メチル-6-t- ブチルフェノール、2-メチル-6-t-
ブチルフェノールが特に好ましい。これらのフェノール
類は一種あるいは二種以上を使用しても良い。

【００１３】クロロアセトアルデヒド類および／または
クロロアセトンと、フェノール類との反応は通常、酸性
物質の存在下に実施させるが、この様な物質としては、
発煙硫酸、濃硫酸、硫酸水溶液、濃塩酸、塩化水素ガ
ス、塩酸水溶液、トリフルオロスルホン酸等の無機酸、
p-トルエンスルホン酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、
トリフルオロ酢酸等の有機酸、ヘテロポリ酸、酸性イオ
ン交換樹脂等が例示できるが、濃硫酸が高純度の製品を
簡便に得られる点で好ましい。使用する量はクロロアセ
トアルデヒド類および／またはクロロアセトンに対して
０．１〜１０倍モル、好ましくは０．５〜２倍モルであ
る。この範囲より小さいと反応の進行が遅く、この範囲
を超えて使用しても一定以上の効果は得られない。

【００１４】反応溶媒としてはトルエン、キシレン等の
炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
メタノール、プロパノール等のアルコール類、ジメチル
スルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド等の非プロトン性極性溶媒、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール等のグリコール類、酢酸等の
酸性溶媒等が例示できるが、中でも酢酸が好ましい。こ
れらの溶媒は一種、もしくは二種以上が使用できる。

【００１５】溶媒の使用量は、フェノール類とクロロア
セトアルデヒド類および／またはクロロアセトンに対し
て０．１〜２０重量倍、好ましくは０．５〜１５重量倍
が好ましい。この範囲以下であると反応によって析出し
た結晶により撹拌が困難となり、この範囲を超えると、
反応一回当たりの製品得量が低下し、経済的に不利とな
る。

【００１６】反応は、フェノール類とクロロアセトアル
デヒド類および／またはクロロアセトンを溶媒に溶かし
ておいてから、酸性物質を滴下するか、フェノール類と
酸性物質を先に反応容器に仕込んでおいてから、クロロ
アセトアルデヒド類および／またはクロロアセトンを滴
下しても良い。滴下時間は通常０．５時間から１０時間
以内である。滴下後は３〜２４時間反応を行う。温度は
−３０〜６０℃、好ましくは−１０〜４０℃で行う。こ
の温度以下では反応の進行が遅く、この範囲を超えると
不純物の生成が顕著となる。反応後、析出した結晶を濾
別し、水洗を行なってから減圧下に乾燥を行うことで目
的物である1,1-ビス（ヒドロキシフェニル）-2- クロロ
エタン誘導体が得られる。

【００１７】1,1-ビス（ヒドロキシフェニル）-2-クロ
ロエタン誘導体の転位反応およびエポキシ化反応を同時
に行うことによりスチルベン系エポキシ樹脂を得ること
ができる。エポキシ化反応で使用されるエピハロヒドリ
ン類の具体例としてはエピクロルヒドリン、エピブロモ
ヒドリン等が例示されるが、入手の容易さ、価格からエ
ピクロルヒドリンが好ましい。

【００１８】これらの反応に使用される塩基性物質とし
ては、具体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ金属水酸化物等であるが、これらに限定され
るものではない。塩基性物質の使用量は、（フェノール
性水酸基１モルに対し等モル）＋（加水分解性塩素１モ
ルに対し等モル）程度が好ましい。具体的には1,1-ビス
（ヒドロキシフェニル）-2-クロロエタン誘導体には一
分子当たり二個の水酸基と一個の加水分解性塩素が存在
するから、1,1-ビス（ヒドロキシフェニル）-2- クロロ
エタン誘導体１モルに対し３モルの塩基性物質を用いる
ことが好ましい。塩基性物質の使用量が少ないと副成す
るゲル量が少なく製造上有利であるが、加水分解性塩素
が残存する。塩基性物質の使用量が多いとゲル量が増加
するので製造上不利となる。

【００１９】これらの反応に使用される溶媒としては、
ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラメチル尿素
等の非プロトン性極性溶媒、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等のエーテル類等であるが、これらに限定される
ものではない。これらの溶媒は、エピハロヒドリン１０
０重量部当たり５〜６０重量部が好ましい。使用量が５
部未満であると、本発明の効果が薄く、使用量が多いと
分子間反応が進行し、製品の品質が低下する。

【００２０】エピハリヒドリンの使用量はフェノール性
水酸基１モルに対して２．５〜２０モルが好ましく、よ
り好ましくは４〜１２モルである。この範囲より少ない
と分子間反応が進行し製品品質の劣化を招き、この範囲
を超えると反応一回当たりの製品量が減少するので工業
上不利となる。

【００２１】1,1-ビス（ヒドロキシフェニル）-2- クロ
ロエタン誘導体の転位反応およびエポキシ化反応は、該
誘導体をエピハロヒドリンと反応溶媒との混合溶液に溶
解または懸濁させ、撹拌混合しながら塩基性物質を加え
て行う。反応は通常減圧下で行う。反応温度は３０〜８
０℃に保持しつつ内容液を共沸させる。揮発分を凝縮せ
しめて、凝縮液は油−水分離し、油分を反応系に戻し、
脱水を行いながら反応を行う。塩基性物質の添加は、均
一に反応させるために２〜１０時間かけて少量づつ分割
添加または連続添加を行う。まとめて投入すると局所的
に反応が進み、ゲルが生成して好ましくない。反応終了
後はまず、蒸留により未反応のエピハロヒドリンと溶媒
を除去し、次にメチルイソブチルケトン等の水と分液可
能な溶媒で溶解し、不溶の無機塩を除去する。さらに水
洗して無機成分や残存極性溶媒を除去し、蒸留により溶
媒を除去してエポキシ化合物を得る。

【００２２】

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。例中、エポキシ当量と
は、エポキシ基１個あたりのエポキシ樹脂の分子量で定
義される。また、加水分解性塩素とは、エポキシ樹脂を
ジオキサンに溶解し、水酸化カリウムのアルコール溶液
を加え、還流状態で30分加熱したときに脱離する塩素イ
オンを硝酸銀水溶液で逆滴定し、該化合物中のｐｐｍで
表したものである。

【００２３】参考例１ 1,1-ビス（ヒドロキシフェニ
ル）-2- クロロエタン誘導体の合成−１温度計、撹拌
機、コンデンサーを備えた２リットル四ツ口フラスコに
２，６−キシレノール（以下２６ＸＹと略す。）２４
４．４ｇ（２．０ｍｏｌ）、４０．５％クロロアセトア
ルデヒド水溶液１９３．８ｇ（１．０ｍｏｌ）および酢
酸３７６ｇを仕込み、撹拌、溶解し、５℃まで冷却し
た。次に、濃硫酸１２２ｇ（１．２ｍｏｌ）を酢酸８４
ｇに混合した溶液を５℃にて３時間かけて滴下、その後
２５℃で６時間反応系を保温し、終夜室温で撹拌を続け
た。系の温度を５℃まで冷却し、析出した結晶を濾別し
た。結晶を５００ｇの水で６回洗浄し、その後４０℃に
て８時間真空乾燥し、無色結晶２６４ｇ（収率８６．６
％）を得た（ＸＹＣＥとする）。ゲルパーミエーション
クロマトグラフィー（以下ＧＰＣと略す。２５４ｎｍの
紫外線により検出）による純度は９８．３％、赤外吸収
スペクトルにより３５００cm^-1付近に水酸基による幅広
い吸収が確認された。また、質量分析スペクトルによ
り、分子量３０４のフラグメントが観察できた。

【００２４】参考例２スチルベン系ビスフェノールの
合成−１温度計、撹拌機、コンデンサーの付いたリットル四ツ口
フラスコにＸＹＣＥ２２５．６ｇとメタノール４５１．
２ｇを仕込み、窒素気流下、撹拌して溶解させた。４
８．３％苛性ソーダ水溶液９１．９ｇを、メタノールを
還流させながら１時間で滴下、同温度で３時間反応させ
た。反応後、高速液体クロマトグラフィー（以下ＬＣと
略す）で原料のＸＹＣＥは完全に消失していた。６０℃
まで冷却後、濃塩酸３７．５ｇを加えて中和し、メタノ
ールを留去した。続いて温水１０００ｇを加えて、析出
した結晶を濾取した。結晶を水洗後、８０℃で８時間真
空乾燥を行い黄色結晶１９２ｇ（９６．７％）を得た
（ＸＹＳＢとする）。ＧＰＣによる純度は９８．１％、
赤外吸収スペクトルにより３４００cm^-1付近に水酸基に
よる幅広い吸収が確認された。また、質量分析スペクト
ルにより、分子量２６８のフラグメントが観察できた。

【００２５】参考例３エポキシ樹脂の合成−１参考例２で得られた原料フェノール１００ｇを温度計、
撹拌機、滴下漏斗、分離管付きコンデンサーの付いた反
応容器に仕込、エピクロルヒドリン４８５．６ｇ、ジメ
チルスルホキシド２４２．８ｇに溶解した。反応系内を
４３ｔｏｒｒに保ちながら、温度４８℃で、４８．３％
苛性ソーダ６１．７１ｇを５時間で連続的に滴下した。
この間、温度は６２℃に保ちながら、共沸するエピク
ロルヒドリンと水を冷却液化し、有機層を反応系内に戻
しながら反応させた。反応終了後に、未反応エピクロル
ヒドリンを減圧濃縮により除去し、副生塩とグリシジル
エーテルをメチルイソブチルケトン８００ｇに溶解さ
せ、副生塩とジメチルスルホキシドを水洗により除去し
た。その後１６０℃、１０ｔｏｒｒにてメチルイソブチ
ルケトンを減圧留去し目的物を１２２．２ｇ（８６．２
％）得た（ＸＹＣＣ−Ｅとする）。ＧＰＣ（示差屈折率
計により検出）による純度は９３．５％、このものの融
点は１５１℃、エポキシ当量は１９８ｇ／ｅｑであっ
た。赤外吸収スペクトル測定の結果、フェノール性水酸
基による吸収は消失し、エポキシによる吸収１２４０、
９１５cm^-1の吸収を有することが確認された。また、加
水分解性塩素は１７０ｐｐｍであった。

【００２６】参考例４ 1,1-ビス（ヒドロキシフェニ
ル）-2- クロロエタン誘導体の合成−３参考例１の場合で２６ＸＹ２４４．４ｇ（２．０ｍｏ
ｌ）の代わりに２６ＸＹ１９５．５ｇ（１．６ｍｏｌ）
と３Ｍ６Ｂ６５．７ｇ（０．４ｍｏｌ）ｇを用いた他は
同様に操作を行い、淡紫結晶を２７１ｇ（８４．１％）
得た（ＸＭＣＥ−２０とする）。ＧＰＣ（２５４ｎｍの
紫外線により検出）による純度は９７．７％、赤外吸収
スペクトルにより３４５０と３５５０cm^-1付近に水酸基
による幅広い吸収が確認された。また、質量分析スペク
トルにより、分子量３４６、３０４のフラグメントが観
察できた。

【００２７】参考例５スチルベン系ビスフェノールの
合成−３参考例２の場合で、ＸＹＣＥの代わりに参考例４で得ら
れたＸＭＣＥ−２０を１４４．８ｇを用いて同様に実験
を行い、黄色結晶１２４ｇ（９６．６％）を得た（ＸＭ
ＳＢ−２０とする）。ＧＰＣ（２５４ｎｍの紫外線によ
り検出）による純度は９７．１％、赤外吸収スペクトル
により３４００cm^-1付近に水酸基による幅広い吸収が確
認された。また、質量分析スペクトルにより、分子量３
１０、２６８のフラグメントが観察できた。

【００２８】参考例６エポキシ樹脂の合成−３参考例３の場合でＸＹＳＢの代わりに参考例５で得られ
たＸＭＳＢ−２０を９９．７ｇ用いた他は同様に操作を
行い、目的物を１３１ｇ（９４％）得た（ＸＭＣＣ−２
０Ｅとする）。ＧＰＣ（示差屈折率計により検出）によ
る純度は９３．６％、２６ＸＹと３Ｍ６Ｂを分子中に持
つスチルベン系エポキシ化合物は３９．６％であった。
このものの融点は１１０〜１３０℃、エポキシ当量は２
０８ｇ／ｅｑであった。赤外吸収スペクトル測定の結
果、フェノール性水酸基による吸収は消失し、エポキシ
による吸収１２４０、９２０cm^-1の吸収を有することが
確認された。また、加水分解性塩素は１７０ｐｐｍであ
った。

【００２９】実施例１エポキシ樹脂の合成−５参考例１で得られたＸＹＣＥ７６．２ｇを温度計、撹拌
機、滴下漏斗、分離管付きコンデンサーの付いた反応容
器に仕込、エピクロルヒドリン６４７．５ｇ、ジメチル
スルホキシド３２３．８ｇに溶解した。反応系内を３８
ｔｏｒｒに保ちながら、温度４８℃で、４８．３％苛性
ソーダ６２．１１ｇを８時間で連続的に滴下した。この
間、温度は４８℃に保ちながら、共沸するエピクロルヒ
ドリンと水を冷却液化し、有機層を反応系内に戻しなが
ら反応させた。反応終了後に、未反応エピクロルヒドリ
ンを減圧濃縮により除去し、グリシジルエーテルをメチ
ルイソブチルケトン８００ｇに溶解させ、副生塩とジメ
チルスルホキシドを水洗により除去した。その後１６０
℃、１０ｔｏｒｒにてメチルイソブチルケトンを減圧留
去し目的物を１２２．２ｇ（８６．２％）得た（ＸＹＣ
Ｃ−Ｅとする）。ＧＰＣ（示差屈折率計により検出）に
よる純度は９３．８％、このものの融点は１５１℃、エ
ポキシ当量は１９８ｇ／ｅｑであった。赤外吸収スペク
トル測定の結果、フェノール性水酸基による吸収は消失
し、エポキシによる吸収１２４０、９１５cm^-1の吸収を
有することが確認された。また、加水分解性塩素は３５
０ｐｐｍであった。

【００３０】実施例２エポキシ樹脂の合成−６実施例１の場合でＸＹＣＥの代わりに参考例４で得られ
たＸＭＣＥ−２０を８０．８ｇ用いた他は同様に操作を
行い、目的物を９６．４ｇ（９７％）得た（ＸＭＣＣ−
２０Ｅとする）。ＧＰＣ（示差屈折率計により検出）に
よる純度は９３．２％、２６ＸＹと３Ｍ６Ｂを分子中に
持つスチルベン系エポキシ化合物は３９．５％であっ
た。このものの融点は１１０〜１３０℃、エポキシ当量
は２０８ｇ／ｅｑであった。赤外吸収スペクトル測定の
結果、フェノール性水酸基による吸収は消失し、エポキ
シによる吸収１２４０、９２０cm^-1の吸収を有すること
が確認された。また、加水分解性塩素は２８０ｐｐｍで
あった。

【００３１】

【発明の効果】本発明の製造法は工程数が短く、生産
性、経済性に優れ、産業上有用である。本発明の製造方
法によれば、加水分解性塩素を分子中に有する原料を用
いてエポキシ化するにもかかわらず、あらかじめ加水分
解性塩素を低減しておいてからエポキシ化した場合には
及ばないもののｐｐｍのオーダーまで加水分解性塩素を
低減することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者中村宏茨城県つくば市北原６住友化学工業株式会社内 (72)発明者内藤茂樹茨城県つくば市北原６住友化学工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（１）【化１】（ここで、Ｒ₁〜Ｒ₈、Ｘ₁、Ｘ₂はそれぞれ独立に炭
素数１〜６の鎖状または環状アルキル基、水素原子また
はハロゲン原子を示す。）で表される1,1-ビス（ヒドロ
キシフェニル）-2- クロロエタン誘導体に、塩基性物質
の存在下エピハロヒドリンを反応させ、一般式（２）
【化２】（ここで、Ｒ₁〜Ｒ₈、Ｘ₁、Ｘ₂の定義は一般式
（１）の場合と同じである。）で示されるエポキシ樹脂
を得ることを特徴とするスチルベン系エポキシ樹脂の製
造方法。
【請求項２】塩基性物質がアルカリ金属水酸化物であ
り、エピハロヒドリンがエピクロルヒドリンである請求
項１記載のエポキシ樹脂の製造方法。
【請求項３】一般式（１）および（２）において、Ｘ₁
およびＸ₂が水素原子である請求項１または２記載のエ
ポキシ樹脂の製造方法。