JPH08299929A - 超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置Info
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- JPH08299929A JPH08299929A JP7107292A JP10729295A JPH08299929A JP H08299929 A JPH08299929 A JP H08299929A JP 7107292 A JP7107292 A JP 7107292A JP 10729295 A JP10729295 A JP 10729295A JP H08299929 A JPH08299929 A JP H08299929A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板を再汚染することなく、凹凸のある基板
でも良好に洗浄できる超音波洗浄装置を提供することを
目的とする。 【構成】 ガス噴射ノズル１９1，１９2から噴射される
ガスが、洗浄後の洗浄液が洗浄ノズル１２の方向に飛び
跳ね、洗浄ノズル１２に付着して、後に基板２０の上に
落下し、基板を再汚染するのを防止するとともに、噴出
される洗浄液を取り囲むので、洗浄ノズルの噴出口１８
と基板２０の間隔は大きくすることができ、凹凸のある
基板の洗浄にも対応することができる。
でも良好に洗浄できる超音波洗浄装置を提供することを
目的とする。 【構成】 ガス噴射ノズル１９1，１９2から噴射される
ガスが、洗浄後の洗浄液が洗浄ノズル１２の方向に飛び
跳ね、洗浄ノズル１２に付着して、後に基板２０の上に
落下し、基板を再汚染するのを防止するとともに、噴出
される洗浄液を取り囲むので、洗浄ノズルの噴出口１８
と基板２０の間隔は大きくすることができ、凹凸のある
基板の洗浄にも対応することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は噴出する純水等の洗浄液
と超音波とを協働させて被洗浄物を洗浄する超音波洗浄
装置に関する。
と超音波とを協働させて被洗浄物を洗浄する超音波洗浄
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４（ａ）は、この種の超音波洗浄機の
従来例を示す正面図、図４（ｂ）は図４（ａ）の側面
図、図５は図４で示された超音波洗浄機を実際に取り付
けて超音波洗浄装置として動作させているところを示し
ている図である。
従来例を示す正面図、図４（ｂ）は図４（ａ）の側面
図、図５は図４で示された超音波洗浄機を実際に取り付
けて超音波洗浄装置として動作させているところを示し
ている図である。
【０００３】この超音波洗浄機１１０は、金属薄板から
なる本体１１と、本体１１の上面を密閉する上面板１３
と、本体１１の底面の長手方向の中心線に沿って開けら
れたスリット状開口１７から下方に延ばされた金属薄板
からなる洗浄ノズル１２と、本体１１の中に洗浄液（例
えば、純水）を送り込むための洗浄液供給口１６と、本
体１１の洗浄液の中に超音波を出射するために上面板１
３に取り付けられた超音波振動子（不図示）と、超音波
振動子に振動子入力端１４1，１４2，１４3を介して超
音波信号を送る超音波信号ケーブル１５とから構成され
ている。
なる本体１１と、本体１１の上面を密閉する上面板１３
と、本体１１の底面の長手方向の中心線に沿って開けら
れたスリット状開口１７から下方に延ばされた金属薄板
からなる洗浄ノズル１２と、本体１１の中に洗浄液（例
えば、純水）を送り込むための洗浄液供給口１６と、本
体１１の洗浄液の中に超音波を出射するために上面板１
３に取り付けられた超音波振動子（不図示）と、超音波
振動子に振動子入力端１４1，１４2，１４3を介して超
音波信号を送る超音波信号ケーブル１５とから構成され
ている。
【０００４】超音波洗浄機１１０の実際の取り付けに関
しては、基板２０は搬送ローラ２１，２２，２３によっ
て矢印Ｈで示される方向に搬送され、超音波洗浄機１１
０は、その洗浄ノズル１２の先端の噴出開口１８が、搬
送されてくる基板２０の表面に対して平行に対面するよ
うに取り付けられている。この場合、洗浄液は、洗浄ノ
ズル１２の噴出開口１８から超音波とともに搬送されて
くる基板２０の表面に対して均一に当たって、基板２０
の表面を洗浄する。この場合、基板２０を洗浄し、汚れ
た洗浄液が洗浄ノズル１２の方向に飛び跳ねて洗浄ノズ
ル１２に着き、後に基板２０の上に落下し、基板２０を
再汚染してしまうことがある。
しては、基板２０は搬送ローラ２１，２２，２３によっ
て矢印Ｈで示される方向に搬送され、超音波洗浄機１１
０は、その洗浄ノズル１２の先端の噴出開口１８が、搬
送されてくる基板２０の表面に対して平行に対面するよ
うに取り付けられている。この場合、洗浄液は、洗浄ノ
ズル１２の噴出開口１８から超音波とともに搬送されて
くる基板２０の表面に対して均一に当たって、基板２０
の表面を洗浄する。この場合、基板２０を洗浄し、汚れ
た洗浄液が洗浄ノズル１２の方向に飛び跳ねて洗浄ノズ
ル１２に着き、後に基板２０の上に落下し、基板２０を
再汚染してしまうことがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の超音波
洗浄装置においては、基板を洗浄し、汚れた洗浄液が洗
浄ノズルの方向に飛び跳ねて洗浄ノズルに着き、後に基
板の上に落下し、基板を再汚染してしまうことがある。
このことを解決するためや、凹凸のある基板を洗浄する
ために、噴出開口１８を基板２０から離そうとすること
が考えられる。しかし、噴出開口１８と基板２０との間
隔は、その間隔に空気が介在すると、基板２０に照射さ
れる超音波が極端に減衰してしまうため、現状ではあま
り離すことができない（通常５ｍｍ以下にされてい
る）。
洗浄装置においては、基板を洗浄し、汚れた洗浄液が洗
浄ノズルの方向に飛び跳ねて洗浄ノズルに着き、後に基
板の上に落下し、基板を再汚染してしまうことがある。
このことを解決するためや、凹凸のある基板を洗浄する
ために、噴出開口１８を基板２０から離そうとすること
が考えられる。しかし、噴出開口１８と基板２０との間
隔は、その間隔に空気が介在すると、基板２０に照射さ
れる超音波が極端に減衰してしまうため、現状ではあま
り離すことができない（通常５ｍｍ以下にされてい
る）。
【０００６】そこで本発明は、基板を再汚染することな
く、凹凸のある基板でも良好に洗浄できる超音波洗浄機
および超音波洗浄装置を提供することを目的とする。
く、凹凸のある基板でも良好に洗浄できる超音波洗浄機
および超音波洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の超音波洗浄機
は、洗浄ノズルの噴出開口に対面する被洗浄物に対し、
前記洗浄ノズルの噴出開口から洗浄液を噴出するととも
に超音波を照射させ、前記被洗浄物を洗浄する超音波洗
浄機であって、前記洗浄ノズルの周囲に配置され、前記
噴出開口の噴出方向に沿って、前記噴出開口から噴出さ
れる洗浄液にガスを吹き付けるガス噴射ノズルを有す
る。
は、洗浄ノズルの噴出開口に対面する被洗浄物に対し、
前記洗浄ノズルの噴出開口から洗浄液を噴出するととも
に超音波を照射させ、前記被洗浄物を洗浄する超音波洗
浄機であって、前記洗浄ノズルの周囲に配置され、前記
噴出開口の噴出方向に沿って、前記噴出開口から噴出さ
れる洗浄液にガスを吹き付けるガス噴射ノズルを有す
る。
【０００８】前記洗浄ノズルの噴出開口がスリット状の
細長い形状をしており、前記ガス噴射ノズルの噴射開口
は、前記洗浄ノズルの噴出開口の長手方向に沿って、前
記洗浄ノズルの噴出開口の両側に配置され、窒素ガスを
噴射するようにされているのが好ましい。また、前記ガ
ス噴射ノズルは、側面の一部が前記洗浄ノズルの側面で
あるのも好ましい。
細長い形状をしており、前記ガス噴射ノズルの噴射開口
は、前記洗浄ノズルの噴出開口の長手方向に沿って、前
記洗浄ノズルの噴出開口の両側に配置され、窒素ガスを
噴射するようにされているのが好ましい。また、前記ガ
ス噴射ノズルは、側面の一部が前記洗浄ノズルの側面で
あるのも好ましい。
【０００９】本発明の超音波洗浄装置は、上述の超音波
洗浄機と、前記超音波洗浄機の洗浄ノズルの噴出開口
に、平行に基板を対面させるように、前記基板を搬送す
る基板搬送装置とからなる。
洗浄機と、前記超音波洗浄機の洗浄ノズルの噴出開口
に、平行に基板を対面させるように、前記基板を搬送す
る基板搬送装置とからなる。
【００１０】
【作用】ガス噴射ノズルから噴射されるガスが、洗浄後
の洗浄液が洗浄ノズル方向に飛び跳ね、洗浄ノズルに付
着して、後に基板の上に落下し、基板を再汚染するのを
防止するとともに、噴出される洗浄液を取り囲むので、
洗浄ノズルの噴出口と基板の間隔は大きくすることがで
きる。
の洗浄液が洗浄ノズル方向に飛び跳ね、洗浄ノズルに付
着して、後に基板の上に落下し、基板を再汚染するのを
防止するとともに、噴出される洗浄液を取り囲むので、
洗浄ノズルの噴出口と基板の間隔は大きくすることがで
きる。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１（ａ）は、本発明の超音波洗浄機の一
実施例を示す正面図、図１（ｂ）は図１（ａ）の側面
図、図２は図１（ａ），（ｂ）で示された超音波洗浄機
を実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させてい
るところを示す図である。
て説明する。図１（ａ）は、本発明の超音波洗浄機の一
実施例を示す正面図、図１（ｂ）は図１（ａ）の側面
図、図２は図１（ａ），（ｂ）で示された超音波洗浄機
を実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させてい
るところを示す図である。
【００１２】この超音波洗浄機１０は、薄平たく長手の
直方体形状をなし、金属薄板からなる本体１１と、本体
１１の上面を密閉する上面板１３と、本体１１の底面の
長手方向の中心線に沿って開けられたスリット状の開口
１７を囲い、スリット状開口１７が下方に延びるよう
に、スリット状開口１７から噴出開口１８まで延ばされ
た金属薄板からなる洗浄ノズル１２と、本体１１の中に
洗浄液（例えば、純水）を送り込むための洗浄液供給口
１６と、本体１１の洗浄液の中に超音波を出射するため
に上面板１３に取り付けられた超音波振動子（不図示）
と、超音波振動子に振動子入力端１４1，１４2，１４3
を介して超音波信号を送る超音波信号ケーブル１５と、
噴出開口１８にガス（例えば、窒素ガス）を吹き付ける
ガス噴射ノズル１９1，１９2とから構成されている。
直方体形状をなし、金属薄板からなる本体１１と、本体
１１の上面を密閉する上面板１３と、本体１１の底面の
長手方向の中心線に沿って開けられたスリット状の開口
１７を囲い、スリット状開口１７が下方に延びるよう
に、スリット状開口１７から噴出開口１８まで延ばされ
た金属薄板からなる洗浄ノズル１２と、本体１１の中に
洗浄液（例えば、純水）を送り込むための洗浄液供給口
１６と、本体１１の洗浄液の中に超音波を出射するため
に上面板１３に取り付けられた超音波振動子（不図示）
と、超音波振動子に振動子入力端１４1，１４2，１４3
を介して超音波信号を送る超音波信号ケーブル１５と、
噴出開口１８にガス（例えば、窒素ガス）を吹き付ける
ガス噴射ノズル１９1，１９2とから構成されている。
【００１３】超音波洗浄機１０は図２に示されるように
取り付けられ、超音波洗浄装置を構成するが、この場
合、ガス噴射ノズル１９1，１９2は、本体１１に固定さ
れていてもよいし、別途の手段で固定されていてもよ
い。基板２０（シリコンウェーハやＬＣＤ基板やその他
超音波洗浄を必要とするもの）は搬送ローラ２１，２
２，２３によって矢印Ｈで示される方向に搬送され、超
音波洗浄機１０の洗浄ノズル１２の先端の噴出開口１８
は、搬送されてくる基板２０の表面に対して平行に対面
するように取り付けられている。この場合、噴出開口１
８と基板２０との間隔は、その間隔に空気が介在する
と、基板２０に照射される超音波が極端に減衰してしま
うため、通常５ｍｍ以下にされている。洗浄液は洗浄ノ
ズル１２の噴出開口１８から超音波とともに、搬送され
てくる基板２０の表面に均一に当たって、基板２０の表
面を洗浄する。
取り付けられ、超音波洗浄装置を構成するが、この場
合、ガス噴射ノズル１９1，１９2は、本体１１に固定さ
れていてもよいし、別途の手段で固定されていてもよ
い。基板２０（シリコンウェーハやＬＣＤ基板やその他
超音波洗浄を必要とするもの）は搬送ローラ２１，２
２，２３によって矢印Ｈで示される方向に搬送され、超
音波洗浄機１０の洗浄ノズル１２の先端の噴出開口１８
は、搬送されてくる基板２０の表面に対して平行に対面
するように取り付けられている。この場合、噴出開口１
８と基板２０との間隔は、その間隔に空気が介在する
と、基板２０に照射される超音波が極端に減衰してしま
うため、通常５ｍｍ以下にされている。洗浄液は洗浄ノ
ズル１２の噴出開口１８から超音波とともに、搬送され
てくる基板２０の表面に均一に当たって、基板２０の表
面を洗浄する。
【００１４】この洗浄の際に、基板２０上に噴出され洗
浄に用いられた洗浄液が洗浄洗浄ノズル１２の方向に跳
ね返ろうとするが、ガス噴射ノズル１９1，１９2からは
ガスが噴射されているので、跳ね返りは阻止される。し
たがって、洗浄に用いられた汚れた洗浄液で基板２０が
再汚染されることがない。また、洗浄ノズル１２から噴
出される洗浄液の周囲にガスが噴出されていることによ
り、洗浄ノズル１２と基板２０との間に空気が入りにく
くなる。このことにより、有効に洗浄できる条件下で、
洗浄ノズル１２と基板２０との間隔を大きくすることが
できる。このように有効間隔を大きくできることによ
り、凹凸のある基板の場合にも、良好な洗浄を実行する
ことができる。
浄に用いられた洗浄液が洗浄洗浄ノズル１２の方向に跳
ね返ろうとするが、ガス噴射ノズル１９1，１９2からは
ガスが噴射されているので、跳ね返りは阻止される。し
たがって、洗浄に用いられた汚れた洗浄液で基板２０が
再汚染されることがない。また、洗浄ノズル１２から噴
出される洗浄液の周囲にガスが噴出されていることによ
り、洗浄ノズル１２と基板２０との間に空気が入りにく
くなる。このことにより、有効に洗浄できる条件下で、
洗浄ノズル１２と基板２０との間隔を大きくすることが
できる。このように有効間隔を大きくできることによ
り、凹凸のある基板の場合にも、良好な洗浄を実行する
ことができる。
【００１５】次に本発明の他の実施例について図３を参
照して説明する。この実施例におけるガス噴射ノズル１
９は、洗浄ノズル１２の外側を所定間隔を有しながら取
り巻く板材から構成されている。一体化した場合に、構
造が簡単になる。また、上述の実施例では、洗浄ノズル
およびガス噴射ノズルは、基板の上方のみに配置されて
いるが、場合によっては、基板の下側のみや、上下両方
に配置されていてもよい。
照して説明する。この実施例におけるガス噴射ノズル１
９は、洗浄ノズル１２の外側を所定間隔を有しながら取
り巻く板材から構成されている。一体化した場合に、構
造が簡単になる。また、上述の実施例では、洗浄ノズル
およびガス噴射ノズルは、基板の上方のみに配置されて
いるが、場合によっては、基板の下側のみや、上下両方
に配置されていてもよい。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、洗浄ノズ
ルの噴出口の周囲に適宜に、あるいは取り囲むように、
ガス噴射ノズルを配置し、洗浄液の噴出と同時にガスを
噴射させるので、噴射されるガスが、洗浄後の洗浄液が
飛び跳ねるのを防止するとともに、噴出される洗浄液を
取り囲み、洗浄ノズルの噴出口と基板との間隔を大きく
することを可能にさせる効果がある。
ルの噴出口の周囲に適宜に、あるいは取り囲むように、
ガス噴射ノズルを配置し、洗浄液の噴出と同時にガスを
噴射させるので、噴射されるガスが、洗浄後の洗浄液が
飛び跳ねるのを防止するとともに、噴出される洗浄液を
取り囲み、洗浄ノズルの噴出口と基板との間隔を大きく
することを可能にさせる効果がある。
【図１】（ａ）は、本発明の超音波洗浄機の一実施例を
示す正面図である。（ｂ）は、（ａ）の側面図である。
示す正面図である。（ｂ）は、（ａ）の側面図である。
【図２】図１（ａ），（ｂ）で示された超音波洗浄機を
実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させている
ところを示す図である。
実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させている
ところを示す図である。
【図３】本発明の他の実施例を示す図である。
【図４】（ａ）は、超音波洗浄機の従来例を示す正面図
である。（ｂ）は、（ａ）の側面図である。
である。（ｂ）は、（ａ）の側面図である。
【図５】図４で示された超音波洗浄機を実際に取り付け
て超音波洗浄装置として動作させているところを示して
いる図である。
て超音波洗浄装置として動作させているところを示して
いる図である。
１０ 超音波洗浄機 １１ 本体 １２ 洗浄ノズル １３ 上面板 １４1，１４2，１４3 振動子入力端 １５ 超音波信号入力ケーブル １６ 洗浄液供給口 １７ スリット状開口 １８ 噴出開口 １９，１９1，１９2 ガス噴射ノズル ２０ 基板 ２１，２２，２３ 搬送ローラ
Claims (4)
- 【請求項１】 洗浄ノズルの噴出開口に対面する被洗浄
物に対し、前記洗浄ノズルの噴出開口から洗浄液を噴出
するとともに超音波を照射させ、前記被洗浄物を洗浄す
る超音波洗浄機において、 前記洗浄ノズルの周囲に配置され、前記噴出開口の噴出
方向に沿って、前記噴出開口から噴出される洗浄液にガ
スを吹き付けるガス噴射ノズルを有することを特徴とす
る超音波洗浄機。 - 【請求項２】前記洗浄ノズルの噴出開口がスリット状の
細長い形状をしており、前記ガス噴射ノズルの噴射開口
は、前記洗浄ノズルの噴出開口の長手方向に沿って、前
記洗浄ノズルの噴出開口の両側に配置され、窒素ガスを
噴射するようにされている請求項１記載の超音波洗浄
機。 - 【請求項３】 前記ガス噴射ノズルは、側面の一部が前
記洗浄ノズルの側面である請求項１記載の超音波洗浄
機。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項記載の
超音波洗浄機と、前記超音波洗浄機の洗浄ノズルの噴出
開口に、平行に基板を対面させるように、前記基板を搬
送する基板搬送装置とからなる超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7107292A JPH08299929A (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | 超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7107292A JPH08299929A (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | 超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08299929A true JPH08299929A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=14455411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7107292A Pending JPH08299929A (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | 超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08299929A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101021870B1 (ko) * | 2008-11-18 | 2011-03-18 | 세메스 주식회사 | 이류체 분사 어셈블리 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
| KR20120138697A (ko) * | 2011-06-15 | 2012-12-26 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액처리 장치 및 액처리 방법 |
-
1995
- 1995-05-01 JP JP7107292A patent/JPH08299929A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101021870B1 (ko) * | 2008-11-18 | 2011-03-18 | 세메스 주식회사 | 이류체 분사 어셈블리 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
| KR20120138697A (ko) * | 2011-06-15 | 2012-12-26 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액처리 장치 및 액처리 방법 |
| JP2013004662A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-07 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
| US8905051B2 (en) | 2011-06-15 | 2014-12-09 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus and liquid processing method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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