KR20160014133A - 대면적 초음파 정밀 세정장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대면적 초음파 정밀 세정장치에 관한 것으로서, 초음파 세정부의 일측에 구비된 세정액 분사 노즐을 통해 기판의 상면에 세정액을 분사하고 초음파 세정부에서 기판의 세정이 완료된 세정수를 초음파 세정부의 타측에서 흡입 수단을 통해 흡입하도록 함으로써, 대면적의 기판을 세정하기 용이하고 기판의 재 오염을 방지할 수 있으며 세정 효과를 향상시킬 수 있는 대면적 초음파 정밀 세정장치에 관한 것이다.

Description

대면적 초음파 정밀 세정장치 {Ultrasonic cleaning apparatus for large area}
본 발명은 대면적 초음파 정밀 세정장치에 관한 것으로서, 초음파 세정부의 일측에서 세정액을 분사하고 기판의 세정이 완료된 세정액을 초음파 세정부의 타측에서 흡입하도록 함으로써, 대면적의 기판을 세정하기 용이하고 기판의 재 오염을 방지할 수 있으며 세정 효과를 향상시킬 수 있는 대면적 초음파 정밀 세정장치에 관한 것이다.
반도체 기판이나 액정 표시장치용 유리 기판 등의 제조공정에서는 다양한 가공의 전후로 반도체나 유리 기판 등에 부착된 미세한 입자들을 세정하여 제거하고 있다.
이때, 통상적으로 세정을 위해 초음파 세정장치가 사용되며, 세정 공정에 이용되는 초음파 세정 장치로서는 슬릿 타입이 이용되고 있다. 여기에서 슬릿 타입의 세정장치는 슬릿이 형성된 중공 상태의 본체에 세정액 공급관이 접속되어 있고, 이 공급관으로부터 본체 내에 공급된 세정액이 슬릿으로부터 유출되도록 구성되어 있다. 또한, 본체의 내부에는 상기 세정액의 유로에 접해 얇은 금속판이나 석영판 등과 같은 진동판이 설치되어 있고, 이 진동판에는 진동소자(압전소자 등)가 접착 고정되어 있다. 그리하여 이 진동소자에 전압을 인가해 진동판을 초음파 진동시키면 본체 내에 유입된 세정액에 초음파가 부여되고 슬릿으로부터 유출되는 세정액에 의해 기판(피처리체)을 세정 할 수 있다.
그런데 이와 같은 초음파 세정장치는 대면적의 기판을 세정하는 경우 초음파를 전달하는 초음파 전달체와 세정하고자 하는 기판 사이에 존재하는 세정액에 빈곳이 발생하고 세정액이 다량 소모되며 적정한 설치 간격이 필요한 단점이 있다. 또한, 반사파 발생으로 세정 효과가 저하되며 기판의 재 오염 문제가 발생하는 단점이 있다.
이와 관련된 종래 기술로는 한국공개특허(10-2004-0088000)인 “웨트처리장치 및 웨트처리방법”이 개시되어 있다.
KR 10-2004-0088000 A (2004.10.15.)
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 초음파 세정부의 일측에 구비된 세정액 분사 노즐을 통해 기판의 상면에 세정액을 분사하고 초음파 세정부에서 기판의 세정이 완료된 세정수를 초음파 세정부의 타측에서 흡입 수단을 통해 흡입하도록 함으로써, 대면적의 기판을 세정하기 용이하고 기판의 재 오염을 방지할 수 있으며 세정 효과를 향상시킬 수 있는 대면적 초음파 정밀 세정장치를 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 대면적 초음파 정밀 세정장치는, 초음파를 발생시키는 초음파 세정부; 상기 초음파 세정부의 일측에 이격되어 구비되며, 세정하고자 하는 기판의 상면에 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐; 및 상기 초음파 세정부의 타측에 이격되어 구비되며, 분사되어 기판의 세정이 완료된 세정액을 흡입하여 회수하는 흡입 수단; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 세정액 분사 노즐은 세정하고자 하는 기판의 이송방향 상류측에 배치되며, 상기 흡입 수단은 기판의 이송방향 하류측에 배치되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 세정액 분사 노즐은 초음파 세정부와 기판 사이로 세정액을 분사하도록 하단이 초음파 세정부 쪽으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 흡입 수단은 초음파 세정부와 기판 사이를 통과한 세정액을 흡입하도록 하단이 초음파 세정부 쪽으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 흡입 수단의 일측에 이격되어 구비되며, 기판으로 에어를 분사하는 에어 나이프를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 초음파 세정부는, 진동소자에 연결되어 초음파를 전달하는 초음파 전달체가 하우징의 하측에 형성되며, 상기 초음파 전달체는 상측보다 하측의 폭이 좁은 사다리꼴 또는 삼각형 형태로 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 세정액 분사 노즐은 초음파 세정부의 일측에 이격되어 구비되되, 상기 세정액 분사 노즐은 초음파 세정부에 결합되어 일체형으로 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 세정액 분사 노즐의 하측에 이격되어 세정하고자 하는 기판의 하면에 세정액을 분사하는 하부 세정액 분사 노즐을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 대면적 초음파 정밀 세정장치는, 세정하고자 하는 기판에 세정액을 분사함으로써 초음파 세정부와 기판 사이에 균일한 수막을 형성할 수 있어 대면적의 기판을 재 오염 없이 세정할 수 있어 세정 효과가 향상되는 장점이 있다.
또한, 초음파 세정부와 기판 사이에 균일한 수막이 형성되므로 균일한 음압을 형성할 수 있어 세정 효과를 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 초음파 정밀 세정장치를 나타낸 단면 개략도.
도 2 내지 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 대면적 초음파 정밀 세정장치를 나타낸 단면 개략도.
이하, 상기한 바와 같은 본 발명의 대면적 초음파 정밀 세정장치를 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 초음파 정밀 세정장치를 나타낸 단면 개략도이다.
도시된 바와 같이 본 발명의 대면적 초음파 정밀 세정장치(1000)는, 초음파를 발생시키는 초음파 세정부(100); 상기 초음파 세정부(100)의 일측에 이격되어 구비되며, 세정하고자 하는 기판(500)의 상면에 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐(200); 및 상기 초음파 세정부(100)의 타측에 이격되어 구비되며, 분사되어 기판(500)의 세정이 완료된 세정액을 흡입하여 회수하는 흡입 수단(300); 을 포함하여 이루어질 수 있다.
우선, 초음파 세정부(100)는, 하우징(110)의 내부에 초음파를 발생시키는 진동소자(120)가 구비되며, 진동소자(120)는 진동판(130)에 의해 하우징(110)에 결합된다. 즉, 진동판(130)이 하우징(110)에 결합되고, 진동판(130)에 진동소자(120)가 결합되어 고정될 수 있다. 이때, 하우징(110)은 내부가 비어있고 하측이 개방되어 진동판(130)이 하우징(110)의 개방된 하측에 결합되어 개방된 하측이 폐쇄되고 폐쇄된 하우징(110)의 내부 및 진동판(130)의 상측에 진동소자(120)가 결합될 수 있다. 그리고 진동판(130)의 하측에는 초음파 전달체(150)가 결합되어 진동소자(120)에서 발생되는 초음파가 초음파 전달체(150)로 전달될 수 있도록 구성될 수 있다. 여기에서 초음파 세정부(100)는 세정하고자 하는 기판(500)의 상측에 이격되어 배치될 수 있다.
세정액 분사 노즐(200)은 세정하고자 하는 기판(500)의 상면에 세정액을 분사할 수 있도록 형성되되, 세정액 분사 노즐(200)은 초음파 세정부(100)의 일측에 이격되어 구비되고 기판(500)의 상측에 이격되어 구비될 수 있다. 즉, 기판(500)을 이동시키면서 기판(500)의 상면에 세정액을 분사하여 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150)와 기판(500)이 세정액에 의해 연결되도록 하여 초음파에 의해 기판(500)의 상면이 세정될 수 있다. 이때, 세정액 분사 노즐(200)은 초음파 세정부(100)와 별도로 형성되어 서로 이격되어 배치될 수 있다.
흡입 수단(300)은 초음파 세정부(100)의 타측에 구비되며, 흡입 수단(300)은 세정액 분사 노즐(200)로부터 분사되어 초음파 세정부(100)에 의해 기판(500)의 세정이 완료된 세정액을 흡입하는 역할을 한다. 즉, 흡입 수단(300)은 초음파 세정부(100)를 중심으로 세정액 분사 노즐(200)의 타측에 배치되어, 세정이 완료된 세정액을 흡입한다.
그리하여 세정액 분사 노즐(200)을 통해 세정하고자 하는 기판(500)의 상면에 균일하게 세정액을 분사할 수 있고, 기판(500)이 이송되면서 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150)와 접촉되는 세정액에 의해 기판(500)의 상면에 초음파가 전달되어 기판(500)의 상면에 부착된 미세 입자(이물질)들이 떨어져 세정되며, 세정이 완료된 세정액은 흡입 수단(300)에 의해 흡입될 수 있다.
이에 따라 본 발명의 대면적 초음파 정밀 세정장치는, 세정하고자 하는 기판에 세정액을 분사함으로써 초음파 세정부와 기판 사이에 균일한 수막을 형성할 수 있어 대면적의 기판을 재 오염 없이 세정할 수 있어 세정 효과가 향상되는 장점이 있다.
또한, 초음파 세정부와 기판 사이에 균일한 수막이 형성되므로 균일한 음압을 형성할 수 있으며 세정 효과가 향상될 수 있다.
이때, 상기 세정액 분사 노즐(200)은 세정하고자 하는 기판(500)의 이송방향 상류측에 배치되며, 상기 흡입 수단(300)은 기판(500)의 이송방향 하류측에 배치될 수 있다.
즉, 도시된 바와 같이 세정하고자 하는 기판(500)이 우측에서 좌측으로 이송되면서 세정되는 경우, 초음파 세정부(100)의 우측인 기판(500)의 이송방향 상류측에 세정액 분사 노즐(200)이 배치되어 세정액을 분사하며 분사된 세정액이 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150)와 기판(500)의 상면 사이로 공급되어 기판(500)이 세정될 수 있으며, 초음파 세정부(100)의 좌측인 기판(500)의 이송방향 하류측에 흡입 수단(300)이 배치되어 세정이 완료되어 이물질이 포함된 세정액이 흡입 수단(300)을 통해 회수될 수 있다.
그리하여 깨끗한 세정액이 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150)와 기판(500)의 상면 사이로 공급될 수 있으며 세정이 완료된 세정액은 흡입 수단(300)을 통해 흡입될 수 있어, 세정된 기판(500)의 재 오염을 방지할 수 있다.
또한, 상기 세정액 분사 노즐(200)은 초음파 세정부(100)와 기판(500) 사이로 세정액을 분사하도록 하단이 초음파 세정부(100) 쪽으로 경사지게 형성될 수 있다. 즉, 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150)와 기판(500) 사이로 세정액을 분사하기 용이하도록 세정액 분사 노즐(200)의 하측이 초음파 전달체(150) 쪽으로 기울어지게 형성될 수 있고, 기판(500)의 이송 방향 쪽으로 세정액 분사 노즐(200)의 하측이 기울어지게 형성되며 초음파에 의해 세정되는 부분인 초음파 전달체(150) 하측의 기판(500)에 근접하여 세정액을 분사할 수 있어 세정 효과가 향상될 수 있다.
또한, 상기 흡입 수단(300)은 초음파 세정부(100)와 기판(500) 사이를 통과한 세정액을 흡입하도록 하단이 초음파 세정부(100) 쪽으로 경사지게 형성될 수 있다. 이 역시 세정액 분사 노즐(200)의 하측이 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150) 쪽으로 기울어지게 형성된 것과 마찬가지로 흡입 수단(300)의 하측이 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150) 쪽으로 기울어지게 형성되어, 이송되는 기판(500)에서 세정이 완료된 이물질이 포함된 세정액을 용이하게 흡입하여 회수할 수 있으며, 초음파 전달체(150)에 가깝게 흡입 수단(300)의 하측이 배치될 수 있어 세정이 완료된 세정액을 바로 흡입할 수 있으므로 기판(500)의 재 오염을 방지할 수 있다.
또한, 상기 흡입 수단(300)의 일측에 이격되어 구비되며, 기판(500)으로 에어를 분사하는 에어 나이프(400)를 더 포함하여 이루어질 수 있다.
이는 도시된 바와 같이 흡입 수단(300)의 좌측인 기판(500)의 이송방향 최 하류측에 에어 나이프(400)가 구비되어, 세정액이 에어 나이프(400)를 지나가지 못하도록 하여 세정액의 흡입이 원활하게 이루어지도록 하기 위한 것이다. 또한, 세정이 완료된 세정액이 흡입 수단(300)에 의해 회수된 후 기판(500)의 상면에 남아있는 세정액 및 이물질이 에어 나이프(400)를 통해 제거될 수도 있다.
즉, 흡입 수단(300)을 통해 세정이 완료된 세정액이 흡입되더라도 기판(500)의 상면에 일부 세정액과 이물질이 남아있을 수 있으므로 에어 나이프(400)를 통해 기판(500)에 남아있는 세정액을 건조시키고 이물질을 불어내어 제거할 수 있다. 그리하여 기판(500)의 세정 효과를 더욱 향상시킬 수 있다.
이때, 에어 나이프(400) 역시 하측이 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150) 쪽으로 기울어지게 형성되어, 세정이 완료된 세정액이 흡입 수단(300) 쪽으로 유입되기 용이하도록 할 수 있다.
또한, 상기 초음파 세정부(100)는, 진동소자(120)에 결합되어 초음파를 전달하는 초음파 전달체(150)가 하우징(110)의 하측에 형성되며, 상기 초음파 전달체(150)는 상측보다 하측의 폭이 좁은 사다리꼴 또는 삼각형 등의 형태로 형성될 수 있다.
즉, 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150)는 하우징(110)의 하측에 구비되어 진동판(130)의 또는 방열부(140)의 하측에 결합될 수 있으며, 초음파 전달체(150)는 상측보다 하측의 폭이 좁은 역사다리꼴 또는 역삼각형 형태 등의 다양한 형상으로 형성될 수 있다.
그리하여 기판(500)에서 반사되는 초음파가 역사다리꼴 또는 역삼각형 형태로 형성되는 초음파 전달체(150)의 경사면에 부딪혀 반사되어 반사파에 의한 초음파의 간섭을 방지할 수 있어 세정 효과가 향상될 수 있다. 또한, 초음파 전달체(150)의 경사면이 초음파를 증폭시키는 혼(horn)의 역할을 하여 세정 효과가 향상될 수 있다.
또한, 상기 세정액 분사 노즐(200)은 초음파 세정부(100)의 일측에 이격되어 구비되되, 상기 세정액 분사 노즐(200)은 초음파 세정부(100)에 결합되어 일체형으로 형성될 수 있다.
즉, 초음파 세정부(100)의 초음파 전달체(150)의 일측에 이격되어 세정액 분사 노즐(200)이 배치되되, 세정액 분사 노즐(200)은 초음파 세정부(100)의 하우징(110)에 결합되어 초음파 세정부(100)와 세정액 분사 노즐(200)이 일체형으로 형성될 수 있다. 이때, 세정액 분사 노즐(200)은 상측이 하우징(110) 및 진동판(130)에 결합되고 하측이 초음파 전달체(150) 쪽으로 기울어지게 형성되어 초음파 전달체(150)의 하측에 위치하는 기판(500)의 상면으로 세정액을 분사하기 용이하도록 형성될 수 있으며, 세정액 분사 노즐(200)은 초음파 세정부(100)의 하우징(110), 진동판(130) 및 방열부(140)에 의해 형성된 공간을 통해 세정액이 공급되어 세정액 분사 노즐(200)을 통해 분사되도록 구성될 수 있다. 여기에서 하우징(110)에 세정액 공급관이 연결되어 진동판(130) 및 방열부(140)를 냉각한 후 세정액 분사 노즐(200)을 통해 세정액이 분사되도록 할 수 있다. 또한, 하측의 진동판(130) 자체에 분사공을 형성하여 분사공을 통해 세정액이 분사되도록 하여 진동판(130)에 형성된 분사공이 세정액 분사 노즐(200)의 역할을 할 수 있다.
또한, 상기 세정액 분사 노즐(200)의 하측에 이격되어 세정하고자 하는 기판(500)의 하면에 세정액을 분사하는 하부 세정액 분사 노즐(600)을 더 포함하여 이루어질 수 있다.
즉, 기판(500)의 하면을 세정할 수 있도록 세정액 분사 노즐(200)의 하측에 이격되어 하부 세정액 분사 노즐(600)이 구비될 수 있다. 이때, 기판(500)의 하면에 분사된 세정액은 별도의 회수장치를 통해 회수될 수 있다.
본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.
1000 : 대면적 초음파 정밀 세정장치
100 : 초음파 세정부
110 : 하우징 120 : 진동소자
130 : 진동판 140 : 방열부
150 : 초음파 전달체
200 : 세정액 분사 노즐
300 : 흡입 수단
400 : 에어 나이프
500 : 기판
600 : 하부 세정액 분사 노즐

Claims (8)

  1. 초음파를 발생시키는 초음파 세정부;
    상기 초음파 세정부의 일측에 이격되어 구비되며, 세정하고자 하는 기판의 상면에 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐; 및
    상기 초음파 세정부의 타측에 이격되어 구비되며, 분사되어 기판의 세정이 완료된 세정액을 흡입하여 회수하는 흡입 수단; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 대면적 초음파 정밀 세정장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 세정액 분사 노즐은 세정하고자 하는 기판의 이송방향 상류측에 배치되며, 상기 흡입 수단은 기판의 이송방향 하류측에 배치되는 것을 특징으로 하는 대면적 초음파 정밀 세정장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 세정액 분사 노즐은 초음파 세정부와 기판 사이로 세정액을 분사하도록 하단이 초음파 세정부 쪽으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 초음파 정밀 세정장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 흡입 수단은 초음파 세정부와 기판 사이를 통과한 세정액을 흡입하도록 하단이 초음파 세정부 쪽으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 초음파 정밀 세정장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 흡입 수단의 일측에 이격되어 구비되며, 기판으로 에어를 분사하는 에어 나이프를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 대면적 초음파 정밀 세정장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 초음파 세정부는, 진동소자에 연결되어 초음파를 전달하는 초음파 전달체가 하우징의 하측에 형성되며, 상기 초음파 전달체는 상측보다 하측의 폭이 좁은 사다리꼴 또는 삼각형 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 초음파 정밀 세정장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 세정액 분사 노즐은 초음파 세정부의 일측에 이격되어 구비되되, 상기 세정액 분사 노즐은 초음파 세정부에 결합되어 일체형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 초음파 정밀 세정장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 세정액 분사 노즐의 하측에 이격되어 세정하고자 하는 기판의 하면에 세정액을 분사하는 하부 세정액 분사 노즐을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 대면적 초음파 정밀 세정장치.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107626669A (zh) * 2017-09-19 2018-01-26 南通市中京机械有限公司 铝板表面处理方法
KR20180045207A (ko) * 2016-10-25 2018-05-04 한국기계연구원 초음파 세정 장치
KR20180045224A (ko) * 2016-10-25 2018-05-04 한국기계연구원 초음파 세정 장치

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101890111B1 (ko) 2016-10-25 2018-08-22 한국기계연구원 초음파 세정 장치 및 이를 포함하는 세정 시스템
KR101988869B1 (ko) 2017-09-07 2019-06-13 한국기계연구원 공기를 이용하는 초음파 건식 세정장치 및 세정시스템
KR101990583B1 (ko) 2017-09-07 2019-06-18 한국기계연구원 대면적 기판용 기체를 이용한 초음파 건식 세정장치 및 세정방법
KR102008243B1 (ko) 2017-09-07 2019-08-07 한국기계연구원 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치 및 방법
KR102007187B1 (ko) 2017-09-07 2019-08-05 한국기계연구원 균일한 액적을 이용하는 기판용 초음파 세정장치 및 세정시스템
KR102172789B1 (ko) 2019-03-05 2020-11-02 한국기계연구원 다주파 생성모듈, 다주파 생성모듈을 이용한 초음파 세정장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010039581A (ko) * 1999-04-21 2001-05-15 마찌다 가쯔히꼬 초음파 세정장치 및 레지스트 박리장치
KR20040088000A (ko) 2001-09-04 2004-10-15 알프스 덴키 가부시키가이샤 웨트처리장치 및 웨트처리방법
KR20060088938A (ko) * 2005-02-02 2006-08-07 한국생산기술연구원 초음파 증폭기를 이용한 세정장치
KR20080059691A (ko) * 2006-12-26 2008-07-01 주식회사 케이씨텍 대면적 기판 세정장치
JP2012091414A (ja) * 2010-10-27 2012-05-17 Ihi Corp 版洗浄装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010039581A (ko) * 1999-04-21 2001-05-15 마찌다 가쯔히꼬 초음파 세정장치 및 레지스트 박리장치
KR20040088000A (ko) 2001-09-04 2004-10-15 알프스 덴키 가부시키가이샤 웨트처리장치 및 웨트처리방법
KR20060088938A (ko) * 2005-02-02 2006-08-07 한국생산기술연구원 초음파 증폭기를 이용한 세정장치
KR20080059691A (ko) * 2006-12-26 2008-07-01 주식회사 케이씨텍 대면적 기판 세정장치
JP2012091414A (ja) * 2010-10-27 2012-05-17 Ihi Corp 版洗浄装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180045207A (ko) * 2016-10-25 2018-05-04 한국기계연구원 초음파 세정 장치
KR20180045224A (ko) * 2016-10-25 2018-05-04 한국기계연구원 초음파 세정 장치
CN107626669A (zh) * 2017-09-19 2018-01-26 南通市中京机械有限公司 铝板表面处理方法

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